CN117706674A - 多层导光膜、其制作方法及显示设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种多层导光膜、其制作方法及显示设备。多层导光膜包括一第一导光层以及一第二导光层。第一导光层的表面具有多个第一微结构，且第二导光层设置于第一导光层的所述表面上，并与第一导光层的所述表面直接接触，其中第二导光层的表面具有多个第二微结构。

Description

多层导光膜、其制作方法及显示设备

技术领域

本发明涉及一种多层导光膜、其制作方法及显示设备。

背景技术

随着显示设备朝向轻薄化发展，导光板(light guide plate)已逐渐被导光膜(light guide film)所取代。为了达到预期的光学效果，导光膜上会形成有微结构。然而，在现有形成具有微结构的导光膜的方式中，需先通过光刻工艺以及电铸工艺形成模仁，其中模仁(mold insert)具有与微结构互补图形的图案结构，然后将模仁压印(imprint)在导光材料上，从而形成导光膜。因此，制作多层导光膜需重复进行上述步骤，导致工艺步骤繁复，增加制作成本。并且，在将不同导光膜贴合的过程中，并不易对不同导光膜的微结构进行对位，且用以粘贴导光膜的粘着层容易流入微结构中，从而影响微结构的光学效果。有鉴于此，改善上述问题，以降低成本并提升多层导光膜的质量，实为本领域技术人员致力的课题。

发明内容

为至少部分解决上述现有的问题，本发明提供一种多层导光膜、其制作方法及显示设备，以简化制作多层导光膜的工艺步骤，及/或提升多层导光膜的质量。

解决本发明技术问题所采用的一种技术方案是：提供一种多层导光膜，其包括一第一导光层以及一第二导光层。第一导光层的表面具有多个第一微结构，且第二导光层设置于第一导光层的所述表面上，并与第一导光层的所述表面直接接触，其中第二导光层的表面具有多个第二微结构。

解决本发明技术问题所采用的另一种技术方案是：提供一种显示设备，其包括一显示面板以及设置于所述显示面板的一侧的一光源模块。光源模块包括上述的多层导光膜。

解决本发明技术问题所采用的另一种技术方案是：提供一种多层导光膜的制作方法。所述制作方法包括提供一第一导光材料层，对第一导光材料层的表面进行一第一图案化工艺以形成一第一导光层，于第一导光层的表面上直接设置一第二导光材料层，以及对第二导光材料层的表面进行一第二图案化工艺以形成一第二导光层。第一导光层的所述表面具有多个第一微结构，且第二导光层的表面具有多个第二微结构。

在本发明中，由于第二导光层可直接形成在第一导光层上，因此不同导光层之间可不需额外的粘着层，从而可避免第一微结构的光学效果受到粘着层的影响，以提升多层导光膜的质量。另外，由于导光层可直接通过图案化工艺形成，因此制作多层导光膜的过程中可不需进行繁琐的制作模仁的步骤，从而可明显简化工艺步骤，以缩减制作成本。并且，由于不同导光层的微结构的位置可通过图案化工艺定位，因此可有助于提升不同导光层的微结构之间的对位精准度，从而提升导光效率。

附图说明

图1所示为本发明一实施例的多层导光膜的制作方法流程图，

图2到图7所示为本发明一实施例在制作多层导光膜的不同步骤中的结构示意图，

图8所示为本发明另一实施例的多层导光膜的剖视示意图，

图9所示为本发明一实施例的显示设备的剖视示意图，以及

图10所示为本发明另一实施例的显示设备的剖视示意图。

附图标记说明：1、2-多层导光膜；12-第一导光层；12a-第一导光材料层；12S、14S、16S-表面；12T-第一微结构；14-第二导光层；14a-第二导光材料层；14T-第二微结构；16-第三导光层；16T-第三微结构；3-显示设备；32、32a-显示面板；32S1、32aS1-显示面；32S2、32aS2-背面；34、34a-光源模块；36、36a-多层导光膜；36S、36aS-侧面；38、38a-光源；AP-最大孔径；HD-水平方向；L1、L2-光线；ND-法线方向；S1、S2、S3、S4、S5、S6-侧壁；S12、S14、S16、S18-步骤；UR-用户。

具体实施方式

为使本领域技术人员能更进一步了解本发明，以下特列举本发明的实施例，并配合附图详细说明本发明的构成内容及所欲达成的功效。须注意的是，附图均为简化的示意图，因此，仅显示与本发明有关的元件与组合关系，以对本发明的基本架构或实施方法提供更清楚的描述，而实际的元件与布局可能更为复杂。另外，为了方便说明，本发明的各附图中所示的元件并非以实际实施的数目、形状、尺寸做等比例绘制，其详细的比例可依照设计的需求进行调整。

请参考图1到图7，图1所示为本发明一实施例的多层导光膜的制作方法流程图，图2到图7所示为本发明一实施例在制作多层导光膜的不同步骤中的结构示意图，其中图7所示为本发明一实施例的多层导光膜的剖视示意图。如图1所示，本实施例所提供的多层导光膜的制作方法包括步骤S12到步骤S18。步骤S12到步骤S18可例如依序进行，本发明的制作方法不以步骤S12到步骤S18为限，也可在任一所示步骤之前、之后或之间进行其它步骤。图1的步骤S12到步骤S18将进一步搭配图2到图7详述于下文中。

如图1与图2所示，在步骤S12中，可先提供第一导光材料层12a。第一导光材料层12a可例如形成于载板(图未示)上。在本实施例中，第一导光材料层12a可包括光刻胶(photoresist)材料，但不限于此。举例来说，光刻胶材料可例如包括感光性(photosensitive)塑胶材料(例如但不限于感光性树脂材料)，但本发明不限制第一导光材料层12a的光刻胶材料的组成。第一导光材料层12a的形成方式可例如依据光刻胶材料的种类而决定。举例来说，当第一导光材料层12a的材料包括液态光刻胶材料时，第一导光材料层12a可例如通过涂布(coating)方式形成于载板上。或者，当第一导光材料层12a的材料包括干膜(dry film)光刻胶材料时，第一导光材料层12a可例如通过层压(laminating)方式形成于载板上，但不以此为限。

如图1、图3与图4所示，在提供第一导光材料层12a之后，可进行步骤S14，对第一导光材料层12a的表面12S进行第一图案化工艺，以形成第一导光层12，其中第一导光层12的表面12S可具有多个第一微结构12T。由于第一导光材料层12a包括光刻胶材料，因此第一图案化工艺可例如包括曝光工艺与显影工艺。

具体地，如图3所示，曝光工艺可例如包括利用光线L1照射第一导光材料层12a，使得被照射的部分可产生化学反应。在一些实施例中，曝光工艺可包括灰阶成像(grayscaleimaging)曝光工艺(exposure process)，例如可利用激光直写曝光机(laser directwriting exposure machine)进行灰阶成像曝光工艺或利用灰阶光掩模进行灰阶成像曝光工艺，但灰阶成像曝光工艺的方式不以此为限。

如图4所示，在曝光工艺之后，可进行显影工艺，以移除第一导光材料层12a被光线L1照射的部分，从而可形成具有第一微结构12T的第一导光层12。显影工艺可例如包括利用显影剂溶解第一导光材料层12a被光线L1照射的部分，从而达到移除的目的，但不限于此。需说明的是，在图3与图4的实施例中是以第一导光材料层12a包括正型光刻胶材料为例示，但不以此为限。在其他实施例中，第一导光材料层12a可包括负型光刻胶材料，且于此不再赘述其曝光工艺与显影工艺。在一些实施例中，在显影工艺之后，可例如进一步对第一导光层12进行烘烤工艺(baking process)，但不限于此。

需说明的是，本实施例的第一导光材料层12a的曝光深度可例如与光线L1的强度相关，使得第一导光材料层12a的表面12S可通过曝光工艺与显影工艺形成具有光学效果的第一微结构12T。在图4的实施例中，至少一个第一微结构12T可例如包括孔洞，其中孔洞可不贯穿第一导光层12，但不限于此。举例来说，孔洞可具有侧壁S1与侧壁S2，且侧壁S1与侧壁S2可例如于孔洞底部相连接，使得第一微结构12T的剖视形状为V型，以达到所需的光学效果。侧壁S1可不垂直于且不平行于第一导光层12的表面12S，即侧壁S1与垂直于表面12S的法线方向ND之间具有大于0度且小于90度的夹角，使得侧壁S1在垂直于表面12S的法线方向ND上的深度可随着在水平方向HD上的位置不同而呈现连续性改变(如图4中侧壁S1在垂直于表面12S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递减)。在图4中，侧壁S1在水平方向HD上的剖视形状可例如包括斜线(如图4中由左下往右上延伸的斜线)，使第一微结构12T能够呈现出所需的光学效果，也就是第一微结构12T可用于调整第一导光层12中的光线的方向，但不限于此。水平方向HD可例如平行于表面12S。在本实施例中，侧壁S1在水平方向HD上的剖视形状可例如包括直线，但不限于此。在一些实施例中，侧壁S1在水平方向HD上的剖视形状可例如包括曲线或其他合适形状。在本实施例中，侧壁S2可垂直第一导光层12的表面12S，使得侧壁S1与侧壁S2可形成V形结构(即第一微结构12T的剖视形状为V型)，但不以此为限。在一些实施例中，侧壁S2可不垂直于且不平行于第一导光层12的表面12S，即侧壁S2与垂直于表面12S的法线方向ND之间具有大于0度且小于90度的夹角，使得侧壁S2在垂直于表面12S的法线方向ND上的深度可随着在水平方向HD上的位置不同而呈现连续性改变(如侧壁S2在垂直于表面12S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递增以形成由左上往右下延伸的斜线)，使得侧壁S1与侧壁S2可形成V形结构。但本发明的第一微结构12T的剖视形状不以V型为限。在一些实施例中，第一微结构12T的剖视形状可为具有多于两侧壁的多边形、曲线形状或其他合适的形状，但不以此为限。如图3与图4所示，为了形成图4中的具有V形结构的第一微结构12T，本发明可使用如图3的灰阶成像曝光工艺，且在第一导光材料层12a的预定形成第一微结构12T的区域中，光线L1的照射量于水平方向HD变化(如图3中在预定形成一个第一微结构12T的至少一部分的区域中，光线L1的照射量沿着水平方向HD递减，以形成如图4中在垂直于表面12S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递减的第一微结构12T)。在一些实施例中，孔洞在法线方向ND上的俯视图案可依据实际需求而设计，例如可包括矩形、圆形、条形或其他合适的形状。本发明的第一微结构12T的俯视图案与剖视形状可依据实际需求作调整，本发明不限制第一微结构12T的俯视图案与剖视形状。在一些实施例中，当孔洞通过曝光工艺与显影工艺形成时，孔洞在水平方向HD上的最大孔径AP可例如小于或等于5微米，但本发明的孔洞在水平方向HD上的最大孔径AP不以此为限。

值得一提的是，由于本实施例的第一导光层12可直接通过曝光工艺与显影工艺形成，因此不需进行繁琐的制作模仁的步骤，从而可简化制作第一导光层12的工艺步骤，以缩减制作第一导光层12的时间与成本。

如图1与图5所示，在形成第一导光层12之后，可进行步骤S16，于第一导光层12的表面12S上直接设置第二导光材料层14a。第二导光材料层14a可例如包括光刻胶材料。在本实施例中，第二导光材料层14a的光刻胶材料可包括干膜光刻胶材料。举例来说，第二导光材料层14a可通过层压方式设置于第一导光层12上，但本发明的第二导光材料层14a设置于第一导光层12上的方式不以此为限。需说明的是，由于第二导光材料层14a使用干膜光刻胶材料，因此可避免在设置第二导光材料层14a于第一导光层12的表面12S上时第二导光材料层14a流入第一微结构12T中，从而可提升第一微结构12T的光学质量。在一些实施例中，第二导光材料层14a与第一导光材料层12a可包括相同或不同的光刻胶材料。举例来说，第二导光材料层14a可包括感光性塑胶材料(例如但不限于感光性树脂材料)，但本发明不限制第二导光材料层14a的光刻胶材料的组成。

如图1、图6与图7所示，然后可进行步骤S18，对第二导光材料层14a的表面14S进行第二图案化工艺，以形成第二导光层14，其中第二导光层14的表面14S可具有多个第二微结构14T。由于第二导光材料层14a包括光刻胶材料，因此第二图案化工艺可例如包括曝光工艺与显影工艺，例如可相同或类似第一图案化工艺，但不限于此。

具体地，如图6所示，第二图案化工艺的曝光工艺可例如包括利用光线L2照射第二导光材料层14a，使得被照射的部分可产生化学反应。曝光工艺可例如相同或类似上述第一图案化工艺的曝光工艺，因此在此不多赘述。举例来说，第二图案化工艺的曝光工艺可包括灰阶成像曝光工艺，但不限于此。

如图7所示，在曝光工艺之后，可进行显影工艺，以移除第二导光材料14a被光线L2照射的部分，从而可形成具有第二微结构14T的第二导光层14。如此可形成本实施例的多层导光膜1。第二图案化工艺的显影工艺可例如相同或类似上述第一图案化工艺的显影工艺，因此在此不多赘述。需说明的是，在图6与图7的实施例中是以第二导光材料层14a包括正型光刻胶材料为例示，但不以此为限。在其他实施例中，第二导光材料层14a可包括负型光刻胶材料，且于此不再赘述其曝光工艺与显影工艺。在一些实施例中，在显影工艺之后，可例如进一步对第二导光层14进行烘烤工艺，但不限于此。

需说明的是，第二导光材料层14a的曝光深度也可例如与光线L2的强度相关，使得第二导光材料层14a的表面14S可通过曝光工艺与显影工艺形成具有光学效果的第二微结构14T。在图7的实施例中，第二微结构14T可例如相同或类似于上述的第一微结构12T，而可例如包括孔洞。举例来说，第二微结构14T的孔洞可具有侧壁S3与侧壁S4，且侧壁S3与侧壁S4可例如于孔洞底部相连接，使得第二微结构14T的剖视形状为V型。侧壁S3可不垂直于且不平行于第二导光层14的表面14S，即侧壁S3与表面14S的法线方向ND之间具有大于0度且小于90度的夹角，使得侧壁S3在垂直于表面14S的法线方向ND上的深度可随着在水平方向HD上的位置不同而呈现连续性改变(如图7中侧壁S3在垂直于表面14S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递减)。在图7中，侧壁S3在水平方向HD上的剖视形状可例如包括斜线(如图7中由左下往右上延伸的斜线)，使第二微结构14T能够呈现出所需的光学效果，也就是第二微结构14T可用于调整第二导光层14中的光线的方向，但不限于此。水平方向HD可例如平行于表面14S。在本实施例中，侧壁S3在水平方向HD上的剖视形状可例如包括直线，但不限于此。在一些实施例中，侧壁S3在水平方向HD上的剖视形状可例如包括曲线或其他合适形状。在本实施例中，侧壁S4可垂直第二导光层14的表面14S，使得侧壁S3与侧壁S4可形成V形结构，但不以此为限。在一些实施例中，侧壁S4可不垂直于且不平行于第二导光层14的表面14S，即侧壁S4与垂直于表面14S的法线方向ND之间具有大于0度且小于90度的夹角，使得侧壁S4在垂直于表面14S的法线方向ND上的深度可随着在水平方向HD上的位置不同而呈现连续性改变(如侧壁S4在垂直于表面14S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递增以形成由左上往右下延伸的斜线)，使得侧壁S3与侧壁S4可形成V形结构。但本发明的第二微结构14T的剖视形状不以V型为限。在一些实施例中，第二微结构14T的剖视形状可为具有多于两侧壁的多边形、曲线形状或其他合适的形状，但不以此为限。在本发明中，第二微结构14T的孔洞的俯视图案与剖视形状可例如相同或类似第一微结构12T的孔洞的俯视图案与剖视形状，且不贯穿第二导光层14，但不限于此。本发明不限制第二微结构14T的俯视图案与剖视形状。如图6与图7所示，为了形成图7中的具有V形结构的第二微结构14T，本发明可使用如图6的灰阶成像曝光工艺，且在第二导光材料层14a的预定形成第二微结构14T的区域中，光线L2的照射量于水平方向HD变化(如图6中在预定形成一个第二微结构14T的至少一部分的区域中，光线L2的照射量沿着水平方向HD递减，以形成如图7中在垂直于表面14S的法线方向ND上的深度可沿着水平方向HD递减的第二微结构14T)。在一些实施例中，第二微结构14T的俯视图案与剖视形状也可依据需求做调整，而不同于第一微结构12T的俯视图案与剖视形状，但不限于此。在图7中，第二微结构14T在法线方向ND上可不重叠于第一微结构12T，例如从俯视方向(即法线方向ND)来看，其中一第二微结构14T可位于两个相邻第一微结构12T之间，但不限于此。在一些实施例中，第二导光层14的多个第二微结构14T的至少一部分在法线方向ND上可重叠于第一导光层12的多个第一微结构12T的至少一部分。本发明不限制第一导光层12的多个第一微结构12T与第二导光层14的多个第二微结构14T的相对设置位置。

需说明的是，由于第二导光层14可直接形成在第一导光层12上，因此第二导光层14与第一导光层12之间可不需额外的粘着层，从而可避免多层导光膜1的光学效果受到粘着层的影响，以提升多层导光膜1的质量。除此之外，还可减少制作多层导光膜1的工艺步骤，及/或缩减多层导光膜1在法线方向ND上的厚度。在本实施例中，第二导光层14可具有粘着力，以使第二导光层14可固定于第一导光层12上，但不以此为限。举例来说，第二导光材料层14a的光刻胶材料可还包括粘着力促进剂(adhesion promoter)，以增进第二导光层14与第一导光层12之间的附着力，但不以此为限。此外，由于第一微结构12T与第二微结构14T可通过曝光工艺与显影工艺形成，因此在进行制作第二微结构14T的曝光工艺时，曝光机台可先对第一导光层12的图案进行对位步骤后再对第二导光材料层14a进行曝光，有助于提升第一微结构12T与第二微结构14T之间的对位精准度，从而提升导光效率。举例来说，在进行制作第二微结构14T的曝光工艺时，曝光机台可先对第一导光层12的至少一个第一微结构12T进行对位步骤后再对第二导光材料层14a进行曝光；或是在步骤S14中对第一导光材料层12a的表面12S进行第一图案化工艺时除了在第一导光层12的表面12S形成多个第一微结构12T外，也同时在第一导光层12的表面12S形成至少一个对位标记(alignment mark)，在进行制作第二微结构14T的曝光工艺时，曝光机台可先对第一导光层12的对位标记进行对位步骤后再对第二导光材料层14a进行曝光。并且，在本实施例中，由于第一导光层12与第二导光层14可直接通过曝光工艺与显影工艺形成，因此在制作多层导光膜1的过程中，可不需重复制作多个模仁以及进行多次压印工艺，从而可简化制作多层导光膜1的工艺步骤，以缩减制作的时间与成本。

如图7所示，本实施例所提供的多层导光膜1可包括第一导光层12以及第二导光层14。第一导光层12的表面12S可具有多个第一微结构12T，且第二导光层14设置于第一导光层12的表面12S上，并与第一导光层12的表面12S直接接触，其中第二导光层14的表面14S可具有多个第二微结构14T。举例来说，第二导光层14背对于第一导光层12的表面14S可具有第二微结构14T，但不限于此。具体来说，第一微结构12T设置于第一导光层12的面对第二导光层14的表面12S上，且第二微结构14T设置于第二导光层14的背对第一导光层12的表面14S上。位于第一微结构12T中的介质的折射率可不同于第一导光层12的折射率，且位于第二微结构14T中的介质的折射率可不同于第二导光层14的折射率，使得第一微结构12T可调整第一导光层12中的光线的角度，且第二微结构14T可调整第二导光层14中的光线的角度。举例来说，位于第一微结构12T中的介质及/或位于第二微结构14T中的介质可为空气，但不限于此。在本实施例中，第一导光层12与第二导光层14可例如包括光刻胶材料，且第二导光层14的光刻胶材料可例如包括干膜光刻胶材料。在一些实施例中，第一导光层12与第二导光层14可包括相同或不同的光刻胶材料。需说明的是，通过上述材料选择，可使第一微结构12T与第二微结构14T能够直接由图案化工艺形成，还能具有反射或折射光线的光学效果。

本发明的多层导光膜的导光层的数量不以上述图7所示为限。举例来说，本实施例所提供的多层导光膜可包括至少三层的导光层。请参考图8，其所示为本发明另一实施例的多层导光膜的剖视示意图。如图8所示，本实施例所提供的多层导光膜2可包括三层的导光层。换言之，相较于图7所示的多层导光膜1，图8的多层导光膜2还可包括第三导光层16，且第三导光层16可直接设置于第二导光层14的表面14S上。第三导光层16背对于第二导光层14的表面16S可具有多个第三微结构16T。在图8的实施例中，第三导光层16的材料与形成方式及第三微结构16T的俯视图案与剖视形状可例如参照上文的第二导光层14的材料与形成方式与第二微结构14T的俯视图案与剖视形状，但不以此为限。在本实施例中，第三微结构16T可例如相同或类似于上述的第一微结构12T与第二微结构14T，而可例如包括孔洞。第三微结构16T可具有侧壁S5与侧壁S6，且侧壁S5与侧壁S6可例如于孔洞底部相连接，使得第三微结构16T的剖视形状为V型。为了形成图8中的具有V形结构的第三微结构16T，本发明可使用如上文所述的灰阶成像曝光工艺。此外，为了避免在设置用于形成第三导光层16的材料层(或称为第三导光材料层)于第二导光层14的表面14S上时第三导光材料层填入第二微结构14T中，本发明的第三导光材料层的光刻胶材料可包括干膜光刻胶材料。在一些实施例中，第三微结构16T的俯视图案与剖视形状也可依据需求做调整，而不同于第一微结构12T及/或第二微结构14T，但不限于此。本发明不限制第三微结构16T的俯视图案与剖视形状。如图8所示，第三微结构16T在法线方向ND上可不重叠于第一微结构12T以及第二微结构14T，但不限于此。举例来说，从俯视方向(即法线方向ND)来看，其中一个第三微结构16T可位于相邻的一个第一微结构12T与一个第二微结构14T之间。在一些实施例中，第三导光层16的多个第三微结构16T的至少一部分在法线方向ND上可重叠于第一导光层12的多个第一微结构12T的至少一部分及/或第二导光层14的多个第二微结构14T的至少一部分。本发明不限制第一导光层12的多个第一微结构12T、第二导光层14的多个第二微结构14T与第三导光层16的多个第三微结构16T的相对设置位置。

如图8所示，第一微结构12T设置于第一导光层12的面对第二导光层14的表面12S上，第二微结构14T设置于第二导光层14的面对第三导光层16的表面14S上，且第三微结构16T设置于第三导光层16的背对第二导光层14的表面16S上。位于第三微结构16T中的介质的折射率可不同于第三导光层16的折射率，使得第三微结构16T可调整第三导光层16中的光线的角度。举例来说，位于第三微结构16T中的介质可为空气，但不限于此。

由于第三导光层16可直接形成在第二导光层14上，因此第三导光层16与第二导光层14之间可不需额外的粘着层。在本实施例中，第三导光层16可具有粘着力，以使第三导光层16可固定于第二导光层14上，但不以此为限。举例来说，用于形成第三导光层16的光刻胶材料可还包括粘着力促进剂，以增进第三导光层16与第二导光层14之间的附着力，但不以此为限。此外，在进行制作第三微结构16T的曝光工艺时，曝光机台可先对第二导光层14的图案进行对位步骤后再对用于形成第三导光层16的光刻胶材料进行曝光，有助于提升第三微结构16T与第二微结构14T之间的对位精准度，从而提升导光效率。举例来说，在进行制作第三微结构16T的曝光工艺时，曝光机台可先对第二导光层14的至少一个第二微结构14T进行对位步骤后再对用于形成第三导光层16的光刻胶材料进行曝光；或是在步骤S18中对第二导光材料层14a的表面14S进行第二图案化工艺时除了在第二导光材料层14a的表面14S形成多个第二微结构14T外，也同时在第二导光材料层14a的表面14S形成至少一个对位标记，在进行制作第三微结构16T的曝光工艺时，曝光机台可先对第二导光层14的对位标记进行对位步骤后再对用于形成第三导光层16的光刻胶材料进行曝光。

类似地，在一些实施例中，可在图8的第三导光层16的表面16S上依序堆叠至少一导光层以形成具有至少四层导光层的多层导光膜，且上述至少一导光层的材料与形成方式及上述至少一导光层的微结构的俯视图案与剖视形状可例如参照上文的第三导光层16的材料与形成方式与第三微结构16T的俯视图案与剖视形状，因此在此不多赘述。

综上所述，本发明的多层导光膜包括彼此堆叠的至少两个导光层，即本发明的多层导光膜包括彼此堆叠的N个导光层，N为大于或等于2的正整数。N个导光层包括在法线方向ND上依序堆叠的第一至第N导光层，且第一至第N导光层分别包括第一至第N微结构。第i微结构设置于第i导光层的面对第(i+1)导光层的表面上，且第N微结构设置于第N导光层的背对第(N-1)导光层的表面上，其中i为大于或等于1且小于或等于(N-1)的正整数。多层导光膜的制作方法可包括对第一导光材料层的表面进行第一图案化工艺以形成具有多个第一微结构的第一导光层，接下来于第(j-1)导光层的表面上直接设置第j导光材料层，且对第j导光材料层的背对第(j-1)导光层的表面进行第j图案化工艺以形成具有多个第j微结构的第j导光层，其中j为大于或等于2且小于或等于N的正整数。第一至第N图案化工艺可例如包括曝光工艺与显影工艺，但不限于此。第一至第N图案化工艺的曝光工艺可包括灰阶成像曝光工艺，但不限于此。第一导光层的材料(即第一导光材料层)可包括液态光刻胶材料或干膜光刻胶材料，而第二至第N导光层的材料(即第二至第N导光材料层)可包括干膜光刻胶材料，以避免在设置第j导光材料层于第(j-1)导光层的表面上时第j导光材料层填入第(j-1)导光层的第(j-1)微结构中。第j导光层与第(j-1)导光层之间可不需额外的粘着层，从而可避免多层导光膜的光学效果受到粘着层的影响，以提升多层导光膜的质量。第二至第N导光材料层可具有粘着力，以使第j导光层可固定于第(j-1)导光层上，但不以此为限。举例来说，第二至第N导光材料层的光刻胶材料可还包括粘着力促进剂，以增进第j导光层与第(j-1)导光层之间的附着力，但不以此为限。位于第一至第N微结构中的介质的折射率可分别不同于第一至第N导光层的折射率，使得第一至第N微结构可分别调整第一至第N导光层中的光线的角度。举例来说，位于第一至第N微结构中的介质可为空气，但不限于此。此外，在进行制作第j导光层的第j微结构的曝光工艺时，曝光机台可先对第(j-1)导光层的图案进行对位步骤后再对第j导光材料层进行曝光，有助于提升第j导光层的第j微结构与第(j-1)导光层的第(j-1)微结构之间的对位精准度，从而提升导光效率。

请参考图9，其所示为本发明一实施例的显示设备的剖视示意图。如图9所示，显示设备3可包括显示面板32以及光源模块34，且光源模块34设置于显示面板32的一侧，其中光源模块34可包括多层导光膜36。在本实施例中，显示面板32可具有显示面32S1与背对于显示面32S1的背面32S2，且光源模块34可设置于显示面板32的背面32S2上，使得光源模块34所产生的光线可作为显示面板32的背光源，但本发明不以此为限。显示面32S1可例如为显示面板32面对用户UR的表面。图9所示的多层导光膜36仅为示意，且可包括上述任一实施例的多层导光膜，因此在此不多赘述。在图9中，光源模块34还可包括光源38，设置于多层导光膜36的侧面36S，使得光源38的光线能够从多层导光膜36的侧面36S进入多层导光膜36，以调节光源38的光线方向并将光线传送至显示面板32。在一些实施例中，显示面板32可例如包括穿透式(transmissive)显示面板，例如穿透式液晶显示面板或其他合适的显示面板。

请参考图10，其所示为本发明另一实施例的显示设备的剖视示意图。如图10所示，本实施例所提供的显示设备4与图9所示的显示设备3的差异在于光源模块相对于显示面板的位置不同。如图10所示，显示设备4可包括显示面板32a以及光源模块34a，且光源模块34a设置于显示面板32a的一侧，其中光源模块34a可包括多层导光膜36a。在本实施例中，显示面板32a可具有显示面32aS1与背对于显示面32aS1的背面32aS2，且光源模块34a可设置于显示面板32a的显示面32aS1上，使得光源模块34a所产生的光线可作为显示面板32a的前光源(front light)，但不限于此。显示面32aS1可例如为显示面板32a面对用户UR的表面。图10所示的多层导光膜36a仅为示意，且可包括上述任一实施例的多层导光膜，因此在此不多赘述。在图10中，光源模块34a还可包括光源38a，设置于多层导光膜36a的侧面36aS，使得光源38a的光线能够从多层导光膜36a的侧面36aS进入多层导光膜36a，以调节光源38a的光线方向并将光线传送至显示面板32a。在一些实施例中，显示面板32a可例如包括反射式(reflective)显示面板，例如反射式液晶显示面板、电子纸或其他合适的显示面板。

综上所述，在本发明的多层导光膜的制作方法中，由于第二导光层可直接形成在第一导光层上，因此不同导光层之间可不需额外的粘着层，从而可避免第一微结构的光学效果受到粘着层的影响，以提升多层导光膜的质量。除此之外，还可简化制作多层导光膜的工艺步骤，及/或缩减多层导光膜在法线方向上的厚度。另外，由于导光层可直接通过曝光工艺与显影工艺形成，因此制作多层导光膜的过程中可不需进行繁琐的制作模仁的步骤，从而可明显简化工艺步骤，以缩减制作成本。并且，由于不同导光层的微结构的位置可通过曝光工艺中的机台定位，因此可有助于提升不同导光层的微结构之间的对位精准度，从而提升导光效率。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种多层导光膜，其特征在于，包括：

一第一导光层，其中所述第一导光层的表面具有多个第一微结构；以及

一第二导光层，设置于所述第一导光层的所述表面上，并与所述第一导光层的所述表面直接接触，其中所述第二导光层的表面具有多个第二微结构。

2.如权利要求1所述的多层导光膜，其特征在于，所述第一导光层与所述第二导光层包括光刻胶材料。

3.如权利要求1所述的多层导光膜，其特征在于，所述多个第一微结构的其中一个包括孔洞。

4.一种显示设备，其特征在于，包括：

一显示面板；以及

一光源模块，设置于所述显示面板的一侧，其中所述光源模块包括如权利要求1所述的多层导光膜。

5.如权利要求4所述的显示设备，其特征在于，所述光源模块设置于所述显示面板的显示面上或是设置于所述显示面板的背对所述显示面的表面上。

6.一种多层导光膜的制作方法，其特征在于，包括：

提供一第一导光材料层；

对所述第一导光材料层的表面进行一第一图案化工艺以形成一第一导光层，其中所述第一导光层的表面具有多个第一微结构；

于所述第一导光层的所述表面上直接设置一第二导光材料层；以及

对所述第二导光材料层的表面进行一第二图案化工艺以形成一第二导光层，其中所述第二导光层的表面具有多个第二微结构。

7.如权利要求6所述的多层导光膜的制作方法，其特征在于，所述第一导光材料层与所述第二导光材料层包括光刻胶材料。

8.如权利要求7所述的多层导光膜的制作方法，其特征在于，所述第一图案化工艺与所述第二图案化工艺包括曝光工艺与显影工艺。

9.如权利要求8所述的多层导光膜的制作方法，其特征在于，所述曝光工艺包括灰阶成像曝光工艺。

10.如权利要求7所述的多层导光膜的制作方法，其特征在于，所述第二导光材料层的材料包括干膜光刻胶材料。