CN117858389A - 装饰件及其制备方法、壳体和电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种装饰件，包括基材以及设置在基材表面的纹理层，纹理层的表面具有纹理区，纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元，第一单元和第二单元交替设置，每一第一单元具有至少一条第一线状纹理，每一第二单元具有至少一条第二线状纹理，每一第一单元中的第一线状纹理与第一方向的夹角为γ，每一第二单元中的第二线状纹理与第一方向的夹角为δ，沿第一方向上，多个第一单元中的γ逐渐变化，多个第二单元中的δ逐渐变化，沿第二方向上，多个第一单元中的γ按第一函数关系式变化，多个第二单元中的δ按第二函数关系式变化，第一方向与第二方向垂直，第一函数关系式与第二函数关系式不同。该装饰件具有螺旋多光影的外观效果。

Description

装饰件及其制备方法、壳体和电子设备

技术领域

本申请涉及电子设备技术领域，具体涉及装饰件及其制备方法、壳体和电子设备。

背景技术

随着电子设备的不断发展，消费者在关注电子设备性能的同时，越来越关注电子设备的外观效果。目前电子设备的外观效果较为单一且同质化现象严重，无法满足消费者的需求。因此，需要对电子设备的外观效果进行改善。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种装饰件及其制备方法、壳体和电子设备，该装饰件可以实现螺旋多光影的效果，在视觉上更具有层次和立体感，极大地提升了装饰件的视觉效果。

第一方面，本申请提供了一种装饰件，所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层的表面具有纹理区，所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元，所述第一单元和所述第二单元交替设置，每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理，每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理，每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ，每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ，沿所述第一方向上，多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化，多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化，沿第二方向上，多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化，多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化，所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

可选的，所述第一函数关系式为：γ＝J₁-2J₁[a₁+A₁·cos(-π+2πb₁/N_Y)]/N_X，其中，以所述第一方向和所述第二方向为X轴和Y轴，以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系，所述a₁为所述第一单元在所述X轴上的坐标值，所述b₁为所述第一单元在所述Y轴上的坐标值；所述A₁为振幅，所述N_X为所述纹理区在所述X轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述N_Y为所述纹理区在所述Y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述J₁的绝对值大于0°且小于或等于90°。

进一步的，所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为W，所述A₁为W/10-W/2。

进一步的，所述J₁的绝对值为30°-60°。

可选的，所述第二函数关系式为：δ＝J₂-2J₂[a₂+A₂·sin(-π+2πb₂/N_Y)]/N_X，其中，以所述第一方向和所述第二方向为X轴和Y轴，以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系，所述a₂为所述第二单元在所述X轴上的坐标值，所述b₂为所述第二单元在所述Y轴上的坐标值；所述A₂为振幅，所述N_X为所述纹理区在所述X轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述N_Y为所述纹理区在所述Y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述J₂的绝对值大于0°且小于或等于90°。

进一步的，所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为W，所述A₂为W/10-W/2。

进一步的，所述J₂的绝对值为30°-60°。

可选的，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

进一步的，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

进一步的，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

可选的，所述第一单元具有多条平行设置的所述第一线状纹理，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

进一步的，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

进一步的，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

可选的，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

进一步的，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

进一步的，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

可选的，所述第二单元具有多条平行设置的所述第二线状纹理，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

进一步的，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

进一步的，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

可选的，所述γ的绝对值为0°-90°。

进一步的，所述γ的绝对值为30°-60°。

可选的，所述δ的绝对值为0°-90°。

进一步的，所述δ的绝对值为30°-60°。

可选的，所述第一线状纹理的宽度为1μm-200μm，高度或深度为1μm-15μm。

可选的，所述第一单元具有多条间隔平行设置的所述第一线状纹理，相邻所述第一线状纹理的间距为1μm-200μm。

可选的，所述第二线状纹理的宽度为1μm-200μm，高度或深度为1μm-15μm。

可选的，所述第二单元具有多条间隔平行设置的所述第二线状纹理，相邻所述第二线状纹理的间距为1μm-200μm。

可选的，所述第一单元的横向尺寸为0.1mm-10mm。

可选的，所述第二单元的横向尺寸为0.1mm-10mm。

第二方面，本申请提供了一种装饰件的制备方法，包括：通过转印、刻蚀和热压成型中的至少一种方法形成装饰件，所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层的表面具有纹理区，所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元，所述第一单元和所述第二单元交替设置，每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理，每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理，每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ，每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ，沿所述第一方向上，多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化，多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化，沿第二方向上，多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化，多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化，所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

第三方面，本申请提供了一种壳体，所述壳体包括第一方面所述的装饰件。

第四方面，本申请提供了一种电子设备，所述电子设备包括第三方面所述的壳体。

本申请提供的装饰件中第一线状纹理、第二线状纹理与第一方向的夹角沿第一方向发生变化，并且沿第二方向上第一线状纹理、第二线状纹理与第一方向的夹角的变化方式不同，使装饰件呈现螺旋多光影的外观效果，并且装饰件外观更具层次感和立体感，极大地丰富了装饰件的视觉效果；同时该装饰件的制备方法简单，操作方便，有利于装饰件的应用；具有该装饰件的壳体和电子设备的外观效果得到了改善，避免了同质化，提高了产品竞争力。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。

图1为本申请一实施方式提供的装饰件的截面示意图。

图2为本申请一实施方式提供的装饰件的俯视图，其中未示出第一线状纹理和第二线状纹理。

图3为本申请另一实施方式提供的装饰件的俯视图。

图4为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图，其中未示出第一线状纹理和第二线状纹理。

图5为图3中虚线区域的放大图。

图6为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图。

图7为本申请一实施方式提供的多个第一单元中第一线状纹理的分布图。

图8为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图。

图9为本申请一实施方式提供的多个第二单元中第二线状纹理的分布图。

图10为本申请一实施方式提供的第一单元的俯视图。

图11为图10中第一线状纹理的结构示意图。

图12为本申请另一实施方式提供的第一单元的俯视图。

图13为本申请又一实施方式提供的第一单元的俯视图。

图14为图13中第一线状纹理的结构示意图。

图15为本申请一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图。

图16为本申请另一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图。

图17为本申请又一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图。

图18为本申请一实施方式提供的壳体的示意图。

图19为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图。

标号说明：

纹理层-10，第一单元-11，第一线状纹理-111，第二单元-12，第二线状纹理-121，基材-20，装饰件-100，第一表面-101，第二表面-101’，壳体-200，电子设备-300。

具体实施方式

下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1、图2和图3，为本申请一实施方式提供的装饰件的截面示意图、未示出第一线状纹理和第二线状纹理的装饰件的俯视图以及示出第一线状纹理和第二线状纹理的装饰件的俯视图，装饰件100包括基材20以及设置在基材20表面的纹理层10，纹理层10的表面具有纹理区，纹理区包括阵列排布的多个第一单元11和多个第二单元12，第一单元11和第二单元12交替设置，每一第一单元11具有至少一条第一线状纹理111，每一第二单元12具有至少一条第二线状纹理121；每一第一单元11中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ，每一第二单元12中的第二线状纹理121与第一方向的夹角为δ，沿第一方向上，多个第一单元11中的γ逐渐变化，多个第二单元12中的δ逐渐变化，沿第二方向上，多个第一单元11中的γ按第一函数关系式变化，多个第二单元12中的δ按第二函数关系式变化，第一方向与第二方向垂直，第一函数关系式与第二函数关系式不同。如图2所示，白色区域为第一单元11，黑色区域为第二单元12，在实际的膜片上第一单元11和第二单元12的背景色可以相同，也可以不同，在此仅为清楚的区分第一单元11和第二单元12将两个区域的背景色设置不同。图3为对应图2中划分的第一单元11和第二单元12中设置第一线状纹理111和第二线状纹理121后的装饰件100的示意图，其中第一单元11具有多条第一线状纹理111、第二单元12具有多条第二线状纹理121的情况，可以理解的，第一单元11也可以具有一条第一线状纹理111，第二单元12也可以具有一条第二线状纹理121。本申请提供的装饰件100表面通过设置纹理区以改善装饰件100的外观效果，该纹理区中通过设置阵列排布的第一单元11和第二单元12，以及在不同方向上第一单元11中的第一线状纹理111和第二单元12中的第二线状纹理121的延伸方向不同，从而可以在视觉上形成螺旋多光影的效果。相关技术中，往往需要通过多层膜片的纹理结构叠加才能够实现多光影效果，而本申请提供的单层纹理结构的装饰件100即可实现明暗层次和光影流动变化，极大地提升了装饰件100的产品竞争力。

在本申请中，纹理层10的表面具有纹理区，纹理区包括了阵列排布的多个第一单元11和多个第二单元12，第一单元11和第二单元12交替设置；可以理解的，纹理层10表面纹理区的形状可以根据需要进行选择，可以但不限于为多边形(如正方形、长方形、菱形、六边形、八边形、不规则多边形等)、圆形、椭圆形、不规则形状等；通过将纹理区划分为第一单元11和第二单元12，以利于螺旋多光影效果的实现；装饰件100中第一单元11、第二单元12呈阵列排布并交替设置，从而保证于螺旋多光影效果的实现。在本申请实施方式中，第一单元11和第二单元12交替设置包括在第一方向上第一单元11和第二单元12交替设置，在第二方向上第一单元11和第二单元12交替设置。如图2和图3所示，第一方向与第二方向垂直。可以理解的，图2和图3中仅示出了第一方向和第二方向的延伸方向的一种方式，第一方向和第二方向还可以有其他设置方式，对此不作限定，只要第一方向与第二方向垂直即可；同时，在本申请中，第一方向、第二方向与装饰件100表面平行。在本申请实施方式中，第一方向、第二方向与第一单元11和第二单元12的排列方向平行或垂直。如此有利于实现视角更好的螺旋多光影效果。在一实施例中，多个第一单元11沿第一方向和第二方向阵列排布。在另一实施例中，多个第二单元12沿第一方向和第二方向阵列排布。

在本申请一实施方式中，相邻的第一单元11和第二单元12之间的间距为0，如此可以保证连续地螺旋效果的实现。当然相邻的第一单元11和第二单元12之间的间距也可以不为0，例如设置为较小的间距，在视觉上仍然可以呈现为连续地螺旋效果。具体的，间距可以但不限于小于100μm、小于50μm、小于20μm、小于10μm、小于5μm或小于1μm等。

在本申请中，第一单元11、第二单元12在装饰件100表面的正投影可以但不限于为三角形(如等边三角形、等腰三角形等)、四边形(如正方形、长方形、菱形等)、六边形(如正六边形等)、八边形(如正八边形等)、十边形(如正十边形等)等，从而实现不同的螺旋光影效果。多个第一单元11在装饰件100表面的正投影可以相同，也可以不同；多个第二单元12在装饰件100表面的正投影可以相同，也可以不同；第一单元11、第二单元12在装饰件100表面的正投影可以相同，也可以不同；第一单元11、第二单元12在装饰件100表面的正投影采用相同的形状时，有利于规则的螺旋多光影纹理的实现。在一实施例中，如图2和图3所示，第一单元11、第二单元12在装饰件100表面的正投影可以为正方形。在另一实施例中，请参阅图4，为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图，其中未示出第一线状纹理111和第二线状纹理121；可以看出第一单元11、第二单元12在装饰件100表面的正投影可以为三角形。

在本申请实施方式中，第一单元11的横向尺寸为0.1mm-10mm。其中，横向尺寸为在与装饰件100表面平行的方向上，第一单元11的最大尺寸。举例来说，第一单元11为正方形时，横向尺寸即为对角线的大小；第一单元11为圆形时，横向尺寸即为直径的大小。具体的，第一单元11的横向尺寸可以但不限于为0.1mm、0.5mm、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。上述尺寸的第一单元11有利于实现明暗视觉效果。在一实施例中，第一单元11的横向尺寸可以为0.3mm-3mm。在另一实施例中，第一单元11的横向尺寸可以为0.5mm-2mm。在一具体实施例中，第一单元11为正方形，正方形的边长为0.5mm。

在本申请实施方式中，第二单元12的横向尺寸为0.1mm-10mm。具体的，第二单元12的横向尺寸可以但不限于为0.1mm、0.5mm、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。上述尺寸的第二单元12有利于实现明暗视觉效果。在一实施例中，第二单元12的横向尺寸可以为0.3mm-3mm。在另一实施例中，第二单元12的横向尺寸可以为0.5mm-2mm。在一具体实施例中，第二单元12为正方形，正方形的边长为0.5mm。

在本申请实施方式中，纹理区中第一单元11和第二单元12的数量和大于或等于100，从而有利于进一步丰富装饰件100表面明暗区域的数量，实现更加多样的多光影的效果。在一实施例中，纹理区中第一单元11和第二单元12的数量和可以大于或等于120。在另一实施例中，纹理区中第一单元11和第二单元12的数量和可以大于或等于130。在又一实施例中，纹理区中第一单元11和第二单元12的数量和可以大于或等于150。在又一实施例中，纹理区中第一单元11和第二单元12的数量和可以大于或等于170。在本申请实施方式中，沿第一方向，第一单元11和第二单元12的数量和固定，有利于获得规则的纹理区，有助于提升装饰件100外观效果的规整性的。举例来说，如图2所示且按照图2的方位，从上到下具有32行，每一行的延伸方向与第一方向平行，每一行中第一单元11和第二单元12的数量和固定且均为16。在本申请实施方式中，沿第二方向，第一单元11和第二单元12的数量和固定，有利于获得规则的纹理区，有助于提升装饰件100外观效果的规整性的。举例来说，如图2所示且按照图2的方位，从左到右具有16列，每一列的延伸方向与第二方向平行，每一列中第一单元11和第二单元12的数量和固定且均为32。

在本申请中，每一个第一单元11中具有一条或多条第一线状纹理111，每一个第二单元12中具有一条或多条第二线状纹理121。请参阅图5，为图3中虚线区域的放大图，其中第一单元11具有第一线状纹理111，第二单元12具有第二线状纹理121。可以理解的，为了方便示出第一线状纹理111和第二线状纹理121，采用黑色线段表示第一线状纹理111和第二线状纹理121，并不限制第一线状纹理111和第二线状纹理121为黑色；并且为了与图2保持一致，第一线状纹理111和第二线状纹理121未进行颜色区分。在本申请中，每一个第一单元11都具有第一线状纹理111，第一线状纹理111可以为一条，也可以为多条，不同第一单元11中的第一线状纹理111的数量可以相同也可以不同；每一个第二单元12都具有第二线状纹理121，第二线状纹理121可以为一条，也可以为多条，不同第二单元12中的第二线状纹理121的数量可以相同也可以不同。在本申请一实施例方式中，每一第一单元11中具有一条第一线状纹理111，每一第二单元12中具有一条第二线状纹理121。在本申请另一实施方式中，每一第一单元11中具有多条第一线状纹理111，且至少部分第一单元11中的第一线状纹理111的数量相同。在一实施例中，所有第一单元11中的第一线状纹理111数量相同。在本申请又一实施方式中，每一第二单元12中具有多条第二线状纹理121，且至少部分第二单元12中的第二线状纹理121的数量相同。在一实施例中，所有第二单元12中的第二线状纹理121数量相同。在另一实施例中，第一单元11中的第一线状纹理111数量与第二单元12中的第二线状纹理121数量相同。

在本申请中，第一线状纹理111的宽度为在垂直于第一线状纹理111延伸方向且平行于纹理层10表面的方向上第一线状纹理111的尺寸。在本申请实施方式中，第一线状纹理111的宽度为1μm-200μm。具体的，第一线状纹理111的宽度可以但不限于为1μm、10μm、20μm、35μm、50μm、75μm、90μm、100μm、125μm、140μm、150μm、170μm、180μm或200μm等。在一实施例中，第一线状纹理111的宽度可以为1μm-50μm。在另一实施例中，第一线状纹理111的宽度可以为10μm-100μm。在又一实施例中，第一线状纹理111的宽度可以为100μm-150μm。在又一实施例中，第一线状纹理111的宽度可以为150μm-200μm。

在本申请中，第一线状纹理111可以为凸起结构，也可以为凹陷结构，凸起结构和凹陷结构均为相对于纹理层10的表面而言的。在一实施例中，如图1所示，相对于第一表面101来说，第一线状纹理111可以为凸起结构；相对于第二表面101’来说，第一线状纹理111可以为凹陷结构。当然，纹理区中具有多个第一线状纹理111，可以全部为凸起结构，也可以全部为凹陷结构，也可以部分为凸起结构，部分为凹陷结构。在本申请中，第一线状纹理111的高度或深度为在垂直于纹理层10表面的方向上第一线状纹理111的尺寸。在本申请实施方式中，第一线状纹理111的高度或深度为1μm-15μm。可以理解的，当第一线状纹理111为凸起结构时，第一线状纹理111的高度为1μm-15μm；当第一线状纹理111为凹陷结构时，第一线状纹理111的深度为1μm-15μm。具体的，第一线状纹理111的高度或深度可以但不限于为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm或15μm等。在一实施例中，第一线状纹理111的高度或深度可以为1μm-6μm。在另一实施例中，第一线状纹理111的高度或深度可以为3μm-8μm。在又一实施例中，第一线状纹理111的高度或深度可以为10μm-15μm。在又一实施例中，第一线状纹理111的高度或深度可以为7μm-14μm。在本申请一实施方式中，当第一线状纹理111的高度或深度变化时(即第一线状纹理111的高度或深度值不固定)，上述第一线状纹理111的高度或深度范围为在垂直于纹理层10表面的方向上的第一线状纹理111的最大尺寸。

在本申请实施方式中，第一单元11具有多条间隔平行设置的第一线状纹理111。此时多条第一线状纹理111形成光栅结构，更有利于实现多光影的效果。在一实施例中，光栅结构为微纳级光栅结构。在本申请实施例中，相邻第一线状纹理111的间距为1μm-200μm。具体的，相邻第一线状纹理111的间距可以但不限于为1μm、10μm、20μm、35μm、50μm、75μm、90μm、100μm、125μm、140μm、150μm、170μm、180μm或200μm等。在一实施例中，相邻第一线状纹理111的间距可以为1μm-50μm。在另一实施例中，相邻第一线状纹理111的间距可以为10μm-100μm。在又一实施例中，相邻第一线状纹理111的间距可以为100μm-150μm。在又一实施例中，相邻第一线状纹理111的间距可以为150μm-200μm。

在本申请中，第一线状纹理111沿直线延伸，为直线型纹理；第一线状纹理111的纵截面为垂直于第一线状纹理111延伸方向上截面。在本申请实施方式中，第一线状纹理111的纵截面可以但不限于为三角形(如等腰三角形、非等腰三角形、等边三角形、非等边三角形等)、四边形(正方形、长方形、菱形、梯形、不规则四边形等)、半圆形、半椭圆形、半类圆形、马鞍形等，具体可以根据需要进行选择。通过设置不同纵截面的第一线状纹理111，可以改善在侧面视角上装饰件100的外观效果。

在本申请中，第二线状纹理121的宽度为在垂直于第二线状纹理121延伸方向且平行于纹理层10表面的方向上第二线状纹理121的尺寸。在本申请实施方式中，第二线状纹理121的宽度为1μm-200μm。具体的，第二线状纹理121的宽度可以但不限于为1μm、10μm、20μm、35μm、50μm、75μm、90μm、100μm、125μm、140μm、150μm、170μm、180μm或200μm等。在一实施例中，第二线状纹理121的宽度可以为1μm-50μm。在另一实施例中，第二线状纹理121的宽度可以为10μm-100μm。在又一实施例中，第二线状纹理121的宽度可以为100μm-150μm。在又一实施例中，第二线状纹理121的宽度可以为150μm-200μm。

在本申请中，第二线状纹理121可以为凸起结构，也可以为凹陷结构，凸起结构和凹陷结构均为相对于纹理层10的表面而言的。在一实施例中，如图1所示，相对于第一表面101来说，第二线状纹理121可以为凸起结构；相对于第二表面101’来说，第二线状纹理121可以为凹陷结构。当然，纹理区中具有多个第二线状纹理121，可以全部为凸起结构，也可以全部为凹陷结构，也可以部分为凸起结构，部分为凹陷结构。在本申请中，第二线状纹理121的高度或深度为在垂直于纹理层10表面的方向上第二线状纹理121的尺寸。在本申请实施方式中，第二线状纹理121的高度或深度为1μm-15μm。可以理解的，当第二线状纹理121为凸起结构时，第二线状纹理121的高度为1μm-15μm；当第二线状纹理121为凹陷结构时，第二线状纹理121的深度为1μm-15μm。具体的，第二线状纹理121的高度或深度可以但不限于为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm或15μm等。在一实施例中，第二线状纹理121的高度或深度可以为1μm-6μm。在另一实施例中，第二线状纹理121的高度或深度可以为3μm-8μm。在又一实施例中，第二线状纹理121的高度或深度可以为10μm-15μm。在又一实施例中，第二线状纹理121的高度或深度可以为7μm-14μm。在本申请一实施方式中，当第二线状纹理121的高度或深度变化时(即第二线状纹理121的高度或深度值不固定)，上述第二线状纹理121的高度或深度范围为在垂直于纹理层10表面的方向上的第二线状纹理121的最大尺寸。

在本申请实施方式中，第二单元12具有多条间隔平行设置的第二线状纹理121。此时多条第二线状纹理121形成光栅结构，更有利于实现多光影的效果。在一实施例中，光栅结构为微纳级光栅结构。在本申请实施例中，相邻第二线状纹理121的间距为1μm-200μm。具体的，相邻第二线状纹理121的间距可以但不限于为1μm、10μm、20μm、35μm、50μm、75μm、90μm、100μm、125μm、140μm、150μm、170μm、180μm或200μm等。在一实施例中，相邻第二线状纹理121的间距可以为1μm-50μm。在另一实施例中，相邻第二线状纹理121的间距可以为10μm-100μm。在又一实施例中，相邻第二线状纹理121的间距可以为100μm-150μm。在又一实施例中，相邻第二线状纹理121的间距可以为150μm-200μm。

在本申请中，第二线状纹理121沿直线延伸，为直线型纹理；第二线状纹理121的纵截面为垂直于第二线状纹理121延伸方向上截面。在本申请实施方式中，第二线状纹理121的纵截面可以但不限于为三角形(如等腰三角形、非等腰三角形、等边三角形、非等边三角形等)、四边形(正方形、长方形、菱形、梯形、不规则四边形等)、半圆形、半椭圆形、半类圆形、马鞍形等，具体可以根据需要进行选择。通过设置不同纵截面的第二线状纹理121，可以改善在侧面视角上装饰件100的外观效果。

在本申请中，每一个第一单元11中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ，每一个第二单元12中的第二线状纹理121与第一方向的夹角为δ。在一实施例中，图5中示出了γ和δ。在本申请中，第一线状纹理111与第一方向的夹角度数和第二线状纹理121与第一方向的夹角度数可以部分相同，部分不同，也可以全部不同。在一实施例中，如图3所示且按照图3的方位，最上方的第一行中从左到右依次为第一单元A32-1、第二单元B32-2、第一单元A32-3、第二单元B32-4、第一单元A32-5、第二单元B32-6、第一单元A32-7、第二单元B32-8、第一单元A32-9、第二单元B32-10、第一单元A32-11、第二单元B32-12、第一单元A32-13、第二单元B32-14、第一单元A32-15、第二单元B32-16；其中第一单元A32-1中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-1，第一单元A32-3中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-3，第一单元A32-5中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-5，第一单元A32-7中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-7，第一单元A32-9中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-9，第一单元A32-11中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-11，第一单元A32-13中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-13，第一单元A32-15中的第一线状纹理111与第一方向的夹角为γ_32-15，沿第一方向上多个第一单元11中的γ逐渐变化，即为γ_32-1、γ_32-3、γ_32-5、γ_32-7、γ_32-9、γ_32-11、γ_32-13、γ_32-15的角度逐渐变化；类似的，第二单元B32-2至第二单元B32-16中的第二线状纹理121与第一方向的夹角依次为δ_32-2、δ_32-4、δ_32-6、δ_32-8、δ_32-10、δ_32-12、δ_32-14、δ_32-16，沿第一方向上多个第二单元12中的δ逐渐变化，即为δ_32-2、δ_32-4、δ_32-6、δ_32-8、δ_32-10、δ_32-12、δ_32-14、δ_32-16的角度逐渐变化。在另一实施例中，如图3所示且按照图3的方位，最左侧的第一列中从上至下依次为第一单元A32-1、第二单元B31-1、第一单元A30-1、第二单元B29-1、……、第一单元A4-1、第二单元B3-1、第一单元A2-1、第二单元B1-1；其中第一单元A2-1至第一单元A32-1中的第一线状纹理111与第一方向的夹角依次为γ_2-1、γ_4-1、……、γ_30-1、γ_32-1，沿第二方向上多个第一单元11中的γ按第一函数关系式变化，即为γ_2-1、γ_4-1、……、γ_30-1、γ_32-1的角度变化符合第一函数关系式；类似的，第二单元B1-1至第二单元B31-1中的第二线状纹理121与第一方向的夹角依次为δ_1-1、δ_3-1、……、δ_29-1、δ_31-1，沿第二方向上多个第二单元12中的δ逐渐变化，即为δ_1-1、δ_3-1、……、δ_29-1、δ_31-1的角度变化符合第二函数关系式。

在本申请中，第一线状纹理111或第二线状纹理121与第一方向的夹角可以为0°，也可以为锐角，还可以为钝角，亦或是180°，对此不作限定。在本申请实施方式中，以第一线状纹理111与第一方向的锐角夹角或零度夹角作为夹角γ，以第二线状纹理121与第一方向的锐角夹角或零度夹角作为夹角δ。在本申请实施例中，γ的绝对值为0°-90°。也就是说，γ可以为正数也可以为负数。具体的，γ的绝对值可以但不限于为0°、10°、20°、30°、45°、50°、60°、70°、80°或90°等。在一实施例中，γ的绝对值为30°-60°。如此有利于实现更加细腻的螺旋多光影效果。在本申请实施例中，δ的绝对值为0°-90°。也就是说，δ可以为正数也可以为负数。具体的，δ的绝对值可以但不限于为0°、10°、20°、30°、45°、50°、60°、70°、80°或90°等。在一实施例中，δ的绝对值为30°-60°。如此有利于实现更加细腻的螺旋多光影效果。

在本申请中，以第一方向逆时针旋转至第一线状纹理111形成的夹角γ记为正角，即此时γ角度为正数；以第一方向顺时针旋转至第一线状纹理111形成的夹角γ记为负角，即此时γ角度为负数；以第一方向逆时针旋转至第二线状纹理121形成的夹角δ记为正角，即此时δ角度为正数；以第一方向顺时针旋转至第二线状纹理121形成的夹角δ记为负角，即此时δ角度为负数。举例来说，如图5中所示的γ为第一方向顺时针旋转至第一线状纹理111形成，因此γ角度为负数；如图5中所示的δ为第一方向顺时针旋转至第二线状纹理121形成，因此γ角度为负数。

在本申请实施方式中，沿第一方向上，第一线状纹理111与第一方向的夹角从γ逐渐变为-γ。也就是说，沿第一方向上，第一线状纹理111与第一方向的夹角从正数变为负数，或从负数变为正数。在一实施例中，γ的绝对值大于0°且小于或等于90°。在另一实施例中，γ的绝对值为30°-60°。在本申请实施方式中，沿第一方向上，第二线状纹理121与第一方向的夹角从δ逐渐变为-δ。也就是说，沿第一方向上，第二线状纹理121与第一方向的夹角从正数变为负数，或从负数变为正数。在一实施例中，δ的绝对值大于0°且小于或等于90°。在另一实施例中，δ的绝对值为30°-60°。

在本申请实施方式中，沿第一方向上，第一单元11和第二单元12交替排布设置形成行区域，纹理区中具有多个平行设置的行区域。在一实施例中，沿第一方向上，多个行区域中的其中一个行区域内的第一单元11中的第一线状纹理111与第一方向的夹角从γ逐渐变为-γ。在另一实施例中，沿第一方向上，多个行区域中的其中一个行区域内的第二单元12中的第一线状纹理111与第一方向的夹角从δ逐渐变为-δ。在又一实施例中，沿第一方向上，多个行区域中的其中一个行区域内的第一单元11中的第一线状纹理111与第一方向的夹角从γ逐渐变为-γ，该行区域内的第二单元12中的第一线状纹理111与第一方向的夹角从δ逐渐变为-δ。举例来说，如图3所示，从上到下，纹理区包括了32行，每一行为一个行区域，即纹理区包括了32个行区域(从上到下依次为第一个行区域、第二个行区域、……、第三十一个行区域、第三十二个行区域)；例如，第三十二个行区域中第一单元11的第一线状纹理111与第一方向的夹角从γ逐渐变为-γ；例如，第一个行区域中第二单元12的第二线状纹理121与第一方向的夹角从δ逐渐变为-δ等。可以理解的，上述仅为举例说明，并不表示图3中第一个行区域、第三十二个行区域中第一线状纹理111、第二线状纹理121与第一方向的实际夹角变化。

在本申请实施方式中，第一函数关系式为：γ＝J₁-2J₁[a₁+A₁·cos(-π+2πb₁/N_Y)]/N_X，其中，以第一方向和第二方向为X轴和Y轴，以多个第一单元11和多个第二单元12中的其中一个为原点建立坐标系，a₁为第一单元11在X轴上的坐标值，b₁为第一单元11在Y轴上的坐标值；A₁为振幅，N_X为纹理区在X轴上的第一单元11和第二单元12的数量和，N_Y为纹理区在Y轴上的第一单元11和第二单元12的数量和，J₁的绝对值大于0°且小于或等于90°。在本申请中，沿第二方向上，第一单元11中第一线状纹理111与第一方向的夹角γ按第一函数关系式变化，有利于实现更加丰富的明暗光影效果。

在本申请中，J₁为常数，影响螺旋光影的强弱程度，可以根据需要选择，J₁的绝对值大于0°且小于或等于90°，即J₁可以为正数，也可以为负数。具体的，J₁的绝对值可以但不限于为10°、20°、30°、45°、50°、60°、70°、80°或90°等。在本申请实施例中，J₁的绝对值为30°-60°。如此有利于获得较为明显的螺旋光影效果。

在第一函数关系式中，以第一方向和第二方向为X轴和Y轴，以多个第一单元11和多个第二单元12中的其中一个为原点建立坐标系，其中一个单元为一个坐标点。也就是说，第一方向和第二方向中的其中一个为X轴，另一个为Y轴，多个第一单元11和第二单元12中任选一个单元作为原点。在一实施例中，请参阅图3，以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，那么第一单元A1-2的坐标为(1,0)，即计算第一单元A1-2中第一线状纹理111与第一方向的夹角时，第一函数关系式中的a₁为1，b₁为0；第一单元A32-15的坐标为(14,31)，即计算第一单元A32-15中第一线状纹理111与第一方向的夹角时，第一函数关系式中的a₁为14，b₁为31。如上所述，可以根据坐标系获得每一个第一单元11的坐标值。

在本申请中，通过设定A₁值可以调节螺旋光影的强弱程度。在本申请实施例中，纹理区在第一方向上的尺寸为W，A₁为W/10-W/2。如此使得第二方向上夹角γ的变化更加缓和，装饰件100表面的螺旋效果更加明显，光影美感更佳。具体的，A₁可以但不限于为W/10、W/9、W/8、W/7、W/6、W/5、W/4、W/3或W/2等。如图3所示，纹理区在第一方向上的尺寸即为纹理区的宽度；在本申请中，纹理区的宽度的单位为厘米。在一实施例中，A₁为W/8-W/4。进一步提高螺旋光影效果。

在本申请中，N_X为纹理区在X轴上的第一单元11和第二单元12的数量和，N_Y为纹理区在Y轴上的第一单元11和第二单元12的数量和。在一实施例中，请参阅图3，以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，那么N_X为16，N_Y为32。在第一函数关系式和第二函数关系中N_X、N_Y相同。

在本申请实施方式中，第二函数关系式为：δ＝J₂-2J₂[a₂+A₂·sin(-π+2πb₂/N_Y)]/N_X，其中，以第一方向和第二方向为X轴和Y轴，以多个第一单元11和多个第二单元12中的其中一个为原点建立坐标系，a₂为第二单元12在X轴上的坐标值，b₂为第二单元12在Y轴上的坐标值；A₂为振幅，N_X为纹理区在X轴上的第一单元11和第二单元12的数量和，N_Y为纹理区在Y轴上的第一单元11和第二单元12的数量和，J₂的绝对值大于0°且小于或等于90°。

在本申请中，J₂为常数，影响螺旋光影的强弱程度，可以根据需要选择，J₂的绝对值大于0°且小于或等于90°，即J₂可以为正数，也可以为负数。具体的，J₂的绝对值可以但不限于为10°、20°、30°、45°、50°、60°、70°、80°或90°等。在本申请实施例中，J₂的绝对值为30°-60°。如此有利于获得较为明显的螺旋光影效果。

在第二函数关系式中，以第一方向和第二方向为X轴和Y轴，以多个第一单元11和多个第二单元12中的其中一个为原点建立坐标系，其中一个单元为一个坐标点。也就是说，第一方向和第二方向中的其中一个为X轴，另一个为Y轴，多个第一单元11和第二单元12中任选一个单元作为原点。在一实施例中，请参阅图3，以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，那么第二单元B1-1的坐标为(0,0)，即计算第二单元B1-1中第二线状纹理121与第一方向的夹角时，第二函数关系式中的a₂为0，b₂为0；第二单元B32-2的坐标为(1,31)，即计算第二单元B32-2中第二线状纹理121与第一方向的夹角时，第二函数关系式中的a₂为1，b₂为31。如上所述，可以根据坐标系获得每一个第二单元12的坐标值。可以理解的，可以选择纹理区中任一个单元作为原点，第一函数关系式和第二函数关系式独立地选择X轴方向、Y轴方向和原点，第一函数关系式和第二函数关系式选择的X轴方向、Y轴方向或原点可以相同，也可以不同。在本申请实施方式中，第一函数关系式和第二函数关系式中采用相同的X轴、Y轴和原点，如此有利于在装饰件100表面形成较为规整的螺旋多光影纹理效果。

在本申请中，通过设定A₂值可以调节螺旋光影的强弱程度。在本申请实施例中，纹理区在第一方向上的尺寸为W，A₂为W/10-W/2。如此使得第二方向上夹角δ的变化更加缓和，装饰件100表面的螺旋效果更加明显，光影美感更佳。具体的，A₂可以但不限于为W/10、W/9、W/8、W/7、W/6、W/5、W/4、W/3或W/2等。在一实施例中，A₂为W/8-W/4。进一步提高螺旋光影效果。在本申请中，A₁和A₂可以相同，也可以不同。在一实施例中，A₁和A₂相同，有利于实现较为对称的螺旋纹理。

在本申请一实施例中，如图3所示，以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，第一函数式中J₁为45°，A₁为W/6，第二函数式中J₂为45°，A₂为W/6，N_X为160，N_Y为340，W为80；同时设定沿第一方向上，第二单元B1-1至第二单元B1-15中第二线状纹理121与第一方向夹角从45°逐渐变为0°，再变为-45°；沿第一方向上，第一单元A1-2至第二单元A1-16中第一线状纹理111与第一方向夹角从50°逐渐变为-30°；根据上述函数式即可得到图3中第一单元11中第一线状纹理111、第二单元12中第二线状纹理121的延伸方向。可以理解的，N_X为160，N_Y为340，即整个纹理区的单元格具有160列、340行，图3中仅示出了其中的一部分。

请参阅图6，为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图，其与图3大致相同，不同之处在于仅示出了装饰件100中第一单元11内第一线状纹理111的分布情况，其中以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，第一函数式中J₁为45°，A₁为W/6，N_X为160，N_Y为340，W为80；同时设定沿第一方向上，第一单元A1-2至第二单元A1-16中第一线状纹理111与第一方向夹角从50°逐渐变为-30°，沿第二方向上第一单元11中的γ按第一函数关系式变化。请参阅图7，为本申请一实施方式提供的多个第一单元中第一线状纹理的分布图，其与图6的不同之处在于每一个第一单元11中具有一条第一线状纹理111，第一单元11和第二单元12的背景色均为黑色，其中白色的第一线状纹理111仅为了便于观察；可以看出第一线状纹理111与第一方向的夹角不断变化，从而形成流动的视觉效果。

请参阅图8，为本申请又一实施方式提供的装饰件的俯视图，其与图3大致相同，不同之处在于仅示出了装饰件100中第二单元12内第二线状纹理121的分布情况，其中以第一方向为X轴，以第二方向为Y轴，以第二单元B1-1作为原点建立坐标系，第二函数式中J₂为45°，A₂为W/6，N_X为160，N_Y为340，W为80；同时设定沿第一方向上，第二单元B1-1至第二单元B1-15中第二线状纹理121与第一方向夹角从45°逐渐变为0°，再变为-45°，沿第二方向上第二单元12中的δ按第二函数关系式变化。请参阅图9，为本申请一实施方式提供的多个第二单元中第二线状纹理的分布图，其与图8的不同之处在于每一个第二单元12中具有一条第二线状纹理121，第一单元11和第二单元12的背景色均为黑色，其中白色的第二线状纹理121仅为了便于观察；可以看出第二线状纹理121与第一方向的夹角不断变化，从而形成流动的视觉效果。

在本申请实施方式中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度不变。也就是说，当第一线状纹理111为凸起结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，该第一线状纹理111的高度不变；当第一线状纹理111为凹陷结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，该第一线状纹理111的深度不变。请参阅图10和图11，图10为本申请一实施方式提供的第一单元的俯视图，图11为图10中第一线状纹理的结构示意图，其中图10中的白色线表示第一线状纹理111；可以看出第一线状纹理111为凸起结构，且沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度不变。

在本申请实施方式中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度逐渐变化。也就是说，当第一线状纹理111为凸起结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，该第一线状纹理111的高度逐渐变化；当第一线状纹理111为凹陷结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，该第一线状纹理111的深度逐渐变化。通过调整第一线状纹理111高度或深度的变化，从而进一步改善螺旋多光影效果；同时可以使第一单元11在视觉效果上呈现颗粒感，提升装饰件100的外观效果。在本申请一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度先增加后减小。也就是说，当第一线状纹理111为凸起结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度先升高后降低；当第一线状纹理111为凹陷结构时，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的深度先加深再变浅。如此有利于避免摩尔纹的出现，提高装饰件100的外观效果。在一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度可以从0开始增加，然后再减小至0。具体的，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度可以从0开始增加至1μm-15μm，然后再减小至0。在一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度先增加后减小，且高度最高点为第一线状纹理111的中心点。在本申请另一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度呈线性变化或非线性变化。在一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度呈线性变化。例如，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度按照第一一次函数增加，然后再按照第二一次函数减小。在另一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度呈非线性变化。例如，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度按照第一二次函数增加，然后再按照第二二次函数减小；具体的，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度可以呈抛物线状变化。在本申请又一实施例中，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度或深度按线性变化或非线性变化的方式先增加后减小。

在本申请实施方式中，第一单元11具有多条平行设置的第一线状纹理111，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度逐渐变化。也就是说，当第一线状纹理111为凸起结构时，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度逐渐变化；当第一线状纹理111为凹陷结构时，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的深度逐渐变化。通过调整第一线状纹理111高度或深度的变化，从而进一步改善螺旋多光影效果。在本申请一实施例中，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度先增加后减小。也就是说，当第一线状纹理111为凸起结构时，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度先升高后降低；当第一线状纹理111为凹陷结构时，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的深度先加深再变浅。如此有利于避免摩尔纹的出现，提高装饰件100的外观效果。在本申请另一实施例中，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度呈线性变化或非线性变化。在一实施例中，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度呈线性变化。例如，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度按照第一一次函数增加，然后再按照第二一次函数减小。在另一实施例中，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度呈非线性变化。例如，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度按照第一二次函数增加，然后再按照第二二次函数减小；具体的，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度可以呈抛物线状变化。在本申请又一实施例中，沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度或深度按线性变化或非线性变化的方式先增加后减小。请参阅图12，为本申请另一实施方式提供的第一单元的俯视图，其中图12中的白色线表示第一线状纹理，第一线状纹理111为凸起结构，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度按照线性变化先增加后减少；沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度按照线性变化先增加后减少。如此设置有利于避免装饰件100表面摩尔纹的产生。请参阅图13和图14，图13为本申请又一实施方式提供的第一单元的俯视图，图14为图13中第一线状纹理的结构示意图，其中图13中的白色线表示第一线状纹理111；可以看出第一线状纹理111为凸起结构，沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少。如此设置有利于避免装饰件100表面摩尔纹的产生。

在本申请实施方式中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度不变。也就是说，当第二线状纹理121为凸起结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，该第二线状纹理121的高度不变；当第二线状纹理121为凹陷结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，该第二线状纹理121的深度不变。在一实施例中，第二线状纹理121为凸起结构，且沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度不变，此时第二单元12的俯视图和第二线状纹理121结构示意图与图10、图11相似，在此不再示出。

在本申请实施方式中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度逐渐变化。也就是说，当第二线状纹理121为凸起结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，该第二线状纹理121的高度逐渐变化；当第二线状纹理121为凹陷结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，该第二线状纹理121的深度逐渐变化。通过调整第二线状纹理121高度或深度的变化，从而进一步改善螺旋多光影效果；同时可以使第二单元12在视觉效果上呈现颗粒感，提升装饰件100的外观效果。在本申请一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度先增加后减小。也就是说，当第二线状纹理121为凸起结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度先升高后降低；当第二线状纹理121为凹陷结构时，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的深度先加深再变浅。如此有利于避免摩尔纹的出现，提高装饰件100的外观效果。在一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度可以从0开始增加，然后再减小至0。具体的，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度可以从0开始增加至1μm-15μm，然后再减小至0。在一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度先增加后减小，且高度最高点为第二线状纹理121的中心点。在本申请另一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度呈线性变化或非线性变化。在一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度呈线性变化。例如，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度按照第一一次函数增加，然后再按照第二一次函数减小。在另一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度呈非线性变化。例如，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度按照第一二次函数增加，然后再按照第二二次函数减小；具体的，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度可以呈抛物线状变化。在本申请又一实施例中，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度或深度按线性变化或非线性变化的方式先增加后减小。

在本申请实施方式中，第二单元12具有多条平行设置的第二线状纹理121，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度逐渐变化。也就是说，当第二线状纹理121为凸起结构时，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度逐渐变化；当第二线状纹理121为凹陷结构时，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的深度逐渐变化。通过调整第二线状纹理121高度或深度的变化，从而进一步改善螺旋多光影效果。在本申请一实施例中，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度先增加后减小。也就是说，当第二线状纹理121为凸起结构时，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度先升高后降低；当第二线状纹理121为凹陷结构时，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的深度先加深再变浅。如此有利于避免摩尔纹的出现，提高装饰件100的外观效果。在本申请另一实施例中，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度呈线性变化或非线性变化。在一实施例中，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度呈线性变化。例如，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度按照第一一次函数增加，然后再按照第二一次函数减小。在另一实施例中，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度呈非线性变化。例如，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度按照第一二次函数增加，然后再按照第二二次函数减小；具体的，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度可以呈抛物线状变化。在本申请又一实施例中，沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度或深度按线性变化或非线性变化的方式先增加后减小。在一具体实施例中，第二线状纹理121为凸起结构，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度按照线性变化先增加后减少；沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度按照线性变化先增加后减少；此时第二单元12的俯视图与图12相似，在此不再示出。在另一具体实施例中，第二线状纹理121为凸起结构，沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度呈抛物线状先增加后减少；此时第二单元12的俯视图和第二线状纹理121结构示意图与图13、图14相似，在此不再示出。

请参阅图15，为本申请一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图，其中第一线状纹理111和第二线状纹理121为凸起结构；沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少；沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的高度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的高度呈抛物线状先增加后减少。

请参阅图16，为本申请另一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图，其中第一线状纹理111和第二线状纹理121为凹陷结构；沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的深度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的深度呈抛物线状先增加后减少；沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的深度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的深度呈抛物线状先增加后减少。

请参阅图17，为本申请又一实施方式提供的第一线状纹理和第二线状纹理的结构示意图，其中第一线状纹理111为凸起结构，第二线状纹理121为凹陷结构；沿第一线状纹理111的延伸方向上，第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第一线状纹理111延伸方向的方向上，多条第一线状纹理111的高度呈抛物线状先增加后减少；沿第二线状纹理121的延伸方向上，第二线状纹理121的深度呈抛物线状先增加后减少；沿垂直于第二线状纹理121延伸方向的方向上，多条第二线状纹理121的深度呈抛物线状先增加后减少。

在本申请中，对基材20的材质和厚度不作特别要求，可以根据装饰件100的使用需求进行选择。在一实施例中，基材20的材质可以包括塑胶、金属、陶瓷、玻璃中的至少一种。具体的，基材20的材质可以但不限于包括强化玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。在一实施例中，在一实施例中，基材20的厚度可以为1mm-10mm；既能够起到承载作用，又不会过多增加装饰件100的厚度，有利于装饰件100的使用。

在本申请实施方式中，装饰件100还包括颜色层。在本申请中，颜色层的颜色可以但不限于为白色、黑色、灰色、红色、黄色、绿色等，具体的颜色可以根据需要进行选择；颜色层高可以为透光层，也可以为不透光层(如盖底层等)，可以根据需要进行选择。在一实施例中，可以但不限于通过丝印油墨的方式形成颜色层。在本申请实施方式中，装饰件100还包括光学膜层。通过设置光学膜层可以进一步改善装饰件100的光影流动效果。在本申请中，光学膜层的材质可以但不限于为二氧化硅、二氧化钛、二氧化铌、五氧化二铌、铟、锡等。在一实施例中，可以但不限于通过沉积的方式在装饰件100表面形成光学膜层。在本申请中，颜色层和光学膜层可以设置在纹理层10远离基材层20的一侧表面，也可以设置在基材层20远离纹理层10的一侧表面。

本申请提供的装饰件100中第一线状纹理111、第二线状纹理121与第一方向的夹角发生变化，从而使得装饰件100呈现螺旋多光影的外观效果，并且装饰件100具有明暗视觉区，使得装饰件100外观更具层次感和立体感。

本申请还提供了一种装饰件100的制备方法，包括通过转印、刻蚀和热压成型中的至少一种方法形成上述任一实施方式中的装饰件100。本申请提供的制备方法简单，操作方便，有利于装饰件100的应用。

在本申请一实施方式中，装饰件100的制备方法包括：在模具上制作出预设纹理形成纹理母版；在基材20的表面涂覆光固化胶后，将纹理母版表面的预设纹理转印至光固化胶表面并经固化后形成纹理层10，得到装饰件100；其中装饰件100表面纹理区的纹理与预设纹理相对应。其中，纹理层10的材质为塑胶材质。

在本申请一实施方式中，装饰件100的制备方法包括：在模具上制作出预设纹理形成纹理母版；通过转印的方式，将纹理母版的预设纹理转印至塑料模板表面；在基材20的表面涂覆光固化胶后，将塑料模板表面的纹理转印至光固化胶表面并经固化后在基材20表面形成纹理层10，得到装饰件100；其中装饰件100表面纹理区的纹理与预设纹理相同。如此有利于对纹理母版的保护。在一具体实施例中，纹理母版表面的预设纹理的线宽可以为48μm-52μm，预设纹理的高度沿预设纹理的延伸方向先增加后减小，预设纹理的高度为0μm-8μm，预设纹理的纵截面为半圆形。在一实施例中，通过灰度曝光、显影等工艺做成纹理母版，然后经过抗粘、紫外光固化胶转印等工艺做成聚碳酸酯塑料模板，再经过UV转印工艺将聚碳酸酯塑料模板表面的纹理转印至到聚对苯二甲酸乙二醇酯膜表面，在基材20表面形成纹理层10，得到装饰件100。在另一实施例中，通过灰度曝光、显影等工艺做成纹理母版，然后经过抗粘、紫外光固化胶转印等工艺做成聚碳酸酯塑料模板，再经过UV转印工艺将聚碳酸酯塑料模板表面的纹理转印至到基材20(层叠设置的聚碳酸酯膜和聚甲基丙烯酸甲酯膜)的表面，在基材20表面形成纹理层10，得到装饰件100。在又一实施例中，通过灰度曝光、显影等工艺做成纹理母版，然后经过抗粘、紫外光固化胶转印等工艺做成GDM(Glass Direct UVMolding)工艺模具，聚碳酸酯塑料模板，再经过GDM工艺将GDM工艺模具上的纹理转印到基材20(玻璃材质)的表面，形成纹理层10，得到装饰件100。在一实施例中，将装饰件100纹理区所需的纹理图案生成纹理数据；根据纹理数据，在涂覆有光刻胶的基板上进行光刻曝光，经过显影、烘干、抗粘处理后，制成纹理母版；将纹理母版放置于模具复制机上，涂覆紫外光固化胶，将塑料板(如PET板、PC板、PC和PMMA复合板等)置于母模上，辊压转印后用紫外线固化，揭开脱模后得到塑料模板；将塑料模板放置于UV转印机上，涂覆紫外光固化胶，将基材20置于塑料模板上，辊压转印后用紫外线固化，揭开脱模后在基材20表面形成纹理层10，得到装饰件100。

在本申请一实施方式中，装饰件100的制备方法包括：在模具内壁上制作出预设纹理形成纹理模具；利用纹理模具对衬底进行热压成型，同时在衬底表面形成纹理区，得到装饰件100。具体的，衬底的材质可以但不限于为玻璃、塑胶等，如强化玻璃、PET、PC、PMMA等。可以理解的，该方法制得的装饰件100中，基材20即为热压成型前衬底的一部分，纹理层10即为形成有纹理区的一部分衬底，通过热压可以一体成型基材20和纹理层10，从而得到装饰件100，基材20和纹理层10之间并没有实质的分界线，仅为人为划分。

在本申请一实施方式中，可以通过刻蚀的方式在衬底表面形成纹理区，得到装饰件100。具体的，衬底的材质可以但不限于为玻璃、塑胶、陶瓷、金属等。在一实施例中，可以通过物理刻蚀或化学刻蚀的方式，在衬底表面形成纹理区；例如通过激光刻蚀、化学试剂刻蚀等。可以理解的，该方法制得的装饰件100中，基材20即为刻蚀前衬底的一部分，纹理层10即为刻蚀后形成有纹理区的一部分衬底，通过刻蚀可以一体成型基材20和纹理层10，从而得到装饰件100，基材20和纹理层10之间并没有实质的分界线，仅为人为划分。

本申请提供了一种壳体200，包括上述任一实施方式中的装饰件100。通过设置装饰件100可以显著提升壳体200的外观效果，提高产品竞争力。请参阅图18，为本申请一实施方式提供的壳体的示意图，其与图3中的纹理具有相同的变化方式，在视觉上壳体200呈现多条曲线形成螺旋结构，并且具有多个明亮区域和多个暗区域，壳体200具有明暗变化的外观效果，层次感和颗粒质感强烈，极大地丰富了壳体200的外观效果。

在本申请一实施方式中，壳体200为装饰件100；也就是说，装饰件100不仅起到装饰作用，还起到结构件的作用。具体的，通过设置装饰件的材质、厚度等，以满足壳体200的使用要求。在本申请另一实施方式中，壳体200包括壳体基体以及设置在壳体基体表面的装饰件100。在本申请中，壳体基体的材质可以但不限于为玻璃、塑胶、陶瓷、金属等。上述壳体基体既能够满足壳体200的机械性能要求，同时又有利于于壳体200在电子设备300中的使用。在本申请中，可以根据所需的壳体200外形，对装饰件100的外形进行加工，如通过计算机数字控制机床(CNC)进行加工，也可以通过激光切割进行加工等。在一实施例中，可以在基材20表面形成纹理层10，然后通过沉积形成光学膜层，并通过丝印形成颜色层，获得装饰件100；对装饰件100进行激光切割后贴合在壳体基体的表面形成壳体200。在另一实施例中，可以在基材20表面形成纹理层10，然后通过沉积形成光学膜层，并通过丝印形成颜色层，获得装饰件100；对装饰件100进行热压成型后贴合在壳体基体的表面形成壳体200。

本申请提供了一种电子设备300，包括上述任一实施方式中的壳体200。在本申请中，电子设备300可以但不限于为手机、电脑、可穿戴设备(如手表、手环、眼镜等)、相机等。请参阅图19，为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图，电子设备300包括壳体200以及与壳体200连接的显示装置。具有该壳体200的电子设备300具有螺旋多光影的外观效果，避免了同质化，提高了产品竞争力。

以上所述实施方式仅表达了本发明的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请设计构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本申请的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (20)

1.一种装饰件，其特征在于，所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层的表面具有纹理区，所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元，所述第一单元和所述第二单元交替设置，每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理，每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理，

每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ，每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ，

沿所述第一方向上，多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化，多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化，

沿第二方向上，多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化，多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化，所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

2.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第一函数关系式为：

γ＝J₁-2J₁[a₁+A₁·cos(-π+2πb₁/N_Y)]/N_X，

其中，以所述第一方向和所述第二方向为X轴和Y轴，以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系，所述a₁为所述第一单元在所述X轴上的坐标值，所述b₁为所述第一单元在所述Y轴上的坐标值；所述A₁为振幅，所述N_X为所述纹理区在所述X轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述N_Y为所述纹理区在所述Y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述J₁的绝对值大于0°且小于或等于90°；

优选的，所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为W，所述A₁为W/10-W/2；

优选的，所述J₁的绝对值为30°-60°。

3.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第二函数关系式为：

δ＝J₂-2J₂[a₂+A₂·sin(-π+2πb₂/N_Y)]/N_X，

其中，以所述第一方向和所述第二方向为X轴和Y轴，以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系，所述a₂为所述第二单元在所述X轴上的坐标值，所述b₂为所述第二单元在所述Y轴上的坐标值；所述A₂为振幅，所述N_X为所述纹理区在所述X轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述N_Y为所述纹理区在所述Y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和，所述J₂的绝对值大于0°且小于或等于90°；

优选的，所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为W，所述A₂为W/10-W/2；

优选的，所述J₂的绝对值为30°-60°。

4.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

5.如权利要求4所述的装饰件，其特征在于，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

6.如权利要求4所述的装饰件，其特征在于，沿所述第一线状纹理的延伸方向上，所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

7.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第一单元具有多条平行设置的所述第一线状纹理，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

8.如权利要求7所述的装饰件，其特征在于，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

9.如权利要求7所述的装饰件，其特征在于，沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

10.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

11.如权利要求10所述的装饰件，其特征在于，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

12.如权利要求10所述的装饰件，其特征在于，沿所述第二线状纹理的延伸方向上，所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

13.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第二单元具有多条平行设置的所述第二线状纹理，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

14.如权利要求13所述的装饰件，其特征在于，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

15.如权利要求13所述的装饰件，其特征在于，沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上，多条所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

16.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述γ的绝对值为0°-90°；

优选的，所述γ的绝对值为30°-60°；

所述δ的绝对值为0°-90°；

优选的，所述δ的绝对值为30°-60°。

17.如权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第一线状纹理的宽度为1μm-200μm，高度或深度为1μm-15μm；

所述第一单元具有多条平行设置的所述第一线状纹理，相邻所述第一线状纹理的间距为1μm-200μm；

所述第二线状纹理的宽度为1μm-200μm，高度或深度为1μm-15μm；

所述第二单元具有多条平行设置的所述第二线状纹理，相邻所述第二线状纹理的间距为1μm-200μm；

所述第一单元的横向尺寸为0.1mm-10mm；

所述第二单元的横向尺寸为0.1mm-10mm。

18.一种装饰件的制备方法，其特征在于，包括：

通过转印、刻蚀和热压成型中的至少一种方法形成装饰件，所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层的表面具有纹理区，所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元，所述第一单元和所述第二单元交替设置，每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理，每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理，每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ，每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ，沿所述第一方向上，多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化，多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化，沿第二方向上，多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化，多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化，所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

19.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括权利要求1-17任一项所述的装饰件。

20.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求19所述的壳体。