CN117956837A - 有机器件及用于制造有机器件的方法 - Google Patents

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connection electrode
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Abstract

公开了有机器件及用于制造有机器件的方法。一种有机器件包括：像素区域，被部署在基板的第一主表面上方并且在该像素区域中部署有多个像素；周边区域，在第一主表面上方被部署在像素区域的外侧；外部连接电极，在第一主表面上方被部署在周边区域中；第一密封膜，被部署在外部连接电极的上方；以及第二密封膜，被部署在外部连接电极的上方并且该第二密封膜的材料与第一密封膜的材料不同，其中，第二密封膜被部署在第一密封膜的上方，并且在周边区域中，有机器件在第一密封膜中设置有开口并且在开口与像素区域之间设置有第一凹槽，该开口使外部连接电极露出，第二密封膜被部署在第一凹槽中。

Description

有机器件及用于制造有机器件的方法
技术领域
本公开涉及有机器件及用于制造有机器件的方法。
背景技术
有机电致发光元件(下文中，也称为“有机EL元件”、“有机发光元件”或“有机器件”)是当包括阳极、阴极和部署在阳极和阴极之间的发光层的有机化合物层被通电时发光的元件。
现今，有机器件显著进步，并且要求有机器件有较高的性能(清晰度、亮度和颜色纯度的增加)和高可靠性。
在日本专利公开No.2018-73760中描述了一种有机器件，在该有机器件中第一密封层和第二密封层被层压在上电极上。
对于日本专利公开No.2018-73760中描述的有机器件，在已沉积第一密封层之后执行第一刻蚀。此后，沉积第二密封层，并且执行第二刻蚀。此时，执行刻蚀使得第二刻蚀的位置与已经受第一刻蚀的位置彼此重叠。结果，日本专利公开No.2018-73760中描述的有机器件的外部连接电极的表面有可能因刻蚀而被损坏。因此，在某些情况下，外部连接电极可能腐蚀。
发明内容
本公开是鉴于以上内容做出的，并且提供了减少外部连接电极的腐蚀的有机器件。
根据本公开的一种有机器件包括：像素区域，所述像素区域被部署在基板的第一主表面上方并且在所述像素区域中部署有多个像素；周边区域，所述周边区域在第一主表面上方被部署在像素区域的外侧；外部连接电极，所述外部连接电极在第一主表面上方被部署在周边区域中；第一密封膜，所述第一密封膜被部署在外部连接电极的上方；以及第二密封膜，所述第二密封膜被部署在外部连接电极的上方并且所述第二密封膜的材料与第一密封膜的材料不同。第二密封膜被部署在第一密封膜的上方。在周边区域中，有机器件在第一密封膜中设置有开口并且在开口与像素区域之间设置有第一凹槽，所述开口使外部连接电极露出，所述第二密封膜被部署在第一凹槽中。
根据下面参考附图的示例性实施例的描述，本公开的其他特征将变得清楚。
附图说明
图1A是根据本公开的第一实施例的有机器件的平面图。图1B是沿着图1A的线IB-IB截取的本公开的截面图。图1C是图1B中图示的本公开的一部分的放大图。
图2A至图2D图示了用于制造根据本公开的第一实施例的有机器件的方法。
图3A是根据本公开的第二实施例的有机器件的平面图。图3B是沿着图3A的线IIIB-IIIB截取的本公开的截面图。
图4是根据本公开的第三实施例的有机器件的截面图。
图5A和图5B是根据第四实施例的有机器件的平面图。
图6A是在日本专利公开No.2018-73760中描述的有机器件的平面图。图6B是沿着图6A的线VIB--VIB截取的截面图。
图7是图示了根据本公开的实施例的显示装置的示例的示意图。
图8A是图示了根据本公开的实施例的图像捕获装置的示例的示意图。图8B是图示了根据本公开的实施例的电子设备的示例的示意图。
图9A是图示了根据本公开的实施例的显示装置的示例的示意图。图9B是图示了可折叠的显示装置的示例的示意图。
图10A是图示了根据本公开的实施例的照明装置的示例的示意图。图10B是图示了根据本公开的实施例的包括车灯配件的汽车的示例的示意图。
图11A是图示了根据本公开的实施例的可穿戴设备的示例的示意图。图11B是图示了呈可穿戴设备包括图像捕获装置的形式的根据本公开的实施例的可穿戴设备的示例的示意图。
具体实施方式
下文中，将参考附图来详细地描述本公开的实施例。
以下实施例不限制与权利要求的范围相关的公开内容。尽管在实施例中描述了多个特征，但多个特征并不全都是需要的。另外，多个特征可以被任意地彼此组合。此外，在附图中，相同或相似的元件由相同的附图标记表示，由此省略其冗余描述。
此外，在本文中，减少外部连接电极的腐蚀的能力可以被描述为具有“高可靠性”。
第一实施例
参考图1A至图1C来描述根据第一实施例的有机器件100。图1A是根据第一实施例的有机器件100的平面图，图1B是沿着图1A的线IB-IB截取的截面图，并且图1C是第一凹槽52的放大图。有机器件100包括具有第一主表面的基板10、位于第一主表面上方并且部署有多个像素的像素区域、在第一主表面上方被部署在像素区域外侧并且不部署有像素的周边区域、部署在周边区域中的外部连接电极40、以及部署在外部连接电极40上方的第一密封膜20和第二密封膜30。第二密封膜30部署在第一密封膜20的上方。有机器件100中包括的周边区域可以具有不部署像素的形式。
像素区域可以部署在第一主表面上。周边区域可以部署在第一主表面上。外部连接电极40可以部署在第一主表面上。第一密封膜20可以部署在外部连接电极上。第二密封膜30可以部署在外部连接电极40上。第二密封膜30可以部署在第一密封膜20上。
在周边区域中，有机器件100具有使外部连接电极40露出的开口51、以及第一凹槽52，该第一凹槽52部署在开口51和像素区域之间并且第二密封膜30部署在第一凹槽52中。开口51也被称为焊盘开口。第一凹槽52可以被形成为使部署在周边区域中的基板10或外部连接电极40露出。特别地，第一凹槽52可以被形成为使外部连接电极40露出。
这样的原因在于，当第一凹槽52被形成为使外部连接电极40露出时，可以进一步减少水分的渗透。
在根据本公开的有机器件100中，可以说，在第一主表面的平面图中，在平行于第一主表面的方向上依次地设置开口51、第一密封膜20、第二密封膜30和第一密封膜20。
基板10可以是诸如硅基板之类的半导体基板、玻璃基板或树脂基板。基板10包括基板10上的层间绝缘层和平坦化层。晶体管可以部署在层间绝缘层或平坦化层中。当基板10由密封膜形成时，基板10可以由氧化硅(SiO)或氮化硅(SiN)形成。特别地，基板10可以由SiO形成。这样的原因在于，与SiN相比，SiO容易加工。
第一密封膜20或第二密封膜30不受限制，只要第一密封膜20和第二密封膜30的材料彼此不同并且第一密封膜20和第二密封膜30可以减少水分渗透到有机器件100中。然而，第二密封膜30的透湿性可以低于第一密封膜20的透湿性。具体地，第一密封膜20可以是包含SiO的膜，并且第二密封膜30可以是包含SiN的膜。当有机器件100具有上述配置时，可以进一步减少水分渗透到有机器件100中。因此，有机器件100具有较高的可靠性。
第二密封膜30部署在第一凹槽52中，以减少水分渗透到有机器件100中。此时，在第一凹槽52中，第二密封膜30可以被部署为与基板10或外部连接电极40接触，特别地，第二密封膜30可以被部署为与外部连接电极40接触，并且更特别地，第二密封膜30可以被部署为填充第一凹槽52。当有机器件100具有上述配置时，可以进一步减少水分渗透到有机器件100中。
虽然用于沉积第一密封膜20或第二密封膜30的方法不受特别限制，但可以通过化学气相沉积(CVD)来沉积第一密封膜20和第二密封膜30，并且特别地可以尤其通过等离子体CVD方法来沉积第一密封膜20和第二密封膜30。
具体地，外部连接电极40是焊盘电极等，并且包括阻挡金属41、Al合金42和抗反射膜43。阻挡金属41和抗反射膜43可以由氮化钛(TiN)形成。Al合金42可以是包含Cu的Al。具体地，Al合金42可以在Al中含有0.2至1重量％的Cu。外部连接电极40通过使用各向异性导电膜(ACF)等连接到柔性线缆。外部连接电极40的布线电极可以在外部连接电极表面处被露出。
下文中，将参考图2A至图2D来描述用于制造根据第一实施例的有机器件100的方法。首先，如图2A中示例的，制备外部连接电极40和第一密封膜20部署在基板10上方的有机器件100。此时，可以通过使用等离子体CVD方法沉积第一密封膜20。另外，可以通过化学机械抛光(CMP)工艺使第一密封膜20的表面平坦化。
接下来，如在图2B中示例的，通过刻蚀，在第一密封膜20中形成第一凹槽52。第一凹槽52被形成为使部署在周边区域中的基板10或外部连接电极40露出。当第一凹槽52被形成为使基板10露出时，基板10可以由SiN形成。第一密封膜20的刻蚀例如是使用氟相关气体的等离子体刻蚀(反应离子刻蚀(RIE))。具体地，氟相关气体可以是C4F8或CF4。当第一凹槽52被形成为使外部连接电极40露出时，可以同时刻蚀抗反射膜43。如图1A中图示的，通过使用上述技术形成的第一凹槽52被部署在稍后将描述的开口51与部署在周边区域中的基板10之间。换句话说，如图1B中图示的，在外部连接电极40的相对于开口51的外边缘侧上形成第一凹槽52。
接下来，如图2C中示例的，在第一密封膜20的上方形成第二密封膜30。通过使用例如等离子体CVD方法沉积第二密封膜30。可以在第一密封膜20和第二密封膜30之间包括氧化铝(Al2O3)膜。通过使用例如原子层沉积(ALD)方法形成氧化铝膜。当第二密封膜30被部署在第一凹槽52中时，可以减少水分渗透到有机器件100中。
最后，如图2D中图示的，第一密封膜20和第二密封膜30被刻蚀以形成开口51。开口51被形成为使外部连接电极40露出。第一密封膜20和第二密封膜30的刻蚀例如是使用氟相关气体的等离子刻蚀(RIE)。具体地，氟相关气体可以是C4F8或CF4。此时，可以同时刻蚀抗反射膜43。
通过执行上述制造方法，可以获得具有图1B中图示的配置的有机器件100。根据本公开的有机器件100可以减少水分的渗透并且减少由于刻蚀而导致的对外部连接电极40的损坏。因此，可以获得具有高可靠性的有机器件。
下文中，参考图2D以及图6A和图6B，比较本公开与比较例。图6A是日本专利公开No.2018-73760中描述的有机器件的平面图，并且图6B是沿着图6A的线VIB-VIB截取的截面图。对于日本专利公开No.2018-73760中描述的有机器件，第一密封膜20被沉积，然后通过刻蚀在外部连接电极40上形成开口51。然后，在已沉积第二密封膜30之后，通过刻蚀在外部连接电极40上再次形成开口51。换句话说，在图6B中图示的E区域中，外部连接电极40被露出以刻蚀多次。结果，外部连接电极40的腐蚀的可能性增加。
相比之下，在根据本公开的有机器件100中，在外部连接电极40的表面中的不同位置处执行刻蚀。换句话说，开口51和第一凹槽52没有冗余地形成在相同的位置处。因此，对于根据本公开的有机器件100，可以减少由于刻蚀而导致的对外部连接电极40的表面的损坏，同时维持防潮密封性能。结果，可以获得外部连接电极40不太可能腐蚀并且具有高可靠性的有机器件。
第二实施例
参考图3A和图3B来描述根据第二实施例的有机器件100。
图3A是根据第二实施例的有机器件100的平面图，并且图3B是沿着图3A的线IIIB-IIIB截取的截面图。根据第二实施例，在开口51和像素区域之间设置部署有第二密封膜30的第二凹槽53。换句话说，如图3B中图示的，第二凹槽53形成在外部连接电极40的相对于开口51的外边缘侧上。第二凹槽53被形成为使基板10或外部连接电极40露出。当第二凹槽53被形成为使基板10露出时，基板10可以由SiN形成。当如图3B中图示地第二密封膜30被部署在第二凹槽53中时，可以进一步减少水分渗透到有机器件100中。此时，在第二凹槽53中，第二密封膜30可以被部署为与基板10或外部连接电极40接触，并且具体地，第二密封膜30可以被部署为填充第二凹槽53。当有机器件100具有上述配置时，可以进一步减少水分渗透到有机器件100中。因此，根据本公开的有机器件100具有较高的可靠性。
在根据本实施例的有机器件100中，可以说，在第一主表面的平面图中，开口51、第一密封膜20、第二密封膜30、第一密封膜20、第二密封膜30和第一密封膜20在平行于第一主表面的方向上依次地设置。
可以通过在用于制造根据第一实施例的有机器件100的方法中形成第一凹槽52时形成第二凹槽53来制造具有图3A和图3B中示例的配置的有机器件100。
第三实施例
参考图4来描述根据第三实施例的有机器件100。第三实施例是第一实施例的变形例，并且是第一凹槽52部署在基板10上的有机器件。当有机器件100具有上述配置时，即使当水分从面对开口51的第一密封膜20渗透到像素区域中时，也需要水分顺次地渗透通过第一密封膜20、基板10和第一密封膜20。因此，即使当有机器件100具有第三实施例的配置时，也可以进一步减少水分渗透到有机器件100中。
特别地，当有机器件100具有上述配置时，基板10可以由SiN形成。SiN的透湿性低于SiO的透湿性。因此，即使当水分从面对开口51的第一密封膜20渗透时，也可以进一步减少水分渗透到像素区域中。
第四实施例
参考图5A和图5B来描述根据第四实施例的有机器件100。
图5A和图5B是根据第四实施例的有机器件100的平面图。因为根据第四实施例的有机器件100的截面图与图1B类似，所以其被省略。根据目的，开口51和第一凹槽52可以具有矩形形状、圆形形状或椭圆形形状。
应用例
图7是图示了根据本实施例的显示装置的示例的示意图。显示装置1000可以在上盖1001和下盖1009之间包括触摸面板1003、显示面板1005、框架1006、电路基板1007和电池1008。柔性印刷电路(FPC)1002和1004分别连接到触摸面板1003和显示面板1005。显示面板1005可以包括根据本公开的有机器件。晶体管被印刷在电路基板1007上。除非显示装置1000是便携式设备，否则不一定提供电池1008，或者即使当显示装置1000是便携式设备时，也可以在另一位置处提供电池1008。
根据本实施例的显示装置1000可以包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器可以被部署为三角形布置。
根据本实施例的显示装置1000可以在包括接收光的图像捕获元件的图像捕获装置的显示部中使用。图像捕获装置还可以包括包含透镜的光学部，并且图像捕获元件可以接收已经过光学部的光。光学部可以包括单个透镜或多个透镜。图像捕获装置可以包括显示由图像捕获元件获得的信息的显示部。显示部可以被露出到图像捕获装置的外部或者部署在取景器中。图像捕获装置可以是数字相机或数字视频相机。
图8A是图示了根据本实施例的图像捕获装置的示例的示意图。图像捕获装置1100可以包括取景器1101、后置显示器1102、操作部1103和壳体1104。取景器1101和后置显示器1102可以包括根据本公开的有机器件。在这种情况下，显示装置不仅可以显示要捕获的图像，而且可以显示环境信息、图像捕获指令等。环境信息的示例可以包括外部光的强度、外部光的方向、被摄体的移动速度、被摄体被遮挡物遮挡的可能性等。
图像捕获装置1100包括光学部(未图示)。当光学部包括多个透镜时，已经过光学部的光在容纳在壳体1104中的图像捕获元件上形成图像。可以通过调节多个透镜的相对位置来调节多个透镜的焦点。可以手动地执行或自动地执行该操作。图像捕获装置也可以被称为光电转换装置。
通过使用光电转换装置捕获图像的方法可以包括检测与先前图像的差异的方法、从通常记录的图像中切出图像的方法等，以代替顺次地捕获图像。
图8B是图示了根据本实施例的电子设备的示例的示意图。电子设备1200包括显示部1201、操作部1202和壳体1203。壳体1203可以包括电路、具有该电路的印刷电路板、电池和通信部。操作部1202可以是按钮或触摸面板型的反应部。操作部1202可以是识别指纹以执行解锁等的生物特征识别部。包括通信部的电子设备可以被称为通信设备。电子设备可以包括透镜和图像捕获元件，以进一步具有相机功能。通过使用相机功能而捕获的图像被显示在显示部1201中。电子设备的示例例如包括智能手机和膝上型计算机。
图9A和图9B是图示了根据本实施例的显示装置的示例的示意图。图9A是诸如电视监视器或PC监视器之类的显示装置。显示装置1300包括壳体1301和显示部1302。根据本公开的有机器件可以用在显示部1302中。显示装置1300还可以包括支撑壳体1301和显示部1302的基座1303。基座1303的形式不限于图9A中图示的形式。壳体1301的下侧可以用作基座。此外，壳体1301和显示部1302可以被弯曲。壳体1301和显示部1302的曲率半径可以大于或等于5000mm且小于或等于6000mm。
图9B是图示了根据本实施例的显示装置的另一示例的示意图。图9B中图示的显示装置1310是可折叠的所谓的可折叠显示装置。显示装置1310包括第一显示部1311、第二显示部1312、壳体1313和折叠点1314。第一显示部1311和第二显示部1312可以包括根据本公开的有机器件。第一显示部1311和第二显示部1312可以是单个无缝式显示装置。第一显示部1311和第二显示部1312可以在折叠点1314处彼此分离。第一显示部1311和第二显示部1312可以显示彼此不同的图像、或者第一显示部1311与第二显示部1312一起可以显示单个图像。
图10A是图示了根据本实施例的照明装置的示例的示意图。照明装置1400可以包括壳体1401、光源1402和电路基板1403。光源1402可以包括根据本公开的有机器件。照明装置1400可以包括用于改善光源的色彩再现的光学膜1404。此外，照明装置1400可以包括用于有效地漫射光源的光的光漫射部1405。当照明装置1400包括光漫射部1405时，光可以在宽范围内传输。光学膜1404和光漫射部1405可以设置在照明的发光侧。根据需要，可以在最外侧部分上设置盖子。
照明装置例如是室内照明装置。照明装置可以发射白色、中性白色和从蓝到红的其他颜色中的任一种的光。照明装置可以包括控制这些颜色中的任一种的光的光控制电路。照明装置可以包括电源电路。电源电路可以是将交流电压转换成直流电压的电路。白色的色温为4200K，并且中性白色的色温为5000K。照明装置可以包括滤色器。
此外，根据本实施例的照明装置可以包括散热部。散热部使装置中的热耗散到装置的外部，并且包括具有高导热性的金属或陶瓷。
图10B是用作根据本实施例的移动体的示例的汽车的示意图。汽车包括用作灯配件的示例的尾灯。汽车1500可以包括尾灯1501，并且呈在执行制动操作等时尾灯1501被点亮的形式。汽车1500可以包括车身1503和附接到车身1503的窗子1502。
尾灯1501可以包括根据本公开的有机器件。尾灯1501可以包括保护光源的保护构件。虽然保护构件的材料不受限制，只要保护构件具有一定程度的强度并且是透明的即可，但保护构件可以由聚碳酸酯等形成。呋喃二羧酸衍生物、丙烯腈衍生物等可以被混合到聚碳酸酯中。
根据本实施例的移动体可以是汽车、船舶、飞机、无人机等。移动体可以包括主体和设置在主体中的灯配件。灯配件可以保持点亮，以通知主体的位置。
电子设备或显示装置可以应用于可以作为诸如例如智能眼镜、头戴式显示器或智能隐形眼镜之类的可穿戴设备穿戴的系统。电子设备可以包括可以对可见光执行光电转换的图像捕获装置和可以发射可见光的显示装置。
图11A和图11B是图示了根据本实施例的眼镜(智能眼镜)的示例的示意图。参考图11A，描述眼镜1600(智能眼镜)。眼镜1600在透镜1601的后表面侧包括显示部。显示部可以包括根据本公开的有机器件。此外，诸如互补型金属氧化物半导体(CMOS)传感器或单光子雪崩二极管(SPAD)之类的图像捕获装置1602可以设置在透镜1601的前表面侧。
眼镜1600还包括控制装置1603。控制装置1603用作向图像捕获装置1602和显示部供应电力的电源。此外，控制装置1603控制图像捕获装置1602和显示部的操作。用于将光集中到图像捕获装置1602和显示部的光学系统形成在透镜1601中。
参考图11B，描述眼镜1610(智能眼镜)。眼镜1610包括控制装置1612，在控制装置1612中设置有包括根据本公开的有机器件的显示装置。控制装置1612还可以包括对应于图像捕获装置1602的图像捕获装置。用于投射从控制装置1612发射的光的光学系统形成在透镜1611上，并且图像被投射到透镜1611上。控制装置1612用作向图像捕获装置和显示装置供应电力的电源，并且控制图像捕获装置和显示装置的操作。控制装置1612可以包括检测穿戴者的视线的视线检测部。为了检测视线，可以使用红外光。红外发射部向注视显示的图像的用户的眼球发射红外光。在发射的红外光中，由包括光接收元件的图像捕获部检测从眼球反射的光，以获得眼球的捕获图像。当减少在平面图中从红外发射部到显示部的光的减少单元被设置时，图像质量的劣化减少。
从通过捕获红外光而获得的眼球的捕获图像中，控制装置1612检测用户对显示的图像的视线。任何已知的技术可以被应用于使用眼球的捕获图像的视线检测。例如，可以使用基于由于照射到角膜处的光的反射导致的普尔钦斑的视线检测方法。
更具体地，执行基于瞳孔中心角膜反射方法的视线检测处理。当通过使用瞳孔中心角膜反射方法、基于眼球的捕获图像中包括的瞳孔图像和普尔钦斑来计算表示眼球的方向(旋转角度)的视线矢量时，检测用户的视线。
根据本公开的实施例的显示装置可以包括包含光接收元件的图像捕获装置，并且基于来自图像捕获装置的用户的视线信息来控制显示装置的显示图像。
具体地，显示装置基于视线信息来确定由用户注视的第一视野区域和除了第一视野区域外的第二视野区域。第一视野区域和第二视野区域可以由显示装置的控制装置来确定。可替代地，显示装置可以接收由外部控制装置确定的第一视野区域和第二视野区域。在显示装置的显示区域中，第一视野区域的显示分辨率可以被控制为高于第二视野区域的显示分辨率。即，第二视野区域的分辨率可以被设置为低于第一视野区域的分辨率。
在确定第一视野区域和高优先级的显示区域时，可以使用人工智能(AI)。AI可以是被配置为使用眼球的图像和该图像的由眼球实际注视的方向作为训练数据、以便从眼球的图像估计视线的角度和与视线前方的物体的距离的模型。AI可以被包括在显示装置、图像捕获装置或外部装置中。当AI被包括在外部装置中时，AI可以应用于还包括捕获外部图像的图像捕获装置的智能眼镜。智能眼镜可以实时地显示捕获的外部信息。
从以上描述中，根据本公开的有机器件可以维持防潮密封性能并且减少由于刻蚀而导致的对外部连接电极的损坏。因此，可以提供减少外部连接电极的腐蚀的有机器件。此外，当然，本公开不限于上述实施例，并且在不脱离本公开的主旨的情况下，上述实施例可以被适当地改变或者彼此组合。
根据本公开，可以提供减少外部连接电极的腐蚀的有机器件。
虽然已参考示例性实施例描述了本公开，但要理解，本公开不限于所公开的示例性实施例。随附权利要求的范围将被赋予最宽泛的解释，以包含所有这样的修改以及等同的结构和功能。

Claims (19)

1.一种有机器件，包括：
像素区域，所述像素区域被部署在基板的第一主表面上方并且在所述像素区域中部署有多个像素；
周边区域，所述周边区域在所述第一主表面上方被部署在所述像素区域的外侧；
外部连接电极，所述外部连接电极在所述第一主表面上方被部署在所述周边区域中；
第一密封膜，所述第一密封膜被部署在所述外部连接电极的上方；以及
第二密封膜，所述第二密封膜被部署在所述外部连接电极的上方并且所述第二密封膜的材料与所述第一密封膜的材料不同，
其中，所述第二密封膜被部署在所述第一密封膜的上方，并且
其中，在所述周边区域中，所述有机器件在所述第一密封膜中设置有开口并且在所述开口与所述像素区域之间设置有第一凹槽，所述开口使所述外部连接电极露出，所述第二密封膜被部署在所述第一凹槽中。
2.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，在所述有机器件中，像素不被部署在所述周边区域中。
3.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，在所述第一凹槽中，所述第二密封膜与所述外部连接电极接触。
4.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，所述第二密封膜被部署为填充所述第一凹槽。
5.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，所述第二密封膜的透湿性小于所述第一密封膜的透湿性。
6.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，所述第一密封膜包含氧化硅。
7.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，所述第二密封膜包含氮化硅。
8.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，在所述第一主表面的平面图中，所述开口、所述第一密封膜、所述第二密封膜和所述第一密封膜在与所述第一主表面平行的方向上被依次地设置。
9.根据权利要求1所述的有机器件，
其中，所述有机器件还具有围绕所述开口部署的第二凹槽，并且
所述第二密封膜被部署在所述第二凹槽中。
10.根据权利要求9所述的有机器件，
其中，在所述第二凹槽中，所述第二密封膜与所述外部连接电极接触。
11.根据权利要求9所述的有机器件，
其中，所述第二密封膜被部署为填充所述第二凹槽。
12.根据权利要求9所述的有机器件，
其中，在所述第一主表面的平面图中，所述开口、所述第一密封膜、所述第二密封膜、所述第一密封膜、所述第二密封膜和所述第一密封膜在与所述第一主表面平行的方向上被依次地设置。
13.一种光电转换装置，包括：
图像捕获元件，所述图像捕获元件接收光；以及
显示部，所述显示部显示由所述图像捕获元件捕获的图像，
其中，所述显示部是根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件。
14.一种显示装置，包括：
显示部，所述显示部包括根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件；以及
壳体，在所述壳体中设置有所述显示部。
15.一种电子设备，包括：
显示部，所述显示部包括根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件；
壳体，在所述壳体中设置有所述显示部；以及
通信部，所述通信部被设置在所述壳体中并且所述通信部与外部通信。
16.一种照明装置，包括：
光源，所述光源包括根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件；以及
壳体，在所述壳体中设置有所述光源。
17.一种移动体，包括：
灯配件，所述灯配件包括根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件；以及
主体，在所述主体中设置有所述灯配件。
18.一种可穿戴设备，包括：
显示部，所述显示部包括根据权利要求1至12中任一项所述的有机器件；
光学系统，所述光学系统将光集中到所述显示部；以及
控制装置，所述控制装置控制所述显示部的操作。
19.一种用于制造有机器件的方法，所述方法包括以下步骤：
制备所述有机器件，所述有机器件包括部署在基板上方并且部署有多个像素的像素区域、在所述基板上方被部署在所述像素区域的外侧的周边区域、在所述基板上方被部署在所述周边区域中的外部连接电极、以及在所述基板上方被部署在所述外部连接电极上方的第一密封膜；
在所述第一密封膜中，形成第一凹槽，所述第一凹槽使部署在所述周边区域中的基板或所述外部连接电极露出；
在已执行所述第一凹槽的形成之后，在所述第一密封膜上方部署第二密封膜；以及
在已执行所述第二密封膜的形成之后，形成使所述外部连接电极露出的开口。
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