CN217385873U - 一种设有溢胶槽的微透镜阵列 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于纳米压印键合技术领域，具体涉及一种设有溢胶槽的微透镜阵列。包括阵列基底、微透镜和溢胶槽，所述阵列基底内部设有若干微透镜，每个所述微透镜周围都设有若干溢胶槽，若干所述溢胶槽都设置在阵列基底的同一表面上。本实用新型通过在微透镜阵列阵列基底上的每个微透镜周围设置溢胶槽，防止键合过程中键合胶水流进微透镜中，破坏光学结构，提高良品率。

Description

一种设有溢胶槽的微透镜阵列

技术领域

本实用新型属于纳米压印键合技术领域，具体涉及一种设有溢胶槽的微透镜阵列。

背景技术

溢胶是工艺过程中一种比较普遍的品质异常现象。通常在手机镜头、扫描镜头或数码镜头在组装的最后一道工序发生此现象：通过胶水将滤色片固定在镜筒上，有时镜筒上胶水过多超出了设计的范围，从而影响到镜头本身的成像，破坏了光学系统。不同应用工艺的溢胶现象、溢胶原因及防溢胶措施也是有所不同。随着光学系统设计逐渐复杂化、多样化，微透镜阵列堆叠结构也愈加复杂，为进一步实现理想光学系统的性能，有效将微透镜阵列键合成一个整体至关重要，键合(Bonding)是指通过物理、化学或两者共同作用，将两种相同或不同材料基片紧密粘合在一起的工艺过程。

微透镜阵列通过键合的方式固定在一起，但现有微透镜阵列键合过程中经常出现溢胶现象，导致键合胶水内流破坏整体光学性能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种设有溢胶槽的微透镜阵列，以解决现有微透镜阵列键合过程中容易溢胶的技术问题。

一种设有溢胶槽的微透镜阵列，包括阵列基底、微透镜和溢胶槽，所述阵列基底内部设有若干微透镜，每个所述微透镜周围都设有若干溢胶槽，若干所述溢胶槽都设置在阵列基底的同一表面上。

本实用新型的进一步改进在于：所述微透镜为任意面型的微透镜。

本实用新型的进一步改进在于：所述溢胶槽为任意凹面形状。

本实用新型的进一步改进在于：所述溢胶槽为半圆形凹槽。

本实用新型的进一步改进在于：所述溢胶槽的宽度大于等于0.2μm。

本实用新型的进一步改进在于：所述阵列基底下方设有晶圆玻璃。

本实用新型的进一步改进在于：所述微透镜的阵列分布类型为单个式、单排式、M*N排列式或满布式中的任意一种。

本实用新型的进一步改进在于：所述溢胶槽的深度大于等于0.07μm。

与现有技术相比，本实用新型至少包括以下有益效果：

本实用新型通过在微透镜阵列阵列基底上的每个微透镜周围设置溢胶槽，防止键合过程中键合胶水流进微透镜中，破坏光学结构，提高良品率。

附图说明

构成本实用新型的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型一种设有溢胶槽的微透镜阵列的结构示意图；

图2为本实用新型一种设有溢胶槽的微透镜阵列中溢胶槽的放大图；

图3为本实用新型一种设有溢胶槽的微透镜阵列键合过程中的结构示意图；

图4为本实用新型一种设有溢胶槽的微透镜阵列的金属模具结构示意图；

图5为本实用新型一种设有溢胶槽的微透镜阵列的软膜面结构示意图。

图中：1、第一晶圆玻璃；2、第一微透镜阵列；3、键合胶；4、第二微透镜阵列；41、溢胶槽；42、微透镜；43、阵列基底；5、第二晶圆玻璃；6、金属模具；7、软膜面；8、软膜基底。

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

以下详细说明均是示例性的说明，旨在对本实用新型提供进一步的详细说明。除非另有指明，本实用新型所采用的所有技术术语与本实用新型所属领域的一般技术人员的通常理解的含义相同。本实用新型所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而并非意图限制根据本实用新型的示例性实施方式。

实施例1

如图1所示，一种设有溢胶槽的微透镜阵列，包括阵列基底43、溢胶槽41和微透镜42，阵列基底43内部设有若干微透镜42，阵列基底43上表面设有若干溢胶槽41，每个微透镜42的周围都设有若干溢胶槽41。

溢胶槽41为凹槽，凹槽的内部形状可以为方形、半圆形、三角形或其他凹面形状。溢胶槽41为易于机加工的凹面形状。溢胶槽41为半圆形时，半径大于等于0.1μm，深度大于等于0.07μm；溢胶槽41为其他凹面形状时溢胶槽的开口处宽度大于等于0.2μm，深度大于等于0.07μm，溢胶槽41的深度和宽度根据键合时的用胶量设置，溢胶槽41的深度和宽度成正比。

微透镜42为任意面型的微透镜，如球面镜、非球面镜、柱镜、棱镜等。微透镜42的阵列分布类型为单个式、单排式、M*N排列式或满布式中的任意一种。

本实施例中提供的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，对于多层微透镜来说，键合的好坏，直接体现光学系统的整体性能，本实施例结构简单，可有效防止键合胶3内流，也容易加工成型，这为推广多层微透镜键合标准化提供了一种实现方式，提升了良率，极大的降低了设计和制造成本。

实施例2

一种设有溢胶槽的微透镜阵列键合方法，如图3所示，在键合的过程中，上述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列即第二微透镜阵列4，在第二微透镜阵列4的下方设置第二晶圆玻璃5，将第二晶圆玻璃5放在水平工作台上；

另取一块普通的微透镜阵列作为第一微透镜阵列2，在第一微透镜阵列2的平整面上设置第一晶圆玻璃1；

将第一晶圆玻璃1固定在现有键合设备的抓取工具上，使第一微透镜阵列2的凹凸面和第二微透镜阵列4的凹凸面相对，在第二微透镜阵列4上的溢胶槽41附近点胶，然后通过键合设备进行键合，键合过程中，键合胶3具有流动性，受到压力向周围进行扩散，流入附近的溢胶槽41中。

本实用新型通过在阵列基底43表面设置溢胶槽41用于收纳多余键合胶3，防止了键合胶3在未固化前流入微透镜42内，对光学性能产生影响，本实用新型所设计的溢胶槽，可有效防止键合胶3内流，且易加工。

实施例3

一种设有溢胶槽的微透镜阵列的制备方法，实施例1中的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，表面的溢胶槽41通过在模具加工时完成，金属模具6加工过程中，在阵列基底43表面周围加工若干溢胶槽41。其次，通过软膜一次翻印，将金属模具6的结构以相反模式复刻到软膜面7。最后，通过紫外固化胶水二次翻印，将软膜面7的结构以相反模式复刻到产品面。保证产品微镜头阵列及溢胶槽结构与模具加工结构保持一致，且可翻印出大量结构一致的产品。

软膜面7采用PDMS软膜，且在将金属模组6的结构翻印到软膜面7时，软膜面7下方设有软膜基底8。

综上所述，本实用新型提供一种适用于微透镜纳米压印键合的溢胶槽结构，简单易加工，为推广透镜键合标准化提供了一种实现方式，提升了良率，极大的降低了设计和制造成本

由技术常识可知，本实用新型可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本实用新型范围内或在等同于本实用新型的范围内的改变均被本实用新型包含。

最后应当说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其限制，尽管参照上述实施例对本实用新型进行了详细的说明，所属领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本实用新型的具体实施方式进行修改或者等同替换，而未脱离本实用新型精神和范围的任何修改或者等同替换，其均应涵盖在本实用新型的权利要求保护范围之内。

Claims (8)

1.一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，包括阵列基底(43)、微透镜(42)和溢胶槽(41)，所述阵列基底(43)内部设有若干微透镜(42)，每个所述微透镜(42)周围都设有若干溢胶槽(41)，若干所述溢胶槽(41)都设置在阵列基底(43)的同一表面上。

2.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜(42)为任意面型的微透镜。

3.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述溢胶槽(41)为任意凹面形状。

4.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述溢胶槽(41)的宽度大于等于0.2μm。

5.根据权利要求3所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述溢胶槽(41)为半圆形凹槽。

6.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述阵列基底(43)下方设有晶圆玻璃。

7.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜(42)的阵列分布类型为单个式、单排式、M*N排列式或满布式中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的一种设有溢胶槽的微透镜阵列，其特征在于，所述溢胶槽(41)的深度大于等于0.07μm。

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