CN118567018A - 光学层叠体的制造方法 - Google Patents

光学层叠体的制造方法 Download PDF

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CN118567018A CN202410213236.7A CN202410213236A CN118567018A CN 118567018 A CN118567018 A CN 118567018A CN 202410213236 A CN202410213236 A CN 202410213236A CN 118567018 A CN118567018 A CN 118567018A
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长田兴
朝永政俊
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Nitto Denko Corp
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Abstract

本发明提供可抑制在剥离衬垫的剥离后产生卷曲的光学层叠体的制造方法。本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法包括：准备包含表面保护膜、相位差膜、第1粘合剂层及剥离衬垫的第1层叠体的工序；准备包含偏振片及第2粘合剂层的第2层叠体的工序；从相位差膜上剥离表面保护膜的工序；将表面保护膜剥离后的第1层叠体与第2层叠体贴附的工序。第1层叠体满足下述式(1)。(C1+C2)≤(C3+C4) (1)(式(1)中，C1表示通过一次卷曲量测定而测定的第1卷曲量；C2表示第2卷曲量；C3表示通过二次卷曲量测定而测定的第3卷曲量；C4表示第4卷曲量)。

Description

光学层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及光学层叠体的制造方法。
背景技术
以液晶显示装置及电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)为代表的图像显示装置正在快速普及。在图像显示装置中，为了实现图像显示、和/或提高该图像显示的性能，广泛使用了包含偏振片和相位差膜(相位差层)的光学层叠体(例如参照专利文献1)。
近年来，研究了图像显示装置的柔性化，期望图像显示装置的薄型化。伴随于此，还强烈期望光学层叠体的薄型化。但是，若尝试光学层叠体的薄型化，则存在在光学层叠体中容易产生卷曲的问题。若在光学层叠体中产生卷曲，则有时无法适用于关于卷曲的容许基准严格的用途。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-182162号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是为了解决上述课题而进行的，其主要目的在于提供可抑制在剥离衬垫的剥离后产生卷曲的光学层叠体的制造方法。
用于解决课题的手段
[1]本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法包括以下工序：准备依次包含表面保护膜、相位差膜、第1粘合剂层及剥离衬垫的第1层叠体的工序；准备依次包含偏振片及第2粘合剂层的第2层叠体的工序；从该第1层叠体上剥离该表面保护膜的工序；将该表面保护膜剥离后的第1层叠体与该第2层叠体的该第2粘合剂层贴附的工序。该第1层叠体满足下述式(1)。
(C1+C2)≤(C3+C4) (1)
(式(1)中，C1表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第1卷曲量；C2表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第2卷曲量；C3表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第3卷曲量；C4表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第4卷曲量。)
(一次卷曲量测定)
准备从层叠方向观察为大致菱形状的第1层叠体；从该菱形状的第1层叠体上剥离上述表面保护膜而制备第1样品；在将该第1样品向上述相位差膜侧翘曲的情况设定为正，将该第1样品向上述剥离衬垫侧翘曲的情况设定为负时，该第1样品向负侧翘曲；将该第1样品按照上述相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；测定铅直方向上的该第1样品中的第1角部与该平面之间的距离作为第1卷曲量；测定铅直方向上的该第1样品中的与第1角部不同的成对角的第2角部与该平面之间的距离作为第2卷曲量。
(二次卷曲量测定)
从上述第1样品上进一步剥离上述剥离衬垫而制备第2样品；在将该第2样品向上述相位差膜侧翘曲的情况设定为正，将该第2样品向上述第1粘合剂层翘曲的情况设定为负时，该第2样品向负侧翘曲；将该第2样品按照上述相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；测定铅直方向上的该第2样品的第1角部与该平面之间的距离作为第3卷曲量；测定铅直方向上的该第2样品的第2角部与该平面之间的距离作为第4卷曲量。
[2]根据上述[1]所述的光学层叠体的制造方法，其中，准备上述第1层叠体的工序也可以包括以下工序：准备依次包含表面保护膜、相位差膜及第1粘合剂层的层叠膜的工序；在该层叠膜的第1粘合剂层上按照作用于上述剥离衬垫的张力变得比作用于上述表面保护膜的张力大的方式贴附上述剥离衬垫的工序。
发明效果
根据本发明的实施方式，能够制造可抑制在剥离衬垫的剥离后产生卷曲的光学层叠体。
附图说明
图1是本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法的第1准备工序中准备的第1层叠体的概略截面图。
图2是由图1的第1层叠体冲裁的菱形小片的概略平面图。
图3是由图2的菱形小片制备的第1样品或第2样品的概略平面图。
图4是图3的第1样品的IV-IV’截面图。
图5是图3的第1样品的V-V’截面图。
图6是图3的第2样品的VI-VI’截面图。
图7是图3的第2样品的VII-VII’截面图。
图8是图1的第1层叠体的准备中使用的层叠膜的概略截面图。
图9是用于说明在图8的层叠膜上贴附剥离衬垫的工序的概略说明图。
图10是本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法的第2准备工序中准备的第2层叠体的概略截面图。
图11是图10的第2层叠体的变形例的概略截面图。
图12是通过本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法而制造的光学层叠体的概略截面图。
符号的说明
1 第1层叠体
11 相位差膜
12 表面保护膜
13 第1粘合剂层
14 剥离衬垫
2 第2层叠体
21 偏振片
22 第2粘合剂层
3 层叠膜
7 第1样品
71 第1角部
72 第2角部
8 第2样品
81 第1角部
82 第2角部
C1 第1卷曲量
C2 第2卷曲量
C3 第3卷曲量
C4 第4卷曲量
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明，但本发明并不限定于这些实施方式。此外，为了使说明更明确，附图与实施方式相比，有时对各部的宽度、厚度、形状等进行示意性表示，但到底是一个例子，并不限定本发明的解释。
(用语及符号的定义)
本说明书中的用语及符号的定义如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
(2)面内相位差(Re)
“Re(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的面内相位差。例如“Re(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的面内相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Re(λ)通过式：Re(λ)＝(nx-ny)×d来求出。
(3)厚度方向的相位差(Rth)
“Rth(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的厚度方向的相位差。例如“Rth(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的厚度方向的相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Rth(λ)通过式：Rth(λ)＝(nx-nz)×d来求出。
(4)Nz系数
Nz系数通过Nz＝Rth/Re来求出。
(5)角度
在本说明书中提及角度时，该角度包含相对于基准方向为顺时针及逆时针这两者。因此，例如“45°”是指±45°。
(6)实质上平行或正交
“实质上正交”及“大致正交”这样的表述包含2个方向所成的角度为90°±10°的情况，优选为90°±7°，进一步优选为90°±5°。“实质上平行”及“大致平行”这样的表现包含2个方向所成的角度为0°±10°的情况，优选为0°±7°，进一步优选为0°±5°。进而，在本说明书中简称为“正交”或“平行”时，可包含实质上正交或实质上平行的状态。
A.光学层叠体的制造方法的概略
图1是本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法的第1准备工序中准备的第1层叠体的概略截面图；图2是由图1的第1层叠体冲裁的菱形小片的概略平面图；图3是由图2的菱形小片制备的第1样品或第2样品的概略平面图；图4是图3的第1样品的IV-IV’截面图；图5是图3的第1样品的V-V’截面图；图6是图3的第2样品的VI-VI’截面图；图7是图3的第2样品的VII-VII’截面图；图8是图1的第1层叠体的准备中使用的层叠膜的概略截面图；图9是用于说明在图8的层叠膜上贴附剥离衬垫的工序的概略说明图；图10是本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法的第2准备工序中准备的第2层叠体的概略截面图；图11是图10的第2层叠体的变形例的概略截面图；图12是通过本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法而制造的光学层叠体的概略截面图。
本发明的一个实施方式的光学层叠体的制造方法包含第1准备工序、第2准备工序、剥离工序和贴附工序。在第1准备工序中，准备第1层叠体1(参照图1)。第1层叠体1依次包含表面保护膜12、相位差膜11、第1粘合剂层13和剥离衬垫14。即，表面保护膜12、相位差膜11、第1粘合剂层13和剥离衬垫14被依次层叠。第1层叠体1满足下述式(1)。
(C1+C2)≤(C3+C4) (1)
(式(1)中，C1表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第1卷曲量；C2表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第2卷曲量；C3表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第3卷曲量；C4表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第4卷曲量。)
(一次卷曲量测定)
首先，准备从层叠方向观察为大致菱形状的第1层叠体1(菱形小片1a)(参照图2)。
接着，从大致菱形状的第1层叠体1(菱形小片1a)上剥离表面保护膜12而制备第1样品7(参照图3)。第1样品7具有彼此相对的成对角的2个第1角部71和与第1角部71不同的成对角的2个第2角部72。在将第1样品7向相位差膜11侧翘曲的情况(即，向剥离衬垫14侧以凸状弯曲的情况)设定为正，将第1样品7向剥离衬垫14侧翘曲的情况(即，向相位差膜11侧以凸状弯曲的情况)设定为负时，第1样品7向负侧翘曲。
接着，将第1样品7按照相位差膜11与平面S相接触的方式配置于沿着水平方向的平面S上(参照图4及图5)。在该状态下，测定铅直方向上的第1样品7的第1角部71与平面S之间的距离作为第1卷曲量C1(参照图4)，测定铅直方向上的第1样品7的第2角部72与平面S之间的距离作为第2卷曲量C2(参照图5)。
(二次卷曲量测定)
从第1样品7上进一步将剥离衬垫14剥离而制备第2样品8(参照图3)。第2样品8具有与2个第1角部71相对应的2个第1角部81和与2个第2角部72相对应的2个第2角部82。在第2样品8向相位差膜11侧翘曲的情况(即，向第1粘合剂层13侧以凸状弯曲的情况)设定为正，将第2样品8向第1粘合剂层13侧翘曲的情况(即，向相位差膜11侧以凸状弯曲的情况)设定为负时，第2样品8向负侧翘曲。
接着，将第2样品8按照相位差膜11与平面S相接触的方式配置于沿着水平方向的平面S上(参照图6及图7)。在该状态下，测定铅直方向上的第2样品8的第1角部81与平面S之间的距离作为第3卷曲量C3(参照图6)，测定铅直方向上的第2样品8的第2角部82与平面S之间的距离作为第4卷曲量C4(参照图7)。
在第2准备工序中，准备第2层叠体2(参照图10及图11)。第2层叠体2依次包含偏振片21和第2粘合剂层22。即，偏振片21与第2粘合剂层22被依次层叠。在剥离工序中，在第1层叠体1中，将表面保护膜12从相位差膜11剥离(参照图1)。在贴附工序中，将表面保护膜12剥离后的第1层叠体1与第2层叠体2的第2粘合剂层22贴附。由此，制造光学层叠体100(参照图12)。光学层叠体100依次具备偏振片21、第2粘合剂层22、相位差膜11、第1粘合剂层13和剥离衬垫14。
本发明者们研究了分别准备上述的第1层叠体及第2层叠体，从第1层叠体上剥离表面保护膜后，将第1层叠体与第2层叠体贴合来制造光学层叠体，发现：就像这样制造的光学层叠体而言，从第1粘合剂层上将剥离衬垫剥离时，有时在光学层叠体中产生卷曲。于是，对光学层叠体中的卷曲的产生进行了深入研究，结果发现：如果使用满足上述的式(1)的第1层叠体来制造光学层叠体，则即使从该光学层叠体上将剥离衬垫剥离，也可在光学层叠体中抑制卷曲的产生。具体而言，如果使用仅剥离表面保护膜后的状态的卷曲量(第1卷曲量C1及第2卷曲量C2的总和)为剥离表面保护膜及剥离衬垫后的状态的卷曲量(第3卷曲量C3及第4卷曲量C4的总和)以下的第1层叠体，则可制造抑制了上述的卷曲的产生的光学层叠体。如果利用这样的方法，则在制造多个光学层叠体的情况下，可提高上述的抑制了卷曲的产生的光学层叠体的制造比例。因此，可高效地制造可适用于适于关于卷曲的容许基准严格的用途的光学层叠体。
在一个实施方式中，第1卷曲量C1及第2卷曲量C2的总和小于第3卷曲量C3及第4卷曲量C4的总和。
第1卷曲量C1及第2卷曲量C2的总和与第3卷曲量C3及第4卷曲量C4的总和之差((C1+C2)-(C3+C4))例如为0以下，优选为-5以下，更优选为-10以下，进一步优选为-15以下，例如为-25以上，优选为-20以上。如果(C1+C2)-(C3+C4)为上述范围，则可更稳定地制造上述的抑制了卷曲的产生的光学层叠体。
以下，对各工序进行具体说明。
B.第1准备工序
如图1中所示的那样，在第1准备工序中，通过任意适宜的方法来准备第1层叠体1。第1层叠体1如上所述具备相位差膜11、表面保护膜12、第1粘合剂层13和剥离衬垫14。
B-1.相位差膜
相位差膜11具有面内相位差。相位差膜1的折射率代表性而言显示出nx>ny≥nz的关系。显示出nx>ny＝nz的折射率特性的层(膜)有时被称为“正型A板”等。显示出nx>ny>nz的折射率特性的层(膜)有时被称为“负型B板”等。需要说明的是，“ny＝nz”不仅包含ny与nz完全相等的情况，还包含实质上相等的情况。因此，在不损害本发明的效果的范围内，有时可成为ny<nz。
相位差膜11的面内相位差Re(550)例如为100nm～200nm，优选为110nm～180nm，更优选为120nm～160nm，进一步优选为130nm～150nm。即，相位差膜11可作为所谓的λ/4板发挥功能。
相位差膜11的Nz系数例如为0.9～2.0，优选为0.9～1.5，更优选为0.9～1.2。
相位差膜11可以显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆分散波长特性，也可以显示出相位差值与测定光的波长相应地变小的正的波长分散特性，还可以显示出相位差值根据测定光的波长基本没有变化的平坦的波长分散特性。
在一个实施方式中，相位差膜11显示出逆分散波长特性。即，相位差膜11满足Re(450)<Re(550)的关系，优选进一步满足Re(550)<Re(650)的关系。相位差膜11的Re(450)/Re(550)例如为超过0.5且低于1.0，优选为0.7～0.95，更优选为0.75～0.92，进一步优选为0.8～0.9。相位差膜11的Re(650)/Re(550)例如为1.0以上且低于1.15，优选为1.03～1.1。
相位差膜11的厚度可按照可得到所期望的光学特性的方式设定。相位差膜11的厚度例如为1μm以上，优选为4μm以上，更优选为10μm以上，例如为150μm以下，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，进一步优选为70μm以下，尤其优选为60μm以下。
作为构成相位差膜11的树脂材料，只要是可得到上述那样的特性，则可采用任意适宜的材料。
作为构成相位差膜11的树脂材料，例如可列举出聚碳酸酯系树脂、聚酯碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚乙烯醇缩乙醛系树脂、聚芳酯系树脂、环状烯烃系树脂、纤维素系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚醚系树脂、聚苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂。需要说明的是，“(甲基)丙烯酸系”是指丙烯酸系和/或甲基丙烯酸系。这样的树脂材料可以单独或组合使用。这样的树脂材料中优选可列举出聚碳酸酯(PC)系树脂。
聚碳酸酯系树脂优选包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元和/或下述通式(II)所表示的结构单元构成的组中的至少1个结构单元。这些结构单元是来源于2价的低聚芴的结构单元，以下，有时称为低聚芴结构单元。这样的聚碳酸酯系树脂等具有正的折射率各向异性。
[化学式1]
[化学式2]
通式(I)及(II)中，R1～R3分别独立地为直接键合、取代或非取代的碳数1～4的亚烷基；R4～R9分别独立地为氢原子、取代或非取代的碳数1～10的烷基、取代或非取代的碳数4～10的芳基、取代或非取代的碳数1～10的酰基、取代或非取代的碳数1～10的烷氧基、取代或非取代的碳数1～10的芳氧基、取代或非取代的氨基、取代或非取代的碳数1～10的乙烯基、取代或非取代的碳数1～10的乙炔基、具有取代基的硫原子、具有取代基的硅原子、卤素原子、硝基、或氰基；其中，R4～R9可以彼此相同，也可以不同，R4～R9中相邻的至少2个基团也可以彼此键合而形成环。
聚碳酸酯系树脂中的低聚芴结构单元的含有比例例如为1质量％以上，优选为5质量％以上，更优选为10质量％以上，例如为40质量％以下，优选为35质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为25质量％以下。若低聚芴结构单元的含有比例为上述下限以上，则在相位差膜中可表现出逆分散波长依赖性。若低聚芴结构单元的含有比例为上述上限以下，则可稳定地表现出相位差。
聚碳酸酯系树脂更优选除了低聚芴结构单元以外，还包含下述结构式(III)所表示的结构单元、和/或下述结构式(IV)所表示的结构单元。若聚碳酸酯系树脂含有下述结构式(III)和/或下述结构式(IV)所表示的结构单元，则在相位差膜中可更稳定地表现出逆分散波长依赖性。
[化学式3]
[化学式4]
聚碳酸酯系树脂中的上述结构式(III)所表示的结构单元的含有比例例如为5质量％以上，优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上，进一步优选为25质量％以上，例如为90质量％以下，优选为70质量％以下，更优选为50质量％以下。
聚碳酸酯系树脂中的上述结构式(IV)所表示的结构单元的含有比例例如为5质量％以上，优选为10质量％以上，更优选为15质量％以上，例如为90质量％以下，优选为70质量％以下，更优选为60质量％以下。
相位差膜11代表性而言是由上述的树脂材料构成的高分子膜的拉伸膜，通过将高分子膜进行拉伸来制备。具体而言，通过适当选择聚合物的种类、拉伸条件(例如拉伸温度、拉伸倍率、拉伸方向)、拉伸方法(例如纵向单轴拉伸)，可制备具有上述所期望的光学特性(例如折射率特性、面内相位差、厚度方向的相位差)的相位差膜。尤其是通过调整高分子膜的厚度(原料厚度)、拉伸温度及拉伸倍率，可将相位差膜的Re(550)调整为上述的范围。
对于相位差膜11，也可以根据需要实施电晕处理等表面处理。
此外，虽然未图示，但对于相位差膜11，也可以介由任意适宜的粘接层(粘接剂层或粘合剂层)而贴附第2相位差膜。第2相位差膜代表性而言显示出nz>nx＝ny的折射率特性，有时被称为“正型C板”等。需要说明的是，“nx＝ny”不仅包含nx与ny完全相等的情况，还包含实质上相等的情况。第2相位差膜的厚度方向的相位差Rth(550)例如为-50nm～-300nm，优选为-100nm～-180nm。
第2相位差膜可由任意适宜的材料形成。第2相位差膜优选由包含被固定为垂直取向的液晶材料的膜构成。可以进行垂直取向的液晶材料(液晶化合物)可以为液晶单体，也可以为液晶聚合物。作为该液晶化合物及该相位差层的形成方法的具体例子，可列举出日本特开2002-333642号公报的[0020]～[0028]中记载的液晶化合物及该相位差层的形成方法。第2相位差膜的厚度例如为0.5μm以上，例如为10μm以下，优选为8μm以下，更优选为5μm以下。
B-2.表面保护膜
表面保护膜12代表性而言被临时粘贴于相位差膜11上，直至第1层叠体1被供于剥离工序为止。在图示例中，表面保护膜12被直接贴附于相位差膜11的表面。在相位差膜11上贴附有第2相位差膜的情况下，表面保护膜12相对于相位差膜11位于与第2相位差膜相反侧。
表面保护膜12代表性而言具有粘性(自粘合性)。表面保护膜12由任意适宜的粘合剂(压敏粘接剂)构成。作为粘合剂，例如可列举出(甲基)丙烯酸系粘合剂。
虽然未图示，但表面保护膜12也可以具备基材和设置于基材上的粘合剂层。基材由任意适宜的树脂膜构成。粘合剂层由任意适宜的粘合剂(压敏粘接剂)构成。粘合剂层例如由(甲基)丙烯酸系粘合剂构成。
B-3.第1粘合剂层
第1粘合剂层13相对于相位差膜11位于与表面保护膜12相反侧。第1粘合剂层13可以直接设置于相位差膜11的表面，也可以直接设置于第2相位差膜的表面。在图示例中，第1粘合剂层13直接设置于相位差膜11的表面。
25℃下的第1粘合剂层13的贮藏弹性模量例如为1.0×104Pa～1.0×106Pa，优选为1.0×104Pa～2.0×105Pa。如果第1粘合剂层的贮藏弹性模量为这样的范围，则第1层叠体可稳定地满足上述式(1)。
第1粘合剂层13的厚度例如为3μm以上，优选为5μm以上，例如为30μm以下，优选为20μm以下。
第1粘合剂层13可由任意适宜的粘合剂构成。作为粘合剂，例如可列举出(甲基)丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、环氧系粘合剂及聚醚系粘合剂。通过调整形成粘合剂的基础树脂的单体的种类、数目、组合及配合比、以及交联剂的配合量、反应温度、反应时间等，可制备具有与目的相应的所期望的特性的粘合剂。粘合剂的基础树脂可以单独使用，也可以将2种以上组合使用。这样的粘合剂中优选可列举出(甲基)丙烯酸系粘合剂((甲基)丙烯酸系粘合剂组合物)。
(甲基)丙烯酸系粘合剂组合物代表性而言包含(甲基)丙烯酸系聚合物作为主要成分。粘合剂组合物的固体成分中的(甲基)丙烯酸系聚合物的含有比例例如为50质量％以上，优选为70质量％以上，更优选为90质量％以上，例如为100质量％以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物作为单体单元含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分。在(甲基)丙烯酸系聚合物中，来源于(甲基)丙烯酸烷基酯的构成单元的含有比例例如为70质量％以上，优选为80质量％以上，例如为90质量％以下。
作为(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基，例如可列举出具有1个～18个碳原子的直链状或支链状的烷基。该烷基的平均碳数优选为3个～9个，更优选为3个～6个。(甲基)丙烯酸烷基酯中优选可列举出丙烯酸丁酯。
作为构成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体(共聚单体)，除了(甲基)丙烯酸烷基酯以外，还可列举出含羧基的单体、含羟基的单体、含酰胺基的单体、含芳香环的(甲基)丙烯酸酯、含杂环的乙烯基系单体等。作为共聚单体的代表例，可列举出丙烯酸、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮。共聚单体可单独或组合使用。共聚单体中优选可列举出丙烯酸、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸苄基酯。
(甲基)丙烯酸系聚合物中，来源于共聚单体的构成单元的含有比例例如为10质量％以上，例如为30质量％以下，优选为20质量％以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量Mw例如为20万～300万，优选为100万～250万，更优选为120万～250万。重均分子量Mw例如可由GPC测定的结果通过苯乙烯换算来算出。如果重均分子量Mw为这样的范围，则可得到耐久性(特别是耐热性)优异的粘合剂层。
(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量Mw相对于数均分子量Mn(Mw/Mn)例如为1.0以上，优选为2.0以上，例如为5.0以下，优选为4.0以下。
丙烯酸系粘合剂组合物优选含有硅烷偶联剂和/或交联剂。作为硅烷偶联剂，例如可列举出含环氧基的硅烷偶联剂。硅烷偶联剂的含量相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100质量份，例如为0.001质量份以上且5质量份以下。
作为交联剂，例如可列举出异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂。交联剂可单独或组合使用。交联剂中优选可列举出异氰酸酯系交联剂。交联剂的含量相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100质量份，例如为0.01质量份以上，优选为1.0质量份以上，更优选为2.0质量份以上，例如为15质量份以下，优选为10质量份以下，更优选为5.0质量份以下，进一步优选为3.0质量份以下。
B-4.剥离衬垫
剥离衬垫14被贴附于第1粘合剂层13中的与相位差膜11相反侧的表面。
剥离衬垫14由任意适宜的树脂膜构成。作为构成剥离衬垫的材料，例如可列举出上述的树脂材料，优选可列举出聚酯系树脂，更优选可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜。剥离衬垫14中的第1粘合剂层13侧的表面也可以根据需要用任意适宜的剥离剂(例如有机硅系剥离剂)进行处理。
剥离衬垫14的厚度例如为20μm以上，优选为30μm以上，例如为50μm以下，优选为40μm以下。
B-5.一次卷曲量测定及二次卷曲量测定的详细情况
这样的第1层叠体1满足上述式(1)，通过一次卷曲量测定而测定的第1卷曲量C1及第2卷曲量C2的总和为通过二次卷曲量测定而测定的第3卷曲量C3及第4卷曲量C4的总和以下。需要说明的是，第1卷曲量C1及第2卷曲量C2的总和的绝对值为第3卷曲量C3及第4卷曲量C4的总和的绝对值以上。
如图2中所示的那样，被供于一次卷曲量测定的第1层叠体1代表性而言具有从第1层叠体的层叠方向观察为大致菱形的小片状(以下，设定为菱形小片1a)。在一个实施方式中，第1层叠体的菱形小片1a通过对长条状的第1层叠体1在任意的位置处进行冲裁来制备。
菱形小片1a中的第一对角线代表性而言与相位差膜11的慢轴实质上平行。第一对角线的长度例如可以为150mm，与第一对角线正交的第2对角线的长度例如可以为150mm。
接着，如图4中所示的那样，从菱形小片1a所具备的相位差膜11上将表面保护膜12剥离，使相位差膜11露出。由此，制备第1样品7。第1样品7具备与第一对角线相对应的2个第1角部71和与第2对角线相对应的2个第2角部72。第1样品7代表性而言按照其中央部分朝向层叠方向的一方、第1角部71及第2角部72朝向层叠方向的另一方的方式弯曲。在图示例中，第1样品7向负侧(剥离衬垫14侧)翘曲，向相位差膜11侧以凸状弯曲。
接着，将第1样品7按照相位差膜11与平面S相接触的方式配置于平面S上。在图示例中，在第1样品7被配置于平面S上的状态下，第1样品7的2个第1角部71分别位于在铅直方向上远离平面S处。测定铅直方向上的2个第1角部71各自与平面S之间的距离、更详细而言位于各第1角部71处的相位差膜11的顶点部与平面S之间的距离。将所测定的2个距离中较长的值作为第1卷曲量C1。
第1卷曲量C1例如为-30mm以上，优选为-20mm以上，例如为0mm以下，优选为-5mm以下。需要说明的是，卷曲量例如可通过相当于JIS1级的标准来测定。
此外，如图5中所示的那样，在第1样品7被配置于平面S上的状态下，第1样品7的2个第2角部72分别代表性而言位于在铅直方向上远离平面S处。在铅直方向上，测定2个第2角部72各自与平面S之间的距离、更详细而言位于各第2角部72处的相位差膜11的顶点部与平面S之间的距离。将所测定的2个距离中较长的值作为第2卷曲量C2。
第2卷曲量C2例如为-20mm以上，优选为-10mm以上，例如为0mm以下，优选为-5mm以下。
接着，如图6中所示的那样，从第1样品7所具备的第1粘合剂层13上将剥离衬垫14剥离，使第1粘合剂层13露出。由此，制备第2样品8。在图示例中，第2样品8向负侧(第1粘合剂层13侧)翘曲，向相位差膜11侧以凸状弯曲。
接着，将第2样品8按照相位差膜11与平面S相接触的方式配置于平面S上。在图示例中，在第2样品8被配置于平面S上的状态下，第2样品8的2个第1角部81分别位于在铅直方向上远离平面S处。在铅直方向上，测定2个第1角部81各自与平面S之间的距离、更详细而言位于各第1角部81处的相位差膜11的顶点部与平面S之间的距离。将所测定的2个距离中较长的值作为第3卷曲量C3。
在一个实施方式中，第3卷曲量C3大于第1卷曲量C1，第3卷曲量C3的绝对值小于第1卷曲量C1的绝对值。在将第1卷曲量C1的绝对值设定为100％时，第3卷曲量C3的绝对值例如为100％以下，优选为95％以下，更优选为90％以下，进一步优选为80％以下，尤其优选为60％以下，特别优选为40％以下，例如为20％以上。
第3卷曲量C3例如为-5mm以下，优选为-8mm以下，例如为-15mm以上。若第3卷曲量C3为上述上限以下，则第1层叠体可稳定地满足上述式(1)，结果是，能够稳定地制造抑制了卷曲的产生的光学层叠体。
此外，如图7中所示的那样，在第2样品8被配置于平面S上的状态下，第2样品8的2个第2角部82分别代表性而言位于在铅直方向上远离平面S处。在铅直方向上，测定2个第2角部82各自与平面S之间的距离、更详细而言位于各第2角部82处的相位差膜11的顶点部与平面S之间的距离。将所测定的2个距离中较长的值作为第4卷曲量C4。
在一个实施方式中，第4卷曲量C4大于第2卷曲量C2，第4卷曲量C4的绝对值小于第2卷曲量C2的绝对值。在将第2卷曲量C2的绝对值设定为100％时，第4卷曲量C4的绝对值例如为100％以下，优选为95％以下，更优选为90％以下，例如为80％以上。
第4卷曲量C4例如为-5mm以下，优选为-8mm以下，例如为-15mm以上。若第4卷曲量C4为上述上限以下，则第1层叠体可更进一步稳定地满足上述式(1)，结果是，能够更进一步稳定地制造抑制了卷曲的产生的光学层叠体。
B-6.第1准备工序的详细情况
如图8及图9中所示的那样，在一个实施方式中，第1准备工序包括层叠膜准备工序和剥离衬垫贴附工序(以下，设定为RL贴附工序)。
如图8中所示的那样，在层叠膜准备工序中，准备层叠膜3。层叠膜3除了不具备剥离衬垫14以外，具有与第1层叠体1同样的结构。即，层叠膜3依次包含上述的表面保护膜12、上述的相位差膜11及上述的第1粘合剂层13。层叠膜3代表性而言具有长条状。
如图9中所示的那样，在RL贴附工序中，在层叠膜3的第1粘合剂层13上，按照作用于剥离衬垫14的张力变得比作用于表面保护膜12的张力大的方式贴附剥离衬垫14。
在图示例中，将长条状的层叠膜3以规定的侵入角θ1供给至一对压接辊4之间，并且，将长条状的剥离衬垫14供给至一对压接辊4之间。在层叠膜3及剥离衬垫14通过一对压接辊4之间时，层叠膜3的表面保护膜12与一对压接辊4中的一个压接辊4相接触，剥离衬垫14被压接于层叠膜3的第1粘合剂层13上。由此，制备长条状的第1层叠体1，第1层叠体1以规定的送出角θ2从一对压接辊4之间被送出。
侵入角θ1是相对于连接2个压接辊4的中心轴线的线段正交的方向与压接辊4的与表面保护膜12的接触区域的上游端的接线方向所成的角度。侵入角θ1例如为45°以上，优选为50°以上，更优选为52°以上，进一步优选为55°以上，例如为60°以下，优选为58°以下。若侵入角θ1为上述范围，则可使作用于表面保护膜的张力稳定地比作用于剥离衬垫的张力小。
在一个实施方式中，长条状的层叠膜3经由第1调整辊5被供给至一对压接辊4之间。在图示例中，第1调整辊5能够相对于压接辊4相对移动。侵入角θ1可以通过使第1调整辊5相对于压接辊4相对移动来适当调整。
送出角θ2是相对于连接2个压接辊4的中心轴线的线段正交的方向与压接辊4的与剥离衬垫14的接触区域的下游端的接线方向所成的角度。送出角θ2例如为0°以上，优选为25°以上，例如为45°以下，优选为35°以下。若送出角θ2为上述范围，则可使作用于表面保护膜的张力进一步稳定地比作用于剥离衬垫的张力小。
在一个实施方式中，长条状的第1层叠体1被第2调整辊6卷取并回收。在图示例中，第2调整辊6能够相对于压接辊4相对移动。送出角θ2可以通过使第2调整辊6相对于压接辊4相对移动来适当调整。
C.第2准备工序
如图10中所示的那样，在第2准备工序中，通过任意适宜的方法来准备第2层叠体2。第2层叠体2如上所述具备偏振片21和第2粘合剂层22。
C-1.偏振片
偏振片21代表性而言包含起偏器211。
作为起偏器211，可采用任意适宜的起偏器。例如形成起偏器的树脂膜可以为单层的树脂膜，也可以为两层以上的层叠体。
作为由单层的树脂膜构成的起偏器的具体例子，可列举出对聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施利用碘或二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而得到的起偏器、PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜。优选从光学特性优异的方面出发，使用将PVA系膜用碘进行染色并进行单轴拉伸而得到的起偏器。
作为使用层叠体而得到的起偏器的具体例子，可列举出使用树脂基材与层叠于该树脂基材上的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体、或树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而得到的起偏器。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而得到的起偏器例如可通过以下方式来制作：将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材上并使其干燥而在树脂基材上形成PVA系树脂层，得到树脂基材与PVA系树脂层的层叠体；将该层叠体进行拉伸及染色而将PVA系树脂层制成起偏器。本发明的一个实施方式中优选在树脂基材的单侧形成包含卤化物和聚乙烯醇系树脂的聚乙烯醇系树脂层。拉伸代表性而言包含使层叠体浸渍于硼酸水溶液中进行拉伸。进而，拉伸根据需要可进一步包含在硼酸水溶液中的拉伸之前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。此外，在本发明的一个实施方式中优选层叠体被供于通过一边沿长度方向搬送一边进行加热而在宽度方向上收缩2％以上的干燥收缩处理。代表性而言，本实施方式的制造方法包含对层叠体依次实施空中辅助拉伸处理、染色处理、水中拉伸处理和干燥收缩处理。通过导入辅助拉伸，即使是在热塑性树脂上涂布PVA的情况下，也变得能够提高PVA的结晶性，变得能够达成高的光学特性。此外，同时通过在事先提高PVA的取向性，在之后的染色工序、拉伸工序中浸渍于水中时，能够防止PVA的取向性的降低、溶解等问题，变得能够达成高的光学特性。进而，在将PVA系树脂层浸渍于液体中的情况下，与PVA系树脂层不含卤化物的情况相比，可抑制聚乙烯醇分子的取向的紊乱及取向性的降低。由此，可提高经由染色处理及水中拉伸处理等将层叠体浸渍于液体中而进行的处理工序而得到的起偏器的光学特性。进而，通过利用干燥收缩处理使层叠体沿宽度方向收缩，能够提高光学特性。所得到的树脂基材/起偏器的层叠体可直接使用(即，也可以将树脂基材作为起偏器的保护层)，也可以从树脂基材/起偏器的层叠体剥离树脂基材并在该剥离面层叠与目的相应的任意适宜的保护层来使用。这样的起偏器的制造方法的详细情况例如记载于日本特开2012-73580号公报、日本专利第6470455号中。这些公报的整体的记载作为参考被援引于本说明书中。
上述利用碘的染色例如通过将PVA系膜浸渍于碘水溶液中来进行。上述单轴拉伸的拉伸倍率优选为3～7倍。拉伸可以在染色处理后进行，也可以一边染色一边进行。此外，也可以在拉伸后进行染色。根据需要，对PVA系膜实施溶胀处理、交联处理、洗涤处理、干燥处理等。例如通过在染色之前将PVA系膜浸渍于水中进行水洗，不仅能够将PVA系膜表面的污渍、抗粘连剂洗涤掉，还能够使PVA系膜溶胀而防止染色不均等。
起偏器211的厚度例如为1μm～80μm，优选为1μm～15μm，更优选为1μm～12μm，进一步优选为3μm～12μm。如果起偏器的厚度为这样的范围，则可良好地抑制加热时的卷曲，并且，可得到良好的加热时的外观耐久性。
起偏器211代表性而言在波长380nm～780nm的任一波长下显示出吸收二色性。起偏器211的单体透射率例如为41.5％～46.0％，优选为43.0％～46.0％，更优选为44.5％～46.0％。起偏器211的偏光度优选为97.0％以上，更优选为99.0％以上，进一步优选为99.9％以上。
偏振片21除了起偏器211以外，还可以具备保护层212。保护层212被设置于起偏器211的至少一个面上。保护层212可以如图10中所示的那样，仅设置于起偏器211中的与第2粘合剂层22相反侧的面上，也可以如图11中所示的那样，设置于起偏器211的两面上。保护层212代表性而言介由任意适宜的粘接剂层(未图示)被贴附于起偏器211上。
保护层由可作为起偏器的保护层使用的任意适宜的膜来形成。作为成为该膜的主要成分的材料，代表性而言可列举出透明树脂，具体而言，可列举出聚降冰片烯系等环烯烃(COP)系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)系等聚酯系树脂；三乙酰纤维素(TAC)等纤维素系树脂；聚碳酸酯(PC)系树脂；(甲基)丙烯酸系树脂；聚乙烯醇系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚砜系树脂；聚砜系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚烯烃系树脂；乙酸酯系树脂。此外，还可列举出(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热硬化型树脂或紫外线硬化型树脂等。此外，例如还可列举出硅氧烷系聚合物等的玻璃质系聚合物。此外，也可以使用日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物膜。作为该膜的材料，例如可以使用含有在侧链上具有取代或非取代的酰亚胺基的热塑性树脂和在侧链上具有取代或非取代的苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物，例如可列举出具有由异丁烯和N-甲基马来酰亚胺形成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。该聚合物膜例如可以为上述树脂组合物的挤出成形物。树脂膜的材料可单独或组合使用。
保护层212的厚度代表性而言为5mm以下，优选为1mm以下，更优选为1μm～500μm，进一步优选为5μm～150μm。
此外，如图11中所示的那样，也可以在保护层212的表面根据需要设置表面处理层24。在图示例中，表面处理层24被设置于相对于起偏器211位于与第2粘合剂层22相反侧的保护层212的表面。作为表面处理层24，例如可列举出硬涂层、防反射层、抗粘连层、防眩处理层，优选可列举出硬涂层。
C-2.第2粘合剂层
第2粘合剂层22被层叠于偏振片21上。第2粘合剂层22可以如图10中所示的那样，设置于起偏器211的表面，也可以如图11中所示的那样，设置于保护层212的表面。第2粘合剂层22可与上述的第1粘合剂层13同样地进行说明。因此，省略第2粘合剂层22的详细的说明。
C-3.表面保护膜
如图11中所示的那样，第2层叠体2除了偏振片21及第2粘合剂层22以外，还可以进一步具备表面保护膜23。表面保护膜23相对于偏振片21位于与第2粘合剂层22相反侧。在图示例中，表面保护膜23被贴附于偏振片21的保护层212上。虽然未图示，但表面保护膜23代表性而言具备基材和设置于基材上的粘合剂层。基材及粘合剂层可与上述的表面保护膜12同样地进行说明。因此，省略表面保护膜23的详细的说明。
D.剥离工序
在剥离工序中，从第1准备工序中准备的第1层叠体1上剥离表面保护膜12(参照图1)。更详细而言，将表面保护膜12从第1层叠体1的相位差膜11上剥离。由此，相位差膜11露出。
E.贴附工序
接着，将剥离了表面保护膜12的第1层叠体1(相位差膜11/第1粘合剂层13/剥离衬垫14的层叠体)与第2准备工序中准备的第2层叠体2贴附(参照图1及图10)。更详细而言，使相位差膜11与第2层叠体2的第2粘合剂层22相接触，将相位差膜11介由第2粘合剂层22与偏振片21贴附。
在一个实施方式中，按照相位差膜11的慢轴与偏振片21所包含的起偏器211的吸收轴所成的角度代表性而言成为40°～50°、优选成为42°～48°、更优选成为44°～46°、进一步优选成为45°的方式使相位差膜11与第2粘合剂层22相接触。
通过以上，如图12中所示的那样，将表面保护膜12剥离后的第1层叠体1(相位差膜11/第1粘合剂层13/剥离衬垫14的层叠体)与第2层叠体2贴合，制造学层叠体100。
上述A项～E项中记载的光学层叠体可适用于图像显示装置。图像显示装置包含图像显示面板。图像显示面板包含图像显示单元。光学层叠体100代表性而言在剥离衬垫14从第1粘合剂层13剥离后，介由第1粘合剂层13而贴附于图像显示面板等光学部件上。
即，图像显示装置可包含图像显示面板；和介由第1粘合剂层13而贴合于图像显示面板上的光学层叠体100。作为图像显示装置的代表例，可列举出液晶显示装置、电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)。光学层叠体100由于充分抑制了剥离衬垫14剥离后的卷曲，可适宜用于关于卷曲的容许基准严格的图像显示装置(例如具备有机EL显示装置的笔记本电脑或平板电脑)。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行具体说明，但本发明不受这些实施例的限定。各特性的测定方法如下所述。需要说明的是，只要没有特别明记，则实施例及比较例中的“份”及“％”为质量基准。
(1)一次卷曲量测定
将实施例及比较例中制备的第1层叠体进行冲裁，制备了大致菱形形状的小片(菱形小片)。菱形小片中的第一对角线与相位差膜的慢轴实质上平行。在菱形小片中，第一对角线的长度为150mm，第2对角线的长度为150mm。
接着，从菱形小片上剥离表面保护膜，制备第1样品。将所得到的第1样品按照相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上。在该状态下，利用电离器(KEYENCE CORPORATION制)将第1样品上产生的静电除去后，通过相当于JIS1级的标准来测定第1样品的第1角部与平面之间的距离，将所测定的2个距离中较长的值作为第1卷曲量C1。此外，通过相当于JIS1级的标准来测定第1样品的第2角部与平面之间的距离，将所测定的2个距离中较长的值作为第2卷曲量C2。将第1卷曲量C1、第2卷曲量C2及它们的总和示于表1中。
(2)二次卷曲量测定
从上述的一次卷曲量测定中制备的第1样品上进一步将剥离衬垫剥离，制备了第2样品。将所得到的第2样品按照相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上。在该状态下，利用电离器将第2样品上产生的静电除去后，通过相当于JIS1级的标准来测定第2样品的第1角部与平面之间的距离，将所测定的2个距离中较长的值作为第3卷曲量C3。此外，通过相当于JIS1级的标准来测定第2样品的第2角部与平面之间的距离，将所测定的2个距离中较长的值作为第4卷曲量C4。将第3卷曲量C3、第4卷曲量C4及它们的总和示于表1中。
(3)光学层叠体的卷曲的好坏判定
将实施例及比较例中得到的光学层叠体供于下述三次卷曲量测定及四次卷曲量测定。
(三次卷曲量测定)
从光学层叠体将剥离衬垫剥离，制备第3样品；将第3样品向表面保护膜侧翘曲的情况设定为正，将第3样品向第1粘合剂层侧翘曲的情况设定为负；将第3样品按照表面保护膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；在第3样品向正侧翘曲的情况下，在铅直方向上，测定第3样品中的中心部与平面之间的距离作为第1制品卷曲量x；在第3样品向负侧翘曲的情况下，在铅直方向上，测定第3样品中的端部与平面之间的距离中最长的值作为第1制品卷曲量x。
(四次卷曲量测定)
从第3样品将表面保护膜进一步剥离，制备第4样品；将第4样品向偏振片侧翘曲的情况设定为正，将第4样品向第1粘合剂层侧翘曲的情况设定为负；将第4样品按照偏振片与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；在第4样品向正侧翘曲的情况下，在铅直方向上，测定第4样品中的中心部与平面之间的距离作为第2制品卷曲量y；在第4样品向负侧翘曲的情况下，在铅直方向上，测定第4样品中的端部与平面之间的距离中最长的值作为第2制品卷曲量y。
然后，按照以下的基准来判定光学层叠体的卷曲的好坏。将实施例及比较例的光学层叠体的制造中的卷曲品数及卷曲品率示于表1中。
良品：第1制品卷曲量x及第2制品卷曲量y各自为-10mm以上且10mm以下的范围内时。
不良品(卷曲品)：第1制品卷曲量x及第2制品卷曲量y中的至少一者低于-10mm或超过10mm时。
[制备例1：第1相位差膜的制备]
在包含2台具备搅拌叶片及控制为100℃的回流冷却器的立式反应器的间歇聚合装置中，投入双[9-(2-苯氧基羰基乙基)芴-9-基]甲烷29.60质量份(0.046mol)、异山梨糖醇(ISB)29.21质量份(0.200mol)、螺二醇(SPG)42.28质量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77质量份(0.298mol)及作为催化剂的乙酸钙一水合物1.19×10-2质量份(6.78×10- 5mol)。将反应器内进行减压氮置换后，用热介质进行加温，在内温达到100℃的时刻开始搅拌。在升温开始40分钟后使内温达到220℃，按照保持该温度的方式进行控制，同时开始减压，达到220℃后用90分钟设定为13.3kPa。将随着聚合反应而副产的苯酚蒸气导入100℃的回流冷却器中，将苯酚蒸气中包含的若干量的单体成分返回至反应器中，未冷凝的苯酚蒸气导入至45℃的冷凝器中并回收。向第1反应器中导入氮而暂时复压至大气压后，将第1反应器内的低聚物化的反应液转移至第2反应器中。接着，开始第2反应器内的升温及减压，用50分钟设定为内温240℃、压力0.2kPa。之后，进行聚合至成为规定的搅拌动力为止。在达到规定动力的时刻向反应器中导入氮而复压，将所生成的聚酯碳酸酯系树脂挤出到水中，将线料切割而得到粒料。
将所得到的聚酯碳酸酯系树脂(粒料)在80℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(东芝机械社制、汽缸设定温度：250℃)、T型模(宽度200mm、设定温度：250℃)、冷硬轧辊(设定温度：120～130℃)及卷取机的膜制膜装置，制备了长条状的树脂膜。将所得到的长条状的树脂膜进行自由端纵拉伸，得到厚度为47μm的第1相位差膜。第1相位差膜的Re(550)为143nm。
[制备例2：第2相位差膜的制备]
将下述化学式(1)(式中，65及35为各构成单元的摩尔％)所示的侧链型液晶聚合物(重均分子量5000)20质量份、显示出向列液晶相的聚合性液晶(BASF公司制、商品名：Paliocolor LC242)80质量份及光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals公司制、商品名：Irgacure 907)5质量份溶解于环戊酮200质量份中，制备了液晶涂装液。接着，在作为基材膜的降冰片烯系树脂膜(Zeon Corporation制、商品名：ZEONEX)的表面，利用棒涂机涂装所制备的液晶涂装液后，在80℃下加热及干燥4分钟，使涂布膜中包含的液晶取向。接着，通过紫外线的照射使涂布膜硬化，在基材膜上形成作为第2相位差膜的液晶固化层(厚度0.58μm)。液晶固化层的面内相位差Re(550)为0nm，厚度方向的相位差Rth为-71nm(nx＝1.5326、ny＝1.5326、nz＝1.6550)，液晶固化层显示出nz>nx＝ny的折射率。
[化学式5]
[制备例3：粘合剂的制备]
向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中，投入含有丙烯酸丁酯82.1质量份、丙烯酸苄基酯13质量份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1质量份及丙烯酸4.8质量份的单体混合物。进而，相对于该单体混合物100质量份，将作为聚合引发剂的2,2’-偶氮双异丁腈0.1份与乙酸乙酯100份一起投入，一边缓慢地搅拌一边导入氮气而进行了氮置换。之后，将烧瓶内的液温保持在55℃附近，使单体混合物进行8小时聚合反应，制备了重均分子量(Mw)220万、Mw/Mn＝3.0的丙烯酸系聚合物的溶液。
接着，相对于丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100质量份，配合甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(东曹公司制、商品名：Coronate L)12质量份、过氧化物交联剂(过氧化苯甲酰)0.1质量份及含环氧基的硅烷偶联剂(信越化学工业社制、商品名：KBM-403)0.1质量份，得到粘合剂。
[制备例4：偏振片的制备]
准备平均聚合度为2400、皂化度为99.9摩尔％、厚度为30μm的聚乙烯醇膜。将聚乙烯醇膜在圆周速度比不同的辊间一边在25℃的溶胀浴(水浴)中浸渍30秒钟而溶胀一边沿搬送方向拉伸至2.2倍(溶胀工序)，接着，在30℃的染色浴(相对于水100质量份以1：7的质量比配合碘和碘化钾而得到的碘水溶液)中，一边按照起偏器成为规定的透射率的方式调整碘浓度一边浸渍30秒钟而染色，同时以原来的聚乙烯醇膜(没有沿搬送方向完全拉伸的聚乙烯醇膜)为基准而沿搬送方向拉伸至3.1倍(染色工序)。
接着，将染色后的聚乙烯醇膜在40℃的交联浴(硼酸浓度为5.0质量％、碘化钾浓度为3.0质量％的水溶液)中浸渍30秒钟，以原来的聚乙烯醇膜为基准而沿搬送方向拉伸至3.7倍(交联工序)。
进而，将所得到的聚乙烯醇膜在66℃的拉伸浴(硼酸浓度为4.3质量％、碘化钾浓度为5.0质量％的水溶液)中浸渍60秒钟，以原来的聚乙烯醇膜为基准而沿搬送方向拉伸至6.0倍(拉伸工序)后，在20℃的洗涤浴(碘化钾浓度为3.6质量％的水溶液)中浸渍10秒钟(洗涤工序)。将洗涤后的聚乙烯醇膜在30℃下干燥30秒钟而制作起偏器。起偏器的厚度为12μm。
在所得到的起偏器的一个表面介由水系粘接剂(厚度为0.1μm)而贴合TAC膜(厚度25μm)作为保护层。由此，得到具有保护层/起偏器的构成的偏振片。
[实施例1及2]
<<第1准备工序>>
在制备例1中得到的第1相位差膜上介由丙烯酸系粘合剂而贴附制备例2中得到的第2相位差膜(液晶固化层)后，从液晶固化层上剥离基材膜。
将制备例3中得到的粘合剂按照干燥后的厚度成为15μm的方式涂布于经有机硅系剥离剂处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(商品名：MRF38、Mitsubishi ChemicalPolyester Film公司制)上后，使粘合剂的涂膜干燥，制备了第1粘合剂层。
接着，将形成于PET膜上的第1粘合剂层转印到第2相位差膜中的与第1相位差膜相反侧的面上。之后，在第1相位差膜中的与第2相位差膜相反侧的表面贴附表面保护膜(东丽公司制、商品名：TORETEC)。表面保护膜由粘合剂构成，其厚度为30μm。
由此，得到具有表面保护膜/第1相位差膜/第2相位差膜/第1粘合剂层的构成的层叠膜。
接着，如图9中所示的那样，将所得到的层叠膜以表1中所示的侵入角θ1供给至一对压接辊之间，并且，将剥离衬垫(经有机硅系剥离剂处理的PET膜、商品名：MRF38、Mitsubishi Chemical Polyester Film公司制)供给至一对压接辊之间。由此，在层叠膜及剥离衬垫通过一对压接辊之间时，将剥离衬垫与层叠膜的第1粘合剂层压接。
由此，制备了具有表面保护膜/第1相位差膜/第2相位差膜/第1粘合剂层/剥离衬垫的构成的第1层叠体。第1层叠体以表1中所示的送出角θ2从一对压接辊之间被送出。需要说明的是，将剥离衬垫的贴附时的作用于表面保护膜的张力与作用于剥离衬垫的张力的关系示于表1中。
<<第2准备工序>>
与第1粘合剂层同样地操作，制备了厚度为12μm的第2粘合剂层。将形成于PET膜上的第2粘合剂层转印到制备例4中得到的偏振片的起偏器上。
接着，在偏振片的保护层上贴附表面保护膜。表面保护膜具有由树脂膜构成的基材和丙烯酸系粘合剂层。
由此，得到具有表面保护膜/偏振片/第2粘合剂层的构成的第2层叠体。
<<剥离工序及贴附工序>>
接着，从上述的第1层叠体上剥离表面保护膜，使相位差膜露出。之后，将剥离表面保护膜后的第1层叠体利用第2粘合剂层贴附于第2层叠体上。此时，按照起偏器的吸收轴与相位差膜的慢轴所成的角度成为45°的方式进行了调整。
由此，得到具有表面保护膜/偏振片/第2粘合剂层/第1相位差膜/第2相位差膜/第1粘合剂层/剥离衬垫的构成的光学层叠体。反复进行上述的第1准备工序、第2准备工序、剥离工序及贴附工序，制造了表1中所示的制造数的光学层叠体。
[实施例3]
在第1准备工序中，将侵入角θ1及送出角θ2设定为0°，并且，通过装置操作来调整辊的位置，按照作用于剥离衬垫的张力变得比作用于表面保护膜的张力大的方式进行了调整，除此以外，与实施例1同样地操作，制造了表1中所示的制造数的光学层叠体。
[比较例1]
没有将形成于PET膜上的第1粘合剂层转印到相位差膜上，而是在形成于PET膜上的第1粘合剂层上直接贴附相位差膜，除此以外，与实施例1同样地操作，得到具有表面保护膜/相位差膜/第1粘合剂层/PET膜的构成的光学层叠体。
表1
[评价]
如由表1表明的那样，获知如果第1层叠体满足(C1+C2)≤(C3+C4)的关系，则在将剥离衬垫剥离后的光学层叠体中，可抑制产生卷曲。因此，在制造多个光学层叠体的情况下，可提高上述的抑制了卷曲的产生的光学层叠体的制造比例。
产业上的可利用性
本发明的光学层叠体适宜用于图像显示装置(代表性而言为液晶显示装置、有机EL显示装置)，特别是可适宜用于关于卷曲的容许基准严格的图像显示装置(例如具备有机EL显示装置的笔记本电脑或平板电脑)。

Claims (2)

1.一种光学层叠体的制造方法，其包括以下工序：
准备依次包含表面保护膜、相位差膜、第1粘合剂层及剥离衬垫的第1层叠体的工序；
准备依次包含偏振片及第2粘合剂层的第2层叠体的工序；
从所述第1层叠体上剥离所述表面保护膜的工序；
将所述表面保护膜剥离后的第1层叠体与所述第2层叠体的所述第2粘合剂层贴附的工序，其中，
所述第1层叠体满足下述式(1)：
(C1+C2)≤(C3+C4) (1)
式(1)中，C1表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第1卷曲量；C2表示通过下述一次卷曲量测定而测定的第2卷曲量；C3表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第3卷曲量；C4表示通过下述二次卷曲量测定而测定的第4卷曲量，
(一次卷曲量测定)
准备从所述第1层叠体的层叠方向观察为大致菱形状的第1层叠体；
从所述菱形状的第1层叠体上剥离所述表面保护膜而制备第1样品；
在将所述第1样品向所述相位差膜侧翘曲的情况设定为正，将所述第1样品向所述剥离衬垫侧翘曲的情况设定为负时，所述第1样品向负侧翘曲；
将所述第1样品按照所述相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；
在铅直方向上，测定所述第1样品中的第1角部与所述平面之间的距离作为第1卷曲量；
在铅直方向上，测定所述第1样品中的与第1角部不同的成对角的第2角部与所述平面之间的距离作为第2卷曲量，
(二次卷曲量测定)
从所述第1样品上进一步剥离所述剥离衬垫而制备第2样品；
在将所述第2样品向所述相位差膜侧翘曲的情况设定为正，将所述第2样品向所述第1粘合剂层翘曲的情况设定为负时，所述第2样品向负侧翘曲；
将所述第2样品按照所述相位差膜与平面相接触的方式配置于沿着水平方向的平面上；
在铅直方向上，测定所述第2样品的第1角部与所述平面之间的距离作为第3卷曲量；
在铅直方向上，测定所述第2样品的第2角部与所述平面之间的距离作为第4卷曲量。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，
准备所述第1层叠体的工序包括以下工序：
准备依次包含表面保护膜、相位差膜及第1粘合剂层的层叠膜的工序；
在所述层叠膜的第1粘合剂层上按照作用于所述剥离衬垫的张力变得比作用于所述表面保护膜的张力大的方式贴附所述剥离衬垫的工序。
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