CN117784300A - 一种微透镜阵列母模转印方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种微透镜阵列母模转印方法，包括如下步骤：步骤S10，制作微透镜阵列母模，所述微透镜阵列母模的一侧设有凸起阵列，所述凸起阵列与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致；步骤S20，采用纳米压印技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，所述微透镜阵列子模的一侧具有与所述凸起阵列吻合的凹槽阵列；步骤S30，通过微透镜阵列子模纳米压印制作微透镜阵列。本发明延长了微透镜阵列母模的使用期限，从而降低了纳米压印加工成本。
Description
技术领域
本发明涉及微透镜阵列技术领域，具体涉及一种微透镜阵列母模转印方法。
背景技术
微透镜阵列是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列，它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。
制作微透镜阵列的技术一般有直写技术、光刻胶热熔技术、灰度光刻技术和纳米压印技术等，其中直写技术的设备价格较高，光刻胶热熔技术的可重复性较低，灰度光刻技术加工周期长、成本较高，而纳米压印技术具有精度较高、工艺简单、成本较低的优点，适合规模化生产。
目前，采用纳米压印制造微透镜阵列时，是通过微透镜阵列母模直接纳米压印制作微透镜阵列，微透镜阵列母模多次使用后需要更换，这样会缩短母模的使用寿命，从而提高纳米压印加工成本。
发明内容
针对现有技术中的缺陷，本发明提供了一种微透镜阵列母模转印方法，以延长微透镜阵列母模的使用期限，从而降低纳米压印加工成本。
本发明提供了一种微透镜阵列母模转印方法，包括如下步骤：
步骤S10，制作微透镜阵列母模，所述微透镜阵列母模的一侧设有凸起阵列，所述凸起阵列与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致；
步骤S20，采用纳米压印技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，所述微透镜阵列子模的一侧具有与所述凸起阵列吻合的凹槽阵列；
步骤S30，通过微透镜阵列子模纳米压印制作微透镜阵列。
进一步地，所述微透镜阵列母模的材质为金属、玻璃或者硅。
进一步地，所述微透镜阵列子模的材质为PMMA。
进一步地，所述微透镜阵列为正交排布或蜂窝排布。
进一步地，所述微透镜为球面透镜或非球面透镜。
本发明的有益效果体现在：
由于微透镜阵列母模的成本较高，本发明将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，再通过微透镜阵列子模制作微透镜阵列，一个微透镜阵列母模可以转印n个微透镜阵列子模，一个微透镜阵列子模可以制作m个微透镜阵列，这样一个微透镜阵列母模就可以制作n*m个微透镜阵列，这样延长了微透镜阵列母模的使用期限，从而降低了纳米压印加工成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
图1为本发明实施例工艺流程图；
图2为本发明实施例中微透镜阵列母模的结构示意图；
图3为本发明实施例中微透镜阵列子模的结构示意图。
附图中，100-微透镜阵列母模；110-凸起阵列；200-微透镜阵列子模；210-凹槽阵列。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本发明的保护范围。
如图1-图3所示，本发明实施例提供了一种微透镜阵列母模100转印方法，包括如下步骤：
步骤S10，制作微透镜阵列母模100，所述微透镜阵列母模100的一侧设有凸起阵列110，所述凸起阵列110与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致，本实施例中微透镜阵列母模100的材质包括但不限于金属、玻璃或者硅。
步骤S20，采用纳米压印技术将微透镜阵列母模100转印成微透镜阵列子模200，所述微透镜阵列子模200的一侧具有与所述凸起阵列110吻合的凹槽阵列210，本实施例中微透镜阵列子模200的材质包括但不限于PMMA；
步骤S30，通过微透镜阵列子模200纳米压印制作微透镜阵列。
本实施例中的所述微透镜阵列为正交排布或蜂窝排布，所述微透镜为球面透镜或非球面透镜。
由于微透镜阵列母模100的成本较高，本发明将微透镜阵列母模100转印成微透镜阵列子模200，再通过微透镜阵列子模200制作微透镜阵列，一个微透镜阵列母模100可以转印n个微透镜阵列子模200，一个微透镜阵列子模200可以制作m个微透镜阵列，这样一个微透镜阵列母模100就可以制作n*m个微透镜阵列，这样延长了微透镜阵列母模100的使用期限，从而降低了纳米压印加工成本。
最后应说明的是，以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求和说明书的范围当中。
Claims (5)
1.一种微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S10，制作微透镜阵列母模，所述微透镜阵列母模的一侧设有凸起阵列，所述凸起阵列与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致；
步骤S20，采用纳米压印技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，所述微透镜阵列子模的一侧具有与所述凸起阵列吻合的凹槽阵列；
步骤S30，通过微透镜阵列子模纳米压印制作微透镜阵列。
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
所述微透镜阵列母模的材质为金属、玻璃或者硅。
3.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
所述微透镜阵列子模的材质为PMMA。
4.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
所述微透镜阵列为正交排布或蜂窝排布。
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
所述微透镜为球面透镜或非球面透镜。
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