CN118003251A - 一种防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，通过向保存水槽中添加表面活性剂的方式，打破了传统的放置在纯水中需要保持溢流的方法纯水的浪费现象。不仅在硅片表面形成保护膜可以延长产品放置时间并且有效防止硅片表面的污迹不良发生，同时解决了因放置时间长造成硅片表面污迹产生的技术问题。
Description
技术领域
本发明属于硅片加工技术领域，具体涉及一种防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法。
背景技术
硅片镜面抛光是硅片加工过程中的重要一环，通过硅片抛光有助于提高硅片表面的光洁度和平整度、实现表面粗糙度的控制、提高工艺的稳定性和可重复性，同时提高工作效率和降低成本。
现场实际作业中，硅片镜面抛光结束后，若表面暴露在空气中会吸附空气中的颗粒，若长期保管在非流动水槽中，则易产生镜面污迹。为防止抛光结束表面颗粒及污迹的不良，传统做法是在硅片抛光结束后，将其放置在纯水中。但该种方式缺陷明显：(1)硅片抛光结束放置在纯水中必须不断的保持溢流状态，大量的纯水浪费；(2)剥离结束的硅片不能长期的放置在纯水中易发生污迹不良；(3)抛光结束的产品在交付的过程中，在产品从纯水中拿出时，还存在短暂的产品表面与空气接触的时间，也可能会造成硅片表面的颗粒不良。
发明内容
本发明基于现有技术中硅片镜面抛光后保存方法的技术缺陷，对现有保存方法进行改进，打破了传统的放置在纯水中需要保持溢流的方法造成的纯水浪费现象，同时解决了因放置时间长造成的产生污迹的技术问题。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：
本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法具有如下技术特征：在保存水槽中添加表面活性剂，其具有固定的亲水亲油基团，在溶液的表面能定向排列，具有很好的清洗和发泡的作用。该表面活性剂在硅片脱离纯水时的表面形成保护膜，通过保护膜的防护作用有效阻止空气中的颗粒粘附到硅片表面。
优选的，在本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法中，表面活性剂选自聚氧乙烯烷基苯酚醚，浓度为15％～16％。
进一步优选，在本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法中，聚氧乙烯烷基苯酚醚的浓度为15.5％。
优选的，本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法包括如下步骤：
(1)向硅片保存水槽中添加一定体积的纯水；
(2)向纯水中添加表面活性剂使其达到预定浓度；
(3)将镜面抛光完成的硅片放入水槽中，硅片在水槽中保持6-8小时，使用完成后排放更换新水再加入表面活性剂。
优选的，在本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法中，纯水体积为硅片保存水槽容积的54％～64％。
优选的，在本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法中，所述硅片保存水槽上设置有纯水标准线。
优选的，在本发明提供的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法中，所述保存水槽设置有带滚轮的水槽支架，水槽排水口设置在底面。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明由于在硅片保存水槽中添加了表面活性剂，其不仅能使目标溶液表面张力明显下降，而且由于具有固定的亲水亲油基团，在溶液的表面能定向排列，具有很好的清洗和发泡的作用。因此，该表面活性剂能够在硅片脱离纯水时，在硅片表面形成保护膜，通过保护膜的防护作用有效阻止空气中的颗粒粘附到硅片表面。
因此，通过保存水槽里加入表面活性剂，不仅在硅片表面形成保护膜可以延长产品放置时间并且有效防止硅片表面的污迹不良发生。打破了传统的放置在纯水中需要保持溢流的方法纯水的浪费现象，同时解决了因放置时间长造成硅片表面污迹产生的技术问题。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
本实施例中的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法包括如下步骤：
A、添加纯水
本实施例中使用的保存水槽呈长方体，尺寸为：长1000mm、宽500mm、高280mm。该硅片保存水槽上设置有纯水标准线，对纯水的添加量进行直观显示，实际操作中，标准线高度为150-200mm，向水槽中添加纯水至标准线即可完成纯水添加。
为了方便水槽移动，保存水槽设置有带滚轮的水槽支架，水槽排水口设置在底面。
B、表面活性剂添加
在水槽的纯水内加入85-100ml的表面活性剂聚氧乙烯烷基苯酚醚，并充分搅拌均匀，水槽内的纯水无需溢流。
C、硅片保存
镜面抛光完成的硅片可以正常放入，硅片在水槽中可以保持6-8小时，使用完成后排放更换新水再加入表面活性剂。
本发明避免了镜面抛光结束后的产品表面颗粒及污迹不良的产生，打破了传统的放置在纯水中需要保持溢流的方法纯水的浪费现象，并且解决了因放置时间长造成的污迹产生。
另外，本发明的水槽可以根据不同现场需求定做不局限于本发明的尺寸，水槽的下面安装支架增加轮子方便现场灵活移动。
以上已对本发明创造的较佳实施例进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明创造精神的前提下还可做出种种的等同的变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (7)
1.一种防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于，停止保存水槽中纯水的溢流状态，向其中添加表面活性剂，然后将待保存硅片置于其中一定时间。
2.根据权利要求1所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于：
其中，表面活性剂选自聚氧乙烯烷基苯酚醚，浓度为15％～16％。
3.根据权利要求2所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于：
其中，聚氧乙烯烷基苯酚醚的浓度为15.5％。
4.根据权利要求1所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)向硅片保存水槽中添加一定体积的纯水；
(2)向纯水中添加表面活性剂使其达到预定浓度；
(3)将镜面抛光完成的硅片放入水槽中，硅片在水槽中保持6-8小时，使用完成后排放更换新水再加入表面活性剂。
5.根据权利要求4所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于：
其中，纯水体积为硅片保存水槽容积的54％～64％。
6.根据权利要求1所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于：
其中，硅片保存水槽上设置有纯水标准线。
7.根据权利要求1所述的防止硅片镜面抛光后表面颗粒及污迹不良的方法，其特征在于：
其中，保存水槽设置有带滚轮的水槽支架，水槽排水口设置在底面。
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