CN117898635A - 表面清洁装置和清洁方法 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种表面清洁装置，包括：支撑构件，设置于所述表面清洁装置，配置为朝向待清洁表面延伸；刮除构件，设置在所述支撑构件末端，配置为可选择地与待清洁表面接触，以在清洁过程中刮起待清洁表面的脏污；清洁过程中，当表面清洁装置向后移动，所述支撑构件接收致动力，以致使所述刮除构件与所述待清洁表面接触。本公开还提供一种表面清洁方法。

Description

表面清洁装置和清洁方法

技术领域

本公开涉及一种表面清洁装置和清洁方法。

背景技术

目前存在多种类型的表面清洁装置，采用真空和/或流体来清洁待清洁表面。其中一种类型的表面清洁装置被称为干式表面清洁装置，利用抽真空吸力形成的负压，将待清洁表面积累的沉积碎屑回收。另一种类型的表面清洁装置被称为湿式表面清洁装置，利用清洁液(包括清水)对清洁表面进行清洁，然后利用真空系统从待清洁表面回收废液。

发明内容

本公开提供了一种表面清洁装置和清洁方法，以对现有技术进一步改进。

根据本公开的方面，提供了一种表面清洁装置，包括：

支撑构件，设置于所述表面清洁装置，配置为朝向待清洁表面延伸；

刮除构件，设置在所述支撑构件末端，配置为可选择地与待清洁表面接触，以在清洁过程中刮起待清洁表面的脏污；

清洁过程中，当表面清洁装置向后移动，所述支撑构件接收致动力，以致使所述刮除构件与所述待清洁表面接触。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，还包括：吸附构件，设置在所述支撑构件的末端且与所述刮除构件相邻，被配置为吸附所述刮除构件刮起的至少一部分脏污。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，还包括：

第二刮除构件，设置在所述支撑构件的末端且与所述刮除构件相邻，配置为可选择地与待清洁表面接触，以在清洁过程中刮起待清洁表面的脏污。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，在所述支撑构件朝向待清洁表面延伸的过程中，所述刮除构件先于所述第二刮除构件接触到待清洁表面。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，所述第二刮除构件的硬度大于所述刮除构件的硬度。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，所述第二刮除构件与所述吸附构件形成在所述刮除构件的同一侧。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁装置，还包括：

设置于所述表面清洁装置上的轨道，配置为容纳所述支撑构件的至少一部分以用于限定所述支撑构件的延伸路径。

根据本公开的另方面，提供了一种表面清洁方法，包括：

检测所述表面清洁装置向后移动；

对表面清洁装置上设置的支撑构件执行驱动操作，将所述支撑构件朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件末端的刮除构件与所述待清洁表面接触。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁方法，进一步包括：

对表面清洁装置上设置的支撑构件执行第二驱动操作，将所述支撑构件朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件末端的第二刮除构件与所述待清洁表面接触，其中，在所述支撑构件朝向待清洁表面延伸的过程中，所述刮除构件先于所述第二刮除构件接触到待清洁表面。

根据本公开的至少实施方式的表面清洁方法，所述驱动操作和所述第二驱动操作各自独立地被执行。

附图说明

为了详细理解本公开的上述特征，可参考附图中说明的某些方面，对上文简要概述的特征进行更具体的描述。但应注意的是，附图仅说明了本公开的某些典型方面，因此不应被视为对其范围的限制，因为本公开可能包含其他同样有效的方面。不同附图中的相同附图标号可标识相同或相似的元件。

图1是根据本公开所描述的表面清洁装置的实施例的示意图。

图2A-2G是根据本公开的表面清洁装置的实施例的局部示意图。

图3是根据本公开的实施例相关的表面清洁装置的控制组件示意图。

图4-6是与使用本公开的实施例相关的表面清洁方法的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。下文将参照附图对本公开的各个方面进行更全面的描述。但是，本公开可以以多种不同的形式体现，不应理解为仅限于本公开中介绍的任何特定结构或功能。相反，提供这些方面是为了使本公开内容全面完整，并向本领域技术人员充分说明本公开内容的范围。基于本公开的教导，本领域技术人员应理解，本公开的范围旨在涵盖本文所公开的任何方面，无论是独立于本公开的任何其他方面实施，还是与本公开的任何其他方面相结合实施。例如，可以使用本文所述的任何方面来实现一种设备或实施一种方法。此外，本公开的范围旨在涵盖除本文所阐述的各方面之外或之外使用其它结构、功能或结构和功能实施的设备或方法。应当理解的是，本文公开的任何方面都可以通过权利要求的或多个要素来体现。

在多种表面清洁装置中，湿式表面清洁装置适用于清洁瓷砖和硬木等硬地板表面的深度清洁。湿式表面清洁装置包括流体输送系统和流体回收系统，前者用于将清洁流体输送到待清洁表面，后者用于从表面提取废液和碎屑。流体输送系统通常包括或多个用于储存清洁流体的流体供应箱、用于将清洁流体施加到待清洁表面的流体分配器，以及用于将清洁流体从流体供应箱输送到流体分配器的流体供应管路。搅拌器，用于搅拌待清洁表面上的清洁液，以将粘附在待清洁表面的顽固脏污软化和溶解。流体回收系统通常包括回收箱、邻近待清洁表面并通过工作空气管路与回收箱进行流体连通的吸嘴，以及与工作空气管路进行流体连通的真空抽吸源，用于将清洁流体从待清洁表面吸出并通过吸嘴和工作空气管路吸入回收箱。

在采用湿式表面清洁装置清洁地面的过程中，由于清洁流体被施加到待清洁表面，仅凭借吸嘴的抽真空力，往往难以将待清洁表面的残留废液清理干净。现有技术中，柔性刮除件可以安装在吸嘴后面的地刷壳体的底部上，并被配置为在地刷壳体的底部移动穿过待清洁表面时接触表面。刮除件可擦拭待清洁表面上的残留液体并形成一定体积的液体，以便通过吸嘴将其吸入回收通道，从而在待清洁表面上留下水分和无条纹的表面。可选地，刮除件可以大致与待清洁表面正交放置，也可以垂直放置。刮除件可以是柔性或弹性的并且也具有一定的刚性回覆力，以便根据待清洁表面的轮廓容易弯曲，但在正常使用时保持形状基本不变。

目前现有技术的刮除件在表面清洁装置向前移动穿过待清洁表面时，这能够很好地实现清除残留液体的效果。但通常湿式表面清洁设备是用户手持操作移动，并且根据传统的表面清洁装置的清洁习惯，这种操作移动是往复的，即，在向前移动穿过待清洁表面到达用户操作的极限位置时，用户会向后回拉表面清洁设备，以使得表面清洁设备向后移动穿过待清洁表面。但这个过程中，表面清洁设备的清洁动作不会停止，流体分配系统和回收系统继续工作，因此，在回拉的过程中，因搅拌件和地面的相互作用而产生新的污渍和/或液体残留。

本公开所描述的一些实施方案提供了用于进一步回收待清洁表面上残留物的装置和方法。本公开的表面清洁装置可配置为减少或防止待清洁表面的残留物。例如，表面清洁装置可配置为将刮除件选择性地与待清洁表面接触刮擦，以在适当地情况下(例如表面清洁装置向后移动穿过待清洁表面时)从待清洁表面去除残留物(例如，残留的固体或者残留废液)。

表面清洁装置可接收到信号指示，以启动所述刮除件的操作(例如，来自方向传感器和用户操作按键等检测工具的指示)。此外，或可选择地，根据清洁表面的残留物的数量、面积、粘度等，表面清洁装置可接收清洁模式的指示，以调节所述刮除件与待清洁表面的接触度，实现更强的刮擦效果(例如利用附加的第二刮除件来实现刮除件和第二刮除件的双重刮擦)。

在一些实施例中，表面清洁装置的传感器可以测量在刮除件和/或第二刮除件与待清洁表面接触时，施加到刮除件的支撑件上的应力量。传感器可向表面清洁装置的控制器提供指示(例如警报)，以表明满足阈值，控制器可根据来自传感器的指示提供(例如向致动器提供)停止驱动支撑件向待清洁表面的指示。传感器可以设置在支撑件上和/或配置为与支撑件耦合的装置上。在一些实施方案中，控制器可以(例如，在提供停止支撑件运动的指示之后)根据施加到支撑件上的应力满足阈值的量，提供启动支撑件远离待清洁表面的运动的指示。

基于本公开的方案，在不影响表面清洁装置正常清洁的基础上，可调节的刮除件进一步降低了待清洁表面清洁后残留物的可能性。从而可提高表面清洁设备对待清洁表面的清洁度，从而降低待清洁表面被二次污染的可能性。

图1示意出了包含本公开一个实施例的表面清洁设备的立体示意图。

如图1所示的是根据本发明的一个实施例的表面清洁装置100的一个非限制性示例的示意图。如本文所示，表面清洁装置100是湿式表面清洁装置，其具有壳体，该壳体包括直立主体120和地刷140，该地刷140可枢转地和/或旋转地安装到直立主体120上并适于在待清洁表面上移动。

直立主体120包括手柄122和主体124。手柄122包括手持部。主体124包括支撑框架，其至少支撑清洁箱组件126和污水箱组件128。表面清洁装置100可以包括：流体输送或供应路径，其包括清洁箱组件126并至少部分地由该清洁箱组件限定，用于存储清洁流体并将清洁流体输送到待清洁表面；和流体回收路径，其包括污水箱组件128并至少部分地由该污水箱组件限定，用于从待清洁表面中移除用过的清洁流体和碎屑并存储用过的清洁流体和碎屑直到被用户清空。

可枢转的旋转接头组件形成在主体124的下端，并将地刷140可移动地安装到直立主体120。在本文所示的实施例中，地刷140可以围绕至少一个轴线相对于直立主体120上下枢转。可枢转的接头组件可以可选地包括万向接头，使得地刷140可以围绕至少两个轴线相对于直立主体120枢转。在地刷140与直立主体120之间供应空气和/或液体的配线和/或导管可以延伸穿过可枢转的接头组件。

地刷140包括吸嘴组件。吸嘴组件可以被配置为包括：至少一个入口吸嘴，其用于从待清洁表面回收流体和碎屑；和至少一个出口，其用于将流体输送到待清洁表面。在一个实施例中，地刷140可以包括地刷壳体142和地刷盖146，该地刷壳体和地刷盖配合以在其间形成搅拌件的容纳腔，搅拌件能够在容纳腔内以水平或者竖直方向的驱动轴为中心轴旋转。所述入口吸嘴在所述容纳腔内临近所述搅拌件设置。流体分配器被配置有至少一个出口以将流体输送到待清洁表面。流体分配器可以包括一个或多个出水口，其被配置为将清洁流体从流体输送通道输送到容纳腔。地刷盖146可以具有内盖和外盖，可以由半透明或透明材料构成。地刷盖146上可配置有刮除装置200，其安装在地刷盖146上并能够相对于地刷盖146向外延伸至待清洁表面。在一个实施例里，刮除装置200由地刷盖146保持并可以从地刷盖146向待清洁表面延伸，并且在地刷壳体内与其他组件，例如致动组件和/或传感器组件连接。如上所述，本文提供了图1作为示例。其他示例可能与图1所述不同。

图2A-2G示例性地示出了根据本公开的表面清洁装置100的实施例的局部剖面示意图，图2A-2G所示的实施例包括与图1所述表面清洁设备100相关的工具和组件。如图2A-2G所示，刮除装置200可包括支撑构件、刮除构件、轨道、致动器、传感器和控制器。支撑构件和刮除构件可以安装在地刷盖上，支撑构件设置在地刷盖上形成的轨道中，其末端连接有刮除构件。

如图2A所示，刮除装置200可以包含在表面清洁装置100的地刷中。刮除装置200包括支撑构件220，该支撑构件220可由具有一定硬度的刚性材料制成，并且其形状被配置为适合在地刷的地刷盖146所形成的轨道148中能够自由地往复移动，而不干涉搅拌件的正常转动。支撑构件220包括末端222和与末端222相对的驱动端224。末端222位于地刷外部，驱动端224位于地刷内部。这样，在特定的清洁条件下，支撑构件220能够接收来自地刷内部的致动器250的驱动力，将力通过驱动端224传递给末端222，从而使末端222能够朝向外部以限定的长度延伸。在表面清洁装置100放置于待清洁表面时，该延伸是使得末端222以基本垂直于待清洁表面的方向朝向待清洁表面。

如图2A所示，支撑构件220包括支撑主体226，末端222形成在所述支撑主体226一侧，驱动端224形成在所述支撑主体226另一侧。在一些示例中，支撑构件220整体上呈曲面的板状结构，因此其末端222实际上是一条连续的边沿。驱动端224也可以是一条连续的边沿。然而，驱动端224可以不是连续的边沿，可以是能够与致动器250保持连接的各种形状，例如条形，圆形，三角形或者其他合适与致动器配合的形状。

在所述末端222上，形成有刮除构件240，以刮除待清洁表面的残留物。在一个实施例中，刮除构件240可以是沿着所述支撑构件220末端222连续边沿上所形成的刮板，并且刮板配置成当地刷在待清洁表面上向后方移动时接触待清洁表面。刮板从待清洁表面擦拭残余液体，使得其可经由抽吸口被抽吸到回收通路中，从而在待清洁表面上留下无湿气且无痕的效果。

在支撑构件220的末端222向外延伸的情况下，刮除构件240可设置为与待清洁表面大致正交或是垂直的。刮除构件240可以是光滑的和柔韧的，具有一定弹性，以便根据待清洁表面的轮廓而容易弯曲但正常使用表面清洁设备时保持不变形。在一些实施例中，刮除构件240可由弹性聚合物材料制成，例如橡胶、聚氯乙烯、橡胶共聚物或本领域已知的具有足够刚性以在正常使用表面清洁装置100期间保持基本不变形的任何材料。

如图2B所示，在某些情况下，刮除构件240通常收集待清洁表面残余的液体。通常理想的情况下，残留的液体被刮除构件240刮起形成聚集液体，可以通过搅拌器的向前移动将这些聚集液体回收到表面清洁装置100的抽吸口。但在实际使用过程中，很难保证所有的残留液都被回收。因此，相邻于所述刮除构件240的位置，设置额外的吸附构件260，如图2B所示。吸附构件260能够将刮除构件240收集的液体和部分固体颗粒吸附于其中。吸附构件260通常为吸附性较佳的材料构成，且临接刮除构件240设置，将刮除构件240形成的部分聚集液体吸附其上。通常吸附构件260为连续的条状结构，沿着所述刮除构件240的延伸方向相邻设置，且远离所述刮除构件240的前端。这样设置是有利的，如果吸附构件260靠近刮除构件240前端，有可能在地刷向后移动过程中，由于刮除构件240具有一定柔性导致的部分弯曲，使得吸附构件260早于刮板接触地面残留物，这样刮除构件240就失去其作用。在一个实施例中，条状的吸附构件260设置于所述刮除构件240和所述支撑构件220的末端222连接线处。

在一些实际的清洁场景中，待清洁表面上会粘附粘性的物质。虽然可以通过表面清洁装置100的搅拌件大部分程度上清除这些粘性物，但不免仍有一些残留的细微粘稠物质仍然附加在待清洁表面，这种细微粘稠物质，通常小于搅拌件上的绒毛间隙，不容易通过搅拌件去除。另外，由于这种细微粘性物质通常的粘性力大于刮除构件240的刮除力，因此通过搅拌件和后刮板和刮除构件240都不容易去除。

如图2C所示，在一些实施例中，对于刮除构件240相邻位置，可以设置加强刮除构件280。该加强刮除构件280应当设置在支撑构件220的末端222上，并且与末端222可靠地连接，其相对于刮除构件240更加接近于搅拌件或者抽吸口。该加强刮除构件280能够兼具刮除液体和细微粘稠物的功能。在一个实施例中，该加强刮除构件280是相对具有一定硬度和光滑的刮板，其硬度应大于上述刮除构件240。其同时也应当具有一定弹性，以便根据待清洁表面的轮廓而容易弯曲但正常使用表面清洁设备时保持不变形。在一个实施例中，该加强刮除构件280的与待清洁表面的接触和功能实现，是通过支撑构件220的进一步延伸来实现的。也就是说，当支撑构件220延长第一长度时，刮除构件240与待清洁表面接触并作用于待清洁表面，加强刮除构件280不与待清洁表面接触并且不作用于待清洁表面；当支撑构件220延长第二长度时，刮除构件240与或者不与待清洁表面接触并且作用或者不作用于待清洁表面，而加强刮除构件280与待清洁表面接触且作用于待清洁表面。

图2D和图2E示出了表面清洁装置100两种不同的清洁模式下，所述刮除组件200和待清洁表面F的接触状态的一个实例。如图2D所示，在第一种清洁模式下，所述刮除构件240与待清洁表面接触，以在地刷向后移动的过程中刮除待清洁表面的一般残留物。通常第一种清洁模式在待清洁表面上地刷向后移动的情况下被唤起。这种清洁模式下，可以确保搅拌件和位于搅拌机后方的后刮板能够基本上清除待清洁表面的大部分污渍，待清洁表面残留的为少量的残留液体和微量的残留颗粒被刮除构件240进步一刮除。这样，通过刮除构件240就能将残留的为少量的残留液体和微量的残留颗粒进一步地去除，确保待清洁表面无水印。通常第二种清洁模式在待清洁表面上地刷向后移动的情况下被唤起，且待清洁表面相对第一清洁模式下脏污度更高。如图2E所示，在第二种清洁模式下，可以确保搅拌件和后刮板能够基本上清除待清洁表面的大部分污渍。待清洁表面残留的为少量的残留液体和少量的残留粘稠物被加强刮除构件280进一步刮除，而刮除构件240可以进一步刮除残余液。或者，与支撑构件222的延伸长度相关的，当支撑构件222进一步延伸，由于末端222的柔性变形，刮除构件240翘起，刮除构件240可以不与待清洁表面接触。这样，通过加强刮除构件280就能将残留的少量的残留液体和和少量的残留粘稠物进一步地去除，确保待清洁表面无水印和无粘附物。

第一清洁模式和第二清洁模式通常对应于控制器对致动器发起的不同的第一驱动操作信号和第二驱动操作信号。第一驱动操作信号和第二驱动操作信号是各自独立的，以便于刮板和刮板能够独立地被触发刮除动作。

在一些实施例中，第一清洁模式和第二清洁模式可以自动地切换。表面清洁装置100可由独立于或包括于该表面清洁装置100的一组检测工具来执行。在一个实施例中，表面清洁装置100可包括检测工具，其配置用于检测待清洁表面上的脏污度。

如图2F所示，脏污检测工具210检测待清洁表面上的脏污度D。在一些实施方案中，脏污检测工具210可以使用红外传感器、电容传感器和/或基于视觉的系统等来检测脏污度。脏污检测工具210可以获得与脏污度的一个或多个特征相关联的信息，例如脏污范围、脏污程度和/或位置。

检测工具122可向控制设备300提供脏污颗粒位于待清洁表面表面上的信息指示。在某些实施方案中，脏污检测工具210还可以提供脏污颗粒的一个或多个特征的指示。检脏污测工具122可通过无线局域网通信标准或短程无线通信标准等提供指示。

如图2G所示，运动检测工具230检测表面清洁装置100在待清洁表面上的移动方向。在一些实施方案中，运动检测工具230可以使用惯性传感器、编码传感器和/或基于视觉的系统等来检测移动方向。运动检测工具230可以获得与表面清洁装置100在待清洁表面上移动方向的一个或多个特征相关联的信息，例如在一个实施里中，可以通过检测表面清洁装置100滚轮的滚动方向，来确定表面清洁装置100是向前移动还是向后移动。

运动检测工具230可向控制设备300提供表面清洁装置100在待清洁表面上的运动信息指示。在某些实施方案中，运动检测工具230还可以提供包括移动方向在内的一个或多个特征的指示，例如移动速度、移动方向、移动加速度、操作暂停或操作停止等信息。

上所述，本文提供了图2A-2G作为示例。其他示例可能与图2A-2G所述不同。

图3是本文公开的表面清洁装置100的控制设备的示例组件示意图，可对应于图1-2G中的各种部件，例如传感器、致动器、控制器、检测工具和/或通信工具。在某些实施方案中，传感器、致动器、控制器、检测工具和/或通信工具可以包括或多个控制设备300和/或控制设备300的或多个组件。

如图3所示，控制设备300可以包括总线310、处理器320、存储器330、输入组件340、输出组件350和通信组件360。

总线310包括或多个组件，可在控制设备300的组件之间实现有线和/或无线通信。总线310可以将图3中的两个或多个组件耦合在一起，例如通过操作耦合、通信耦合、电子耦合和/或电耦合。处理器320包括中央处理单元、图形处理单元、微处理器、控制器、微控制器、数字信号处理器、现场可编程门阵列、专用集成电路和/或其他类型的处理组件。处理器320通过硬件、固件或硬件与软件的组合实现。在某些实施方案中，处理器320包括或多个能够被编程以执行本文其他地方所述的或多个操作或流程的处理器。

存储器330包括易失性和/或非易失性存储器。例如，存储器330可包括随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、硬盘驱动器和/或其他类型的存储器(例如，闪存、磁存储器和/或光存储)。存储器330可包括内部存储器(如RAM、ROM或硬盘驱动器)和/或可移动存储器(如通过通用串行总线连接的可移动存储器)。存储器330可以是非临时计算机可读介质。存储器330可存储与控制设备300操作相关的信息、指令和/或软件(例如，或多个软件应用程序)。在一些实施方案中，存储器330包括或多个与或多个处理器(例如处理器320)耦合的存储器，例如通过总线310。

输入组件340使控制设备300能够接收输入，例如用户输入和/或感应输入。例如，输入组件340可以包括触摸屏、键盘、键盘、鼠标、按钮、麦克风、开关、传感器、全球定位系统传感器、加速计、陀螺仪和/或致动器2。输出组件350使控制设备300能够提供输出，例如通过显示器、扬声器和/或发光二极管。通信组件360使控制设备300能够通过有线连接和/或无线连接与其他设备通信。例如，通信组件360可包括接收器、发射器、收发器、调制解调器、网络接口卡和/或天线。

控制设备300可以执行本文所述的或多个操作或流程。例如，非暂时性计算机可读介质(例如，存储器330)可以存储供处理器320执行的一组指令(例如，或多个指令或代码)。处理器320可执行指令集以执行本文所述的或多个操作或流程。在某些实施方案中，由或多个处理器320执行指令集会使或多个处理器320和/或控制设备300执行本文所述的或多个操作或流程。在某些实施方案中，可以使用硬连线电路来代替指令或与指令相结合来执行本文所述的或多个操作或流程。此外，处理器320也可以配置为执行本文所述的或多个操作或流程。因此，本文所述的实现方式并不局限于硬件电路和软件的任何特定组合。

图3中所示组件的数量和排列是作为示例提供的。控制设备300可以包括与图3中所示组件相比的额外组件、更少组件、不同组件或不同排列方式的组件。此外，或作为替代，设备300的一组组件(例如，或多个组件)可以执行描述为由设备300的另一组组件执行的或多个功能。

控制设备300可以执行本文所述的或多个操作或流程。例如，非暂时性计算机可读介质(例如，存储器330)可以存储供处理器320执行的一组指令(例如，或多个指令或代码)。处理器320可执行指令集以执行本文所述的或多个操作或流程。在某些实施方案中，由或多个处理器320执行指令集会使或多个处理器320和/或控制设备300执行本文所述的或多个操作或流程。在某些实施方案中，可以使用硬连线电路来代替指令或与指令相结合来执行本文所述的或多个操作或流程。此外，处理器320也可以配置为执行本文所述的或多个操作或流程。因此，本文所述的实现方式并不局限于硬件电路和软件的任何特定组合。

图3所示的组件的数量和排列方式作为示例提供。设备300可以包括附加的组件、更少的组件、不同的组件或与图3中所示的组件布置不同的组件。此外，或者可选地，设备300的一组组件(例如，或多个组件)可以执行或多个功能，这些功能被描述为由设备300的另一组组件执行。

图4-6是与本公开的表面清洁装置100和其控制/操作方法相关联的示例过程的流程图。在一些实施方案中，图4-6中的或多个过程模块可由表面清洁装置100执行。在一些实现方式中，图4-6中的一个或多个过程块可以由另一设备或一组设备执行，这些设备包括在表面清洁设备中或者与表面清洁设备分开，例如，致动器、控制器、检测工具和/或通信工具。此外，或作为替代，图4-6中的或多个过程块可以由控制设备300的或多个组件执行，例如处理器320、存储器330、输入组件340、输出组件350和/或通信组件360。

如图4所示，过程400可以包括过程模块410，检测所述表面清洁装置100向后移动。例如，在清洁过程中，方向检测工具检测到表面清洁装置100在被驱动向后移动，则方向检测工具向控制器发送即时通讯的信号，表明此时符合启动支撑构件220的延伸动作。在流程400中，过程模块410进一步包括了方向检测工具的具体实现，可能涉及传感器或算法，以准确检测表面清洁装置100的后移动。这可以包括针对运动方向的速度、加速度等参数的监测，以确保在清洁过程中及时而准确地触发支撑构件220的延伸动作。方向检测工具可能采用多种技术，如惯性传感器、光电传感器等，以确保对清洁装置运动的实时监测。

过程400可以包括过程模块420，在检测所述方向信息为向后移动后，则对表面清洁装置100上设置的支撑构件220执行延伸驱动操作，将致动器所述支撑构件220朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件220末端222的刮除构件240与所述待清洁表面接触。例如，收到控制器发送的支撑构件220驱动信号，则启动致动动作。具体来说，致动器250通过驱动支撑构件220的驱动部，致使支撑构件220的主体在地刷中形成的轨道中滑动，支撑构件220的末端222向前迅速伸出。致动器250的动作应当是迅速的，以及时响应地刷的移动方向。通常，致动器250驱动支撑构件220以使得其配置刮除组件的末端222迅速地到达待清洁表面，这个过程通常在地刷由向前行进的极端位置开始向后移动的瞬间完成，以保证在向后移动清洁过程中，刮除组件能在向后移动的整个周期内完成刮除动作。在流程400的过程模块420中，支撑构件220的延伸驱动操作可能涉及到具体的机械结构和动力学原理。例如，支撑构件220的延伸可能通过液压、气动或电动执行器实现，这些执行器可以迅速而精准地驱动支撑构件220的伸缩。此外，地刷中形成的轨道可能采用高精度的导向结构，确保支撑构件220的平稳移动。支撑构件220的末端222上设置的刮除构件240也可能采用特殊设计，以确保在接触待清洁表面时有效刮除污物。

虽然图4显示的是流程400的示例过程模块，但在某些实施方案中，流程400可以包括与图4中描述的过程模块不同的额外过程模块、更少的过程模块、不同的过程模块或不同排列的过程模块。此外，或者可以选择并行执行流程400中的两个或多个过程模块。

图5是与本公开的表面清洁装置100和其控制/操作方法相关联的另一个示例过程的流程图。

如图5所示，过程500看可以包括表面清洁装置100的地刷的一个动作周期内的操作方法。

过程500可以包括过程模块510，在表面清洁装置100启动后，在检测所述方向信息为向前移动，则保持表面清洁装置100上设置的支撑构件220执行回缩操作，支撑构件220初始状态为回收状态，只有其末端222和连接在末端222的刮除组件暴露在地刷外部。

过程510可选择地包括检测所述方向信息为向前移动和向后移动的过度点。例如，用户操作表面清洁装置100时远离用户的极限位置，此时表面清洁装置100处于短暂的停止状态，接下来用户执行回拉动作。过程500的过程模块510可能还涉及到过度点的检测和处理，以确保在用户执行停止清洁装置移动的瞬间，支撑构件220的回缩操作能够及时生效。

过程500可以包括过程模块520，在检测所述方向信息为从向前转换为向后移动时，则对表面清洁装置100上设置的支撑构件220执行延伸操作，将所述支撑构件220朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件220末端222的刮除构件240与所述待清洁表面接触。例如，致动器250收到控制器发送的支撑构件220驱动信号，则启动致动动作。具体来说，致动器250通过驱动支撑构件220的驱动部，致使支撑构件220的主体在地刷中形成的轨道中滑动，支撑构件220的末端222向前迅速伸出。致动器250的动作应当是迅速的，以及时响应地刷的移动方向。通常，致动器250驱动支撑构件220以使得其配置刮除组件的末端222迅速地到达待清洁表面，这个过程通常在地刷由向前行进的极端位置开始向后移动的瞬间完成，以保证在向后移动清洁过程中，刮除组件能在向后移动的整个周期内完成刮除动作。

过程520可选择地包括检测所述方向信息为向后移动和向前移动的过度点。例如，用户操作表面清洁装置100时靠近用户的极限位置，此时表面清洁装置100处于短暂的停止状态，接下来用户执行前推动作。在过程模块520中，支撑构件220的延伸操作再次涉及到致动器的动力学控制，确保支撑构件220迅速而准确地伸展到位。此外，过程模块520可能包括对支撑构件220的动态调整，以适应清洁装置的运动速度和方向变化

过程500可以包括过程模块530，在检测所述方向信息为从向后转换为向前移动时，则对表面清洁装置100上设置的支撑构件220执行驱动操作，将所述支撑构件220远离待清洁表面回缩，以致使设置在所述支撑构件220末端222的刮除构件240迅速远离所述待清洁表面。例如，致动器250收到控制器发送的支撑构件220驱动信号，则启动致动动作。具体来说，致动器250通过驱动支撑构件220的驱动部，致使支撑构件220的主体在地刷中形成的轨道中滑动，支撑构件220的末端222远离待清洁表面迅速回缩。致动器250的动作应当是迅速的，以及时响应地刷的移动方向。通常，致动器250驱动支撑构件220以使得其配置刮除组件的末端222迅速地离开待清洁表面，这个过程通常在地刷由向后行进的极端位置开始向前移动的瞬间完成，以保证在向前移动清洁过程中，刮除组件不阻挡搅拌件清理所述待清洁表面。即，支撑构件220的驱动操作也需要考虑到清洁装置移动方向的突变，以防止刮除构件240在转换时造成不必要的干扰。这可能需要对驱动信号的实时调整，以确保在向前移动清洁过程中，刮除组件不会阻碍地刷的有效工作。

虽然图5显示的是流程500的示例过程模块，但在某些实施方案中，流程500可以包括与图5中描述的过程模块不同的额外过程模块、更少的过程模块、不同的过程模块或不同排列的过程模块。此外，或者可以选择并行执行流程500中的两个或多个过程模块。

图6是与本公开的表面清洁装置100和其控制/操作方法相关联的另一个示例过程的流程图。

如图6所示，过程600看可以包括表面清洁装置100的地刷的向后移动内的对不同表面脏污度的操作方法。

过程600可以包括过程模块610，检测待清洁表面的脏污度。例如，在清洁过程中，脏污检测工具将待清洁表面的脏污度信号发送给表面清洁装置100。过程模块610的脏污度检测可能包括对不同类型污物的识别，以便选择适当的驱动操作模式。这可能需要采用先进的传感技术，如图像识别、光谱分析等，以对待清洁表面的污物进行精确分类。

在过程模块620中，选择支撑构件220的驱动操作模式。例如，控制器根据待清洁表面的脏污度信号选择对支撑构件220应采取第一驱动操作模式或第二驱动操作模式。脏污度的阈值提前设置在存储器当中，以便于随时调用。当脏污度低于阈值，启动第一驱动模式，刮除构件240接触待清洁表面。当脏污度大于等于阈值，启动第二驱动模式，加强刮除构件260接触待清洁表面，刮除构件240可接触待清洁表面，也可以不接触，这根据实际的需要进行结构和材料的设置便可以选择实现。过程模块620中的驱动操作模式选择可能涉及到预设的污物分类与相应的清理策略的关联。这可能需要在控制器中实现相应的算法，以根据待清洁表面的实际情况进行智能判断。

过程600可以包括过程模块630，在检测所述方向信息为向后移动后，则根据所选择模式，对表面清洁装置100上设置的支撑构件220执行驱动操作，将所述支撑构件220朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件220末端222的刮除构件240和/或加强刮除构件260与所述待清洁表面接触。在过程模块630中，根据所选择的模式执行的驱动操作可能进一步涉及到对刮除构件240和/或加强刮除构件260的具体动作控制，以适应不同的污物类型和表面条件。

虽然图6显示的是流程600的示例过程模块，但在某些实施方案中，流程600可以包括与图6中描述的过程模块不同的额外过程模块、更少的过程模块、不同的过程模块或不同排列的过程模块。此外，或者可以选择并行执行流程600中的两个或多个过程模块。

以上概述了几个实施例的特征，以便本领域技术人员更好地理解本公开的各个方面。本领域技术人员应该明白，他们可以随时以本公开内容为基础，设计或修改其他方法和结构，以实现相同的目的和/或达到此处介绍的实施例的相同优点。本领域技术人员还应认识到，这种等效结构并不背离本公开的精神和范围，他们可以在不背离本公开的精神和范围的情况下，对本文进行各种更改、替换和改动。

Claims (10)

1.一种表面清洁装置，其特征在于，包括：

支撑构件，设置于所述表面清洁装置，配置为朝向待清洁表面延伸；

刮除构件，设置在所述支撑构件末端，配置为可选择地与待清洁表面接触，以在清洁过程中刮起待清洁表面的脏污；

清洁过程中，当表面清洁装置向后移动，所述支撑构件接收致动力，以致使所述刮除构件与所述待清洁表面接触。

2.如权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，还包括：吸附构件，设置在所述支撑构件的末端且与所述刮除构件相邻，被配置为吸附所述刮除构件刮起的至少一部分脏污。

3.如权利要求1或2所述的表面清洁装置，其特征在于，还包括：

第二刮除构件，设置在所述支撑构件的末端且与所述刮除构件相邻，配置为可选择地与待清洁表面接触，以在清洁过程中刮起待清洁表面的脏污。

4.如权利要求3所述的表面清洁装置，其特征在于，在所述支撑构件朝向待清洁表面延伸的过程中，所述刮除构件先于所述第二刮除构件接触到待清洁表面。

5.如权利要求3所述的表面清洁装置，其特征在于，所述第二刮除构件的硬度大于所述刮除构件的硬度。

6.如权利要求3所述的表面清洁装置，其特征在于，所述第二刮除构件与所述吸附构件形成在所述刮除构件的同一侧。

7.如权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，还包括：

设置于所述表面清洁装置上的轨道，配置为容纳所述支撑构件的至少一部分以用于限定所述支撑构件的延伸路径。

8.一种表面清洁方法，其特征在于，包括：

检测所述表面清洁装置向后移动；

对表面清洁装置上设置的支撑构件执行驱动操作，将所述支撑构件朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件末端的刮除构件与所述待清洁表面接触。

9.如权利要求8所述的表面清洁方法，其特征在于，进一步包括：

对表面清洁装置上设置的支撑构件执行第二驱动操作，将所述支撑构件朝向待清洁表面延伸，以致使设置在所述支撑构件末端的第二刮除构件与所述待清洁表面接触，其中，在所述支撑构件朝向待清洁表面延伸的过程中，所述刮除构件先于所述第二刮除构件接触到待清洁表面。

10.如权利要求9所述的表面清洁方法，其特征在于，包括：所述驱动操作和所述第二驱动操作各自独立地被执行。