CN1175913A - 把电磁能送入溶液的方法与设备 - Google Patents

Abstract

一种用于把电磁能送入一种溶液的设备,包括:一个第一管状壳,具有确定一个第一不透水腔的一些封闭端;线圈装置,装于所述第一腔之内;所述线圈装置把一个磁场送入该溶液中;电压探测装置,耦合于所述线圈装置,用于把一个电场送入该溶液中;和用于把电磁信号耦合到所述线圈装置的装置。

Description

把电磁能送入溶液的方法与设备

本发明涉及一种把电磁能送入胶体悬浮液，即溶液的方法与设备，用于改良溶液特性。

众所周知，有多种用电能或磁能处理水或其他溶液的系统。仅作为例子，请参阅下述美国专利：4,865,747；4,865,748；4,963,268；5,036,170；5,074,998；5,113,751；5,139,675；5,171,431；5,173,169；5,183,512；5,183,565；5,217,607；5,230,807；5,236,670；5,304,289；5,306,887；5,320,726；和5,326,446。

此外，据一家Z-电势监测设备制造商，即Zeta-Meter公司的一篇文章报道：“Z-电势能够帮助你了解和控制胶体悬浮液。实例包括复杂的生物系统，例如像油漆的血液与机能系统。胶体悬浮液可稠如浆糊(像胶合剂)，亦可稀如混浊颗粒湖水。有用胶体系统的恰当实例包括水，牛奶，酒，粘土，染料，墨水，纸和药物。虽然亦用无水液体，但水是一种常用悬浮液。在许多情况下，若认识胶体行为对粘度、沉降和有效颗粒尺寸之类性质的影响，即可改良悬浮液性能。”请看“Z-电势：一门5分钟的成套课程”，谨在此编入，供参考。

本发明指向一种把RF调制电磁能，即磁场和电场送入溶液的设备，用于改良溶液特性。此外，本发明还指向一种用于改良第二溶液特性的方法和设备：把RF调制电磁能，即磁场和电场送入第一溶液，然后使第一溶液接近所述的第二溶液。

根据本发明的发送设备的优选实施例包括：1)一个管状外壳，它具有一些闭合端，且形成一个不透水的容器；2)一个装示该容器内的线圈，用于把磁场送入溶液；3)至少一个耦合于该线圈的电场探头，用于把电场送入溶液；和4)耦合装置，用于把电磁信号耦合于该线圈。

在一个优选的实施例中，把该电场探头(此后叫作“电压”探头)装在一个容纳第一溶液的容器内，第一溶液是与人们希望处理的第二溶液电绝缘的。用一个耦合于该线圈的信号发生器去激励传送设备，以产生磁场和电场。最好把信号发生器配置成，可调节激励信号的振幅和工作循环。

通常用一个根据本发明的传送设备去接近一个能通过施加RF调制能量而改良其特性的溶液，这些特性可用它的Z-电势或任何其他的溶液改良特性的适当测量来表示。根据本发明的一个方面，控制所施中RF能量，即功率水平、持续时间和工作循环，使溶液处理最佳化。此外，还选择溶液内传送设备单元的分布，使溶液处理最佳化。

一种处理第二溶液的优选方法包括下述步骤：1)把RF调制能量加入第一溶液；和2)使所述第一溶液接近第二溶液，以处理所述的第二溶液。

在优选方法的又一个方面，把第一溶液从一个把RF调制能量加入第一溶液的处理站运送到一个装有第二溶液的加工站。然后在加工站，移动第一溶液，使之接近第二溶液，以处理第二溶液。

一种根据本发明的传送设备最好实行一种优选的方法：在一个同第二溶液隔离的闭合管内再循环第一溶液。

在处理溶液的另一优选方法中，把第二溶液从一个加工站运送到一个装有已用RF调制能量处理过的第一溶液的处理站。当第二溶液在接近第一溶液处移动以后，把第二溶液返回加工站。

在所附权利要求书中详细地提出本发明的新颖特点。最好从结合附图阅读下面描述中了解本发明。

图1包括一个传送系统的优选实施例的方框图，用于把RF调制电磁能量送入溶液；

图2是一个示意图，说明溶液的Z-电势是如何随着振幅和用RF能量处理的持续时间的变化而改良的；

图3是一个试验台的方框图，用于确定处理参数装置；

图4是一个槽的上水平面视图，说明传送设备的分布及相关RF能量分布；

图5包括一个沿平面5-5的图4槽的侧立视图；

图6是一个图1优选实施例的信号发生器的方框图；

图7是槽内分布设备以及监测处理参数效率的传感器的优选分布的侧立视图；

图8A是传送设备的第一优选实施例的透视图；

图8B是图8A实施例的示意截面图；

图9A是传送设备的第二优选实施例的透视图；

图9B是图9A实施例的示意截面图；

图10是传送设备的第三优选实施例的透视图；

图11是沿平面11-11的图10实施例的截面视图；

图12是传送设备的第四优选实施例的部分截面视图；

图13是传送设备的第五实施例的部分截面视图；

图14包括一个远程传送系统的优选实施例的方框图，用于通过在传送设备与含有二次溶液的加工站之间再循环所处理的一次溶液，把RF调制能量送入二次溶液；

图15A-15C是另一些辐射器的方框图，用于以来自一次溶液的辐射来处理二次溶液；

图16是图14传送系统的方框图，说明传送设备的反馈控制；

图17是远程传送系统的第二个优选实施例的方框图，其中处理站装有一个在加工站与处理站之间再循环的一次溶液的槽；

图18是远程传送系统的第三个优选实施例的方框图，其中二次溶液是从加工站再循环到处理站的，在处理站中，在接近传送设备内盛装的一次溶液处流过二次溶液；

图19是远程传送系统的第四个优选实施例的方框图，其中二次溶液是从加工站再循环到处理站内一个槽中的，处理站具有一个传送设备和一个装于其中的处理一次溶液；

图20是远程传送系统的第五个优选实施例的方框图，其中一次溶液经过处理站中的一个传送设备单方向地流到一个装有二次溶液的加工站；

图21是一个示范性的系统，用于通过在接近二次溶液处再循环经处理的一次溶液，实行处理二次溶液的所述方法；

图22是沿着平面22-22的图21传送设备的截面端视图；和

图23A-23F是一些论证附加设计准则的示意图，这些准则能够用来建造传送设备，以便处理一种以后要用来处理二次溶液的一次溶液。

本发明涉及一种用于把电磁能量以磁场和电场形式送入一种胶体悬浮液，即溶液中以改良其特性的设备。正如ZeTa Meter公司在上述文章中所描述，当改良溶液的Z-电势时，就能合乎需要地变更溶液的特性。大家相信，当溶液受到一个RF调制磁场和一个RF调制电场作用时，就能改善一种改良溶液特性，例如它的Z-电势或任何其他适当的测量参数的能力。这样，本发明之目的在于提供一个改进的系统以便把RF调制电磁能送入溶液中。

图1示出一个传送系统10的方框图，它主要包括一个信号发生器12，和一个装于溶液16，例如一个液体或气体中的传送设备14。信号发生器12生成一个驱动传送设备14的RF调制信号18。传送设备14在由RF调制信号18激发时，就生成一个磁场20和一个电场22。如图2所示，某些溶液特性，例如它的Z-电势，随着把RF调制能量送入溶液的持续时间和/或振幅而改变。然而，溶液Z-电势随RF调制能量而改良的情况是所传送RF调制能量的持续时间和振幅的函数，曲线下降到一凹部24，当能量水平超出一个最佳处理点26时，则情况相反。认为溶液的改良是受时间限制的，会随时间而减小。因此，本发明的优选实施例都在第一时间周期施加RF调制能量，在第二时间周期移去RF调制能量，然后重复这种施加和移去模式，以确定一个工作循环。工作循环和振幅共同确定送入溶液的功率的比率。

正如大多数电磁能一样，从传送设备14测量的能量强度是随距离而变的。因此，为了均匀地处理溶液16，必须同时使用离传送设备14的距离和RF调制信号18的特征，去选择处理参数，例如持续时间，工作循环，振幅和距离，它们确定加到大部分溶液中的功率比率，从而实现期望的改良。

                                    表1

传送设备	D＝0V(估计的)大气	D＝6inV水	D＝1FtV水	D＝4FtV水	D＝6FtV水
						DAI	5.000	12.0	6.0	2.0	1.0
DAII	10.000	25.0	18.0	12.0	8.0

图3示出一个用于确定处理参数的试验台28。试验台28包括一个充满试验流体32的槽30，流体32相当于要处理的溶液16。传送设备14被浸入流体32中，由信号发生器12通过RF调制信号18驱动。一个主要由线圈组成的传感器34，在离传送设备14一段距离36处浸入流体32中。传感器34经过信号通道38耦合于一个电压表40，以测量从传送设备14通过流体32耦合于传感器34的RF能量的大小。认为由电压表40测得的电压相当于流体32的改良特性，例如它的Z-电势。用试验台28进行测量，以确定上面在表1所列的试验数据，它们相当于传送设备14的各种优选实施例(在下面要进一步讨论)。因此，如图4和5所示，在一个三维矩阵内的实际处理系统槽42中，分布多个传送设备14。通过适当地分布传送设备14，能够把有一个期望RF能量容许范围的处理距离44的辐射状弧定位成，包围要处理的大部分溶液16。在选择期望的处理距离44以后，就根据试验数据选择其余的处理参数，持续时间和RF调制信号18的振幅，以实现期望的溶液改良特性。

图6说明一个示范性信号发生器12的方块图，它主要包括一个生成例如27.225MHz的固定RF频率的RF发生器46，一个工作循环控制器48和一个功率放大器50。功率放大器50在一个功率/振幅调节器52的控制之下，按照从RF发生器46输入的一个RF信号54操作，并且根据所选择的处理参数通过RF调制信号18向传送设备14输出一个固定的振幅信号。工作循环控制器48通过调制它输出的通断，控制功率放大器50。根据一个通调节器56和一个断调节器58设置工作循环控制器48，以便根据所选择的处理参数来生成工作循环。通断调节器56，58最好可按照增量，例如一分钟增量，直至60分钟持续时间，进行调节。因此，可以典型地设置10分钟通和60分钟断。虽然图6示出一个示范性信号发生器12，但认为任何其他的可向传送设备提供RF调制信号的仪器，都处于本发明的信号发生器的范围之内。

在一个优选实施例中，如图7所示，有多个传感器34，允许确认在其实际环境中设置处理参数的功效。然而，一般公认，传感器34只读出那些显示传送系统10效率的电压，系统10是以开路方式操作的。这样，在另一个实施例中，用一些直接确定溶液改良特性，例如它的Z-电势值的传感器来取代传感器34。在这个替代实施例中，一个电势处理器60(见图6)读出已实现的溶液改良特性，例如它的Z-电势；并且通过相互作用地确定通调节器56，断调节器58和功率振幅调节器52的优选设置，相应地改良工作循环控制器48和功率放大器50。因此，在这个替代实施例中实现闭路控制。

如上面在表1讨论中所述，由根据溶液16中所选传送设备14特征而设置的处理参数，确定传送系统10的效率。一个在表1中表达成DA1的第一个优选传送设备70示于图8A中。传送设备70主要包括：1)一个不透水的管状外壳72，最好是圆筒状的；2)一个变压器74，装于外壳72内；3)第一和第二电压探测盘76和78，耦合于变压器74；和4)一个同轴电缆80，通过第一个不透水密封件82耦合于外壳72中的变压器74，并且从信号发生器12传送RF调制信号18。亦如图8B示意图所示，变压器74包括一个感应地耦合于一个次级线圈86的初级线圈84，且有最好在其端部耦合于次级线圈86的电压探测盘76和78。初级和次级线圈84和86围绕一个最好由非传导材料，例如PVC制作的管88缠绕。初级线圈84最好围绕一段次级线圈86缠绕，并且用一个绝缘器90维持与次级线圈86的电绝缘，或者替代地用绝缘的导体作成线圈来维持其绝缘。RF调制信号最好通过一个高“Q”可调电容器92耦合于初级线圈84，电容器92被置成一个可使传送设备70的阻抗匹配于信号发生器12的数值。当用RF调制信号18来驱动初级线圈84时，则磁场20，也叫作H场，主要由次级线圈86生成，并且伸出传送设备70，进入溶液16。次级线圈86由于感应地耦合于初级线圈84而生成一个电压(在电终端94与96之间测量)，该电压的振幅大于初级线圈84从RF调制信号18产生的电压振幅。来自电终端94，96的电压分别耦合于电压探测盘76和78。在外壳72第一端形成的第一个不导电不透水腔98内安装电压探测盘76。在外壳72的第一个内部位置用一个第一不导电内端板100进行密封；并且在外壳72的第一端，用贴紧外壳72的第一端的第一个不导电薄外端板102密封，以形成腔98。次级线圈86的电终端94通过第二个不透水密封件104而耦合于电压探测盘76。同样，在外壳72的第二端，在第二内端板108与第二外端板110之间形成第二个不导电不透水腔106，在腔106内装有第二个电压探测盘78，盘78通过第二内端板108内的第三个不透水密封件112而耦合于电终端96、腔98，106最好充满一种流体114，例如去离子水(DI)。人们相信，在把电场22耦合到溶液16之前，把电场22耦合到充满流体的腔98，106中，并且穿过薄的外端板102，110，可改进把电场22送入溶液16。此外，通过使电压探测盘76，78和溶液维持电绝缘，可减小信号负载。形成第一和第二不透水腔98，106的外壳72段，最好由不导电的材料，例如PVC制成。然而，围绕变压器74的壁段，即在内端板100与108之间的段，是既能用象PVC之类的不导电材料制作，又能用象铜之类的导电材料制作。

图9A和9B示出传送设备14的第二个替代实施例120，在表1中用DAII表示。传送设备120主要包括：1)一个不透水的管状外壳72，最好是圆筒状的；2)一个抽头线圈122，装于该外壳内；3)一个电压探测盘124，耦合于抽头线圈122的第一端；和4)一个同轴电缆80，通过第一个不透水密封件82耦合于外壳72内的抽头线圈122，并且传送RF调制信号18。同轴电缆80最好耦合于抽头线圈122的第二端，并且通过一个高“Q”可调电容器92耦合于一个中间抽头点126；调节电容器126以便把传送设备120的阻抗匹配信号发生器12。抽头线圈122生成一个磁场20，磁场20伸入围绕传送设备120的溶液16中。在点128与130之间测得的电压是由抽头线圈122感应生成的，它在振幅上大于输入到抽头线圈122的RF调制信号18。在点128的电压耦合于电压探测盘124，盘124装于不透水外壳72第一端的不透水腔132之内。在外壳72的第一个内部位置用一个不导电的内端板134来密封；在外壳72的第一端用一个贴紧外壳72第一端的一个不导电薄外端板136来密封，以形成不透水的腔132。在抽头线圈122第一端生成的电压通过第二个不透水密封件138耦合于电压探测盘124。腔132最好充满流体114，例如去离子水(DI)。正象前面所述实施例一样，认为这种结构在使电负载减至最小的同时，改善电场22进入溶液的耦合。如前所述，形成不透水腔132的外壳72段最好由不导电的材料，例如PVC制作。然而，围绕抽头线圈122的外壳72壁段是既能用象PVC之类的不导电材料制作，又能用象铜之类的导电材料制作。

图10和11示出传送设备14的第三个替代实施例140。传送设备140主要包括：1)一个不透水管状外壳72，最好是圆筒状的；2)一个抽头线圈122，装于外壳内；3)一个装有一块电压耦合板144的电压耦合结构142，该板耦合于抽头线圈122的第一端146；和4)一个同轴电缆80，通过第一个不透水密封件82耦合于外壳72内的抽头线圈122，且传送RF调制信号18。不透水外壳72和抽头线圈122是基本上相同于图9A所示的上述实施例120的。然而，在这个实施例中，附加的电压耦合结构142包括第二个外壳148，它耦合于一个软外壳150，最好是柔韧的软外壳，它与位于其间的一个流体耦合通道152一起形成一个不透水的组件。电压耦合板144装于第二个外壳148内，并且使用一个穿过第二个不透水密封件156的传导体154电耦合于抽头线圈122的第一端146。最好使用一个充注器管和帽158把电压耦合结构142充满流体114，例如去离子水(DI)。在电压耦合结构142充满流体的，通过一个排气口160排出其中的空气。电压耦合结构142，尤其是软外壳150，最好作成弓形表面162，以匹配一个外表面，例如一个弯曲槽或管，以有利于其中所装溶液16的处理。因此，在这个实施例中，在传送设备140不接触溶液16的情况下，分别用磁场和电场20和22处理溶液16。如前所述，外壳72即可用象PVC之类的不导电材料制作，亦可用象铜之类的导电材料制作。

图12示出传送设备14的第四个替代实施例170。传送设备主要包括：1)一个RF发生器组件(72；2)一个螺旋共振器(74；和3)一个电压探测组件176；它们全装在一个不透水的外壳178内。RF发生器组件172在它生成一个RF调制信号方面，颇类似上述信号发生器12。一个功率控制电缆180向RF发生器组件172传送一个调制的功率，即电压上可调节的功率，和工作循环，使RF发生器组件通过传导体182，184把RF调制能量传送到螺旋共振器174，即抽头线圈。RF发生器组件172紧靠螺旋共振器174，可改善信号的传送。螺旋共振器174在它的到电压探测组件176的端部186，以类似于上述抽头线圈122的方式生成一个高压信号。螺旋共振器174最好由一根长导线(例如铜线)制作的金属圈形成，其未卷绕长度为RF信号波长(例如约8.62英尺，相当于27.225MHz)的四分之一。一根不导电的，例如由聚碳酸酯作的调节杆188耦合于螺旋共振器174的端部186，且可调地穿过端板190。通过变更调节杆188的相对位置，使螺旋共振器174的线性尺寸变更，以调节共振器174的阻抗，且改善匹配于RF发生器组件172的信号。

电压探测组件176主要包括：1)一个不导电的，例如聚四氟乙烯的外空心壳192，最好是球状的，在其内形成一个匹配腔194；2)一个导电的，例如镀金黄铜的电压探头196，装于外壳192内；和3)一个导电的托脚198，例如通过一种螺旋连接而在第一端连接于电压探头196，并且对外壳192形成不透水的密封。导电托脚198的第二端连接于螺旋共振器174的端部186，以便在共振器174与电压探头196之间提供一个导电通路。一种流体200，例如去离子水(DI)，在腔194内围绕电压探头196。

不透水的外壳178的结构分成三段。在围绕电压探测组件176和RF发生器组件172的第一和第二段202，204，外壳178壁是由不导电材料，例如塑料制作的。然而，外壳178的第三段206形成一个屏蔽，最好是圆筒，并由导电材料，例如铜制作，以容纳电场。

图13示出传送设备14的第五个替代实施例210。本实施例主要包括一个通过屏蔽电缆212耦合的上述电压探测组件176，电缆长度最好等于到RF发生器/匹配网络214的RF信号波长的四分之一(例如信号波长约为7.9英尺，相当于27.225MHz，且由于电缆特征而不同于先前的实施例)；其RF发生器组件在功能和结构上类似于RF发生器组件172，但物理上远离电压探测组件。

如上所透露，用RF调制能量处理溶液，能够合乎需要地改变溶液，例如流体或气体的特性。业已表明，用RF凋制能量处理溶液的效应可持续一段相当长的时期，即几分钟，而不是几微秒。这样，进一步作实验，以确定这种处理的任何附加的方面。因此确定，如果第一溶液，即原始溶液受到处理，然后运送到一个远程位置，并放在紧靠第二溶液处；则第二溶液的特性同样受到作用，例如来自原始溶液的次级发射会影响第二溶液的特性。曾进行下述实验：

溶液P(原始溶液)是通过把一个高压电磁信号送入一个装有溶液P的容器中来处理的。然后把一部分处理过的溶液P运送到约50英尺以外的另一室中，并装到一个瓶内，这个瓶放在一个装有硝酸溶液S(第二溶液)的烧杯附近。在该实验期间把一个pH电极放在第二溶液烧杯中。在把溶液P放到装有溶液S的烧杯附近之前，pH值以4.341±0.002恒定值维持至少30分钟。在把溶液P放到装有溶液S的烧杯附近15分钟以后，pH值波动，且此后开始连续向下漂移，在照射2小时以后，pH值变到4.128。这个实验被重复三次。

在一个类似的实验中，在烧杯(溶液S)中放有20mg金红石。24小时以后，测量它的Z-电势。Z-电势以7±2mv维持至少一小时。此后，把一个已用高电压的电磁信号处理的溶液P的容器放入一个靠近溶液S的瓶中。溶液S中金红石的Z-电势，在照射以后，即在紧靠地放入溶液P以后，开始随时间而波动于22与6mv之间。这种波动持续至少2小时。用原子力显微法测量，在锌胶体原子界面和固体硅石表面的表面力。一种非激励的溶液(溶液S)，在超出其表面30nm的距离时，一直呈现正力矢量。在处理水瓶(溶液P)近旁照射同样的溶液，照射一段20分钟的时期，且其力矢量方向相反，在9nm范围内变成负方向，在超出100nm的距离处它被维持在0。

在另一个实验中，把自来水放入两个相同直径的玻璃烧杯(#1和#2)中。测量各个烧杯中水量，并均分为100±0.011g。虽然烧杯#1保持与处理水相隔离，但烧杯#2却在处理水(溶液P)近旁受到照射(例如用次级辐射)。使两个烧杯维持原状，并且在两个受控环境(30℃，没有通风，但敞开于大气中)中用一小时的间隔测量其重量。烧杯#1(未处理的烧杯)以1.84倍于烧杯#2速率的速率损失重量。实验在三小时内重复10次，其结果重复率在±3％以内。

在又一个实验中，用次级水记录表面张力，其摆动范围是从75mN/m(毫牛/米)到77.5mN/m。

在又一个类似的实验中，测量碳酸钙的沉淀，其方法是在把0.003M硝酸钙溶液3ml和0.005M碳酸钠溶液10ml相混合时，测量其混浊度。混浊度先是随时间而增加，在达到一个稳定状态以后，又随时间而降低(例如，一种成核和沉淀反应)。在下一个实验中，在混合以前，在一个类似处理的溶液P的近旁照射硝酸钙和碳酸钠溶液(溶液S)，照射一段10分钟的时期。在有次级发射的情况下，观察到最大混浊度明显下降。在溶液P照射下沉淀的颗粒呈现较大的平均颗粒尺寸(用光学显微术测量)。

还研究了屏蔽对来自溶液P的次级发射的影响。从这些研究确定，最好使用一种金属屏蔽，例如铜，μ金属屏蔽等，去限制那种在处理除了二次溶液之外的任何溶液中引起的次级发射。

为了估计次级发射的强度，还测量了溶液S中pH值随时间的变化。在一个实验中，用电磁能处理溶液P，并且用三张铝箔包装其中盛有溶液P的瓶。溶液S的pH值以4.349±0.002的恒定值保持至少30分钟。在附近放置一个有溶液P的瓶以后，溶液S的pH值在2小时以后从4.349变到4.193。这个实验以±0.01pH单位的再现性重复3次。

在又一个实验中，把装有处理溶液P的瓶放在有1/8英寸壁厚的铝制容器内。溶液S的pH值最初处于4.160恒定值，但在附近放置溶液P(在容器内)以后一小时，它变到4.195，并且继续上升。

在又一个实验中，把装有处理溶液P的瓶放在有1/8英寸壁厚的不锈钢制容器内。溶液S的pH值处于4.420恒定值。在把装于该溶器内的溶液P放在附近以后，溶液S的pH值从pH4.420变到4.469。

从这些实验得出结论，在用电磁辐射处理原始溶液以后出现一种机理：把原始溶液运送到二次溶液附近，可通过例如来自原始溶液的次级发射，处理二次溶液。

图14示出一个实施本发明的处理系统310的方块图，它主要包括：1)一个处理站312，用于处理原始溶液314；2)一个加工站316，装有要处理的二次溶液318，加工站316最好远离处理站312；和3)一个运送设备320，用于把处理过的原始溶液314运送到二次溶液318附近。处理站312最好装有一个传送设备322，用于生成电磁能，且处理原始溶液314。一个示范性传送设备140(见图11)把电磁能送入一个能量接收原始溶液(见图11中流体114)中，溶液装于软外壳150内，软外壳最好围绕一个管道324(见图14)。装于管道324内的原始溶液314接收可改良原始溶液314的辐射326。因此，原始溶液314能够随后放出次级辐射328(实际上，相对于进入能量接收原始溶液114的初级辐射来说是第三级辐射)，以处理来自辐射器回路330的二次溶液318。

原始溶液314最好在处理站312与加工站316之间进行再循环，方法是用一个可维持原始溶液流动的设备，例如循环泵332，使原始溶液314在管道324内传送。虽然最好是再循环原始溶液314，但不一定要实施本发明。还认为那些把原始溶液314从处理站312均匀地运送到加工站316的实施例属于本发明的范围以内。认为再循环原始溶液的实施例是比较有效的。当溶液314a运送到二次溶液附近时，不是全部送入原始溶液314的能量都能够给予二次溶液318的。这样，原始溶液仍会保持一些由传送设备322给它的RF调制能量。因此，使部分耗尽的原始溶液314b再循环，返回传送设备，会花较少的能量再处理原始溶液314b。

二次溶液的处理程度颇依赖于原始溶液314对二次溶液318的靠近程度和照射持续时间。图15A-15C示了示范性辐射器334，336，338，用于使来自原始溶液314的辐射328照射二次溶液318。辐射器334包括一个延伸的辐射回路330，它可提高耦合程度，即从原始溶液处理二次溶液的功效，这是因为它同辐射回路装置330的单回路相比，可增加路径长度和/或多路传送。辐射器336增加路径的数目，从而由来自原始溶液314的次级发射328直接处理的二次溶液318的数量得以增加。然而，由于路径数目增加，溶液的速度也相应降低。这种速度上的降低使各部分原始溶液314可照射二次溶液318一段较长的时间。辐射器338由于有大的截面表面面积(例如本例所示的六边形)而有较大的照射体积，它还使大量的二次溶液能够直接受到来自原始溶液314的次级辐射328的作用。此外，这样增加照射面积还使辐射器338内原始溶液314的速度降低。本专业的普通技术人员还能够设想出一些其他的辐射器结构，以选择照射量和原始溶液速度。

如上所述，最好用一种反馈机构去确定溶液的最佳处理水平。在本发明中，正是根据处理二次溶液318的次级效应更好地改良原始溶液处理水平的。因此，如图16所示，最好把一个传感器340放在二次溶液318中，并且通过反馈信号342把它耦合于驱动电子器件344(例如，见图6中信号发生器12)，该器件驱动传送设备322。传感器340还能替代地测量pH值，Z-电势，或任何其他可确定所需处理量的测量参数。如上所述，驱动电子器件344能够改变那些加到传送设备322中的RF调制能量的工作循环，频率，振幅等。此外，通过根据反馈信号342改变循环泵332的速度，能够改变原始溶液314的再循环速度。虽然把反馈传感器340放入二次溶液318中是优选的，但把反馈传感器放入原始溶液314中去测量原始溶液314的处理量(它相当于二次溶液318的处理量)，是也能实现反馈控制的。

在处理二次溶液以后，就能在各种加工中有利地改良其特性。下面结合图14描述一组示范性例子。

1.在冷却/工业用水系统中改变胶体行为(水垢控制)，例如冷却塔去垢

能源，例如传送322，使用一个磁场、电磁场、电场，可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种变更的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入一个装有冷却剂二次溶液318的水池或贮水槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液318的物理物性，即pH值、导电率、Z-电势、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响二次溶液318中胶体颗粒对该系统中表面的吸引性。采用适当的能量分布，会使水垢颗粒从接触二次溶液318的表面排斥离开，从而抑制新水垢的形成，且有利于去除以前存在的水垢积累物。

2.印刷油墨处理(改变铅印/表面附着特性)

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种变更的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有油墨或铅印二次溶液318的贮池或贮槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特征，以便影响二次溶液318中胶体颗粒对印刷介质的吸引性。采用适当的能量分布，会把油墨或调色剂颗粒吸引到印刷介质上，从而改善印片密度，或更经济地使用油墨或铅印。

3.纸浆去油墨/硬纸再循环处理/从纸浆去除油墨或其他颗粒

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种变更的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有加工浆液318的加工容器槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响二次溶液318中胶体颗粒相互之间或对过滤器、撇沫器或其他加工元素的吸引性。采用适当的能量分布，油墨-调色剂或其他颗粒会或者吸引到过滤介质上，或者在表面聚集成泡沫而被撇去或处置。

4.工业化学加工强化/化学加工综合处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有加工溶液318的加工容器槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便刺激某些化学反应，或引起催化剂的某种强化，或其他期望的化学变化。

5.用于改进混凝土/集料混合物的强度的处理水

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有混合水318的加工容器/槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改变固化时间、固化强度、渗透性、孔隙度、或最终混凝土的任何其他可期望的效应，包括免除食盐类添加剂，这些添加剂能够在浇注中腐蚀和减弱增强构件和金属构件。

6.强化植物生长周期的水处理/农业水处理/植物生物学

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有灌溉水318的加工容器/槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改变植物生长速率、植物大小、果实大小和/或质量、植物对病或虫害的可接受性、植物水和养料需求、和对植物类的任何其他可期望影响。

7.医学/生物学转移和处理技术

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入处理源头/培养生长区/移植物316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改变细胞生长速率，抑制损伤或异常细胞的生长，激励免疫系统功能，激励骨折修复，可去除钙沉积、例如骨刺，或可去除动脉疾病。

8.用能量交换系统的废水/废液处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源、激励原始溶液322。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入处理池/槽/水流316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响废水/废液中悬浮颗粒的沉淀、絮凝或成团，使颗粒从溶液中沉淀、以渣沫撇去或过滤掉。

9.用于改进燃烧的液态碳氢化合物处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见可不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵322或其他装置，把原始溶液送入作为一个在线燃料处理单元的燃料贮槽，或送入增碳或诱导系统。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，它们通过裂化、分子重组或附加OH根而改良复杂碳氢化合物链，以便改进可燃性、改良燃烧时间，或以任何其他方式改善燃料经济性或减少记者污染物的有害排放，包括减少氮的氧化物，未燃烧的碳，或任何其他不希望的燃烧副产物。

10.用于制冰供水/加工的能量处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入制冰供水贮槽316或制冰水槽。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响冰的结晶体结构，用于改变冰的外观质量、融化时间、气体卷吸、或冰的其他质量。

11.用于控制水垢和腐蚀的蒸汽/水汽/冷凝液系统的高能处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带江或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液322。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入水池。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液18的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在锅炉内锅炉管道/蒸汽/冷凝液系统中、工业蒸汽/低压蒸汽系统中、或其他热传递表面上，影响水垢的形成或腐蚀。

12.用于注入燃料添加剂的高能处理的系统

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入注入溶液添加剂贮槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在把这种溶液注入燃料源、诱导系统或燃烧室时影响它的特性，用于改善燃料特性，减少有害的排气辐射，改良燃料燃烧特性，减少爆呜声和发爆声，或者换句话说，改进发动机性能。

13.脱盐系统中水处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入脱盐系统入口水318中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便这样影响盐水特性：胶体颗粒会絮凝或成团，从而可以用大筛孔机械过滤器或离心器之类装置来预先过滤水。

14.半导体淀积系统中化学处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入淀积系统贮槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响对淀积溶液胶体颗粒的表面吸引特性，于是能够涂上一些较薄较均匀的涂层。

15.改进感光乳剂/光显影循环，例如半导体淀积系统

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场。可见或不可见宽频带光或单色光，或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭合管324，管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入淀积系统贮槽316中。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性；以便影响感光乳剂中胶体颗粒的质量和尺寸分布的特征，从而改善颗粒尺寸和彩色再现，并且处理显影和加工中使用的各种溶液，从而改善吸收率/显影均匀性，改良图像质量和生产时间。

16.改进涂料涂敷附着力和固化

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光，或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入系统贮槽316。然后使从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在涂料的制作和涂敷期间，影响涂料中胶体颗粒的质量和尺寸分布的特性，从而控制色料尺寸分布、底漆聚合物特性、以及凹陷、涂敷厚度、干燥时间、完工质量和硬度。

17.改进电镀加工

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽频带光或单色光、或任何其他能源、激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入电镀溶液/电镀槽316中。然后便从原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响电镀溶液的特性，从而控制被电镀表面的纯度、密度和孔隙度。

18.在农业灌溉中减小蒸发损失的水处理

能源，例如传送设备322，使用一个磁场、电磁场、电场、可见或不可见宽尖带光或单色光、或任何其他能源，激励原始溶液314。于是使原始溶液314处于一种改变的能量状态，并且通过闭路管324、管道系统等，用一个泵332或其他装置，把原始溶液送入装有灌溉水的加工容器/槽316中。然后使从原始溶液出的能量射入二次溶液318中，从而改变二次溶液318的物理特性，即pH值、导电率、Z-电势、粘度、表面张力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影响土壤生长媒体用来吸收水份的速率，并减少水的用量，从而增加农业综合企业利润。

虽然最好是在处理站312与加工站316之间对一个与二次溶液318隔离的原始溶液314进行再循环，但认为任何在站312与站316之间运送一种溶液以促进利用二次发射的处理的系统，均应属于本发明的范围以内。图17-20是一些系统的示范性实施例，它们都通过使经处理的原始溶液314处于二次溶液318的附近来处理二次溶液318。

图17只作为例子示出一个处理系统310，在此，把原始溶液314装在处理站312内。在处理站312与处理二次溶液318的加工站316之间的管道324中，再循环经处理的原始溶液314。在这个实例中，原始溶液314和二次溶液318是互相隔离的。

相反地，图18示出一个处理系统310，在此，在加工站316与处理站312之间的管道324中，再循环二次溶液318。在处理站312，用来自原始溶液314的二次发射来处理二次溶液318。在这个实例中，选择原始溶液314装于处理站312中一个槽内，即它就是装在传送设备322内的溶液(例如，见图11中流体114)。在两种情况下，原始溶液314和二次溶液318都是互相隔离的。

图19示出一个处理系统310，在此，使用一对循环泵332a和332b使二次溶液318在加工站316与处理站312之间双向流动。在这个实例中，原始溶液314就是装在传送设备322内的溶液(见图11中流体114)是与二次溶液318隔离的。把在处理站312的槽内处理过的二次溶液同在加工站316的槽内未处理的二次溶液进行混合，从而处理剩下的二次溶液。

图20示出一个处理系统310，在此，使原始溶液314从一个使用具有RF调制能量的传送设备322来处理它的处理站312，均匀地传送到一个使用来自原始溶液314的二次辐射326来处理二次溶液318的加工站316中。

图21示出一个用于实施上述方法的示范性系统350。在这个系统中，一个类似于参照图12所示设备的传送设备352，被改进成容许一个再循环管354，可以通过一个围绕电压探头196的腔194来传送原始溶液314。(参看图22，这是传送设备352的截面端视图，可看出再循环管354与腔194之间的关系)。如前所述，电压探头196受到处理该腔194中周围溶液的RF调掉能量的作用。然而，在这个实施例中，周围的原始溶液314是用循环泵332通过管道354和324进行再循环的。再循环的原始溶液314是通过一个远程原始溶液槽356进行循环的，颇为类似于上述的辐射器回路330，槽356位于紧挨着一个装有二次溶液318的加工溶液槽358的地方。在这个实施例中，把原始溶液槽356与加工溶液槽358结合起来，形成加工站316。由于原始溶液槽356中所装的经处理的原始溶液314的数量大和它紧靠加工溶液槽358，就足以使二次辐射能够处理加工站316中的二次溶液318。

业已透露，来自经处理的原始溶液的二次辐射能够改良一种紧挨着放置的二次溶液的特性。此外，也已透露，屏蔽能够影响这种二次辐射传递。因此，认为在处理站312与装有再循环处理原始溶液的加工站316(见图16)之间，以及在处理站312与驱动电子器件344之间的管道324部分，最好加以屏蔽，以便对可能放置于处理系统310附近的任何额外的溶液，限制其二次辐射引起的照射。

虽然上面描述了传送设备的目前优选实施例，但图23A-23F示出一些附加的设计准则，它们能够用于建造附加的传送设备，这些设备可处理一种流体，即以后用来处理二次溶液318的原始溶液314。

在图23A中，在由RF调制信号376与378独立地驱动的两个金属板372与374之间容纳或循环一种流体370。每个板都最好覆盖一个薄的绝缘材料涂层380，使流体370与电场板372或374之间没有电连接。

在图23B中，在由RF调制信号376与378独立地驱动的两个金属板372与374之间容纳或循环一种流体370。在这个实施例中，只有一个板，例如板372是覆盖一个薄的绝缘材料涂层380的，使流体370与一个电场板，例如只有板374之间有电连接。

在图23C中，在由RF调制信号376与378独立地驱动的两个金属板372与374之间容纳或循环一种流体370。然而，在这个实施例中，两个板都不覆盖绝缘材料涂层，从而每个板都具有同流体370的电连接。

在图23D中，在由RF调制信号376与375独立地驱动的两个金属板372与374之间容纳或循环一种流体370。在这个实施例中，靠近流体370的金属板的表面积被扩大，使来自信号376和378的RF调制能量对流体370的照射量增加。金属板，可能还有涂层，如参照图23A-23C所述。

在图23E中，通过一个有中央电极的导电管或管道382容纳或循环一种流体370。导电管382和中央电极384是独立地由RF调制信号376和378驱动的。导电管382和中央电极384可以有涂层，如参照图23A-23C所述。

在图23F中，在RF调制信号394、396、398和400独立地驱动的多个金属板386、388、390和392之间，容纳或循环一种流体370。金属板可以具有绝缘材料涂层，如参照图23A-23C所述。多个RF调制信号中的两个信号最好是相移的，以便在泫体370中建立一个旋转电场。

虽然只参照这些现在优选的实施例详细地描述了本发明，但本专业的普通技术人员会了解：能够作出各种修正而不背离本发明。例如本专业的普通技术人员可以设想：使原始溶液314和二次溶液318互相靠近地运送，以便遥控地处理二次溶液。此外，还可以设想结合任何透露辐射器或相当装置的任何透露实施例，以改进传送设备的功效。因此，由下述权利要求书确定本发明。

Claims (38)

1.一种用于把电磁能送入一种溶液的设备，包括：

一个第一管状壳，具有确定一个第一不透水腔的一些封闭端；

线圈装置，装于所述第一腔之内；所述线圈装置把一个磁场送入该溶液中；

电压探测装置，耦合于所述线圈装置，用于把一个电场送入该溶液中；和

用于把电磁信号耦合到所述线圈装置的装置。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述的电压探测装置装于所述设备之内，且和溶液保持电绝缘。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述的电压探测装置包括：

一个不导电的内板，耦合于所述第一壳的内表面，并且确定所述第一腔的一个第一端；

一个不导电的外表面，耦合于所述和一壳的一个第一端，并且在所述内板和外板与所述第一壳之间确定一个第二不透水腔；

一个导电板，装于所述第二腔之内，用于把一个电场送入该溶液中；

一个导体，用于把所述板耦合于所述线圈装置；和

密封装置，用于把所述的导体从装有所述线圈装置的所述第一腔，转到装有所述板的所述第二腔。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述的第二腔充满一种流体。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述的流体是去离子水。

6.根据权利要求3所述的设备，其中所述的线圈装置包括一个导电抽头线圈，该线圈具有一个第一端，一个第二端和一个内抽头；所述的电磁信号耦合于所述第一端和所述内抽头，而所述的电压探测装置耦合于所述第二端。

7.根据权利要求3所述的设备，其中所述的线圈装置包括一个电耦合于所述电磁信号的导电初级线圈，和一个电感地耦合于所述初级线圈的导电次级线圈；所述的电压探测装置耦合于所述次级线圈。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述的线圈装置包括一个电耦合于所述电磁信号的导电初级线圈，和一个电感地耦合于所述初级线圈的导电次级线圈；所述的电压探测装置耦合于所述次级线圈。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述的线圈装置包括一个导电抽头线圈，该线圈具有一个第一端，一个第二端和一个内抽头；所述的电磁信号耦合于所述第一端和所述内抽头，而所述的电压探测装置耦合于所述第二端。

10.根据权利要求2所述的设备，其中所述的电压探测装置包括：

一个第二不透水壳，耦合于所述第一壳的一个外表面；所述的第二壳具有确定一个第二腔的一个内表面；

一个导电板，装于所述第二腔之内，用于把一个电场送入溶液中；

一个导体，用于把所述板耦合于所述线圈装置；和

密封装置，用于把所述的导体从装有所述线圈装置的所述第一腔，转到装有所述板的所述第二腔。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述的第二腔充满一种流体。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述的流体是去离子水。

13.根据权利要求11所述的设备，还另外包括一个第三不导电不透水壳，耦合于所述第二壳；所述的第三壳确定一个第三腔，该腔通过一个公共通道而耦合于所述第二腔。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述的第二腔和第三腔都充满一种流体。

15.根据权利要求14所述的设备，其中所述的流体是去离子水。

16.根据权利要求13所述的设备，其中所述的第三壳具有一个弓形的外表面，用于在外部耦合于一个管道、槽、或其他弯曲表面。

17.根据权利要求1所述的设备，其中所述的线圈装置对耦合于所述电7压探测装置的所述电磁信号，提高其振幅。

18.一种用于把电磁能送入一种溶液的系统，包括：

一个信号发生器，用于生成一个调制的RF信号输出；

一个第一管状壳，具有确定一个第一不透水腔的一些封闭端；

线圈装置，装于所述第一腔之内，用于把一个磁场送入溶液中；

电压探测装置，耦合于所述线圈装置，用于把一个电场送入溶液中；和

用于把所述调制的RF信号耦合于所述线圈装置的装置。

19.根据权利要求18所述的电磁传送系统，其中所述的信号发生器包括：

用于设置所述RF信号振幅的装置；和

用于设置所述RF信号工作循环的装置；

所述的振幅和工作循环设置装置生成所述的调制RF信号。

20.根据权利要求19所述的电磁传送系统，其中所述的振幅和所述的工作循环都是根据试验数据设置的。

21.根据权利要求20所述的电磁传送系统，另外包括传感装置，用于测量溶液中的电磁能；所述的传感装置耦合于所述的振幅和工作循环设置装置，以便确定所述RF信号的所述振幅和工作循环。

22.一种用于把电磁能送入一种溶液的设备，包括：

一个电压探测组件，包含：

一个第一不导电空心壳，用于确定一个第一不透水腔；

一个导电探头，中心地装于所述第一腔内；和

一个流体，大体上围绕所述第一腔内的所述导电探头；

用于生成一个RF调制信号的装置；和

用于把所述RF调制信号耦合于所述电压探测组件的装置。

23.根据权利要求22所述的设备，另外包括一个第二管状壳，它具有确定一个第二不透水腔的一些封闭端，其中所述电压探测组件和所述RF调制信号发生装置都装在所述第二壳之内。

24.根据权利要求23所述的设备，其中所述的RF调制信号发生装置包括：

一个螺旋形线圈，具有第一和和二端和一个中心抽头；和

一个RF发生器，耦合于所述螺旋形线圈的所述第一端和所述中心抽头，其中所述电压探测组件耦合于所述螺旋形线圈的所述第二端。

25.根据权利要求25所述的设备，其中所述的第二不透水腔被基本上分成三段：一个第一不导电段，围绕所述电压探测组件；一个第二不导电段，基本上围绕所述的RF发生器；和一个第三导电段，基本上围绕所述的螺旋形线圈。

26.一种用于处理一种溶液的方法，包括下述步骤：

把RF调制能量加到一个第一溶液中；和

使所述的第一溶液靠近一个第二溶液，以处理所述的第二溶液。

27.一种用于处理一种溶液的方法，包括下述步骤：

在一个处理站把RF调制能量加到一个第一溶液中；

把所述的第一溶液从所述处理站运送到一个装有一个第二溶液的加工站中；和

使所述的第一溶液靠近所述的第二溶液，以处理所述的第二溶液。

28.根据权利要求27所述的方法，其中所述的运送步骤另外包括：在所述处理站与所述加工站之间再循环所述的第一溶液。

29.一种用于处理一种溶液的方法，包括下述步骤：

在一个处理站把RF调制能量加到一个第一溶液中；

把一个第二溶液从一个加工站运送到所述的处理站中；

使所述的第二溶液靠近所述处理过的第一溶液，以处理所述的第二溶液；和

使所述的第二溶液返回到所述的加工站。

30.一种用于处理一个溶液的系统，包括：

一个传送设备，用于把RF调制能量送入一个原始溶液中，以处理所述的溶液；

一个处理站，装有所述的传送设备；

一个加工站，装有一个要用所述系统处理的第二溶液；和

一个闭合回路管道设备，用于在所述处理站与所述加工站之间，对与所述二次溶液隔离的所述处理过的原始溶液，进行再循环；所述的闭合回路管道设备具有一个贴近所述传送设备的第一端通道，和一个贴近所述加工站内所述二次溶液的第二端通道，并且其中所述的二次溶液是通过把它贴近所述处理过原始溶液来处理的。

31.根据权利要求30所述的系统，其中所述的闭合回路管道设备包括：

一个闭合回路管道，装有所述的原始溶液；和

一个循环泵，用于维持所述处理过的原始溶液在所述的闭合回路管道之内流动。

32.根据权利要求30所述的系统，其中所述的闭合回路管道设备是受到保护，不受所述处理过原始溶液中所含二次辐射影响的。

33.根据权利要求30所述的系统，其中所述的处理站是受到保护，不受所述处理过原始溶液中所含二次辐射影响的。

34.根据权利要求30所述的系统，其中所述的闭合回路管道设备另外包括，一个装在所述加工站内的辐射器，用于分配所述二次溶液内的所述处理过原始溶液。

35.根据权利要求30所述的系统，其中所述的传送设备包含一个由所述设备处理的能量接收溶液；所述的原始溶液由于它贴近所述能量接收溶液而受到处理。

36.根据权利要求30所述的系统，另外包括：

驱动电子器件，用于向所述传送设备提供所述RF调制能量；和

一个位于所述二次溶液内的传感器，用于测量一个相当于所述二次溶液处理的数值；

所述的传感器耦合于所述的驱动电子器件，用于修改那种供给所述传送设备的所述RF调制能量的数量。

37.根据权利要求30所述的系统，其中所述的传送设备包括：

一个电压探头，装于一个充满所述原始溶液的腔中；所述电压探头由所述RF调制能量来驱动，以处理所述的原始溶液；和

一个耦合于所述腔的再循环管道，用于使所述原始溶液流过所述腔；所述的再循环管道耦合于所述的闭合回路管道设备，用于再循环所述的处理过的原始溶液。

38.根据权利要求30所述的系统，其中所述的加工站包括：

一个加工溶液槽，装有所述的二次溶液；和

一个贴近所述加工溶液槽的原始溶液槽，用于从所述处理站接收所述的处理过的原始溶液。

Images