CN120981769A - 感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法 - Google Patents

感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法

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泽木琢
吉原谦介
贺口阳介
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JP5904890B2 (ja) * 2012-07-02 2016-04-20 富士フイルム株式会社 感光性転写材料、硬化膜の製造方法、有機el表示装置の製造方法、液晶表示装置の製造方法および静電容量型入力装置の製造方法
WO2021221025A1 (ja) * 2020-04-30 2021-11-04 富士フイルム株式会社 構造体の製造方法、及び、構造体
JP7743301B2 (ja) * 2021-12-27 2025-09-24 富士フイルム株式会社 蒸着マスク製造用感光性転写材料、及び、蒸着マスクの製造方法
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