CN117900602A - 一种空气等离子切割炬 - Google Patents

Abstract

本发明涉及割炬技术领域，具体涉及一种空气等离子切割炬，包括电极座，电极座的一端设有通过密封插套配合的枪体接头，电极座的另一端设有通过密封套接配合的电极，电极座内设有通过弹簧抵压安装的气芯组件，电极的一端抵接有套设于电极座外的涡流环，电极外隔空套设有喷嘴，电极和喷嘴之间形成有等离子气体室，喷嘴的喷口端隔空套设有保护罩，喷嘴和保护罩之间形成有辅助气体室，喷嘴远离喷口的一端通过插套配合设有喷嘴座，喷嘴座和电极座之间密封套接有内瓷套，内瓷套和电极座上共同套设有枪体外套。本发明通过对气流精确的控制和引导实现提高割炬的切割性能和稳定性，且提高切割的效率，实现降低能耗，提高能源利用效率。

Description

一种空气等离子切割炬

技术领域

本发明涉及割炬技术领域，具体涉及一种空气等离子切割炬。

背景技术

空气等离子切割炬是一种利用高温、高能量的等离子弧来切割金属材料的工具。它通过特定的气流形式和结构设计，实现了对金属材料的快速、高效切割。

在空气等离子切割炬中，气流起着至关重要的作用，能够提供等离子弧所需的压缩气体，现有技术中的空气等离子切割炬存在一些缺点，如气流形式单一，气流形式没有得到充分优化，气体在割炬内部的分布和流动可能不够均匀，这会影响等离子弧的稳定性和集中性，从而降低切割效率和质量，另外目前的空气等离子切割炬在使用时，可能出现电弧不集中、不稳定的现象，可能需要增加气体流量或提高电压等参数，这会增加能源消耗，再者，为了确保割炬的稳定性和寿命，通常需要设置额外的冷却结构来散发割炬内部产生的热量。这些冷却结构可能增加了割炬的复杂性和制造成本，或者通过内部气体循环游走实现多部件降温，降温效果差。这些问题限制了切割炬的性能和灵活性，增加了制造成本和维护难度。

发明内容

本发明提供一种空气等离子切割炬，以解决现有技术中空气等离子割炬的气流形式单一，能源利用率低且需要额外设定冷却结构来确保割炬的稳定性和寿命等技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的空气等离子切割炬采用如下技术方案：

包括电极座，所述电极座的一端设有通过密封插套配合的枪体接头，所述电极座的另一端设有通过密封套接配合的电极，所述电极座内设有通过弹簧抵压安装的气芯组件，所述电极的一端抵接有套设于电极座外的涡流环，所述电极外隔空套设有喷嘴，所述电极和喷嘴之间形成有等离子气体室，所述喷嘴的喷口端隔空套设有保护罩，所述喷嘴和保护罩之间形成有辅助气体室，所述喷嘴远离喷口的一端通过插套配合设有喷嘴座，所述喷嘴座和电极座之间密封套接有内瓷套，所述内瓷套和电极座上共同套设有枪体外套，所述枪体外套上设有用于贯穿引弧线的贯穿孔，通入到电极座内的气体流出且经过内瓷套的均流作用后到涡流环处分流，分离后的气流一部分到等离子气体室内且另一部分气流到辅助气体室内。

采用上述技术方案，采用插套和套接配合的设计使得割炬的各个部件易于装配组装，整体简化了维护和更换部件的过程；同时，也便于进行清洁和维护、维修工作。

其中一部分气流经过涡流环均匀的分布到等离子气体室辅助形成稳定的等离子弧，均匀的气体分布可以确保电弧的稳定燃烧，减少电弧的波动和不稳定性，从而提高切割的质量，还有一部分气流均匀的分布到辅助气体室内对电弧进行二次压缩，通过气流压缩能够减小电弧的直径，使得电弧更为集中，有助于提高电弧的能量密度和穿透能力，使其更适用于切割等工艺，另外通过气流压缩电弧可以降低能耗，提高能源利用效率。

所述气芯组件包括密封设于电极座内的内气芯接头，所述弹簧设于内气芯接头和枪体接头之间，所述内气芯接头远离弹簧的一端设有通过插套配合的内气芯，所述内气芯远离内气芯接头的一端设有通过插套配合的电极气芯，所述内气芯接头的内壁形成有气芯凸台，所述内气芯的一端抵接于气芯凸台上，所述内气芯远离内气芯接头的一端外壁形成有第一凸台，所述电极座的内壁形成有用于限位内气芯且与第一凸台抵接的限位凸台，所述限位凸台的侧壁周向设有弧形槽道，所述电极气芯的两端面均呈斜面且所述内气芯的内壁设有用于限位电极气芯的第二凸台。

采用上述技术方案，通过弹簧抵压安装气芯组件，确保气芯组件的稳定性和连续性，简化装配过程，提高了装配效率，还降低了操作难度和成本，另外使用割炬切割的过程中可能会产生振动或冲击。弹簧的弹性可以减少使用过程中冲击等对气芯组件的影响，从而保护其免受损坏，辅助延长其使用寿命。

进一步地，所述电极座的内部对应于弹簧处设有V型凹槽，所述V型凹槽内周向设有对外连通的第一透气孔。

采用上述技术方案，通过V型凹槽的设计且第一透气孔设于V型凹槽内，避免弹簧接触第一透气孔且对第一透气孔产生干涉作用，提高气体通过第一透气孔的均匀性。

所述枪体外套远离喷嘴座的一端内壁设有限位环台，所述限位环台密封套设于电极座外，所述限位环台与内瓷套的末端之间形成有第一气流室，所述第一透气孔与第一气流室连通，所述内瓷套上轴向设有通气孔，所述通气孔连通至涡流环。

进一步地，所述内瓷套包括凸台段和薄壁段，所述凸台段密封套设于电极座外，所述通气孔贯穿凸台段，所述薄壁段和涡流环外壁之间形成有第二气流室，所述通气孔用于第一气流室和第二气流室之间的连通，所述涡流环上周向设有连通第二气流室与等离子气体室的旋流孔。

采用上述技术方案，通入到电极座内的气体一部分经过圆周分布的第一透气孔均匀的分散到第一气流室，轴向设置的通气孔为沿圆周间隔分布的若干个，第一气流室内的气体经过通气孔均匀的流通至第二气流室，且经过涡流环上旋流孔被引入到等离子气体室，通过旋流的形式确保气体能够顺畅地进入等离子气体室，且增强气体的均匀分布性，从而提高了等离子弧的稳定性和集中性，有助于提高切割效率和质量，减少切割过程中的热影响和材料损失。

进一步地，所述喷嘴座的内壁形成有连续排布的第一阶面和第二阶面，所述薄壁段的端部抵接于第一阶面上，所述第二阶面上周向设有斜导孔，其中气流流经斜导孔连通至辅助气体室。

进一步地，所述喷嘴座和保护罩外共同套设有绝缘体罩，所述绝缘体罩的内壁设有第三阶面，所述喷嘴座外壁形成有与第三阶面相对的环形凸块，所述第三阶面和环形凸块之间形成有第三气流室，所述斜导孔指向第三气流室，所述第三气流室内的气流经过旋流分流后流通至辅助气体室。

进一步地，所述喷嘴座与喷嘴相近的一端外壁与绝缘体罩的内壁之间形成有间隙且形成的间隙连通第三气流室和辅助气体室，所述喷嘴座对应间隙处的外壁周向设有凹弧形旋流槽。

采用上述技术方案，第二气流室内的一部分气流经过周向分布的斜导孔均匀的分散到第三气流室，第三气流室和辅助气体室之间形成有间隙，通过间隙的作用调整气流的流量和压力，随后通过凹弧形旋流槽分散到辅助气体室实现二次压缩电弧，通过压缩效应有助于提高电弧的能量密度和穿透能力，使其更适用于切割等工艺，另外，通过调整气流的流量和压力，可以优化电弧的形态和稳定性，从而提高切割的效率，实现降低能耗，提高能源利用效率。

进一步地，所述电极座的侧壁周向设有处于内气芯接头和限位凸台之间的导气孔，所述电极座的外壁与内瓷套的内壁之间形成有与导气孔连通的第四气流室，所述内瓷套的外壁与枪体外套的内壁之间形成有第五气流室，所述内瓷套的侧壁上设有用于连通第四气流室和第五气流室的通孔，所述枪体外套上设有使得第五气流室对外连通的透气孔。

进一步地，所述透气孔为沿枪体外套的侧壁均匀分布的若干个且透气孔为倾斜设置。

采用上述技术方案，电极座通过气芯组件的气流通过接触电极内壁带走其表面的部分热量，然后通过导气孔至第四气流室、第五气流室，最后通过透气孔散出，通过有效的散热，电极座和电极的性能可以得到稳定发挥，从而提高等离子切割炬的整体性能。

进一步地，所述枪体外套以及电极座和枪体接头的末端均配合罩设于柄把壳体内。

本发明所提供的空气等离子切割炬的有益效果是：本发明通过精密、合理的设计气流通道，通过精确的控制和引导实现提高割炬的切割性能和稳定性；

具体的，本发明使用时，一部分气体经过气芯组件到达电极的内侧并对电极进行有效冷却，随后通过对应的通道直接排出，另一部分通入到电极座内的气体流出且经过内瓷套的均流作用后到涡流环处分流，分离后的气流一部分到等离子气体室内且另一部分气流到辅助气体室内，通过合理的气流通道设计，保证三路气流均为外部直接通入的冷气流，避免气流在内部循环温度升高，保证冷却效果和气流质量的稳定性。

整体结构中多部件之间通过密封套接、插套配合以及弹簧抵压安装等配合组装，拆卸和组装方便，使得维护和更换部件变得简单容易，另外，具有良好的密封性和耐久性，提高割炬使用环境的灵活性。

附图说明

通过参考附图阅读下文的详细描述，本发明示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本发明的若干实施方式，并且相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：

图1为本发明空气等离子切割炬去掉柄把壳体的示意图；

图2为图1所示结构的爆炸图；

图3为图1所示结构的剖视图；

图4为本发明中内气芯的结构示意图；

图5为本发明中电极座的结构示意图；

图6为本发明中枪体外套的结构示意图；

图7为本发明中涡流环的截面示意图；

图8为本发明空气等离子切割炬的整体示意图之一；

图9为本发明空气等离子切割炬的整体示意图之二；

图10为图9所示结构的剖视图。

附图标记说明：

1、电极座；101、限位凸台；1011、弧形槽道；102、导气孔；11、弹簧；12、气芯组件；121、内气芯接头；1211、气芯凸台；122、内气芯；1221、第一凸台；1222、第二凸台；123、电极气芯；13、V型凹槽；131、第一透气孔；14、第四气流室；2、枪体接头；3、电极；31、等离子气体室；4、涡流环；41、旋流孔；5、喷嘴；51、辅助气体室；6、保护罩；7、喷嘴座；71、第一阶面；72、第二阶面；721、斜导孔；73、环形凸块；74、第三气流室；75、凹弧形旋流槽；8、内瓷套；801、凸台段；802、薄壁段；81、通气孔；82、第二气流室；83、第五气流室；84、通孔；9、枪体外套；91、限位环台；92、第一气流室；93、透气孔；94、贯穿孔；01、绝缘体罩；011、第三阶面；02、柄把壳体。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，本领域技术人员应知，下面所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

附图中的任何元素数量均用于示例而非限制，以及任何命名都仅用于区分，而不具有任何限制含义。

下面参考本发明的若干代表性实施方式，详细阐释本发明的原理和精神。

本发明所提供的空气等离子切割炬的实施例1：

如图1至图10所示，

包括电极座1，所述电极座1的一端设有通过密封插套配合的枪体接头2，所述电极座1的另一端设有通过密封套接配合的电极3，所述电极座1内设有通过弹簧11抵压安装的气芯组件12，所述电极3的一端抵接有套设于电极座1外的涡流环4，所述电极3外隔空套设有喷嘴5，所述电极3和喷嘴5之间形成有等离子气体室31，所述喷嘴5的喷口端隔空套设有保护罩6，所述喷嘴5和保护罩6之间形成有辅助气体室51，所述喷嘴5远离喷口的一端通过插套配合设有喷嘴座7，所述喷嘴座7和电极座1之间密封套接有内瓷套8，所述内瓷套8和电极座1上共同套设有枪体外套9，所述枪体外套9上设有用于贯穿引弧线的贯穿孔94，喷嘴座7与枪体外套9相近的一端设有与贯穿孔94相对的小孔。

通入到电极座1内的气体流出且经过内瓷套8的均流作用后到涡流环4处分流，分离后的气流一部分到等离子气体室31内且另一部分气流到辅助气体室51内。

所述枪体外套9以及电极座1和枪体接头2的末端均配合罩设于柄把壳体02内。

其中，保护罩6上靠近出口端的侧壁周向设有小孔，辅助气体室51内多余的气体会由小孔散出。

采用插套和套接配合的设计使得割炬的各个部件易于装配组装，整体简化了维护和更换部件的过程；同时，也便于进行清洁和维护、维修工作。

其中一部分气流经过涡流环4均匀的分布到等离子气体室31辅助形成稳定的等离子弧，均匀的气体分布可以确保电弧的稳定燃烧，减少电弧的波动和不稳定性，从而提高切割的质量，还有一部分气流均匀的分布到辅助气体室51内对电弧进行二次压缩，通过气流压缩能够减小电弧的直径，使得电弧更为集中，有助于提高电弧的能量密度和穿透能力，使其更适用于切割等工艺，另外通过气流压缩电弧可以降低能耗，提高能源利用效率。

所述气芯组件12包括密封设于电极座1内的内气芯接头121，所述内气芯接头121的外壁上设有环形密封槽，环形密封槽内设有密封圈。

所述弹簧11设于内气芯接头121和枪体接头2之间，所述内气芯接头121远离弹簧11的一端设有通过插套配合的内气芯122，所述内气芯122远离内气芯接头121的一端设有通过插套配合的电极气芯123，所述内气芯接头121的内壁形成有气芯凸台1211，所述内气芯122的一端抵接于气芯凸台1211上，所述内气芯122远离内气芯接头121的一端外壁形成有第一凸台1221，所述电极座1的内壁形成有用于限位内气芯122且与第一凸台1221抵接的限位凸台101，所述限位凸台101的侧壁周向设有弧形槽道1011，所述电极气芯123的两端面均呈斜面且所述内气芯122的内壁设有用于限位电极气芯123的第二凸台1222。

其中，通过弹簧11抵压安装气芯组件12，确保气芯组件12的稳定性和连续性，简化装配过程，提高了装配效率，还降低了操作难度和成本，另外使用割炬切割的过程中可能会产生振动或冲击。弹簧11的弹性可以减少使用过程中冲击等对气芯组件12的影响，从而保护其免受损坏，辅助延长其使用寿命。

本实施例中，所述电极座1的内部对应于弹簧11处设有V型凹槽13，所述V型凹槽13内周向设有对外连通的第一透气孔131。

需要说明的是，通过V型凹槽13的设计且第一透气孔131设于V型凹槽13内，避免弹簧11接触第一透气孔131且对第一透气孔131产生干涉作用，提高气体通过第一透气孔131的均匀性。

所述枪体外套9远离喷嘴座7的一端内壁设有限位环台91，所述限位环台91密封套设于电极座1外，所述限位环台91与内瓷套8的末端之间形成有第一气流室92，所述第一透气孔131与第一气流室92连通，所述内瓷套8上轴向设有通气孔81，所述通气孔81连通至涡流环4。

其中，电极座1的外壁设有与限位环台91相对的环形密封槽，环形密封槽内设有密封圈。

本实施例中，所述内瓷套8包括凸台段801和薄壁段802，所述凸台段801密封套设于电极座1外，所述通气孔81贯穿凸台段801，所述薄壁段802和涡流环4外壁之间形成有第二气流室82，所述通气孔81用于第一气流室92和第二气流室82之间的连通，所述涡流环4上周向设有连通第二气流室82与等离子气体室31的旋流孔41。

其中，通入到电极座1内的气体一部分经过圆周分布的第一透气孔131均匀的分散到第一气流室92，轴向设置的通气孔81为沿圆周间隔分布的若干个，第一气流室92内的气体经过通气孔81均匀的流通至第二气流室82，且经过涡流环4上旋流孔41被引入到等离子气体室31，通过旋流的形式确保气体能够顺畅地进入等离子气体室31，且增强气体的均匀分布性，从而提高了等离子弧的稳定性和集中性，有助于提高切割效率和质量，减少切割过程中的热影响和材料损失。

其中，所述喷嘴座7的内壁形成有连续排布的第一阶面71和第二阶面72，所述薄壁段802的端部抵接于第一阶面71上，所述第二阶面72上周向设有斜导孔721，其中气流流经斜导孔721连通至辅助气体室51。

本实施例中，所述喷嘴座7和保护罩6外共同套设有绝缘体罩01，所述绝缘体罩01的内壁设有第三阶面011，所述喷嘴座7外壁形成有与第三阶面011相对的环形凸块73，所述第三阶面011和环形凸块73之间形成有第三气流室74，所述斜导孔721指向第三气流室74，所述第三气流室74内的气流经过旋流分流后流通至辅助气体室51。

其中，所述喷嘴座7与喷嘴5相近的一端外壁与绝缘体罩01的内壁之间形成有间隙且形成的间隙连通第三气流室74和辅助气体室51，所述喷嘴座7对应间隙处的外壁周向设有凹弧形旋流槽75。

需要说明的是，斜导孔721和凹弧形旋流槽75的配合使用能够实现对气流量的精确控制，斜导孔721能够引导气流按照一定的方向和速度流动，而凹弧形旋流槽75则能够对气流进行进一步的调整和分配，确保气流量的稳定性和均匀性，通过斜导孔721和凹弧形旋流槽75的导向作用，冷气流能够均匀地包覆于喷嘴5外，形成一层保护性的气流屏障。这种气流分布方式能够有效地实现降低喷嘴5的温度，从而延长喷嘴5的使用寿命。

再者，第二气流室82内的一部分气流经过周向分布的斜导孔721均匀的分散到第三气流室74，第三气流室74和辅助气体室51之间形成有间隙，通过间隙的作用调整气流的流量和压力，随后通过凹弧形旋流槽75分散到辅助气体室51实现二次压缩电弧，通过压缩效应有助于提高电弧的能量密度和穿透能力，使其更适用于切割等工艺，另外，通过调整气流的流量和压力，可以优化电弧的形态和稳定性，从而提高切割和焊接的效率，实现降低能耗，提高能源利用效率。

本实施例中，所述电极座1的侧壁周向设有处于内气芯接头121和限位凸台101之间的导气孔102，所述电极座1的外壁与内瓷套8的内壁之间形成有与导气孔102连通的第四气流室14，所述内瓷套8的外壁与枪体外套9的内壁之间形成有第五气流室83，所述内瓷套8的侧壁上设有用于连通第四气流室14和第五气流室83的通孔84，所述枪体外套9上设有使得第五气流室83对外连通的透气孔93。

其中，电极座1的外壁上设有处于导气孔102两侧的环形密封槽，环形密封槽内设有密封圈。

其中，内瓷套8的外壁设有对应处于透气孔93两侧的环形密封槽，环形密封槽内设有密封圈；且内瓷套8的外壁设有与喷嘴座7对应的环形密封槽，环形密封槽内设有密封圈。

其中，所述透气孔93为沿枪体外套9的侧壁均匀分布的若干个且透气孔93为倾斜设置。透气孔93倾斜设置，不易堵塞。

电极座1通过气芯组件12的气流通过接触电极3内壁带走其表面的部分热量，然后通过导气孔102至第四气流室14、第五气流室83，最后通过透气孔93散出，通过有效的散热，电极座1和电极3的性能可以得到稳定发挥，从而提高等离子切割炬的整体性能。

根据本说明书的上述描述，本领域技术人员还可以理解如下使用的术语，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“宽度”、 “水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的术语是基于本说明书的附图所示的方位或位置关系的，其仅是为了便于阐述本发明的方案和简化描述的目的，而不是明示或暗示所涉及的装置或元件必须要具有所述特定的方位、以特定的方位来构造和进行操作，因此上述的方位或位置关系术语不能被理解或解释为对本发明方案的限制。

另外，在本说明书的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个或更多个等，除非另有明确具体地限定。

Claims (9)

1.一种空气等离子切割炬，其特征在于，包括电极座（1），所述电极座（1）的一端设有通过密封插套配合的枪体接头（2），所述电极座（1）的另一端设有通过密封套接配合的电极（3），所述电极座（1）内设有通过弹簧（11）抵压安装的气芯组件（12），所述电极（3）的一端抵接有套设于电极座（1）外的涡流环（4），所述电极（3）外隔空套设有喷嘴（5），所述电极（3）和喷嘴（5）之间形成有等离子气体室（31），所述喷嘴（5）的喷口端隔空套设有保护罩（6），所述喷嘴（5）和保护罩（6）之间形成有辅助气体室（51），所述喷嘴（5）远离喷口的一端通过插套配合设有喷嘴座（7），所述喷嘴座（7）和电极座（1）之间密封套接有内瓷套（8），所述内瓷套（8）和电极座（1）上共同套设有枪体外套（9），所述枪体外套（9）上设有用于贯穿引弧线的贯穿孔（94），通入到电极座（1）内的气体流出且经过内瓷套（8）的均流作用后到涡流环（4）处分流，分离后的气流一部分到等离子气体室（31）内且另一部分气流到辅助气体室（51）内；

所述气芯组件（12）包括密封设于电极座（1）内的内气芯接头（121），所述弹簧（11）设于内气芯接头（121）和枪体接头（2）之间，所述内气芯接头（121）远离弹簧（11）的一端设有通过插套配合的内气芯（122），所述内气芯（122）远离内气芯接头（121）的一端设有通过插套配合的电极气芯（123），所述内气芯接头（121）的内壁形成有气芯凸台（1211），所述内气芯（122）的一端抵接于气芯凸台（1211）上，所述内气芯（122）远离内气芯接头（121）的一端外壁形成有第一凸台（1221），所述电极座（1）的内壁形成有用于限位内气芯（122）且与第一凸台（1221）抵接的限位凸台（101），所述限位凸台（101）的侧壁周向设有弧形槽道（1011），所述电极气芯（123）的两端面均呈斜面且所述内气芯（122）的内壁设有用于限位电极气芯（123）的第二凸台（1222）。

2.根据权利要求1所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述电极座（1）的内部对应于弹簧（11）处设有V型凹槽（13），所述V型凹槽（13）内周向设有对外连通的第一透气孔（131）；

所述枪体外套（9）远离喷嘴座（7）的一端内壁设有限位环台（91），所述限位环台（91）密封套设于电极座（1）外，所述限位环台（91）与内瓷套（8）的末端之间形成有第一气流室（92），所述第一透气孔（131）与第一气流室（92）连通，所述内瓷套（8）上轴向设有通气孔（81），所述通气孔（81）连通至涡流环（4）。

3.根据权利要求2所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述内瓷套（8）包括凸台段（801）和薄壁段（802），所述凸台段（801）密封套设于电极座（1）外，所述通气孔（81）贯穿凸台段（801），所述薄壁段（802）和涡流环（4）外壁之间形成有第二气流室（82），所述通气孔（81）用于第一气流室（92）和第二气流室（82）之间的连通，所述涡流环（4）上周向设有连通第二气流室（82）与等离子气体室（31）的旋流孔（41）。

4.根据权利要求3所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述喷嘴座（7）的内壁形成有连续排布的第一阶面（71）和第二阶面（72），所述薄壁段（802）的端部抵接于第一阶面（71）上，所述第二阶面（72）上周向设有斜导孔（721），其中气流流经斜导孔（721）连通至辅助气体室（51）。

5.根据权利要求4所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述喷嘴座（7）和保护罩（6）外共同套设有绝缘体罩（01），所述绝缘体罩（01）的内壁设有第三阶面（011），所述喷嘴座（7）外壁形成有与第三阶面（011）相对的环形凸块（73），所述第三阶面（011）和环形凸块（73）之间形成有第三气流室（74），所述斜导孔（721）指向第三气流室（74），所述第三气流室（74）内的气流经过旋流分流后流通至辅助气体室（51）。

6.根据权利要求5所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述喷嘴座（7）与喷嘴（5）相近的一端外壁与绝缘体罩（01）的内壁之间形成有间隙且形成的间隙连通第三气流室（74）和辅助气体室（51），所述喷嘴座（7）对应间隙处的外壁周向设有凹弧形旋流槽（75）。

7.根据权利要求1所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述电极座（1）的侧壁周向设有处于内气芯接头（121）和限位凸台（101）之间的导气孔（102），所述电极座（1）的外壁与内瓷套（8）的内壁之间形成有与导气孔（102）连通的第四气流室（14），所述内瓷套（8）的外壁与枪体外套（9）的内壁之间形成有第五气流室（83），所述内瓷套（8）的侧壁上设有用于连通第四气流室（14）和第五气流室（83）的通孔（84），所述枪体外套（9）上设有使得第五气流室（83）对外连通的透气孔（93）。

8.根据权利要求7所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述透气孔（93）为沿枪体外套（9）的侧壁均匀分布的若干个且透气孔（93）为倾斜设置。

9.根据权利要求1-8任一项所述的空气等离子切割炬，其特征在于，所述枪体外套（9）以及电极座（1）和枪体接头（2）的末端均配合罩设于柄把壳体（02）内。