CN117952063A - Pdk的测试图形生成方法及装置 - Google Patents
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 37
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims description 33
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 6
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 abstract description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/392—Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/398—Design verification or optimisation, e.g. using design rule check [DRC], layout versus schematics [LVS] or finite element methods [FEM]
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
本申请公开了一种PDK的测试图形生成方法及装置,包括:获取替换文件,替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;使用替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;基于虚拟库生成测试图形,测试图形用于测试原始PDK。由于在生成测试pattern时,只需使用一个层去布局,而无需使用原始PDK中pcell中大量层去布局,相当于生成测试pattern仅涉及一个层的计算量,也无需计算很多层的尺寸,从而节省了生成测试pattern所需的计算量,从而减少生成测试pattern所需的时间。
Description
技术领域
本申请涉及PDK开发技术领域,具体涉及一种PDK的测试图形生成方法及装置。
背景技术
工艺设计支持包(Process Design Kit,PDK)是芯片制造和芯片设计之间沟通的桥梁,是在设计过程中应用于电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)工具的一组特定文件,是芯片电路设计的起始点。PDK一般由芯片制造公司(foundry)、EDA工具厂商开发,主要包括参数化单元(Parameterized Cell,pcell)、仿真使用的器件模型文件,器件属性描述(component description format,CDF),用于物理验证的rule文件等。
在验证PDK的过程中,需要在版图中调用大量不同参数下的参数化单元版图,生成测试图形,使用测试图形进行设计规则检查(Design Rule Check,DRC)、电路规则检查(Layout versus Schematic,LVS)、版图对比检查(Layout versus Layout,LVL)等测试。
然而,目前在生成测试pattern(测试图形)时,需要计算pcell每一个层的尺寸。当版图中包含pcell数量多,或者参数化单元版图复杂时,生成测试pattern所需要时间过长。
发明内容
本申请提供了一种PDK的测试图形生成方法及装置,能够减少生成测试pattern所需的时间。技术方案如下。
第一方面,提供了一种PDK的测试图形生成方法,该方法包括:获取替换文件,替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;使用替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;基于虚拟库生成测试图形,测试图形用于测试原始PDK。
在一些实施方式中,使用替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件之前,方法还包括:在原始PDK的安装路径下查找参数化单元的版图文件;修改参数化单元的版图文件的文件名或者删除参数化单元的版图文件;使用替换文件替换PDK中参数化单元的版图文件,包括:将替换文件保存至原始PDK的安装路径下参数化单元的版图文件原先所在的位置。
在一些实施方式中,在原始PDK的安装路径下查找参数化单元的版图文件,包括:
基于待验证器件的名称,查找原始PDK的安装路径下待验证器件对应的文件夹;
在待验证器件对应的文件夹下,查找参数化单元的版图文件。
在一些实施方式中,获取替换文件,包括:基于在版图中一个层上触发的绘制指令,基于绘制指令指示的层的尺寸,生成替换文件。
在一些实施方式中,替换文件中一个层的尺寸满足原始PDK的最小格点的尺寸的整数倍。
在一些实施方式中,替换文件中一个层为宽度为50纳米且高度为50纳米的矩形。
在一些实施方式中,基于虚拟库生成测试图形,包括:将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为虚拟库的路径;通过验证工具基于虚拟库的路径调用虚拟库,以生成测试图形。
在一些实施方式中,基于虚拟库生成测试图形之后,方法还包括:将虚拟库恢复为原始PDK。
在一些实施方式中,使用替换文件替换PDK中参数化单元的版图文件之前,方法还包括:对原始PDK进行数据备份,得到备份PDK;将虚拟库恢复为原始PDK,包括:将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为备份PDK的路径;
在一些实施方式中,将虚拟库恢复为原始PDK,包括:使用参数化单元的版图文件替换替换文件,以得到原始PDK。
第二方面,提供了一种PDK的测试图形生成装置,该装置包括:获取单元,用于获取替换文件,替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;替换单元,用于使用替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;生成单元,用于基于虚拟库生成测试图形,测试图形用于测试原始PDK。
在一些实施方式中,装置还包括:查找单元,用于在原始PDK的安装路径下查找参数化单元的版图文件;修改单元,用于修改参数化单元的版图文件的文件名;删除单元,用于参数化单元的版图文件;替换单元,用于将替换文件保存至原始PDK的安装路径下参数化单元的版图文件原先所在的位置。
在一些实施方式中,查找单元,用于基于待验证器件的名称,查找原始PDK的安装路径下待验证器件对应的文件夹;在待验证器件对应的文件夹下,查找参数化单元的版图文件。
在一些实施方式中,获取单元,用于基于在版图中一个层上触发的绘制指令,基于绘制指令指示的层的尺寸,生成替换文件。
在一些实施方式中,替换文件中一个层的尺寸满足原始PDK的最小格点的尺寸的整数倍。
在一些实施方式中,替换文件中一个层为宽度为50纳米且高度为50纳米的矩形。
在一些实施方式中,生成单元,用于将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为虚拟库的路径;通过验证工具基于虚拟库的路径调用虚拟库,以生成测试图形。
在一些实施方式中,装置还包括:恢复单元,用于将虚拟库恢复为原始PDK。
在一些实施方式中,装置还包括:备份单元,用于对原始PDK进行数据备份,得到备份PDK;
恢复单元,用于将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为备份PDK的路径;
在一些实施方式中,恢复单元,用于使用参数化单元的版图文件替换替换文件,以得到原始PDK。
第三方面,提供了一种计算设备,该计算设备包括处理器,处理器与存储器耦合,存储器中存储有至少一条计算机程序指令,至少一条计算机程序指令由处理器加载并执行,以使计算设备实现上述第一方面或第一方面任一种可选方式所提供的方法。第三方面提供的计算设备的具体细节可参见上述第一方面或第一方面任一种可选方式,此处不再赘述。
第四方面,提供了一种计算机可读存储介质,该存储介质中存储有至少一条指令,该指令在计算机上运行时,使得计算机执行上述第一方面或第一方面任一种可选方式所提供的方法。
第五方面,提供了一种计算机程序产品,计算机程序产品包括一个或多个计算机程序指令,当计算机程序指令被计算机加载并运行时,使得计算机执行上述第一方面或第一方面任一种可选方式所提供的方法。
第六方面,提供了一种芯片,包括存储器和处理器,存储器用于存储计算机指令,处理器用于从存储器中调用并运行该计算机指令,以执行上述第一方面及其第一方面任意可能的实现方式中的方法。
本申请在上述各方面提供的实现方式的基础上,还可以进行进一步组合以提供更多实现方式。
由此可见,本申请实施例具有如下有益效果:
本申请实施例由于使用包含尺寸固定的一个层的信息的替换文件去替换原始PDKpcell的版图文件,以得到虚拟库,基于虚拟库生成测试pattern,使得在生成测试pattern时,只需使用一个层去布局,而无需使用原始PDK中pcell中大量层去布局,相当于生成测试pattern仅涉及一个层的计算量,也无需计算很多层的尺寸,从而节省了生成测试pattern所需的计算量,从而减少生成测试pattern所需的时间。
附图说明
图1是本申请实施例提供的一种PDK的测试pattern生成方法的流程图;
图2是本申请实施例提供的一种PDK的测试图形生成装置的结构示意图;
图3是本申请实施例提供的一种计算设备的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
下面对本申请实施例涉及的一些术语概念做解释说明。
(1)工艺设计支持包(Process Design Kit,PDK)
PDK是用于设计和验证集成电路的软件工具、库和规范的集合。PDK提供了设计人员所需的关于特定工艺流程的详细信息,包括器件库、版图布局规则、电气规范、元件模型、交互式设计环境等。
(2)电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)工具
EDA工具是指通过计算机辅助技术来实现电子领域中的设计、模拟、验证和制造等过程的自动化工具。
(3)设计规则检查(Design Rule Check,DRC)
DRC是指验证电路布局的几何形状、尺寸和间距是否满足制造工艺的要求的过程。例如,在进行DRC的过程中,通过分析设计中的各项规则和约束,比如最小线宽、最小间距、面积限制等,来检查电路布局是否符合这些规则。如果出现规则冲突或不合格的情况,DRC会生成相应的报告,从而指示设计人员需要进行调整或修改以满足要求。
(4)电路规则检查(Layout versus Schematic,LVS)
LVS是指验证电路设计的版图与原理图之间的一致性的过程。例如,在进行LVS的过程中,对比电路设计的物理版图和相应的原理图,在结构、连接和参数等方面进行检查,以提高版图的正确性和一致性。
(5)版图对比检查(Layout versus Layout,LVL)
LVL是指验证电路设计的不同版本之间的布局一致性。例如,在进行LVL的过程中,通过比较这些不同版本的布局,检查它们之间的一致性、差异和变化,有助于设计人员及时发现不同版本之间的布局差异,了解布局修改对电路性能和特性的影响。
(6)参数化单元(Parameterized Cell,pcell)
pcell是包含电子器件的一组参数的单元。计算设备基于pcell中的参数能够生成对应的版图。例如,pcell包含电子器件的具体尺寸、形状和互连关系。一个pcell包含一个或多个layer(层)。
(7)layout(版图)
Layout是指版图,也称布局。Layout用于描述电子器件的几何形状、尺寸和排列方式,以及各个电子器件之间的连接关系。
(8)layout.oa文件
layout.oa文件是指在EDA工具中用于存储电路版图布局的一种文件格式。包含了电子器件的几何形状、尺寸和排列信息,以及各个电子器件之间的连线关系。layout.oa文件可以通过EDA工具打开和编辑,使设计人员能够直观地查看和操作设计中的版图布局。在layout.oa文件中,可以进行电子器件的位置调整、连线路径规划、电气约束的设置等操作,以满足设计要求和制造工艺的要求。
(9)测试pattern(测试图形)
测试pattern用于对PDK进行测试。测试pattern也可称为测试版图。例如,如果测试pattern满足设定规则,则对PDK测试通过;如果测试pattern不满足设定规则,则对PDK测试不通过。测试pattern包括一个或多个pcell的layout.oa文件。
下面对本申请实施例的方法流程
附图1是本申请实施例提供的一种PDK的测试pattern生成方法的流程图。附图1所示方法应用于计算设备。附图1所示方法包括以下步骤S110至步骤S150。
步骤S110,计算设备获取原始PDK的安装路径。计算设备查找原始PDK的安装路径下与pcell layout相关的文件。计算设备对查找到与pcell layout相关的文件的文件名进行修改,或者计算设备删除与pcell layout相关的文件。
在一些实施方式中,计算设备获取与版图匹配的目标后缀名;计算设备在原始PDK的安装路径下,查找文件后缀名为目标后缀名的文件,从而获得与pcell layout相关的文件。例如,与版图匹配的文件后缀名为“.oa”,计算设备查找原始PDK的安装路径下所有文件后缀名为“.oa”的文件,例如,计算设备查找原始PDK的安装路径下所有layout.oa文件。
在另一些实施方式中,计算设备获取与版图匹配的关键词;计算设备在原始PDK的安装路径下,查找文件名包括该关键词的文件,从而获得与pcell layout相关的文件。例如,计算设备查找原始PDK的安装路径下文件名包括"layout"、"pcell"、"cell"或"poly"等关键词的文件。
在一些实施方式中,计算设备查找到原始PDK的安装路径下与pcell layout相关的文件后,计算设备记录pcell layout相关的文件的保存位置,例如记录pcell layout相关的文件所在的目录,以便基于该保存位置执行后续的文件替换过程。
步骤S120,计算设备获取替换文件。计算设备使用替换文件替换原始PDK与pcelllayout相关的文件。
替换文件包括尺寸固定的一个层的信息。例如,替换文件包括一个层的尺寸。例如,替换文件包括一个层的宽度和该层的长度。又如,替换文件还包括该层的标识,比如该层的图层号。替换文件中的层例如是基于绘制操作生成的。
在使用替换文件进行替换的一些实施方式中,计算设备读取执行步骤S110从而记录的pcell layout相关的文件原先所在的位置(如文件所在的目录),计算设备将替换文件保存在该位置,从而实现pcell layout相关的文件的替换。由于替换文件放置在步骤S110中查找出的路径下,EDA工具调用pcell layout时会使用准备的替换文件。
在获取替换文件的一些实施方式中,用户在版图中的某一层layer上绘制一个简单图形,从而触发绘制指令,绘制指令用于指示绘制的图形的尺寸。计算设备基于在版图上该层上触发的绘制指令,在该层上添加绘制的图形,导出包含绘制图形的层的layout.oa文件,作为替换文件。
在一些实施方式中,替换文件中层的尺寸小于设定尺寸值,尺寸固定的一个层的图形为设定形状。设定形状例如为矩形或者其他实现复杂度较小的形状。基于此,由于层的尺寸较小,图形较为简单,所以能够尽量减小计算量。例如,替换文件中该层具有矩形形状。例如,替换文件中的层为宽度为50纳米且高度为50纳米的矩形poly层。示例性地,用户在版图中的某一层layer上绘制长度为50纳米且宽度为50纳米的矩形poly层,计算设备基于绘制操作,生成layout.oa文件,layout.oa文件中包含一个层,该层为宽度为50纳米、高度为50纳米的矩形。当然,绘制的图形尺寸不一定是固定为50nm的矩形,也可以具有其他尺寸以及其他形状。
在一些实施方式中,替换文件中一个层的尺寸满足原始PDK的最小格点的尺寸的整数倍。例如,替换文件中一个层的尺寸为最小格点的尺寸的1倍、2倍、3倍或4倍。由于最小格点的尺寸通常是制造工艺所定义的最小可控制的结构单元尺寸,有助于布局更好地与工艺条件和设备特性保持一致。
在一些实施方式中,计算设备在执行步骤S110的过程中,计算设备基于待验证器件的名称,查找原始PDK的安装路径下待验证器件对应的文件夹;计算设备在待验证器件对应的文件夹下,查找pcell layout相关的文件。
在一些实施方式中,计算设备将待验证器件对应的文件夹下pcell layout相关的文件的文件名进行修改。例如,计算设备将pcell layout相关的文件的后缀名修改为与版图文件无关的后缀名。比如说,原始PDK中包含layout.oa文件,计算设备将layout.oa文件的后缀名修改为“.oa”之外其他后缀名。通过修改文件名,从而降低验证工具调用pcelllayout相关的文件时错误的识别和调用包含很多层的原始layout.oa文件的风险,且,原始的layout.oa文件仍能保留,从而提高可靠性。
在另一些实施方式中,计算设备删除待验证器件对应的文件夹下pcell layout相关的文件。通过删除pcell layout相关的文件,从而降低验证工具调用pcell layout相关的文件时出错或混淆的风险。
计算设备在执行步骤S120的过程中,将替换文件保存至原始PDK的安装路径下待验证器件对应的文件夹与pcell layout相关的文件原先所在的位置,如此,能够针对待验证器件的pcell layout文件进行替换,而无需针对PDK中所有器件的pcell layout文件进行替换,从而降低替换文件的工作量。
作为一个具体示例,原始PDK为库smic180,待验证器件为库smic180其中的一个器件nth_ckt,则计算设备在库smic180的路径下,查找一个名称为nth_ckt的文件夹;计算设备在查找到名称为nth_ckt的文件夹后,在名称为nth_ckt的文件夹内进一步查找layout.oa文件,使用替换文件替换layout.oa文件。
步骤S130,计算设备检查PDK中pcell layout相关的文件是否都已被替换。如果PDK中pcell layout相关的文件均已被替换,计算设备执行下述步骤S140。如果PDK中pcelllayout相关的文件没有全部被替换,计算设备返回执行上述步骤S120。
本实施例将PDK中替换掉与pcell layout相关的文件后形成的库称为虚拟库。虚拟库用于加快对PDK验证的速度。本实施例在生成虚拟库时,不需要抓取pcell的属性信息,也不需要对PDK进行代码修改,减少了中间过程可能出现的问题。
在一些实施方式中,计算设备保存PDK中pcell layout相关的文件的数目;计算设备在替换PDK中pcell layout相关的文件的过程中,计算设备记录已替换的文件的数量;每当使用一个替换文件替换了layout.oa文件后,计算设备对已替换的文件的数量与PDK的安装目录下pcell layout相关的文件的数目进行比较;如果已替换的文件的数量等于PDK的安装目录下pcell layout相关的文件的数目,则确定PDK中pcell layout相关的文件都已被替换。
步骤S140,计算设备将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为虚拟库的路径;计算设备通过验证工具基于虚拟库的路径调用虚拟库,以生成测试pattern。
验证工具是用于对PDK进行验证的集成软件。例如,验证工具包括EDA工具。例如,用户在验证工具中PDK路径一栏填入虚拟库路径,用户填写测试pattern的配置文件,启动验证工具,验证工具接收用户在PDK路径一栏填入的虚拟库路径,验证工具基于虚拟库路径调用虚拟库,以生成测试pattern。
配置文件用于向验证工具描述多个参数的取值,使得验证工具能够将不同参数的取值相互组合。例如,用户在配置文件中填写W参数:2u、5u,L参数:10u、15u,20u,则验证工具会将不同参数互相组合,共调取2*3=6个参数不同的pcell。
考虑到原始PDK中layer的数量很多,可能包含十几个layer甚至二十几个layer,导致基于原始PDK生成测试pattern的工作量较大。而由于虚拟库中pcell只是尺寸固定的一层layer,验证工具在生成测试pattern时不需要进行复杂的layer尺寸的计算,且验证工具仅需使用一个层和层上一个较小的图形进行布局,调用一个固定尺寸layer的layout文件相较于调用包含多个layer的layout文件而言计算量大为减小,能够较快布局完成,从而大大加快了测试pattern的生成速度。
测试pattern用于对PDK进行测试。例如,计算设备使用测试pattern对PDK进行DRC、LVC或/和LVL测试,获得PDK的测试结果。
步骤S150,当验证工具生成测试pattern结束后,计算设备将虚拟库恢复为原始PDK。
在将虚拟库恢复为原始PDK的一些实施方式中,计算设备对原始PDK进行数据备份,得到备份PDK,备份PDK与原始PDK具有相同的内容;计算设备将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为备份PDK的路径;例如,计算设备将EDA工具library path中保存的虚拟库路径修改为原始PDK的路径。
在将虚拟库恢复为原始PDK的另一些实施方式中,计算设备使用pcell layout相关的文件替换SDK的安装目录下的替换文件,以得到原始PDK。
计算设备在完成将虚拟库恢复为原始PDK后,计算设备重启或者刷新EDA工具,测试pattern会自动修改为随参数变化的pcell layout,用户即可正常查看生成的测试pattern,从而进行后续的工作。
本实施例提供的方法,通过在生成虚拟库的过程中,替换PDK的pcell layout相关的文件,形成虚拟库,从而将随参数变化、复杂的pcell layout修改为固定尺寸的一层layer。此外,由于不需要抓取pcell的属性信息,也不需要对PDK代码进行修改,避免过程中可能出现的问题,具有简单、高效、可靠性高等特点。
进一步地,在验证工具中利用上述的虚拟库,减少EDA工具在布局时的计算量,大大加快pattern的生成速度,相同PDK开发周期下,能够验证更多不同参数下的pattern,从而保证PDK的质量。
本实施例提供的方法,能够大大加快PDK pattern的生成速度,提高PDK开发的验证效率,有效的减少PDK开发中验证工作的时间成本,进一步缩短PDK的开发周期。
在另一些实施方式中,将本实施例提供的方法内置在PDK验证工具当中使用或者在EDA工具当中直接使用,或者作为其中一个软件功能单元,当在生成pattern时,通过PDK验证工具或者EDA工具首先生成一个虚拟库,将工具中保存的PDK路径指向虚拟库所在的路径,工具基于虚拟库路径调用虚拟库从而生成pattern,生成pattern完成后,重新将PDK路径指向正常的库,加快pattern的生成速度,从而用来提高工具的运行速度。
图2是本申请实施例提供的一种PDK的测试图形生成装置的结构示意图,装置200包括:
获取单元210,用于获取替换文件,替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;替换单元220,用于使用替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;生成单元230,用于基于虚拟库生成测试图形,测试图形用于测试原始PDK。
在一些实施方式中,装置200还包括:
查找单元,用于在原始PDK的安装路径下查找参数化单元的版图文件;
修改单元,用于修改参数化单元的版图文件的文件名;
删除单元,用于参数化单元的版图文件;
替换单元220,用于将替换文件保存至原始PDK的安装路径下参数化单元的版图文件原先所在的位置。
在一些实施方式中,查找单元,用于基于待验证器件的名称,查找原始PDK的安装路径下待验证器件对应的文件夹;在待验证器件对应的文件夹下,查找参数化单元的版图文件。
在一些实施方式中,获取单元210,用于基于在版图中一个层上触发的绘制指令,基于绘制指令指示的层的尺寸,生成替换文件。
在一些实施方式中,替换文件中一个层的尺寸满足原始PDK的最小格点的尺寸的整数倍。
在一些实施方式中,替换文件中一个层为宽度为50纳米且高度为50纳米的矩形。
在一些实施方式中,生成单元230,用于将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为虚拟库的路径;通过验证工具基于虚拟库的路径调用虚拟库,以生成测试图形。
在一些实施方式中,装置还包括:恢复单元,用于将虚拟库恢复为原始PDK。
在一些实施方式中,装置还包括:备份单元,用于对原始PDK进行数据备份,得到备份PDK;
恢复单元,用于将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为备份PDK的路径;
在一些实施方式中,恢复单元,用于使用参数化单元的版图文件替换替换文件,以得到原始PDK。
附图2所描述的装置实施例仅仅是示意性的,例如,上述单元的划分,仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式,例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统,或一些特征可以忽略,或不执行。在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中,也可以是各个单元单独物理存在,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。
图3是本申请实施例提供的一种计算设备800的结构示意图,该计算设备800包括处理器801和存储器802,该存储器802中存储有计算机程序指令,该处理器801执行计算机程序指令时实现上述实施例所示的方法中的步骤。
需要说明的是,本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的系统或装置而言,由于其与实施例公开的方法相对应,所以描述的比较简单,相关之处参见方法部分说明即可。
应当理解,在本申请中,“至少一个(项)”是指一个或者多个,“多个”是指两个或两个以上。“和/或”,用于描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,“A和/或B”可以表示:只存在A,只存在B以及同时存在A和B三种情况,其中A,B可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。“以下至少一项(个)”或其类似表达,是指这些项中的任意组合,包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如,a,b或c中的至少一项(个),可以表示:a,b,c,“a和b”,“a和c”,“b和c”,或“a和b和c”,其中a,b,c可以是单个,也可以是多个。
还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块,或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种PDK的测试图形生成方法,其特征在于,所述方法包括:
获取替换文件,所述替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;
使用所述替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;
基于所述虚拟库生成测试图形,所述测试图形用于测试所述原始PDK。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述使用所述替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件之前,所述方法还包括:
在所述原始PDK的安装路径下查找所述参数化单元的版图文件;
修改所述参数化单元的版图文件的文件名或者删除所述参数化单元的版图文件;
所述使用所述替换文件替换PDK中参数化单元的版图文件,包括:
将所述替换文件保存至所述原始PDK的安装路径下所述参数化单元的版图文件原先所在的位置。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述原始PDK的安装路径下查找所述参数化单元的版图文件,包括:
基于待验证器件的名称,查找所述原始PDK的安装路径下所述待验证器件对应的文件夹;
在所述待验证器件对应的文件夹下,查找所述参数化单元的版图文件。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取替换文件,包括:
基于在版图中所述一个层上触发的绘制指令,基于所述绘制指令指示的所述层的尺寸,生成替换文件。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述虚拟库生成测试图形,包括:
将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为所述虚拟库的路径;
通过所述验证工具基于所述虚拟库的路径调用所述虚拟库,以生成测试图形。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述虚拟库生成测试图形之后,所述方法还包括:
将所述虚拟库恢复为所述原始PDK。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述使用所述替换文件替换PDK中参数化单元的版图文件之前,所述方法还包括:
对所述原始PDK进行数据备份,得到备份PDK;
所述将所述虚拟库恢复为所述原始PDK,包括:
将验证工具中保存的PDK的安装路径更新为所述备份PDK的路径。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述将所述虚拟库恢复为所述原始PDK,包括:
使用所述参数化单元的版图文件替换所述替换文件,以得到所述原始PDK。
9.一种PDK的测试图形生成装置,其特征在于,所述装置包括:
获取单元,用于获取替换文件,所述替换文件包括尺寸固定的一个层的信息;
替换单元,用于使用所述替换文件替换原始PDK中参数化单元的版图文件,以得到虚拟库;
生成单元,用于基于所述虚拟库生成测试图形,所述测试图形用于测试所述原始PDK。
10.一种计算设备,其特征在于,所述计算设备包括:处理器,所述处理器与存储器耦合,所述存储器中存储有至少一条计算机程序指令,所述至少一条计算机程序指令由所述处理器加载并执行,以使所述计算设备实现权利要求1-8中任一项所述的方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202410202777.XA CN117952063A (zh) | 2024-02-23 | 2024-02-23 | Pdk的测试图形生成方法及装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=90803002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN117952063A (zh) |
-
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