CN117480444A - 一种显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示面板及其制造方法、显示装置，显示面板包括第一基板(3或5)和第二基板(5或3)及液晶分子(2)；显示面板中每个子像素包括n个畴区(Sl、S2、S3、S4)，n个畴区(Sl、S2、S3、S4)在第一方向(Y)上排列有至少两个；第一基板(3或5)和第二基板(5或3)中一者或两者设有取向膜(6)，取向膜(6)具有配向方向和/或第一基板(3或5)和第二基板(5或3)中一者或两者设有具有狭缝(11)的狭缝电极(10)；在n个畴区(Sl、S2、S3、S4)中，至少两个相邻畴区中配向方向不同、和/或任意两个相邻畴区中狭缝(11)的延伸方向不同，以使不同畴区内液晶分子(2)具有不同的预倾角，预倾角为液晶分子(2)的倾斜方向与第二方向(X)之同的锐角，且预倾角为大于或等于30°且小于45°，第二方向(X)与第一方向(Y)交叉。能够改善显示装置色偏状况。

Description

一种显示面板及其制造方法、显示装置 技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。

背景技术

在液晶显示面板中，通常每个像素电极对应多个畴区。像素电极上设有狭缝Slit(狭缝)或突起。不同畴区内基板取向膜上的配向方向不同，因此不同畴区内的液晶分子倾斜状态不同。由于垂直配向模式液晶显示器中像素内液晶分子转向非对称性，左右视角色偏及CR(80/20)水准差，影响光学性能。

发明内容

本公开实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，能够改善显示装置色偏状况。

本公开实施例所提供的技术方案如下：

本公开实施例提供了一种显示面板，包括对盒设置的第一基板和第二基板、及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶分子；所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述子像素包括n个畴区，n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向上排列有至少两个；

所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；

在所述n个畴区中，至少两个相邻畴区中所述配向方向不同、和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，所述预倾角为所述液晶分子的倾斜方向与第二方向之间的锐角，且所述预倾角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向与所述第一方向交叉。

示例性的，所述n个畴区沿所述第一方向依次排布，每个所述畴区内的配向方向与所述第二方向之间的锐角大于或等于30°且小于45°。

示例性的，所述取向膜由每个所述畴区经二次曝光处理形成，其中所述二次曝光处理中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向之间的夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。

示例性的，每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向依次排布的第1畴区、第2畴区、第3畴区和第4畴区，其中至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区和所述第3畴区在所述第二方向上的交界线呈镜像对称。

示例性的，在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中的所述狭缝延伸方向不同，每个所述畴区内的所述狭缝延伸方向与所述第二方向之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于或等于45°，且在每个所述畴区内所述配向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝延伸方向之间的夹角小于或等于预定角度。

示例性的，所述预定角度为0～15°。

示例性的，所述第一基板上具有第一取向膜，所述第二基板上具有第二取向膜，所述n个畴区在所述第一方向和所述第二方向上呈M*N阵列分布，其中M*N＝n，所述第一取向膜沿所述第二方向划分为N个第一子区域，所述第二取向膜沿所述第一方向划分为M个第二子区域，且所述N个第一子区域的配向方向为所述第二方向且相邻两个所述第一子区域的配向方向相反，所述M个子区域的配向方向为所述第一方向且相邻两个所述第一子区域的配向方向相反，以使所述第一取向膜和所述第二取向膜配合在所述n个畴区内具有不同配向方向。

示例性的，所述子像素包括4个畴区，所述4个畴区在所述第一方向和所述第二方向上呈2*2阵列排布，且所述4个畴区分布为位于第1行第1列的第1畴区、位于第1行第2列的第2畴区、位于第2行第1列的第3畴区和位于第2行第2列的第4畴区，其中

所述第1畴区、所述第2畴区、所述第2畴区和所述第4畴区之间具有 沿第一方向延伸的第一交界线和沿所述第二方向延伸的第二交界线，且所述第1畴区、所述第2畴区、所述第2畴区和所述第4畴区内所述液晶分子的预倾角关于所述第一交界线和所述第二交界线呈镜像对称。

示例性的，所述第一基板上设有第一电极，所述第二基板上设有第二电极，其中，

所述第一电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第二方向；和/或所述第二电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第一方向。

示例性的，所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，所述第二电极上无狭缝；或者

所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝，且所述第一电极上无狭缝；或者

所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝；或者

所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝、以及与所述第一取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第二狭缝，所述第二电极上无狭缝；或者

所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝，所述第一电极上无狭缝；或者

所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝、以及与所述第一取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第二狭缝，且所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝；或者

所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，且所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝。

示例性的，所述显示面板为垂直配向型显示面板。

本公开实施例还提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

本公开实施例还提供一种显示面板的制造方法，用于制造如上所述的显示面板，其中所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述像素包括n个畴区，n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向上排列有至少两个，所述方法包括如下步骤：

制造第一基板和第二基板，其中所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；

在所述第一基板与所述第二基板之间注入液晶分子，对盒形成所述显示面板，其中在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中所述配向方向不同，和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，其中所述预倾角与第二方向之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向与所述第一方向交叉。

示例性的，所述n个畴区沿所述第一方向依次排布时，所述制造第一基板和第二基板，具体包括：

提供第一衬底，在所述第一衬底上形成第一光取向材料层，通过偏振光对所述第一光取向材料层中每个所述畴区依次进行二次曝光，以使所述第一光取向材料层形成具有配向方向的第一取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°；

和/或

提供第二衬底，在所述第二衬底上形成第二光取向材料层，通过偏振光对所述第二光取向材料层中每个所述畴区分别进行二次曝光，以使所述第二光取向材料层形成具有配向方向的第二取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。

示例性的，进行所述第一次曝光时，将光线透过第一偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第一偏振片为平板分离偏光片，曝光能量为1～7Mj，且配向方向与所述第二方向夹角为0°；

进行所述第二次曝光时，将光线透过第二偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第二偏振片为线栅型偏光片，曝光能量为10～30Mj，且配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。

本公开实施例所带来的有益效果如下：

本公开实施例所提供的显示面板及其制造方法、显示装置，其显示区域中各子像素分为多个畴区，通过改进显示基板上的取向膜的配向方向和显示基板上的电极狭缝延伸方向中至少一者，在所述n个畴区中至少两个相邻畴区中所述配向方向不同和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，来使得液晶分子在不同畴区内的预倾角(即配向方位角)不同，且液晶分子的预倾角大于或等于30°且小于45°，能够改善色偏现象。

附图说明

图1所示为相关技术中一种垂直配向型显示面板的像素单元中一个子像素中狭缝倾斜方向、配向力方向及液晶分子的配向方位角的示意图；

图2所示为相关技术中一种垂直配向型显示面板的像素单元中各个畴区内液晶分子转向示意图；

图3所示为相关技术中对显示基板取向膜各畴区进行曝光配向过程示意图；

图4所示为本公开一种实施例提供的显示面板中彩膜基板取的向膜各畴区进行二次曝光配向过程示意图；

图5所示为本公开另一种实施例提供的显示面板中阵列基板的取向膜各畴区进行二次曝光配向过程示意图；

图6～图9所示为对照例1、实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的液晶显示面板进行色偏改善效果验证的验证数据示意图，其中图6为+30°视 角的色偏测试结果示意图，图7为一30°视角的色偏测试结果示意图，图8为+30°视角的CR(80/20)模拟测试结果示意图，图9为-30°视角的CR(80/20)模拟测试结果示意图；

图10所示为对照例1、实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的液晶显示面板的透过率数据示意图；

图11所示为本公开实施例中提供的显示面板中一个子像素中各个畴区内液晶分子转向示意图；

图12所示为本公开实施例中提供的显示面板中一个子像素中暗线示意图；

图13所示为本公开实施例中提供的显示面板中一个子像素各个畴区中狭缝结构示意图；

图14表示将对照例2、对照例3和实施例5中的液晶显示面板进行CR(80/20)模拟测试的测试结果示意图；

图15表示将上述对照例4和实施例6中的液晶显示面板进行CR(80/20)模拟测试的测试结果示意图；

图16表示将上述对照例5和实施例7中的液晶显示面板进行CR(80/20)模拟测试的测试结果示意图；

图17表示一些实施例中像素单元中第2畴区S2的电场力在图12中F-F’截面视角示意图；

图18表示图17的局部俯视图；

图19～34表示本公开一些实施例中狭缝电极是由阵列基板上的像素电极与彩膜基板上的公共电极组合而成的几种实施方式示意图；

图35表示本公开另一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力及液晶分子的配向方位角的示意图；

图36表示本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力及狭缝设计的示意图；

图37所示为图36所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图38所示为图36所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图39所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配 向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图40所示为图39所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图41所示为图39所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图42所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图43所示为图42所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图44所示为图42所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图45所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图46所示为图45所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图47所示为图45所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图48所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图49所示为图48所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图50所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图51所示为图50所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图52所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图53所示为图52所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图54所示为图52所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图；

图55所示为本公开一些实施例中显示面板的第一基板和第二基板的配向力、狭缝及液晶分子的配向方位角的示意图；

图56所示为图55所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的左视图；

图57所示为图55所示实施例中的第一基板与第二基板贴合后的正视图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然， 所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

在对本公开实施例提供的显示面板及其制造方法、显示装置进行详细说明之前，有必要对于相关技术进行以下说明：

在相关技术中，液晶显示装置中的液晶本身不发光。液晶显示是通过电场控制液晶分子扭转从而控制液晶单元的光透过率，从而达到显示的目的。在垂直配向(Vertical Alignment，VA)模式的液晶显示器中，使用表现出负介电各项异性的液晶来构成液晶单元。垂直配向模式的液晶显示器一般包括CF(color filter，彩色滤光片)基板和TFT(Thin film Transistor，薄膜场效应晶体管)基板，在CF基板和TFT基板上分别设置了公共电极和像素电极，其中像素电极和公共电极中至少一者上设有狭缝，即ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)Slit(狭缝)或突起。

液晶显示装置在不施加电压的情况下，液晶分子垂直于基板排列，电信号可以通过分别设在彩膜基板和阵列基板上的公共电极与像素电极施加。在施加电压的情况下，液晶分子趋向于垂直于电场方向排列，从而偏离垂直基板的方向。具体偏转角度跟所施加偏压大小有关。如此，通过电压信号实现对液晶分子的调制，改变液晶像素的光透过特性，实现图像的显示。

当液晶分子倾斜一定角度的时候，观察者从不同角度将会观察到不同的 显示效果，这就是液晶显示装置的视角问题。为了解决视角问题，垂直取向液晶显示通过在像素中设计出狭缝倾斜角度不同的多个子区域，即多个畴区，像素的显示特性是其中的各个畴区在空间上积分平均的效果。这样，从不同角度观察液晶显示装置时看到的差别减小，视角得以改善。通常像素区域内的液晶分子倾斜状况被分为至少四个畴区。相邻两个畴区内狭缝倾斜方向不同。由于垂直配向模式的液晶显示器中像素内液晶分子转向呈非对称性，相关技术中的液晶显示面板左右视角存在明显的色偏、及CR(80/20)水准差，即正面看与侧面看差别较大，影响光学性能。

图1所示为相关技术中一种垂直配向型显示面板中一个子像素中狭缝倾斜方向与配向力方向的示意图。其中图1中以阵列基板上的像素电极为狭缝电极为例，一个像素分为四个畴区，依次为第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4。各畴区内的狭缝1倾斜方向如图1(a)所示。这里需要说明的是，狭缝1倾斜方向是指，四个畴区沿第一方向Y依次排布，则狭缝1倾斜方向是指狭缝1相对于第二方向X的倾斜方向，该第二方向X与第一方向Y交叉，例如第二方向X与第一方向Y垂直。彩膜基板的公共电极上的配向膜对各畴区内的液晶分子配向力方向如图1(b)中虚线箭头所示。阵列基板与彩膜基板贴合后的液晶显示面板中狭缝1延伸方向与配向膜配向力方向的示意图如图1(c)所示。各畴区内液晶分子配向方位角如图1(d)所示。各畴区内液晶分子与周边液晶分子转向示意如图2所示。具体地，液晶分子的配向为液晶分子头部指向尾部的方向，液晶分子的头部是指图中所示锥形的底面，而液晶分子的尾部是指图所示的锥形的顶部。由图可见，像素畴内液晶分子倾倒状况非对称，且第1畴区和第4畴区内与周边液晶分子转动方向非对称，第1畴区边界逆时针旋转，第2畴区边界顺时针旋转，边界处旋转角度差异可能影响左右视角色偏状况。

此外，相关技术中，液晶显示器在阵列基板和彩膜基板的内侧面设置有取向膜，取向膜的表面具有取向沟槽，对液晶分子进行锚定，为液晶分子提供一定的预倾角。现有技术中，对取向膜进行取向的技术包括摩擦取向技术和光配向技术。由于光配向技术通过紫外光对取向膜进行曝光取向，是非接触式的取向方式，不会出现摩擦取向工艺中的碎屑，也没有静电造成的不良， 而且液晶的预倾角很小，画面品质极佳。因此，光配向技术得到越来越广泛的应用。

液晶显示装置通过向阵列基板和对置基板(例如，彩膜基板)之间的液晶层施加电场来产生图像。电场改变液晶层中液晶分子的取向方向(alignment direction)。当液晶分子的取向方向改变时，液晶层的透光率被调整。液晶显示装置中的液晶分子在取向方向上预取向。通常，向阵列基板和对置基板之一或两者应用取向膜。随后，对取向膜进行配向以实现配向方向。光配向技术中，取向膜包括光取向材料。可以通过偏振紫外光的照射来对光取向材料进行取向。在光取向工艺中，光取向材料吸收偏振紫外光，经过分解或异构，从而实现光学各向异性。光学各向异性可以诱导液晶分子沿取向方向取向。

发明人经研究发现，在相关技术中液晶显示装置中取向膜的配向方向及狭缝倾斜方向均为45°，因在同一像素内液晶分子配向方向非对称，导致左右视角色偏水准较差。为了改善上述问题，本公开实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，能够改善显示装置色偏状况。

本公开实施例提供的显示面板，包括对盒设置的第一基板和第二基板、及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶分子；所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述子像素包括n个畴区，n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向Y上排列有至少两个；所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；在所述n个畴区中，至少两个相邻畴区中所述配向方向不同、和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，所述预倾角为所述液晶分子的倾斜方向与第二方向之间的锐角，且所述预倾角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向与所述第一方向Y交叉。

需要说明的是，所述第二方向X与所述第一方向Y交叉，示例性的，所述第二方向X与所述第一方向Y垂直。

上述方案中，所述显示面板的显示区域中子像素分为多个畴区，通过改进显示基板上的取向膜的配向方向和显示基板上的电极狭缝延伸方向中至少 一者，在所述n个畴区中至少两个相邻畴区中所述配向方向不同和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，来使得液晶分子在不同畴区内的预倾角(即配向方位角)不同，且液晶分子的预倾角大于或等于30°且小于45°，这样可使得液晶分子在各个畴区内的配向方向与第二方向X之间的锐角角度减小，相较于相关技术中液晶分子预倾角设计为45°的方案，可以改善色偏现象。本公开实施例提供的像素单元中各畴区内液晶分子转向示意图如图3所示。

在本公开一些实施例中，所述预倾角可以为大于或等于35°且小于45°。此时，应用本公开的像素单元的液晶显示面板的左右视角色偏改善效果较为明显。更进一步的，所述预倾角为37°时左右视角色偏改善效果最佳。

当然可以理解的是，在实际应用中，所述预倾角的具体数值可以根据实际产品进行调整。

还需要说明的是，在一些实施例中，所述第一基板可以是阵列基板，所述第一电极可以为像素电极，所述第二基板可以为彩膜基板，所述第二电极可以为公共电极。

所述液晶分子的预倾角大小可以由显示基板上的取向膜配向方向、以及狭缝的颜色方向等确定。在本公开一些实施例中，可通过对显示基板上在不同畴区内的取向膜配向方向进行改进，以实现所述液晶分子的预倾角在大于或等于30°且小于45°。

具体地，一些实施例中，所述n个畴区沿所述第一方向Y依次排布，每个所述畴区内的配向方向与所述第二方向X之间的锐角大于或等于30°且小于45°。

此外所述第一基板和所述第二基板中的一者或两者具有取向膜，其所指的是：针对每个所述畴区内的所述配向方向，其可以是第一基板单侧进行配向，第二基板上无配向方向；还可以是，第一基板上无配向方向，第二基板上单侧进行配向；还可以是第一基板进行配向，第二基板进行配向，第一基板与第二基板贴合后，第一基板和第二基板的配向方向合成而实现对各畴区的液晶分子的配向。

此外，由于取向膜的表面具有取向沟槽，对液晶分子进行锚定，为液晶 分子提供一定的预倾角。现有技术中，对取向膜进行取向的技术包括摩擦取向技术和光配向技术。由于光配向技术通过紫外光对取向膜进行曝光取向，是非接触式的取向方式，不会出现摩擦取向工艺中的碎屑，也没有静电造成的不良，而且液晶的预倾角很小，画面品质极佳。

因此，本公开一些实施例中，采用光配向技术来对第一基板和第二基板的一者或两者上的取向膜进行配向。

在相关技术中，对阵列基板和彩膜基板上的取向膜进行配向时，由于配向方向为与第二方向X的锐角夹角为45°，且为非对称配向方向。采用光配向技术进行配向时，通过是针对各个畴区分别进行一次曝光，具体地，其曝光工艺可以如下：首先，在衬底基板上形成取向材料层，然后，将光线透过偏振片照射至该取向材料层中进行曝光，所采用的偏振片为WGP(Wire Grid Pol，线栅型偏光片)，该WGP可直接对取向材料层进行曝光而形成为具有与第二方向X的锐角夹角为45°的配向方向的取向膜。具体的，以阵列基板为例，如图3所示，所述畴区有四个，分别为第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，参见图3中(a)～(d)，通过WGP形成的偏振光依次对各畴区进行曝光配向，其中各畴区的配向方向如图中虚线箭头所示，最终得到如图(e)所示的配向方向，其中虚线箭头所指即为配向方向，各畴区的配向方向如图(e)所示，各畴区内的液晶分子的配向方位角如图(f)所示。

而本公开实施例中，所述取向膜是通过对每个所述畴区二次曝光处理而使得各所述畴区具有配向方向，其中所述二次曝光处理中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X之间的夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X之间的锐角夹角为45°。

图4所示是以阵列基板上进行二次曝光对取向膜进行配向的工艺流程示意图，图中虚线框E表示对各畴区依次进行第一次曝光的工艺示意图，虚线框E’表示经第一次曝光后的各畴区的配向方向示意图。图中虚线框F表示对各畴区依次进行第二次曝光的工艺示意图，虚线框F’表示第二次曝光工艺各畴区的配向方向示意图。虚线框H表示经第二次曝光后的各畴区的配向方向示意图。虚线框G表示经二次曝光后的各畴区的液晶分子的配向方位角 的示意图。

请参见图4所示，一种实施例中，以第一基板单侧曝光形成具有配向方向的第一取向膜为例，具体的曝光工艺可以如下：

首先，提供第一衬底，在所述第一衬底上形成第一光取向材料层；

然后，通过偏振光对所述第一光取向材料层中每个所述畴区依次进行第一次曝光，所形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为0°，例如以图4虚线框E所示为例，每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向Y依次排布的第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，经第一次曝光后所述第一光取向材料层的配向方向为：至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区S2和所述第3畴区S3在所述第二方向X上的交界线呈镜像对称(如图4中第一次曝光配向时第1畴区S1和第2畴区S2的配向方向相反，第2畴区S2与第3畴区S3的配向方向一致，第3畴区S3和第4畴区S4的配向方向相反)，其中该第一次曝光工序中光线透过第一偏振片形成所述偏振光，该偏振光照射所述第一光取向材料层以对所述第一光取向材料层进行曝光，所述第一偏振片可以选用平板分离偏光片(polarization beam splitter，PBS)，曝光能量为低能量，例如曝光能量为1～7Mj(曝光能量可根据不同的取向膜材料进行合理设定)，且配向方向与所述第二方向X夹角为0°；

然后，将经上述第一次曝光后的第一基板通过偏振光对所述第一光取向材料层中每个所述畴区依次进行第二次曝光，所形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为45°，例如以图4中虚线框F所示为例，每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向Y依次排布的第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，经第二次曝光后所述第一光取向材料层的配向方向为：至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区S2和所述第3畴区S3在所述第二方向X上的交界线呈镜像对称(如图4中第二次曝光配向时第1畴区S1和第2畴区S2的配向方向相反，第2畴区S2与第3畴区S3的配向方向一致，第3畴区S3和第4畴区S4的配向方向相反)，其中该第二次曝光工序中光线透过第二偏振片形成所述偏振光，该偏振光照射所述第一光取向材料层以对所述第一 光取向材料层进行曝光，所述第二偏振片可以选用WGP(线栅型偏光片)，曝光能量为高能量，例如曝光能量为10～30Mj(曝光能量可根据不同的取向膜材料进行合理设定)，且配向方向与所述第二方向X夹角为45°；

如图4中虚线框H所示，经过二次曝光之后的所述第一基板上的第一取向膜的配向方向与第二方向X之间具有预设夹角，该预设夹角大于或等于30°且小于45°，在各畴区的配向力作用下所述液晶分子在各畴区内的预倾角大于或等于30°且小于45°。

图5所示是以彩膜基板上进行二次曝光对取向膜进行配向的工艺流程示意图，图中虚线框E表示对各畴区依次进行第一次曝光的工艺示意图，虚线框E’表示经第一次曝光后的各畴区的配向方向示意图。图5中虚线框F表示对各畴区依次进行第二次曝光的工艺示意图，虚线框F’表示第二次曝光工艺各畴区的配向方向示意图(其中图5中以彩膜基板为例进行的示意，因此虚线框E和虚线框F为取向膜朝上的示意图，虚线框E’和虚线框F’为取向膜朝下的示意图)。虚线框H表示经第二次曝光后的各畴区的配向方向示意图。虚线框G表示经二次曝光后的各畴区的液晶分子的配向方位角的示意图。

另一种实施例中，如图5所示，以第二基板单侧曝光形成具有配向方向的第二取向膜为例，具体的曝光工艺可以如下：

首先，提供第二衬底，在所述第二衬底上形成第二光取向材料层；

然后，通过偏振光对所述第二光取向材料层中每个所述畴区依次进行第一次曝光，所形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为0°，例如以图5所示为例，每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向Y依次排布的第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，经第一次曝光后所述第一光取向材料层的配向方向为：至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区S2和所述第3畴区S3在所述第二方向X上的交界线呈镜像对称(如图5中第一次曝光配向时第1畴区S1和第2畴区S2的配向方向相反，第2畴区S2与第3畴区S3的配向方向一致，第3畴区S3和第4畴区S4的配向方向相反)，其中该第一次曝光工序中光线透过第一偏振片形成所述偏振光，该偏振光照射所述 第二光取向材料层以对所述第二光取向材料层进行曝光，所述第一偏振片可以选用平板分离偏光片(polarization beam splitter，PBS)，曝光能量为低能量，例如曝光能量为1～7Mj(曝光能量可根据不同的取向膜材料进行合理设定)，且配向方向与所述第二方向X夹角为0°；

然后，将经上述第一次曝光后的第二基板通过偏振光对所述第二光取向材料层中每个所述畴区依次进行第二次曝光，所形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为45°，例如以图5虚线框F所示为例，每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向Y依次排布的第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，经第一次曝光后所述第二光取向材料层的配向方向为：至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区S2和所述第3畴区S3在所述第二方向X上的交界线呈镜像对称(如图5中虚线框F’中第1畴区S1和第2畴区S2的配向方向相反，第2畴区S2与第3畴区S3的配向方向一致，第3畴区S3和第4畴区S4的配向方向相反)，其中该第二次曝光工序中光线透过第二偏振片形成所述偏振光，该偏振光照射所述第二光取向材料层以对所述第二光取向材料层进行曝光，所述第二偏振片可以选用线栅型偏光片(WGP)，曝光能量为高能量，例如曝光能量为10～30Mj(曝光能量可根据不同的取向膜材料进行合理设定)，且配向方向与所述第二方向X夹角为45°；

如图5中虚线框H和G所示，经过二次曝光之后的所述第二基板上的第二取向膜的配向方向与第二方向X之间具有预设夹角，该预设夹角大于或等于30°且小于45°，在各畴区的配向力作用下所述液晶分子在各畴区内的预倾角大于或等于30°且小于45°。

需要说明的是，图4和图5中仅示意出了第一基板和第二基板上配向方向的一种实施例，在其他实施例中，第一基板和第二基板上配向方向还可以是与图4和图5所示的配向方向相反。

此外，以上两种实施例中均是在第一基板或第二基板单侧的取向膜上进行配向，在另一些实施例中，也可以是在第一基板和第二基板双侧的取向膜上分别进行配向。

以图4所示为例，参照上述图所示实施例可在第一基板上的第一取向膜 进行二次曝光进行配向，参照上述图5所示实施例可在第二基板上的第二取向膜进行二次曝光进行配向。需要说明的是，以图4所示的第一基板上第一取向膜的配向方向为例，第二基板的第二取向膜会与第一基板的第一取向膜相对，因此，如图5所示，第二基板上的第二取向膜的配向方向应与第一取向膜的配向方向相反，以保证第一取向膜和第二取向膜的配向力作用于液晶时配向力方向一致。

以下说明本公开实施例提供的显示面板中采用上述二次曝光处理对取向膜进行配向，以使所述液晶分子的预倾角设计为大于或等于30°且小于45°，相较于相关技术中液晶分子的预倾角为45°，能够带来改善色偏现象的技术效果的验证结果：

以相关技术中一种液晶显示面板作为对照例，应用本公开提供的像素单元的液晶显示面板作为实验例，对本公开实施例提供的显示面板能够改善色偏的技术效果进行验证。其中，对照例1中液晶显示面板中取向膜采用WGP(线栅型偏光片)形成偏振光经一次曝光以配向方向为45°。实施例1的显示面板是第一基板单侧对各畴区进行二次曝光，第一次曝光采用平板分离偏光片(PBS)进行低能量曝光，曝光能量为5Mj，第二次曝光采用WGP(Wire Grid，线栅型偏光片)进行高能量曝光，曝光能量为20Mj；实施例2的显示面板是第一基板单侧对各畴区进行二次曝光，第一次曝光采用平板分离偏光片(PBS)进行低能量曝光，曝光能量为7Mj，第二次曝光采用WGP(Wire Grid，线栅型偏光片)进行高能量曝光，曝光能量为20Mj；实施例3的显示面板是第一基板单侧对各畴区进行二次曝光，第一次曝光采用平板分离偏光片(PBS)进行低能量曝光，曝光能量为10Mj，第二次曝光采用WGP(Wire Grid，线栅型偏光片)进行高能量曝光，曝光能量为20Mj；实施例4的显示面板是第一基板单侧对各畴区进行二次曝光，第一次曝光采用平板分离偏光片(PBS)进行低能量曝光，曝光能量为15Mj，第二次曝光采用WGP(Wire Grid，线栅型偏光片)进行高能量曝光，曝光能量为20Mj。

将上述对照例1和实施例1、实施例2、实施例3和实施例4中的液晶显示面板进行CR(80/20)±30°模拟测试，测试结果如图6至图9所示，其中图6为+30°视角得到的色偏测试结果示意图，图中横坐标表示纵坐标表示色偏 值；图7为-30°视角得到的色偏测试结果示意图，图中纵坐标表示色偏值。图8为+30°视角得到的CR(80/20)验证数据示意图；图9为-30°视角得到的CR(80/20)验证数据示意图。

图10所示为对照例1和实施例1、实施例2、实施例3和实施例4中的液晶显示面板透过率测试结果示意图。

由图6至图10可知，随着PBS曝光能量的提升，色偏改善明显，但是透过率影响恶化。PBS曝光能量在7Mj以下时，透过率影响较小(2％以内)，PBS曝光能量在5Mj能量时，透过率影响最小(1％以内)，且色偏及CR(80/20)±30°有大幅改善。透过率推移数据如图10所示。

综合上述，通过对取向膜进行PBS低能量第一次曝光、WGP高能量第二次曝光搭配，将每个畴区内液晶分子的配向方位角向＜45°调整，可有效改善显示面板的色偏及CR(80/20)水准。其中PBS曝光能量为1～7Mj效果较好，3～5Mj为最适能量，可在透过率影响1％内的基础上，大幅优化色偏及CR(80/20)水准。

此外，为了进一步提升透过率，所述第一基板和所述第二基板中的一者或两者设置具有狭缝的狭缝电极。即，狭缝可设置在第一基板的第一电极，也可设置在第二基板的第二电极上，还可以是在第一基板的第一电极和第二基板的第二电极上组合设置狭缝。

并且，示例性的，在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中的所述狭缝延伸方向不同，每个所述畴区内的所述狭缝延伸方向与所述第二方向X之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于或等于45°，且在每个所述畴区内所述配向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝延伸方向之间的夹角小于或等于预定角度。

上述方案中，各个畴区内的狭缝延伸方向与第二方向X之间的预设夹角即狭缝的倾斜角度，每个所述畴区内的所述狭缝的倾斜角度设计为大于或等于30°且小于45°，这样可使得液晶分子在各个畴区内的配向方位与第二方向X之间的锐角角度减小，相较于相关技术中狭缝倾斜角度设计为45°，可以改善色偏现象。

示例性的，在不同所述畴区内所述液晶分子的预倾角不同且相邻两个所 述畴区内所述液晶分子关于所述第二方向X非镜像对称。以图11所示为例，所述像素单元内划分为四个畴区，分别为第1畴区S1、第2畴区S2、第3畴区S3和第4畴区S4，第1畴区S1的液晶分子的配向方位角为315°，第二畴区的液晶分子的配向方位角为45°，第三畴区的液晶分子的配向方位角为225°，第四畴区104的液晶分子的配向方位角为135°。具体地，液晶分子的取向为液晶分子头部指向尾部的方向，液晶分子的头部是指图11中所示锥形的底面，而液晶分子的尾部是指图11所示的锥形的顶部。

需要说明的是，本申请中所说的液晶分子的配向方位角是指液晶分子的取向与第二方向X沿逆时针方向所呈的夹角，液晶分子的配向方位角表明了液晶分子受到的配向力的方向。

示例性的，在每个所述畴区内所述取向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝的延伸方向之间的夹角小于或等于预定角度，示例性的，所述预定角度为0～15°。也就是说，在每个所述畴区内所述取向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝的延伸方向大致平行。

优选的，所述预定角度为0°，也就是说，在每个所述畴区内所述取向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝的延伸方向平行。此时，液晶分子的配向方位角更易确定，施加电压更易控制精度。

本公开实施例所提供的所述显示面板可以为垂直配向型显示面板。但是可以理解的是，不仅限于垂直配向型显示面板。

此外，本公开实施例提供的显示面板中，所述第一基板可以为阵列基板时，所述第一电极可以为像素电极，所述第二基板可以为彩膜基板，所述第二电极可以为公共电极，其中，所述像素电极和所述公共电极中的一者上可设置狭缝，另一者上不设置狭缝，或者所述像素电极和所述公共电极两者均可设置狭缝。

此外，如图13所示，一些实施例中，所述狭缝电极10包括在每个所述畴区内的相互平行且间隔排布的多条分支电极12，相邻两个所述畴区之间具有沿所述第二方向X延伸的畴间主干电极13，相邻两个所述畴区内所述分支电极12关于所述畴间主干电极13呈镜像对称。

在相关技术中，狭缝电极10还包括在畴区且位于分支电极12外围的畴 边界主干电极14。如图13所示，畴边界主干电极14围绕在多个分支电极12的四周侧，作为狭缝电极10的边界。也就是说，多个分支电极12未延伸至狭缝电极10的边界，而是与边界具有一定距离，例如距离边界5.5微米等。

发明人经研究发现，在显示面板中，位于畴区内的液晶分子是处于安定状态的，通过调节电场力的大小能够控制该液晶分子的偏转角度从而控制显示亮度；而畴间及畴边界处的液晶分子是处于不安定状态的，畴间及畴边界处通常表现为暗线，畴边界处的电极越宽则显示面板的透过率越低。以图所示相关技术中一种显示面板中像素结构为例。其暗线如图中粗实线所示。

为了进一步地改善左右视角色偏差异及提升透过率，在一些示例性的实施例中，如图13所示，每个所述畴区包括在所述第一方向Y上相对的第一侧A和第二侧B，多个畴区包括从所述第一侧A至所述第二侧B依次排列的第1畴区S1、第2畴区S2……和第n畴区，其中所述第1畴区S1的狭缝11延伸至且连通所述第一侧A的边界，以使所述第一侧A的边界形成多个所述狭缝11和多个所述分支电极12交错的非封闭结构；所述第n畴区的狭缝11延伸至且连通所述第二侧B的边界，以使所述第二侧B的边界形成多个所述狭缝11和多个所述分支电极12交错的非封闭结构。

为了更为清楚的说明上述方案，以图13中所示方位为例，位于最上方的第1畴区S1的狭缝11与像素电极的上边界连通，也就是说，上边界不设置畴边界主干电极14，同样，位于最下方的第n畴区(即图13中第4畴区S4)的狭缝11与像素电极的下边界连通，即下边界不设置畴边界主干电极14，这样，可使得第1畴区S1和第n畴区与该像素的上、下边界交接处液晶分子在电场力作用下更加安定，从而可进一步地降低左右视角色偏差异。

以相关技术中一些液晶显示面板作为对照例，应用本公开提供的像素单元的液晶显示面板作为实验例，对本公开实施例提供的像素单元的上述技术效果进行验证。其中，对照例2中液晶显示面板中像素电极的上边界和下边界均具有畴边界主干电极14，且狭缝11倾斜角度为45°。实施例5中应用本公开实施例提供的像素单元的液晶显示面板中像素电极的第1畴区S1狭缝11连通至上边界(即上边界无畴边界主干电极14)和第n畴区狭缝11连通至下边界(即下边界无畴边界主干电极14)，且狭缝11倾斜角度为45°。实 施例6中应用本公开实施例提供的像素单元的液晶显示面板中像素电极的第1畴区S1狭缝11连通至上边界(即上边界无畴边界主干电极14)和第n畴区狭缝11连通至下边界(即下边界无畴边界主干电极14)，且狭缝11倾斜角度为40°。

将上述对照例2、对照例3和实施例5中的液晶显示面板进行CR(80/20)模拟测试，测试结果如图14所示。其中图14(a)中所示为对照例2的测试结果，图14(b)所示为实施例5的测试结果，图14(c)中所示为对照例3的测试结果。将上述对照例2、对照例3和实施例5中的液晶显示面板进行CR(80/20)模拟测试，测试结果如图15所示。由图14和图15的测试结果可知，将狭缝11倾斜角度优化至40°，且所述第1畴区S1的狭缝11延伸至所述第一侧A的边界、所述第n畴区的狭缝11延伸至所述第二侧B的边界时，液晶显示面板的左右视角色偏CR(80/20)改善，同时左右视角色偏差异缩小。

需要说明的是，以上实施例中所述第1畴区S1的狭缝11延伸至所述第一侧A的边界，同时所述第2畴区S2的狭缝11延伸至所述第二侧B的边界，然而在其他未示意的实施例中，也可以仅将所述第1畴区S1的狭缝11延伸至所述第一侧A的边界，或者仅将所述第2畴区S2的狭缝11延伸至所述第二侧B的边界。

此外，为了进一步改善相关技术中显示面板的透过率低的问题，本公开实施例中，示例性的，每个所述畴区还包括在所述第二方向X上相对的第三侧和第四侧，多个畴区包括从所述第一侧A至所述第二侧B依次排列的第1畴区S1、第2畴区S2…第m畴区…和第n畴区，m为大于1且小于n的正整数，其中至少一个所述第m畴区的狭缝11延伸至所述第三侧的边界，以使所述第二侧B的边界形成多个所述狭缝11和多个所述分支电极12交错的非封闭结构，所述第三侧为所述第m畴区形成暗线的一侧。

上述方案中，所述第三侧即为所述第m畴区形成暗线的一侧，所述第m畴区的狭缝11延伸至所述第三侧的边界，这样，可将暗线向畴区外侧推移，使所述第m畴区处液晶分子更为安定，从而有效改善色偏及提升透过率。

需要说明的是，上述第m畴区是指位于第1畴区S1和第n畴区之间的 任一畴区。在一些实施例中，除所述第1畴区S1和所述第n畴区之外的其他畴区的狭缝11均可延伸至所述第三侧的边界。例如，以图13所示实施例为例，四个畴区中第2畴区S2和第3畴区S3的狭缝11均延伸至第三侧边界(图13中所示方位中左侧边界即为第三侧边界)。

例如，以图13所示的像素单元中一个像素划分为四个畴区为例，第1畴区S1的狭缝11延伸至上边界，第4畴区S4的狭缝11延伸至下边界，第2畴区S2和第3畴区S3的液晶分子配向方向以图5所示为例，则根据液晶分子配向方向可确定暗线会出现在图13示的左边界，因此第2畴区S2和第3畴区S3的狭缝11可均延伸至左边界。

应当理解的是，图13所示仅为一种示例，在实际应用中，所述第三侧边界是以液晶分子配向方向来确定，不限于图13所示的实施例。

此外，在一些示例性的实施例中，至少一个所述第m畴区的狭缝11延伸至所述第四侧的边界，以使所述第二侧B的边界形成多个所述狭缝11和多个所述分支电极12交错的非封闭结构。上述方案，在第m畴区的第四侧边界也可以设计为狭缝11延伸至边界处。

当然，在另一些示例性的实施例中，如图13所示，至少一个所述第m畴区在所述第四侧边界具有沿所述第一方向Y延伸的畴边界主干电极14。上述方案，由于在第m畴区的第四侧不存在暗线，因此在第四侧边界处可设置畴边界主干电极14。

此外，本公开实施例中所提供的像素单元中，所述狭缝电极10为像素电极和公共电极中的至少一者。也就是说，所述狭缝11可以是设置在像素电极上，也可以是设置在公共电极上，也可以是像素电极与公共电极组合设置狭缝11。

其中所述像素电极可以设置在阵列基板上，所述公共电极可以设置在彩膜基板上。请参见图19至图26，具体地，

一些实施例中，所述像素电极为所述狭缝电极10，其在各个所述畴区内分别设置有所述狭缝11，而所述公共电极在各个所述畴区内可不设置狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第1畴区S1和第2畴区S2设 置有所述狭缝11，所述公共电极在第3畴区S3和第4畴区S4设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第3畴区S3和第4畴区S4设置有所述狭缝11，所述公共电极在第1畴区S1和第2畴区S2设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第1畴区S1和第3畴区S3设置有所述狭缝11，所述公共电极在第2畴区S2和第4畴区S4设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第2畴区S2和第4畴区S4设置有所述狭缝11，所述公共电极在第1畴区S1和第3畴区S3设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第1畴区S1和第4畴区S4设置有所述狭缝11，所述公共电极在第2畴区S2和第3畴区S3设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述像素电极和所述公共电极组合为所述狭缝电极10，其中以畴区数量为四个为例，所述像素电极在第2畴区S2和第3畴区S3设置有所述狭缝11，所述公共电极在第1畴区S1和第4畴区S4设置有所述狭缝11，当所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，则所述像素电极与所述公共电极组合，从而在各个所述畴区内均具有所述狭缝11；

另一些实施例中，所述公共电极为所述狭缝电极10，其在各个所述畴区 内分别设置有所述狭缝11，而所述像素电极在各个所述畴区内可不设置狭缝11。

需要说明的是，以上仅是一些示例，在实际应用中，所述像素电极和所述公共电极上的狭缝11布置方式不限于此，在此不再一一列举。

此外，还需要说明的是，图19至图26所示意的像素中狭缝11倾斜方向仅是一种示例，在另一些实施例中，如图27至图34所示，所述狭缝11的倾斜方向还可以是与图19至图26所示的狭缝11倾斜方向关于所述第一方向Y呈镜像对称。

图17所示为一些实施例中像素单元中第2畴区S2的电场力截面斜视角示意图，结合图12所示的第2畴区S2内的液晶分子转向示意图，图18为图17的俯视图。以彩膜基板5曝光为例，液晶分子2依据配向力方向进行倾倒，阵列基板3上像素电极4作为狭缝电极10，液晶分子2在彩膜基板5上第二取向层6的配向力、及阵列基板3上的狭缝11电场力作用下，完成方位角旋转，根据液晶分子方位角旋转状态形成4个畴区分割。

以上实施例是针对每个子像素内在第一方向Y上排布n个畴区的显示面板，其为了实现对液晶分子的配向方位角大于或等于30°且小于45°以改善色偏现象，第一基板或第二基板中的一者或两者上取向膜的配向方向与狭缝电极的配置方式。

在相关技术中，还存在其他多畴排布方式的显示面板，以下就提供另一种取向膜的配向方向与狭缝电极的配置方式，来实现本公开提供的显示面板。

在相关技术中，如图35所示，在相关技术中还存在一种实现显示面板上取向膜进行配向的工艺。其实采用WGP形成偏振光对取向膜曝光配向，若无狭缝电极配合，液晶分子方位角与暗线较差。如图35所示，该工艺中彩膜基板和阵列基板分别需要进行四次WGP曝光。以图35虚线框E所示为例，阵列基板上在第二方向X上分为两个第一子区域31，每个第一子区域31分别曝光两次，因此阵列基板需次WGP曝光4次，曝光顺序不限制，曝光完成后，阵列基板的两个第一子区域31可合成与所述第二方向X夹角为0°的横向相反的配向方向(如图35中虚线框E’所示)；以图35虚线框F所示为例，彩膜基板上在第一方向Y上分为两个第二子区域51，每个第二子区域 51分别曝光两次，因此彩膜基板需次WGP曝光4次，曝光顺序不限制，曝光完成后，彩膜基板的两个第二子区域51可合成与所述第一方向Y夹角为0°的纵向相反的配向方向(图35虚线框F’所示)。上述彩膜基板与阵列基板贴合后各畴区配向方向如图5虚线框H所示，液晶分子的旋转方向示意及暗线形成示意如图35中虚线框I至K所示，其中黑粗实线所指即为暗线。由图35虚线框K可知，显示面板上可形成横向1条暗线，纵向1条暗线，暗线形态呈“十”字型。上述显示面板的像素暗线的幅宽较大且暗线形态未达到最佳状况，整体呈现扭曲状态。主要受到彩膜基板和阵列基板两侧液晶分子的配向方位角的精度影响，导致畴区中间的液晶分子配向方位角与预设角度存在差异，进而导致像素显示十字暗线及影响透过率。

本公开另一些实施例中，所述第一基板上具有第一取向膜，所述第二基板上具有第二取向膜，所述n个畴区在所述第一方向Y和所述第二方向X上呈M*N阵列分布，其中M*N＝n，所述第一取向膜沿所述第二方向X划分为N个第一子区域31，所述第二取向膜沿所述第一方向Y划分为M个第二子区域51，且所述N个第一子区域31的配向方向为所述第二方向X且相邻两个所述第一子区域31的配向方向相反，所述M个子区域的配向方向为所述第一方向Y且相邻两个所述第一子区域31的配向方向相反，以使所述第一取向膜和所述第二取向膜配合在所述n个畴区内具有不同配向方向。

上述方案中，显示面板中各子像素内的多个畴区是呈阵列排布，以图35所示实施例为例，图35中虚线框E所示为阵列基板上的两个第一子区域31进行四次曝光配向的过程示意图，虚线框E’所示为阵列基板上配向合成示意图；图35中虚线框F所示为彩膜基板上的两个第二子区域51进行四次曝光配向的过程示意图，虚线框F’所示为彩膜基板上配向合成示意图；图35中虚线框H所示为阵列基板与彩膜基板合成后的配向力示意图；虚线框I所示为阵列基板侧液晶分子转向示意图；虚线框J所示为彩膜基板侧液晶分子转向示意图；虚线框K所示为液晶分子中间态及暗线示意图。

如图35所示，所述子像素包括4个畴区，所述4个畴区在所述第一方向Y和所述第二方向X上呈2*2阵列排布，且所述4个畴区分布为位于第1行第1列的第1畴区S1、位于第1行第2列的第2畴区S2、位于第2行第1 列的第3畴区S3和位于第2行第2列的第4畴区S4，其中所述第1畴区S1、所述第2畴区S2、所述第2畴区S2和所述第4畴区S4之间具有沿第一方向Y延伸的第一交界线和沿所述第二方向X延伸的第二交界线，且所述第1畴区S1、所述第2畴区S2、所述第2畴区S2和所述第4畴区S4内由所述第一取向膜和所述第二取向膜的配向力合成的配向方向关于所述第一交界线和所述第二交界线呈镜像对称。

彩膜基板与阵列基板贴合后，液晶分子中位于阵列基板一侧的液晶分子转向情况如图35虚线框I所示，位于彩膜基板一侧的液晶分子转向情况如图35虚线框J所示，液晶分子中间态及暗线情况如图35虚线框K所示。且所述第1畴区S1、所述第2畴区S2、所述第2畴区S2和所述第4畴区S4内所述液晶分子的预倾角关于所述第一交界线和所述第二交界线呈镜像对称。

在本实施例中，可以通过上述第一取向膜和第二取向膜的合成配向力作用于液晶分子，以使液晶分子具有大于或等于30°且小于45°的预倾角(即配向方位角)。

在一些实施例中，如图36所示，所述第一基板上的第一电极和所述第二基板上的第二电极上可不设置狭缝，此时，第一基板和第二基板表面的液晶分子方位角由取向膜的配向力控制，第一基板与第二基板贴合后像素侧视截面图如图37，正视截面图如图38所示。畴区中间的液晶分子配向方位角与预设角度存在差异，液晶分子的配向方位角精度较差，像素显示十字暗线，影响透过率。

为了进一步提升透过率，细化暗线，优化光学特性，在另一些实施例中，所述第一基板上设有第一电极，所述第二基板上设有第二电极，其中，所述第一电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第二方向X；和/或所述第二电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第一方向Y。

具体地，如图39所示，一种实施例中，如图39(a)所示，所述第一基板3的第一电极为狭缝电极，其上设置沿所述第二方向X延伸的多条第一狭缝110，也就是，第一狭缝110与第一基板3的第一取向膜上的配向方向大致平行。如图39(b)所示，所述第二基板5上的第二电极上无狭缝。此时，第一基板3和第二基板贴合后的配向方向及液晶分子方向示意如图39(c)所 示，第一基板3与第二基板5贴合后图39(c)中像素左视截面图如图40所示，正视截面图如图41所示，其中E表示电场力。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第一基板3侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。

如图42所示，另一种实施例中，如图42(b)所示，所述第二基板5的第二电极为狭缝电极，其上设置沿所述第一方向Y延伸的第二狭缝111，也就是，第二狭缝111与第二基板5的第二取向膜上的配向方向大致平行。如图42(a)所示，所述第一基板3上的第一电极上无狭缝。此时，第一基板3和第二基板5贴合后显示面板的配向方向及液晶分子方向如图42(c)所示，图43为图42(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素左视截面图，图44为图42(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素正视截面图。其中E表示电场力。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第一基板3侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。

如图45所示，另一种实施例中，如图45(a)所示，所述第一基板3的第一电极为狭缝电极，其上设置沿所述第二方向X延伸的多条第一狭缝110，也就是，第一狭缝110与第一基板3的第一取向膜上的配向方向大致平行。如图45(b)所示，所述第二基板5的第二电极为狭缝电极，其上设置沿所述第一方向Y延伸的多条第二狭缝111，也就是，狭缝与第二基板5的第二取向膜上的配向方向大致平行。此时，第一基板3和第二基板5贴合后的显示面板的配向方向及液晶分子方向示意如图45(c)所示，图46为图45(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素左视截面，图47为图45(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素正视截面图。其中E表示电场力。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且 第一基板3侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。

如图48所示，另一种实施例中，如图48(a)所示，所述第一基板3的第一电极为狭缝电极，其上设置沿所述第二方向X延伸的多条第一狭缝110，还设置有沿所述第一方向Y延伸且位于所述子像素中心的一条第二狭缝111，也就是，所述第一基板3上不仅设置平行于第一取向膜上的配向方向的多条第一狭缝110，在所述子像素中心设置垂直于所述第一取向膜的配向方向的一条第二狭缝111。如图48(b)所示，所述第二基板5上的第二电极上无狭缝。此时，第一基板3和第二基板5贴合后的显示面板的配向方向及液晶分子方向示意如图48(c)所示，，图49所示为如图48(a)所示的第一基板3与第二基板5贴合后显示面板中像素左视截面图。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第一基板3侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。相较于图39所示的实施例，本实施例中还增加了一条第二狭缝111后，由于其与第一取向膜的配向力方向垂直，因此这里第一电极形成的电场力与配向力方向直交，相互作用下液晶分子不安定，暗线区域比较大。从图49可以看出，电场力作用下液晶分子旋转方向a与配向力作用下液晶分子旋转方向b直交，相互作用下液晶分子不安定，暗线区域比较大。因此第一基板3的第一电极上设置狭缝且第二基板5的第二电极不设置时，优选不设置所述第二狭缝111。

如图50所示，另一种实施例中，如图50(b)所示，所述第二基板5的第二电极为狭缝电极，其上设置沿所述第二方向X延伸的多条第二狭缝111，还设置有沿所述第一方向Y延伸且位于所述子像素中心的一条第一狭缝110，也就是，所述第二基板5上不仅设置平行于第二取向膜上的配向方向的多条第二狭缝111，在所述子像素中心设置垂直于所述第二取向膜的配向方向的一条第一狭缝110。如图50(a)所示，所述第一基板3上的第一电极上无狭缝。此时，第一基板3和第二基板5贴合后显示面板的配向方向及液晶分子方向示意如图50(c)所示。图51表示图50(c)中第一基板3与第二基板5贴 合后显示面板像素左视截面图。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第二基板5侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。相较于图42所示的实施例，本实施例中还增加了一条第一狭缝110后，形成的电场力与配向力方向平行，相互作用下液晶分子更安定，暗线区域比较小。从图51可以看出，电场力作用下液晶分子旋转方向a与配向力作用下液晶分子旋转方向b平行，相互作用下液晶分子更安定，暗线区域比较小。因此第二基板5的第二电极设置狭缝时，优选的不仅设置多条与第二基板5的配向方向平行的第二狭缝111，还可设置一条经过其子像素中心且垂直于配向力的第一狭缝110更好。

如图52所示，另一种实施例中，如图52(a)所示，所述第一基板3的第一电极和所述第二基板5的第二电极均设置有狭缝，且所述第一电极上设置沿所述第二方向X延伸的多条第一狭缝110，还设置有沿所述第一方向Y延伸且位于所述子像素中心的一条第二狭缝111，也就是，所述第二基板5上不仅设置平行于第一取向膜上的配向方向的多条第一狭缝110，在所述子像素中心设置垂直于所述第一取向膜的配向方向的一条第二狭缝111。如图52(b)所示，所述第二电极上设置沿所述第一方向Y延伸的多条第二狭缝111，还设置有沿所述第二方向X延伸且位于所述子像素中心的一条第一狭缝110，也就是，所述第二基板5上不仅设置平行于第二取向膜上的配向方向的多条第二狭缝111，在所述子像素中心设置垂直于所述第二取向膜的配向方向的一条第一狭缝110。此时，第一基板3和第二基板5贴合后的显示面板的配向方向及液晶分子方向示意如图52(c)所示。图53所示为图52(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素左视截面图，图54所示为图52(c)中第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素正视截面图。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第二基板5侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。本实施例中还增加了一条第一狭 缝110后，形成的电场力与配向力方向平行，相互作用下液晶分子更安定，暗线区域比较小。从图53和图54可以看出，第一基板3侧像素中心的处第二狭缝111处，电场力作用下液晶分子旋转方向a与配向力作用下液晶分子的旋转方向b直交，相互作用下液晶分子不安定，暗线区域比较大，像素十字纵暗线表现一般。第二基板5侧像素中心的第一狭缝110处，电场力作用下液晶分子旋转方向a与配向力作用下液晶分子旋转方向b平行，相互作用下液晶分子更安定，暗线区域比较小，像素十字横暗线表现好。

如图55所示，另一种实施例中，如图55(a)所示，所述第一基板3的第一电极和所述第二基板5的第二电极均设置有狭缝，且所述第一电极上设置沿所述第二方向X延伸的多条第一狭缝110，且不设置沿所述第一方向Y延伸且位于所述子像素中心的一条第二狭缝111，也就是，所述第二基板5上仅设置平行于第一取向膜上的配向方向的多条第一狭缝110。如图55(b)所示，所述第二电极上设置沿所述第一方向Y延伸的多条第二狭缝111，还设置有沿所述第二方向X延伸且位于所述子像素中心的一条第一狭缝110，也就是，所述第二基板5上不仅设置平行于第二取向膜上的配向方向的多条第二狭缝111，在所述子像素中心设置垂直于所述第二取向膜的配向方向的一条第一狭缝110。此时，如图55(c)所示为第一基板3和第二基板5贴合后显示面板的配向方向及液晶分子方向示意图。图56所示为图55(c)第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素左视截面图，图56所示为图55(c)第一基板3与第二基板5贴合后显示面板像素正视截面图。此时，第一基板3表面的液晶配向方位角由第一取向膜的配向力、及第一电极和第二电极的电场力双重控制，可得到精度更高的基础方位角。且第二基板5侧液晶分子的配向方位角精度保障后，扭转向列型模式中液晶分子的配向方位角与目标方位角差异较小，暗线表现较好。相较于图所示的实施例，本实施例中第一基板3上不设置与其配向方向垂直的第二狭缝111后，而第二基板5上设置与其配向方向垂直的第一狭缝110，此时形成的电场力与配向力方向平行，相互作用下液晶分子更安定，暗线区域比较小。

此外，此外，还需要说明的是，图39至图58所示意的像素中狭缝11倾斜方向仅是一种示例，在另一些实施例中，所述狭缝11的倾斜方向还可以是 与图39至图58所示的狭缝11倾斜方向关于所述第一方向Y呈镜像对称。

此外，本公开实施例提供的显示面板可应用于垂直配向型显示面板。但是并不仅限于垂直配向型显示面板。

此外，本公开实施例还提供了一种显示装置，包括本公开实施例所提供的显示面板。

此外，本公开实施例还提供了一种显示面板的制造方法，用于制造本公开实施例提供的显示面板，其中所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述像素包括n个畴区，n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向Y上排列有至少两个，所述方法包括如下步骤：

制造第一基板3和第二基板5，其中所述第一基板3和所述第二基板5之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板3和所述第二基板5之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；

在所述第一基板3与所述第二基板5之间注入液晶分子，对盒形成所述显示面板，其中在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中所述配向方向不同，和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，其中所述预倾角与第二方向X之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向X与所述第一方向Y交叉。

示例性的，所述n个畴区沿所述第一方向Y依次排布时，所述制造第一基板3和第二基板5，具体包括：

提供第一衬底，在所述第一衬底上形成第一光取向材料层，通过偏振光对所述第一光取向材料层中每个所述畴区依次进行二次曝光，以使所述第一光取向材料层形成具有配向方向的第一取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向X之间的锐角夹角为45°。

示例性的，所述n个畴区沿所述第一方向Y依次排布时，所述制造第一基板3和第二基板5，具体还可以包括：

提供第二衬底，在所述第二衬底上形成第二光取向材料层，通过偏振光 对所述第二光取向材料层中每个所述畴区分别进行二次曝光，以使所述第二光取向材料层形成具有配向方向的第二取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向X夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向X之间的锐角夹角为45°。

示例性的，进行所述第一次曝光时，将光线透过第一偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第一偏振片为平板分离偏光片，曝光能量为1～7Mj，且配向方向与所述第二方向X夹角为0°；

进行所述第二次曝光时，将光线透过第二偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第二偏振片为线栅型偏光片，曝光能量为10～30Mj，且配向方向与所述第二方向X之间的锐角夹角为45°。

有以下几点需要说明：

(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。

(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1. 一种显示面板，包括对盒设置的第一基板和第二基板、及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶分子；所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述子像素包括n个畴区，n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向上排列有至少两个；其特征在于，

   所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；

   在所述n个畴区中，至少两个相邻畴区中所述配向方向不同、和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，所述预倾角为所述液晶分子的倾斜方向与第二方向之间的锐角，且所述预倾角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向与所述第一方向交叉。
2. 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

   所述n个畴区沿所述第一方向依次排布，每个所述畴区内的配向方向与所述第二方向之间的锐角大于或等于30°且小于45°。
3. 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

   所述取向膜由每个所述畴区经二次曝光处理形成，其中所述二次曝光处理中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向之间的夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。
4. 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

   每个所述子像素包括4个畴区，分别为沿所述第一方向依次排布的第1畴区、第2畴区、第3畴区和第4畴区，其中至少两个相邻所述畴区的配向方向不同，且所述4个畴区的配向方向关于所述第2畴区和所述第3畴区在所述第二方向上的交界线呈镜像对称。
5. 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

   在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中的所述狭缝延伸方向不同，每个 所述畴区内的所述狭缝延伸方向与所述第二方向之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于或等于45°，且在每个所述畴区内所述配向膜的配向方向与该畴区内所述狭缝延伸方向之间的夹角小于或等于预定角度。
6. 根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

   所述预定角度为0～15°。
7. 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

   所述第一基板上具有第一取向膜，所述第二基板上具有第二取向膜，所述n个畴区在所述第一方向和所述第二方向上呈M*N阵列分布，其中M*N＝n，所述第一取向膜沿所述第二方向划分为N个第一子区域，所述第二取向膜沿所述第一方向划分为M个第二子区域，且所述N个第一子区域的配向方向为所述第二方向且相邻两个所述第一子区域的配向方向相反，所述M个子区域的配向方向为所述第一方向且相邻两个所述第一子区域的配向方向相反，以使所述第一取向膜和所述第二取向膜配合在所述n个畴区内具有不同配向方向。
8. 根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，

   所述子像素包括4个畴区，所述4个畴区在所述第一方向和所述第二方向上呈2*2阵列排布，且所述4个畴区分布为位于第1行第1列的第1畴区、位于第1行第2列的第2畴区、位于第2行第1列的第3畴区和位于第2行第2列的第4畴区，其中

   所述第1畴区、所述第2畴区、所述第2畴区和所述第4畴区之间具有沿第一方向延伸的第一交界线和沿所述第二方向延伸的第二交界线，且所述第1畴区、所述第2畴区、所述第2畴区和所述第4畴区内所述液晶分子的预倾角关于所述第一交界线和所述第二交界线呈镜像对称。
9. 根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，

   所述第一基板上设有第一电极，所述第二基板上设有第二电极，其中，

   所述第一电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第二方向；和/或所述第二电极上具有狭缝且至少部分狭缝的延伸方向为所述第一方向。
10. 根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，

    所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，所述第二电极上无狭缝；或者

    所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝，且所述第一电极上无狭缝；或者

    所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝；或者

    所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝、以及与所述第一取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第二狭缝，所述第二电极上无狭缝；或者

    所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝，所述第一电极上无狭缝；或者

    所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝、以及与所述第一取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第二狭缝，且所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝；或者

    所述第一电极上设置有与所述第一取向膜的配向方向平行的多条第一狭缝，且所述第二电极上设有与所述第二取向膜的配向方向平行的多条第二狭缝、以及与所述第二取向膜的配向方向垂直且经过所述子像素中心的一条第一狭缝。
11. 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为垂直配向型显示面板。
12. 一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至11任一项所述的显示面板。
13. 一种显示面板的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1至11任一项所述的显示面板，其中所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括至少两种分别对应不同颜色的子像素，每个所述像素包括n个畴区， n为大于或等于2的正整数，且所述n个畴区在第一方向上排列有至少两个，所述方法包括如下步骤：

    制造第一基板和第二基板，其中所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有取向膜，所述取向膜具有配向方向，和/或所述第一基板和所述第二基板之中的一者或两者设有具有狭缝的狭缝电极；

    在所述第一基板与所述第二基板之间注入液晶分子，对盒形成所述显示面板，其中在所述n个畴区中任意两个相邻畴区中所述配向方向不同，和/或任意两个相邻畴区中所述狭缝的延伸方向不同，以使不同所述畴区内所述液晶分子具有不同的预倾角，其中所述预倾角与第二方向之间的锐角为预定夹角，所述预定夹角为大于或等于30°且小于45°，所述第二方向与所述第一方向交叉。
14. 根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述n个畴区沿所述第一方向依次排布时，所述制造第一基板和第二基板，具体包括：

    提供第一衬底，在所述第一衬底上形成第一光取向材料层，通过偏振光对所述第一光取向材料层中每个所述畴区依次进行二次曝光，以使所述第一光取向材料层形成具有配向方向的第一取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°；

    和/或

    提供第二衬底，在所述第二衬底上形成第二光取向材料层，通过偏振光对所述第二光取向材料层中每个所述畴区分别进行二次曝光，以使所述第二光取向材料层形成具有配向方向的第二取向膜，其中第一次曝光形成的光取向膜的配向方向与所述第二方向夹角为0°，第二次曝光形成的光取向膜配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。
15. 根据权利要求14所述的方法，其特征在于，

    进行所述第一次曝光时，将光线透过第一偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第一偏振片为平板分离偏光片，曝光能量为1～7Mj，且配向方向与所述第二方向夹角为0°；

    进行所述第二次曝光时，将光线透过第二偏振片形成所述偏振光，以对所述第一光取向材料层和/或所述第二光取向材料层进行曝光，所述第二偏振片为线栅型偏光片，曝光能量为10～30Mj，且配向方向与所述第二方向之间的锐角夹角为45°。