CN118154749A - 模型的纹理处理方法、装置、存储介质和电子装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种模型的纹理处理方法、装置、存储介质和电子装置。该方法包括：在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。本公开解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

Description

模型的纹理处理方法、装置、存储介质和电子装置

技术领域

本公开涉及计算机图形学领域，具体而言，涉及一种模型的纹理处理方法、装置、存储介质和电子装置。

背景技术

目前，为了提升游戏中的视觉效果和表现效果，需要重点关注如何对模型进行有效的纹理平铺。

在相关技术中，通过在统一的纹理(UV)布局下烘焙贴图纹理，可以实现模型表面复杂的表现效果。在用户创作内容(User Generated Content，简称为UGC)当中的模型，用户可以自由调整模型的尺寸，为了保证模型表面的表现效果，需要针对不同效果进行对应的纹理平铺。但是，传统模型在统一的UV布局下的纹理平铺，并不支持有效的平铺操作，比如，会出现纹理错乱的问题，从而存在无法有效进行纹理平铺的技术问题。

针对上述的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

本公开至少部分实施例提供了一种模型的纹理处理方法、装置、存储介质和电子装置，以至少解决无法有效进行纹理平铺的技术问题。

根据本公开其中一实施例，提供了一种模型的纹理处理方法。该方法可以包括：在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种模型的纹理处理装置。该装置可以包括：第一确定单元，用于在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；第二确定单元，用于确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；平铺单元，用于按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；映射单元，用于基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质中存储有计算机程序，其中，计算机程序被设置为运行时执行上述任一项中的模型的纹理处理方法。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种电子装置。该电子装置可以包括存储器和处理器，存储器中存储有计算机程序，处理器被设置为运行计算机程序以执行上述任一项中的模型的纹理处理方法。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种计算机程序产品。该计算机程序产品可以包括计算机程序，其中，计算机程序被设置为运行时执行上述任一项中的模型的纹理处理方法。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种计算机程序产品。该计算机程序产品可以包括非易失性计算机可读存储介质，其中，非易失性计算机可读存储介质存储计算机程序，计算机程序被设置为运行时执行上述任一项中的模型的纹理处理方法。

根据本公开其中一实施例，还提供了一种计算机程序。该计算机程序被设置为运行时执行上述任一项中的模型的纹理处理方法。

在本公开至少部分实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。也就是说，本公开将初始模型的模型表面划分为多个初始区域，该初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联有目标区域，然后按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，进一步基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，避免了在统一的UV布局下进行纹理平铺操作所出现的纹理错乱，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本公开的进一步理解，构成本申请的一部分，本公开的示意性实施例及其说明用于解释本公开，并不构成对本公开的不当限定。在附图中：

图1是本公开实施例的一种模型的纹理处理方法的移动终端的硬件结构框图；

图2是根据本公开其中一实施例的模型的纹理处理方法的流程图；

图3(a)是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型表面的示意图；

图3(b)是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型顶面或底面的示意图；

图4是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型颜色分区的示意图；

图5是根据本公开其中一实施例的UV分区的示意图；

图6是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型最终UV的示意图；

图7是根据本公开其中一实施例的纹理分布的示意图；

图8(a)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域A纹理的示意图；

图8(b)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域B纹理的示意图；

图8(c)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域C纹理的示意图；

图8(d)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域D纹理的示意图；

图9(a)是根据本公开其中一实施例的区域A对应蒙版的示意图；

图9(b)是根据本公开其中一实施例的区域B对应蒙版的示意图；

图9(c)是根据本公开其中一实施例的区域C对应蒙版的示意图；

图9(d)是根据本公开其中一实施例的区域D对应蒙版的示意图；

图10是根据本公开其中一实施例的最终采样结果的示意图；

图11(a)是根据本公开其中一实施例的UGC组件展示模型内表面的示意图；

图11(b)是根据本公开其中一实施例的UGC组件展示模型外表面的示意图；

图12是根据本公开实施例其中一实施例的模型的纹理处理装置的结构框图；

图13是根据本公开实施例的一种电子装置的示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本公开方案，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本公开保护的范围。

需要说明的是，本公开的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

在一种可能的实施方式中，在实现模型表面复杂的表现效果时，通常可以在统一的UV布局下烘焙一套贴图纹理。但是，在发明人经过实践并仔细研究后发现，如果采用上述方法来实现模型表面复杂的表现效果，由于上述方法针对传统模型，在统一的UV布局下的纹理不支持有效的平铺操作，会导致平铺错乱问题的出现，从而存在无法有效进行纹理平铺的技术问题。

基于上述，本公开实施例提出了一种模型的纹理处理方法，可以应用于模型纹理平铺，该方法考虑到UGC当中的模型，需要供用户自由调整模型的尺寸，从而提升用户的游戏体验感。基于此，该方法为了保证模型表面的表现效果，针对不同效果进行对应的纹理平铺，避免了用户在UGC中自由调控复杂表面效果的模型时，纹理不能有效平铺的问题。

由于考虑到相关技术中通过在统一的UV布局下烘焙贴图纹理，会导致无法有效进行纹理平铺的技术问题。然而，本公开实施例中通过将模型表面根据表现效果进行简单分区，通常最多为四个分区，体现在UV上为四宫格，按照四宫格UV布局进行相关贴图纹理制作，在对模型的尺寸进行变换时，通过相关计算对各区域的纹理进行平铺，最后根据UV布局进行混合，得到最终表现效果，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

根据本公开其中一实施例，提供了一种模型的纹理处理方法的实施例，需要说明的是，在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行，并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。

该方法实施例可以在移动终端、计算机终端或者类似的运算装置中执行。以运行在移动终端上为例，该移动终端可以是智能手机(如Android手机、iOS手机等)、平板电脑、掌上电脑以及移动互联网设备(Mobile Internet Devices，简称为MID)、PAD、游戏机等终端设备。图1是本公开实施例的一种模型的纹理处理方法的移动终端的硬件结构框图。如图1所示，移动终端可以包括一个或多个(图1中仅示出一个)处理器102(处理器102可以包括但不限于中央处理器(CPU)、图形处理器(GPU)、数字信号处理(DSP)芯片、微处理器(MCU)、可编程逻辑器件(FPGA)、神经网络处理器(NPU)、张量处理器(TPU)、人工智能(AI)类型处理器等的处理装置)和用于存储数据的存储器104。可选地，上述移动终端还可以包括用于通信功能的传输设备106、输入输出设备108以及显示设备110。本领域普通技术人员可以理解，图1所示的结构仅为示意，其并不对上述移动终端的结构造成限定。例如，移动终端还可包括比图1中所示更多或者更少的组件，或者具有与图1所示不同的配置。

存储器104可用于存储计算机程序，例如，应用软件的软件程序以及模块，如本公开实施例中的模型的纹理处理方法对应的计算机程序，处理器102通过运行存储在存储器104内的计算机程序，从而执行各种功能应用以及数据处理，即实现上述的模型的纹理处理方法。存储器104可包括高速随机存储器，还可包括非易失性存储器，如一个或者多个磁性存储装置、闪存、或者其他非易失性固态存储器。在一些实例中，存储器104可进一步包括相对于处理器102远程设置的存储器，这些远程存储器可以通过网络连接至移动终端。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。

传输设备106用于经由一个网络接收或者发送数据。上述的网络具体实例可包括移动终端的通信供应商提供的无线网络。在一个实例中，传输设备106包括一个网络适配器(Network Interface Controller，简称为NIC)，其可通过基站与其他网络设备相连从而可与互联网进行通讯。在一个实例中，传输设备106可以为射频(Radio Frequency，简称为RF)模块，其用于通过无线方式与互联网进行通讯。

输入输出设备108中的输入可以来自多个人体学接口设备(Human InterfaceDevice，简称为HID)。例如：键盘和鼠标、游戏手柄、其他专用游戏控制器(如：方向盘、鱼竿、跳舞毯、遥控器等)。部分人体学接口设备除了提供输入功能之外，还可以提供输出功能，例如：游戏手柄的力反馈与震动、控制器的音频输出等。

显示设备110可以例如平视显示器(HUD)、触摸屏式的液晶显示器(LCD)和触摸显示器(也被称为“触摸屏”或“触摸显示屏”)。该液晶显示器可使得用户能够与移动终端的用户界面进行交互。在一些实施例中，上述移动终端具有图形用户界面(GUI)，用户可以通过触摸触敏表面上的手指接触和/或手势来与GUI进行人机交互，此处的人机交互功能可选的包括如下交互：创建网页、绘图、文字处理、制作电子文档、游戏、视频会议、即时通信、收发电子邮件、通话界面、播放数字视频、播放数字音乐和/或网络浏览等、用于执行上述人机交互功能的可执行指令被配置/存储在一个或多个处理器可执行的计算机程序产品或可读存储介质中。

本领域技术人员可以理解，图1所示的结构仅为示意，其并不对上述移动终端的结构造成限定。例如，移动终端还可包括比图1中所示更多或者更少的组件，或者具有与图1所示不同的配置。

在一种可能的实施方式中，本公开实施例提供了一种模型的纹理处理方法，图2是根据本公开其中一实施例的模型的纹理处理方法的流程图，如图2所示，该方法可以包括如下步骤：

步骤S202，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同。

在本公开上述步骤S202提供的技术方案中，可以在初始模型的模型表面上确定多个初始区域。其中，初始模型可以为在UGC中玩家可以自由调控的模型，比如，为玩家可以自由调控尺寸的模型，初始模型还可以称为组件，又可以称为UGC组件。模型表面可以为初始模型的表面，比如，当初始模型的形状为空心圆柱体时，模型表面可以包括圆柱体的顶面、底面、内表面和外表面，模型表面还可以称为组件表面。初始区域可以为对初始模型的模型表面的表现效果进行分区，所得到的应用区域，其中，表现结果对应于在不同初始区域上所映射的初始纹理贴图，该不同初始区域上所映射的初始纹理贴图是不同的。可选地，上述初始纹理贴图可以称为初始区域的纹理贴图。

可选地，在该实施例中，可以将模型表面按照不同的表现效果，使用不同的颜色进行分区，且不同分区表示不同初始纹理贴图的应用区域，从而可以在模型表面上确定多个初始区域。

需要说明的是，该实施例将模型表面根据效果表现进行分区时，可以根据初始模型的实际应用需求和实际应用场景，按照不同的初始纹理贴图，将模型表面最多划分为四个初始区域，体现在UV布局上可以为四宫格。其中，不同的初始纹理贴图可以最多为四种。

举例而言，以初始模型为空心圆柱体模型为例，当对空心圆柱体进行分区时，可以按照空心圆柱体的不同初始纹理贴图，将其最多可以分为区域A、区域B、区域C和区域D。将圆柱体的表面按照不同初始纹理贴图的表现效果，使用不同的颜色进行分区，不同分区表示不同初始纹理贴图的应用区域，比如，圆柱体底面与顶面为区域A，圆柱体内表面为区域B，圆柱体外表面为区域C，从而可以确定多个初始区域。

步骤S204，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域。

在本公开上述步骤S204提供的技术方案中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，可以确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域。其中，二维平面可以为将初始区域进行展开的平面，比如，圆柱体内表面区域B展开为方形，则二维平面为区域B正常按照方形进行展开后的平面。目标区域可以为将初始区域进行UV分区后得到的区域，也就是说，目标区域可以为将UV按照四宫格形式进行区域划分后得到的区域，也可以称为四宫格区域。

在该实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，可以对确定的多个初始区域进行UV分区，由于不同初始区域表示不同初始纹理贴图的应用区域，从而可以确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域。

举例而言，初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域包括第一目标区域、第二目标区域、第三目标区域和第四目标区域。将空心圆柱体模型按照上述不同初始区域进行UV分区，区域A中顶面与底面结构相同，进行重合处理，区域B和区域C正常按照方形进行展开。将UV按照四宫格形式进行区域划分，可以将区域A对应的初始纹理贴图放置在第一目标区域，将区域B对应的初始纹理贴图放置在第二目标区域，将区域C对应的初始纹理贴图放置在第三目标区域。由于上述空心圆柱体模型的多个初始区域分别为区域A、区域B和区域C，则与多个初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的多个目标区域分别为第一目标区域、第二目标区域和第三目标区域，也即，第四目标区域不进行放置，从而可以确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的三个目标区域。

步骤S206，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸。

在本公开上述步骤S206提供的技术方案中，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，可以在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。其中，调整参数可以用于调整初始模型的尺寸，比如，调整参数可以用于调整初始模型的长、宽和高，可以用于缩小或放大初始模型的长、宽和高。目标模型可以为按照调整参数对初始模型进行调整后得到的模型，比如，目标模型可以为对初始模型的长、宽和高进行调整后得到的模型。

在该实施例中，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，由于调整参数可以用于将初始模型调整至目标模型，则可以在二维平面上，按照调整参数对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，以解决UGC组件在常规UV布局下，自由变换时纹理平铺导致的错乱问题，实现了可以让纹理各区域正常平铺的效果。

步骤S208，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

在本公开上述步骤S208提供的技术方案中，在按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果之后，可以基于得到的纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

在该实施例中，在得到纹理平铺结果之后，可以将得到的纹理平铺结果映射至目标模型的模型表面上，从而实现更新目标模型的模型表面的目的。

通过上述步骤S202至S208，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。也就是说，本公开将初始模型的模型表面划分为多个初始区域，该初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联有目标区域，然后按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，进一步基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，避免了在统一的UV布局下进行纹理平铺操作所出现的纹理错乱，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

下面对本公开实施例的上述方法进行进一步介绍。

作为一种可选的实施例，步骤S206，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，包括：对多个初始区域的初始纹理贴图，按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图，其中，目标纹理贴图用于表征初始纹理贴图在二维平面上的分布信息；按照调整参数，在二维平面上对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

在该实施例中，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，可以对多个初始区域的初始纹理贴图，按照对应的目标区域进行拼接(比如，拼接合图)，得到目标纹理贴图。在得到目标纹理贴图之后，可以按照调整参数，在二维平面上对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。其中，目标纹理贴图可以为将不同初始区域的初始纹理贴图按照对应的目标区域进行拼接后得到的纹理贴图，目标纹理贴图可以用于表征初始纹理贴图在二维平面上的分布信息。

可选地，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，可以将不同区域的纹理贴图按照UV分区的对应位置进行拼接合图，得到目标纹理贴图。在得到目标纹理贴图之后，可以按照调整参数，在二维平面上对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

举例而言，以初始模型为上述空心圆柱体模型为例，在确定初始模型的多个初始区域分别为区域A、区域B和区域C，以及多个目标区域分别为第一目标区域、第二目标区域和第三目标区域之后，可以将区域A的初始纹理贴图放置在二维平面上的第一目标区域，则可以得到区域A在第一目标区域上对应的初始纹理贴图。将区域B的初始纹理贴图放置在二维平面上的第二目标区域，则可以得到区域B在第二目标区域上对应的初始纹理贴图。将区域C的初始纹理贴图放置在二维平面上的第三目标区域，则可以得到区域C在第三目标区域上对应的初始纹理贴图。进一步可以将区域A对应的初始纹理贴图、区域B对应的初始纹理贴图，以及区域C对应的初始纹理贴图，按照UV分区的对应位置进行拼接合图，以得到目标纹理贴图。

该实施例通过对初始模型的模型表面进行简单分区，然后独自铺平再组合的方式，保证了模型在自由变换时的表现效果，从而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

作为一种可选的实施例，对多个初始区域的初始纹理贴图，按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图，包括：确定目标区域在二维平面上分布的位置信息；按照多个初始区域对应的多个目标区域的位置信息，对多个初始区域的初始纹理贴图拼接，得到目标纹理贴图。

在该实施例中，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，可以确定目标区域在二维平面上分布的位置信息。在确定目标区域在二维平面上分布的位置信息之后，可以按照多个初始区域对应的多个目标区域的位置信息，对多个初始区域的初始纹理贴图拼接，得到目标纹理贴图。其中，位置信息可以用于表示目标区域在四宫格上分布的位置，比如，位置信息可以为目标区域在四宫格中的第一区域，此处仅为举例说明，不对位置信息的形式做具体限制。

可选地，在确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域之后，可以确定目标区域在UV分区中的对应位置，即确定目标区域在二维平面上分布的位置信息。在确定目标区域在UV分区中的对应位置之后，可以对不同区域的纹理贴图按照UV分区的对应位置进行拼接合图，得到目标纹理贴图。

举例而言，以初始模型为上述空心圆柱体模型为例，在将区域A对应的初始纹理贴图放置在第一目标区域，将区域B对应的初始纹理贴图放置在第二目标区域，将区域C对应的初始纹理贴图放置在第三目标区域之后，可以按照区域A对应的目标区域的位置信息，即第一目标区域的位置信息，按照区域B对应的目标区域的位置信息，即第二目标区域的位置信息，按照区域C对应的目标区域的位置信息，即第三目标区域的位置信息，对区域A、区域B和区域C对应的初始纹理贴图拼接，得到目标纹理贴图。

作为一种可选的实施例，按照调整参数，在二维平面上对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，包括：按照调整参数，确定平铺系数；在二维平面上，按照平铺系数对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

在该实施例中，在对多个初始区域的初始纹理贴图按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图之后，可以按照调整参数，确定平铺系数，其中，平铺系数可以与调整参数正相关，比如，调整参数为缩放参数，当其由2调整至4时，则平铺系数也可以由2调整至4。在确定平铺系数之后，可以在二维平面上，按照确定的平铺系数对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。其中，平铺系数可以用于表示纹理贴图在模型表面重复平铺的次数，可以用Tiling进行表示，还可以称为UV平铺系数，比如，平铺系数可以为4，此处仅为举例说明，不对平铺系数的数值做具体限制。

可选地，在对多个初始区域的初始纹理贴图按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图之后，可以按照调整参数，确定对初始纹理贴图进行平铺的平铺系数。在确定平铺系数之后，可以按照确定的平铺系数对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

作为一种可选的实施例，在二维平面上，按照平铺系数对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，包括：在二维平面上，确定初始纹理贴图在目标纹理贴图中的偏移量；按照平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

在该实施例中，可以在二维平面上，确定初始纹理贴图在目标纹理贴图中的偏移量。在确定平铺系数和偏移量之后，可以按照确定的平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。其中，偏移量可以为不同初始区域对应的偏移量。

举例而言，假设初始模型为上述空心圆柱体模型，平铺系数Tiling为4，为了将第一目标区域、第二目标区域、第三目标区域和第四目标区域关联的初始纹理贴图按照模型缩放参数进行对应的平铺，各目标区域关联的初始纹理贴图需要按照对应方式进行采样，可以通过以下公式表示采样计算过程：

UV_A＝frac(UV*Tiling)/2

UV_B＝frac(UV*Tiling)/2+float2(0.5,0)

UV_C＝frac(UV*Tiling)/2+float2(0,0.5)

UV_D＝frac(UV*Tiling)/2+float2(0.5,0.5)

其中，frac可以用于表示取小数操作，UV可以用于表示纹理坐标，Tiling可以用于表示平铺系数，该平铺系数决定了每个目标区域关联的初始纹理贴图的重复次数。分母2可以用于表示初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域的排布方式(比如，四宫格区域)决定的。UV_A可以用于表示第一目标区域对应的纹理坐标，UV_A＝frac(UV*Tiling)/2决定了对第一目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，比如，第一目标区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第二目标区域关联的初始纹理贴图，以及第三目标区域关联的初始纹理贴图。

UV_B可以用于表示第二目标区域对应的纹理坐标，UV_B＝frac(UV*Tiling)/2+float(0.5，0)决定了对第二目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，比如，第二目标区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第一目标区域关联的初始纹理贴图，以及第三目标区域关联的初始纹理贴图。UV_C可以用于表示第三目标区域对应的纹理坐标，UV_C＝frac(UV*Tiling)/2+float(0,0.5)决定了对第三目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，比如，第三目标区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第一目标区域关联的初始纹理贴图，以及第二目标区域关联的初始纹理贴图。

由于上述空心圆柱体模型的目标区域仅包含第一目标区域、第二目标区域和第三目标区域，则不需要对第四目标区域关联的初始纹理贴图进行采样，上述公式中的UV_D可以用于表示第四目标区域对应的纹理坐标。float2(0.5,0)可以用于表示第二目标区域对应的偏移量，float2(0,0.5)可以用于表示第三目标区域对应的偏移量，float2(0.5,0.5)可以用于表示第四目标区域对应的偏移量。

该实施例解决了UGC组件在常规UV布局下，模型自由变换时纹理平铺导致的错乱问题，实现了可以让纹理各区域正常平铺的效果。

作为一种可选的实施例，步骤S204，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域，包括：确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域，其中，区域集中的不同区域在二维平面上按照目标排布规则进行排布，目标排布规则用于表示不同区域在水平方向上的排布数量与在竖直方向上的排布数量相同。

在该实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，可以确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。其中，区域集中的不同区域在二维平面上按照目标排布规则进行排布，比如，当区域集为四宫格形式时，区域集中的不同区域为四宫格中的四个区域，也即，四宫格中的四个区域在二维平面上按照目标排布规则进行排布。目标排布规则可以用于表示不同区域在水平方向上的排布数量与在竖直方向上的排布数量相同，比如，目标排布规则可以用于表示四宫格中的四个区域在水平方向上的排布数量与在竖直方向上的排布数量均为2，此处仅为举例说明，不对目标排布规则的排布数量做具体限制。

可选地，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，由于区域集中的不同区域在二维平面上按照目标排布规则进行排布，则可以对确定的多个初始区域进行UV分区，从而可以确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

作为一种可选的实施例，确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域，包括：响应于初始区域中多个子区域对应的模型结构相同，分别对多个子区域的子初始纹理贴图进行重合处理，得到重合纹理贴图；确定重合纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

在该实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，当初始区域中多个子区域对应的模型结构相同时，响应于初始区域中多个子区域对应的模型结构相同，可以分别对多个子区域的子初始纹理贴图进行重合处理，得到重合纹理贴图。在得到重合纹理贴图之后，可以确定重合纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

举例而言，以初始模型为上述空心圆柱体模型为例，当对空心圆柱体模型进行分区时，将圆柱体的表面按照不同的表现效果，使用不同的颜色进行分区，可以将圆柱体底面与顶面分为区域A，将圆柱体内表面分为区域B，将圆柱体外表面分为区域C。进一步将空心圆柱体按照上述不同初始区域进行UV分区，由于区域A中圆柱体的顶面与底面结构相同，即模型结构相同，因此，对圆柱体的顶面的子初始纹理贴图与圆柱体的底面的子初始纹理贴图进行重合处理，得到重合纹理贴图。在得到重合纹理贴图之后，可以确定重合纹理贴图在区域集中关联的目标区域。

作为一种可选的实施例，确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域，包括：响应于初始区域对应的模型表面为曲面，将曲面转换为平面；确定平面上的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

在该实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域之后，当初始区域对应的模型表面为曲面时，响应于初始区域对应的模型表面为曲面，可以将曲面转换为平面。在将曲面转换为平面之后，可以确定平面上的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

举例而言，以初始模型为上述空心圆柱体模型为例，在将圆柱体底面与顶面分为区域A、将圆柱体内表面分为区域B，将圆柱体外表面分为区域C之后，由于圆柱体内表面和圆柱体外表面均为曲面，即区域B和区域C对应的模型表面为曲面，则将区域B和区域C正常按照方形进行展开，将曲面转换为平面。在将曲面转换为平面之后，可以确定平面上的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

作为一种可选的实施例，该方法还包括：基于纹理平铺结果中的纹理坐标，确定目标区域的蒙版；利用蒙版对纹理平铺结果进行调整：基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，包括：将调整后的纹理平铺结果映射至目标模型的模型表面上。

在该实施例中，在按照确定的平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果之后，基于纹理平铺结果中的纹理坐标，可以确定目标区域的蒙版。在确定目标区域的蒙版之后，可以利用蒙版对纹理平铺结果进行调整。进一步可以将调整后的纹理平铺结果映射至目标模型的模型表面上，以更新目标模型的模型表面。其中，蒙版可以为遮盖、隐藏或修改图像的工具，可以用于控制图像的可见部分，从而实现对图像的局部调整或修饰。

举例而言，假设初始模型为上述空心圆柱体模型，平铺系数Tiling为4，在按照确定的平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果之后，基于纹理平铺结果中的纹理坐标，通过以下公式可以得到各目标区域的蒙版：

Mask_A＝step(UV.x,0.5)*step(UV.y,0.5)

Mask_B＝step(0.5,UV.x)*step(UV.y,0.5)

Mask_C＝step(UV.x,0.5)*step(0.5,UV.y)

Mask_D＝step(0.5,UV.x)*step(0.5,UV.y)

其中，Mask_A可以用于表示第一目标区域的蒙版，Mask_A＝step(UV.x，0.5)*step(UV.y，0.5)决定了对第一目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中左上角四个纹理贴图可见。Mask_B可以用于表示第二目标区域的蒙版，Mask_B＝step(0.5,UV.x)*step(UV.y,0.5)决定了对第二目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中右上角四个纹理贴图可见。Mask_C可以用于表示第三目标区域的蒙版，决定了对第三目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中左下角四个纹理贴图可见。由于未对上述空心圆柱体模型的第四目标区域关联的初始纹理贴图进行采样，上述公式中的Mask_D仅用于表示第四目标区域的蒙版。step可以用于表示常用数学函数，其中，对于step(a，b)，当a大于b时，该函数返回0，否则返回1。UV.x可以用于表示纹理坐标的横向坐标，UV.y可以用于表示纹理坐标的纵向坐标。

在根据UV计算第一目标区域的蒙版之后，可以利用蒙版对第一目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理得到的纹理平铺结果进行调整。在根据UV计算第二目标区域的蒙版之后，可以利用蒙版对第二目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理得到的纹理平铺结果进行调整。在根据UV计算第三目标区域的蒙版之后，可以利用蒙版对第三目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理得到的纹理平铺结果进行调整。进一步可以将调整后的第一目标区域、第二目标区域和第三目标区域对应的纹理平铺结果映射至目标模型的模型表面上，从而更新目标模型的模型表面。

作为一种可选的实施例，利用蒙版对纹理平铺结果进行调整，包括：对蒙版和纹理平铺结果进行混合处理，得到调整后的纹理平铺结果。

在该实施例中，在基于纹理平铺结果中的纹理坐标，确定目标区域的蒙版之后，可以对蒙版和纹理平铺结果进行混合处理，得到调整后的纹理平铺结果。

可选地，在根据UV计算目标区域对应的蒙版之后，可以将纹理平铺结果按照蒙版进行混合，获得最后的采样结果，即得到调整后的纹理平铺结果。利用调整后的纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，从而实现了各区域纹理随模型缩放的有序平铺。

当组件按照常规UV布局进行纹理平铺时，无法有效实现组件的表现效果，会出现平铺错乱问题。该实施例通过对蒙版和纹理平铺结果进行混合处理，得到调整后的纹理平铺结果，利用调整后的纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，达到了UGC组件支持用户对其进行自由缩放的目的。

作为一种可选的实施例，该方法还包括：控制初始模型按照缩放参数缩放至目标模型，其中，调整参数包括缩放参数。

在该实施例中，可以控制初始模型按照缩放参数缩放至目标模型。其中，调整参数可以包括缩放参数，缩放参数可以用于控制初始模型进行缩小或放大，且不会出现平铺错乱问题。

由于初始模型需要满足用户可以随意调节模型尺寸的作用，但是正常UV布局下的贴图，在纹理平铺时会出现错乱问题。该实施例通过调整参数，可以控制初始模型缩小或放大至目标模型，解决了UGC组件在尺寸自由变换时纹理平铺错乱的问题，同时提升了UGC中圆柱类组件的表现效果。

在本公开实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。也就是说，本公开将初始模型的模型表面划分为多个初始区域，该初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联有目标区域，然后按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，进一步基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，避免了在统一的UV布局下进行纹理平铺操作所出现的纹理错乱，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

下面结合优选的实施方式对本公开实施例的技术方案进行进一步的举例介绍。具体以一种针对UGC组件纹理平铺的实现方法进行进一步说明。

目前，为了提升游戏中的视觉效果和表现效果，需要重点关注如何对模型进行有效的纹理平铺。传统游戏内的组件，可以通过在统一UV布局下烘焙一套贴图纹理，从而实现组件表面复杂的表现效果。在UGC当中的组件，用户可以自由调整组件的长、宽和高，为了保证组件表面的表现效果，需要针对不同效果进行对应的纹理平铺。但是，传统组件在统一的UV布局下的纹理不支持有效的平铺操作，从而存在无法有效进行纹理平铺的技术问题。

在一种实施方式中，在实现组件表面复杂的表现效果时，通常可以在统一的UV布局下烘焙一套贴图纹理。但是，在统一的UV布局下的纹理不支持有效的平铺操作，导致平铺错乱问题的出现。也就是说，UGC组件支持用户对其进行自由缩放，当组件按照常规UV布局进行纹理平铺时，不能有效实现组件的表现效果，会出现平铺错乱问题，从而存在无法有效进行纹理平铺的技术问题。

为了解决上述问题，本公开实施例提出了一种针对UGC组件纹理平铺的实现方法，由于组件需要满足用户可以随意调节大小的作用，但是正常UV布局下的贴图平铺时会出现错乱问题。该实施例通过将组件表面根据效果表现进行简单分区，一般最多为四个分区，体现在UV上即为四宫格，按照四宫格UV布局进行相关贴图纹理制作，进一步在组件变换时，通过相关计算对各区域的纹理进行平铺，最后根据UV布局进行混合，得到最终表现效果，从而解决了UGC组件在自由变换时纹理平铺问题，同时提升UGC中圆柱类组件的表现效果，避免了用户在UGC中自由调控复杂表面效果组件时，纹理不能有效平铺的问题。

该实施例以初始模型为空心圆柱体模型为例，图3(a)是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型表面的示意图，图3(b)是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型顶面或底面的示意图。对上述空心圆柱体模型按照不同颜色进行分区，最多可以分为区域A、区域B、区域C和区域D。图4是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型颜色分区的示意图，如图4所示，将圆柱体模型的表面按照不同的表现效果，使用不同的颜色进行分区，不同分区表示不同纹理的应用区域，从图4中可以看出，圆柱体底面与顶面为区域A，圆柱体内表面为区域B，圆柱体外表面为区域C。

在将圆柱体模型按照不同颜色进行分区之后，进一步将空心圆柱体按照上述所分不同区域进行UV分区，由于区域A中顶面与底面结构相同，进行重合处理，区域B和区域C正常按照方形进行展开。图5是根据本公开其中一实施例的UV分区的示意图，如图5所示，将UV按照四宫格形式进行区域划分，将区域A对应的纹理贴图放置在第一区域，即数字1对应的位置，将区域B对应的纹理贴图放置在第二区域，即数字2对应的位置，将区域C对应的纹理贴图放置在第三区域，即数字3对应的位置。由于圆柱体模型按照颜色分区，只分为三个区域，因此，数字4对应的位置不进行填充。图6是根据本公开其中一实施例的空心圆柱体模型最终UV的示意图，如图6所示，可以看到将UV按照四宫格形式进行区域划分之后，空心圆柱体模型的最终UV。

在将区域A对应的纹理贴图放置在第一区域，将区域B对应的纹理贴图放置在第二区域，将区域C对应的纹理贴图放置在第三区域之后，可以得到区域A在第一区域上对应的纹理贴图、区域B在第二区域上对应的纹理贴图，以及区域C在第三区域上对应的纹理贴图。进一步可以将区域A对应的纹理贴图、区域B对应的纹理贴图，以及区域C对应的纹理贴图，按照UV分区的对应位置进行拼接合图，图7是根据本公开其中一实施例的纹理分布的示意图，如图7所示，将区域A对应的纹理贴图、区域B对应的纹理贴图与区域C对应的纹理贴图进行拼接合图。

为了将各区域纹理按照模型缩放进行对应的平铺，各区域纹理需要按照对应方式进行采样，具体采样过程为：在对多个初始区域的初始纹理贴图按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图之后，可以按照调整参数，确定平铺系数Tiling。进一步还可以在二维平面上，确定初始纹理贴图在目标纹理贴图中的偏移量，具体可参见上述计算平铺系数和偏移量的公式。在确定平铺系数和偏移量之后，可以按照确定的平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

假设平铺系数Tiling为4，图8(a)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域A纹理的示意图，如图8(a)所示，第一区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第二区域关联的初始纹理贴图、第三区域关联的初始纹理贴图，以及第四区域关联的初始纹理贴图。图8(b)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域B纹理的示意图，如图8(b)所示，第二区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第一区域关联的初始纹理贴图、第三区域关联的初始纹理贴图，以及第四区域关联的初始纹理贴图。图8(c)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域C纹理的示意图，如图8(c)所示，第三区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第一区域关联的初始纹理贴图、第二区域关联的初始纹理贴图，以及第四区域关联的初始纹理贴图。图8(d)是根据本公开其中一实施例的UV计算结果中区域D纹理的示意图，如图8(d)所示，第四区域关联的初始纹理贴图在四宫格区域上横向重复了四次，纵向重复了四次的纹理平铺结果，而此时没有第一区域关联的初始纹理贴图、第二区域关联的初始纹理贴图，以及第三区域关联的初始纹理贴图。从上述图中可以看出，当系数Tiling为4时，各区域对应纹理均平铺四次。

在将各区域纹理进行采样计算，得到UV计算结果之后，可以根据UV计算对应区域的蒙版。图9(a)是根据本公开其中一实施例的区域A对应蒙版的示意图，如图9(a)所示，对第一区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中左上角四个纹理贴图可见。图9(b)是根据本公开其中一实施例的区域B对应蒙版的示意图，如图9(b)所示，对第二区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中右上角四个纹理贴图可见。图9(c)是根据本公开其中一实施例的区域C对应蒙版的示意图，如图9(c)所示，对第三区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中左下角四个纹理贴图可见。图9(d)是根据本公开其中一实施例的区域D对应蒙版的示意图，如图9(d)所示，对第四区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到的纹理平铺结果中右下角四个纹理贴图可见。从上述图中可以看出，可以根据UV计算对应的蒙版Mask计算结果，从而得到各区域对应的蒙版。图10是根据本公开其中一实施例的最终采样结果的示意图，如图10所示，在根据UV计算对应区域的蒙版之后，可以将纹理平铺结果按照蒙版进行混合，获得最后的采样结果，即得到调整后的纹理平铺结果。

利用调整后的纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，从而实现了各区域纹理随模型缩放的有序平铺。图11(a)是根据本公开其中一实施例的UGC组件展示模型内表面的示意图，图11(b)是根据本公开其中一实施例的UGC组件展示模型外表面的示意图，从图中可以看出游戏内UGC组件的展示效果，通过对模型表面进行简单分区，然后独自铺平再组合的方式，保证了组件在自由变换时的表现效果，解决了UGC组件在常规UV布局下，自由变换时纹理平铺会导致的错乱问题，可以让纹理各区域正常平铺。

在本公开实施例中，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。也就是说，本公开将初始模型的模型表面划分为多个初始区域，该初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联有目标区域，然后按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，进一步基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，避免了在统一的UV布局下进行纹理平铺操作所出现的纹理错乱，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

通过以上的实施方式的描述，本领域的技术人员可以清楚地了解到根据上述实施例的方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现，当然也可以通过硬件，但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解，本公开的技术方案本质上或者说对相关技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质(如ROM/RAM、磁碟、光盘)中，包括若干指令用以使得一台终端设备(可以是手机，计算机，服务器，或者网络设备等)执行本公开各个实施例的方法。

在本实施例中还提供了一种模型的纹理处理装置，该装置用于实现上述实施例及优选实施方式，已经进行过说明的不再赘述。如以下所使用的，术语“单元”可以实现预定功能的软件和/或硬件的组合。尽管以下实施例所描述的装置较佳地以软件来实现，但是硬件，或者软件和硬件的组合的实现也是可能并被构想的。

图12是根据本公开实施例其中一实施例的模型的纹理处理装置的结构框图，如图12所示，该模型的纹理处理装置1200可以包括：第一确定单元1202、第二确定单元1204、平铺单元1206和映射单元1208。

第一确定单元1202，用于在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同。

第二确定单元1204，用于确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域。

平铺单元1206，用于按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸。

映射单元1208，用于基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

可选地，平铺单元1206包括：拼接模块，用于对多个初始区域的初始纹理贴图，按照对应的目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图，其中，目标纹理贴图用于表征初始纹理贴图在二维平面上的分布信息；平铺模块，用于按照调整参数，在二维平面上对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

可选地，拼接模块包括：第一确定子模块，用于确定目标区域在二维平面上分布的位置信息；拼接子模块，用于按照多个初始区域对应的多个目标区域的位置信息，对多个初始区域的初始纹理贴图拼接，得到目标纹理贴图。

可选地，平铺模块包括：第二确定子模块，用于按照调整参数，确定平铺系数；平铺子模块，用于在二维平面上，按照平铺系数对目标纹理贴图中的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

可选地，平铺子模块包括：在二维平面上，确定初始纹理贴图在目标纹理贴图中的偏移量；按照平铺系数和偏移量，对初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果。

可选地，第二确定单元1204包括：确定模块，用于确定初始区域的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域，其中，区域集中的不同区域在二维平面上按照目标排布规则进行排布，目标排布规则用于表示不同区域在水平方向上的排布数量与在竖直方向上的排布数量相同。

可选地，确定模块包括：重合子模块，用于响应于初始区域中多个子区域对应的模型结构相同，分别对多个子区域的子初始纹理贴图进行重合处理，得到重合纹理贴图；第三确定子模块，用于确定重合纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

可选地，第三确定子模块包括：响应于初始区域对应的模型表面为曲面，将曲面转换为平面；确定平面上的初始纹理贴图，在区域集中关联的目标区域。

可选地，该装置还包括：第三确定单元，用于基于纹理平铺结果中的纹理坐标，确定目标区域的蒙版；调整单元，用于利用蒙版对纹理平铺结果进行调整：映射单元1208，包括：映射模块，用于将调整后的纹理平铺结果映射至目标模型的模型表面上。

可选地，调整单元包括：混合模块，用于对蒙版和纹理平铺结果进行混合处理，得到调整后的纹理平铺结果。

可选地，该装置还包括：缩放单元，用于控制初始模型按照缩放参数缩放至目标模型，其中，调整参数包括缩放参数。

在该实施例中，通过第一确定单元1202在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同。通过第二确定单元1204确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域。通过平铺单元1206按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸。通过映射单元1208基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。也就是说，本公开将初始模型的模型表面划分为多个初始区域，该初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联有目标区域，然后按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，进一步基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面，避免了在统一的UV布局下进行纹理平铺操作所出现的纹理错乱，进而实现了有效进行纹理平铺的技术效果，解决了无法有效进行纹理平铺的技术问题。

需要说明的是，上述各个单元是可以通过软件或硬件来实现的，对于后者，可以通过以下方式实现，但不限于此：上述单元均位于同一处理器中；或者，上述各个单元以任意组合的形式分别位于不同的处理器中。

本公开的实施例还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质中存储有计算机程序，其中，该计算机程序被设置为运行时执行上述任一项方法实施例中的步骤。

可选地，在本实施例中，上述计算机可读存储介质可以被设置为存储用于执行以下步骤的计算机程序：

S1，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

S2，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

S3，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；

S4，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

可选地，在本实施例中，上述计算机可读存储介质可以包括但不限于：U盘、只读存储器(Read-Only Memory，简称为ROM)、随机存取存储器(Random Access Memory，简称为RAM)、移动硬盘、磁碟或者光盘等各种可以存储计算机程序的介质。

本公开的实施例还提供了一种电子装置，包括存储器和处理器，该存储器中存储有计算机程序，该处理器被设置为运行计算机程序以执行上述任一项方法实施例中的步骤。

可选地，上述电子装置还可以包括传输设备以及输入输出设备，其中，该传输设备和上述处理器连接，该输入输出设备和上述处理器连接。

可选地，在本实施例中，上述处理器可以被设置为通过计算机程序执行以下步骤：

S1，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

S2，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

S3，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；

S4，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

本公开的实施例还提供了一种计算机程序产品，该计算机程序产品可以包括计算机程序，其中，该计算机程序被设置为运行时执行上述任一项方法实施例中的步骤。

可选地，在本实施例中，上述计算机程序产品可以被设置为包括用于执行以下步骤的计算机程序：

S1，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

S2，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

S3，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；

S4，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

本公开的实施例还提供了一种计算机程序产品，该计算机程序产品可以包括非易失性计算机可读存储介质，其中，该非易失性计算机可读存储介质存储计算机程序，该计算机程序被设置为运行时执行上述任一项方法实施例中的步骤。

可选地，在本实施例中，上述计算机程序产品可以被设置为包括非易失性计算机可读存储介质，上述非易失性计算机可读存储介质可以被设置为存储用于执行以下步骤的计算机程序：

S1，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

S2，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

S3，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；

S4，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

本公开的实施例还提供了一种计算机程序，该计算机程序被设置为运行时执行上述任一项方法实施例中的步骤。

可选地，在本实施例中，上述计算机程序被设置为用于执行以下步骤：

S1，在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

S2，确定初始区域的初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

S3，按照初始模型调整至目标模型的调整参数，在二维平面上对目标区域关联的初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，调整参数用于调整初始模型的尺寸；

S4，基于纹理平铺结果更新目标模型的模型表面。

可选地，本实施例中的具体示例可以参考上述实施例及可选实施方式中所描述的示例，本实施例在此不再赘述。

图13是根据本公开实施例的一种电子装置的示意图。如图13所示，电子装置1300仅仅是一个示例，不应对本公开实施例的功能和使用范围带来任何限制。

如图13所示，电子装置1300以通用计算设备的形式表现。电子装置1300的组件可以包括但不限于：上述至少一个处理器1310、上述至少一个存储器1320、连接不同系统组件(包括存储器1320和处理器1310)的总线1330和显示器1340。

其中，上述存储器1320存储有程序代码，程序代码可以被处理器1310执行，使得处理器1310执行本公开实施例的上述方法部分中描述的根据本公开各种示例性实施方式的步骤。

存储器1320可以包括易失性存储单元形式的可读介质，例如随机存取存储单元(RAM)13201和/或高速缓存存储单元13202，还可以进一步包括只读存储单元(ROM)13203，还可包括非易失性存储器，如一个或者多个磁性存储装置、闪存、或者其他非易失性固态存储器。

在一些实例中，存储器1320还可以包括具有一组(至少一个)程序模块13205的程序/实用工具13204，这样的程序模块13205包括但不限于：操作系统、一个或者多个应用程序、其它程序模块以及程序数据，这些示例中的每一个或某种组合中可能包括网络环境的实现。存储器1320可进一步包括相对于处理器1310远程设置的存储器，这些远程存储器可以通过网络连接至电子装置1300。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。

总线1330可以为表示几类总线结构中的一种或多种，包括存储单元总线或者存储单元控制器、外围总线、图形加速端口、处理器1310或者使用多种总线结构中的任意总线结构的局域总线。

显示器1340可以例如触摸屏式的液晶显示器(LCD)，该液晶显示器可使得用户能够与电子装置1300的用户界面进行交互。

可选地，电子装置1300也可以与一个或多个外部设备1400(例如键盘、指向设备、蓝牙设备等)通信，还可与一个或者多个使得用户能与该电子装置1300交互的设备通信，和/或与使得该电子装置1300能与一个或多个其它计算设备进行通信的任何设备(例如路由器、调制解调器等等)通信。这种通信可以通过输入/输出(I/O)接口1350进行。并且，电子装置1300还可以通过网络适配器1360与一个或者多个网络(例如局域网(LAN)，广域网(WAN)和/或公共网络，例如因特网)通信。如图13所示，网络适配器1360通过总线1330与电子装置1300的其它模块通信。应当明白，尽管图13中未示出，可以结合电子装置1300使用其它硬件和/或软件模块，可以包括但不限于：微代码、设备驱动器、冗余处理单元、外部磁盘驱动阵列、独立冗余磁盘阵列(Redundant Array of Independent Disk，简称为RAID)系统、磁带驱动器以及数据备份存储系统等。

上述电子装置1300还可以包括：键盘、光标控制设备(如鼠标)、输入/输出接口(I/O接口)、网络接口、电源和/或相机。

本领域普通技术人员可以理解，图13所示的结构仅为示意，其并不对上述电子装置的结构造成限定。例如，电子装置1300还可包括比图13中所示更多或者更少的组件，或者具有与图1所示不同的配置。存储器1320可用于存储计算机程序及对应的数据，如本公开实施例中的模型的纹理处理方法对应的计算机程序及对应的数据。处理器1310通过运行存储在存储器1320内的计算机程序，从而执行各种功能应用以及数据处理，即实现上述的模型的纹理处理方法。

上述本公开实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。

在本公开的上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本公开所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的技术内容，可通过其它的方式实现。其中，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如单元的划分，可以为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，单元或模块的间接耦合或通信连接，可以是电性或其它的形式。

作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本公开各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。

集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本公开的技术方案本质上或者说对相关技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可为个人计算机、服务器或者网络设备等)执行本公开各个实施例方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、移动硬盘、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

以上仅是本公开的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本公开原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本公开的保护范围。

Claims (15)

1.一种模型的纹理处理方法，其特征在于，包括：

在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同所述初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

确定所述初始区域的所述初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

按照所述初始模型调整至目标模型的调整参数，在所述二维平面上对所述目标区域关联的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，所述调整参数用于调整所述初始模型的尺寸；

基于所述纹理平铺结果更新所述目标模型的模型表面。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按照所述初始模型调整至目标模型的调整参数，在所述二维平面上对所述目标区域关联的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，包括：

对多个所述初始区域的所述初始纹理贴图，按照对应的所述目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图，其中，所述目标纹理贴图用于表征所述初始纹理贴图在所述二维平面上的分布信息；

按照所述调整参数，在所述二维平面上对所述目标纹理贴图中的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到所述纹理平铺结果。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对多个所述初始区域的所述初始纹理贴图，按照对应的所述目标区域进行拼接，得到目标纹理贴图，包括：

确定所述目标区域在所述二维平面上分布的位置信息；

按照多个所述初始区域对应的多个所述目标区域的所述位置信息，对多个所述初始区域的所述初始纹理贴图拼接，得到所述目标纹理贴图。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，按照所述调整参数，在所述二维平面上对所述目标纹理贴图中的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到所述纹理平铺结果，包括：

按照所述调整参数，确定平铺系数；

在所述二维平面上，按照所述平铺系数对所述目标纹理贴图中的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到所述纹理平铺结果。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述二维平面上，按照所述平铺系数对所述目标纹理贴图中的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到所述纹理平铺结果，包括：

在所述二维平面上，确定所述初始纹理贴图在所述目标纹理贴图中的偏移量；

按照所述平铺系数和所述偏移量，对所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到所述纹理平铺结果。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述初始区域的所述初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域，包括：

确定所述初始区域的所述初始纹理贴图，在区域集中关联的所述目标区域，其中，所述区域集中的不同区域在所述二维平面上按照目标排布规则进行排布，所述目标排布规则用于表示所述不同区域在水平方向上的排布数量与在竖直方向上的排布数量相同。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，确定所述初始区域的所述初始纹理贴图，在区域集中关联的所述目标区域，包括：

响应于所述初始区域中多个子区域对应的模型结构相同，分别对所述多个子区域的子初始纹理贴图进行重合处理，得到重合纹理贴图；

确定所述重合纹理贴图，在所述区域集中关联的所述目标区域。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，确定所述初始区域的所述初始纹理贴图，在区域集中关联的所述目标区域，包括：

响应于所述初始区域对应的所述模型表面为曲面，将所述曲面转换为平面；

确定所述平面上的所述初始纹理贴图，在所述区域集中关联的所述目标区域。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

基于所述纹理平铺结果中的纹理坐标，确定所述目标区域的蒙版；

利用所述蒙版对所述纹理平铺结果进行调整：

基于所述纹理平铺结果更新所述目标模型的模型表面，包括：将调整后的所述纹理平铺结果映射至所述目标模型的模型表面上。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，利用所述蒙版对所述纹理平铺结果进行调整，包括：

对所述蒙版和所述纹理平铺结果进行混合处理，得到调整后的所述纹理平铺结果。

11.根据权利要求1至10中任意一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

控制所述初始模型按照缩放参数缩放至所述目标模型，其中，所述调整参数包括所述缩放参数。

12.一种模型的纹理处理装置，其特征在于，包括：

第一确定单元，用于在初始模型的模型表面上确定多个初始区域，其中，不同所述初始区域所映射的初始纹理贴图不同；

第二确定单元，用于确定所述初始区域的所述初始纹理贴图在二维平面上关联的目标区域；

平铺单元，用于按照所述初始模型调整至目标模型的调整参数，在所述二维平面上对所述目标区域关联的所述初始纹理贴图进行平铺处理，得到纹理平铺结果，其中，所述调整参数用于调整所述初始模型的尺寸；

映射单元，用于基于所述纹理平铺结果更新所述目标模型的模型表面。

13.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被设置为被处理器运行时执行所述权利要求1至11中任一项中所述的方法。

14.一种电子装置，包括存储器和处理器，其特征在于，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行所述权利要求1至11中任一项中所述的方法。

15.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品包括计算机程序，其中，所述计算机程序被设置为被处理器运行时执行所述权利要求1至11中任一项中所述的方法。