CN117430348B - 一种镀膜玻璃及其生产设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种镀膜玻璃及其生产设备，包括加工室，真空处理装置，装夹装置，以及设于加工室内并放置待镀靶材的溅射台；加工室设有正交的电场和磁场，加工室上设有供输入惰性气体的供气管，溅射台处于装夹装置的下方。通过真空处理装置使加工室处于镀膜所需的预定真空度，以便于基片的镀膜处理；装夹装置将基片固定好，供气管输入氩气，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，而多余的靶材原子会随着真空泵抽取氩原子而从真空泵管路被抽走。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃技术领域，尤其涉及一种镀膜玻璃及其生产设备。
背景技术
镀膜玻璃（Coated glass）也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃（Low-E）、导电膜玻璃等。
如申请号为“CN201510707834.0，一种玻璃门”，其通过容置框装载玻璃，再通过真空泵对密封腔进行抽真空以达到降噪，隔热的效果，但是该方法的使用成本较高，且由内、外两层玻璃制成的玻璃门较厚，导致玻璃门的制作成本过高。
如申请号为“CN202222403043.7，密封门结构及真空镀膜设备”；真空镀膜主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，主要分成蒸发和溅射两种。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
当采用真空磁控溅射法对玻璃进行平面磁控溅射镀膜时，溅射出来的靶材原子不会全部沉积在基片上成膜，多余的靶材原子会随着真空泵抽取氩原子而从真空泵管路被抽走，这样会导致靶材原子的浪费。
发明内容
（一）要解决的技术问题
本发明的其一目的在于提供一种镀膜玻璃生产设备，以解决背景技术中提到的在靶材溅射成膜的过程中，多余的靶材被真空泵抽走导致浪费的问题。
本发明的其二目的在于提供一种镀膜玻璃，该镀膜玻璃具有低辐射、坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点。
（二）技术方案
为达到上述目的，本发明采用的主要技术方案包括：
一种镀膜玻璃生产设备，包括供基片进行镀膜的加工室，对加工室进行抽真空处理的真空处理装置，设于加工室内对基片进行装夹的装夹装置，以及设于加工室内并放置待镀靶材的溅射台；所述加工室设有正交的电场和磁场，所述加工室上设有供输入惰性气体的供气管，所述溅射台处于所述装夹装置的下方；所述真空处理装置还包括对多余的靶材进行收集过滤的过滤装置；所述过滤装置包括第一过滤组件和第二过滤组件；所述第一过滤组件包括第一过滤球和第一连接座，所述第一连接座具有容置第一过滤球的第一容置槽，所述第一过滤球转动连接于所述第一容置槽内；所述第二过滤组件包括第二过滤球和第二连接座，所述第二连接座具有容置第二过滤球的第二容置槽，所述第二过滤球转动连接于所述第二容置槽内；真空处理管具有处于管上部的第一过滤孔，以及处于管下部的第二过滤孔，所述第一过滤球的部分球体插入所述第一过滤孔内并处于真空处理管内，所述第一连接座可拆装连接于真空处理管外壁，所述第二过滤球的部分球体插入所述第二过滤孔内并处于真空处理管内，所述第二连接座可拆装连接于真空处理管外壁；所述装夹装置包括承托基片的承托机构，所述承托机构包括承托台，以及夹紧基片的固定组件；所述固定组件包括对基片一侧面进行抵顶的第一抵顶部，和对基片另一侧面进行抵顶的第二抵顶部；所述第一抵顶部包括与基片柔性接触的第一柔性抵顶件，第一安装座，以及连接于第一安装座和第一柔性抵顶件之间的第一弹性连接件；所述第二抵顶部包括与基片柔性接触的第二柔性抵顶件，第二安装座，以及连接于第二安装座和第二柔性抵顶件之间的第二弹性连接件；所述装夹装置还包括驱动承托机构旋转的辅助机构；所述辅助机构包括辅助旋转圆管，套设于辅助旋转圆管上的第一齿轮，与第一齿轮相啮合的第二齿轮，以及驱动第二齿轮转动的辅助电机；所述第一齿轮具有与承托台相连接的连接平面。
进一步，所述真空处理装置包括真空处理管，与真空处理管相连接的真空连接管，以及对加工室内腔室进行抽真空处理的真空泵；所述真空处理管具有与加工室内腔室相连通的抽气孔。
进一步，所述承托机构具有多个，并沿辅助旋转圆管的轴向依次排列，所述第一齿轮的数量与所述承托机构一一对应。
进一步，所述辅助旋转圆管连接于所述真空处理管和所述真空连接管之间，所述真空处理管、辅助旋转圆管和真空连接管相连通。
进一步，所述真空处理管为方管。
一种镀膜玻璃，包括玻璃，和安装玻璃的容置框，所述容置框具有与玻璃的四周相适配的安装槽，在所述安装槽与玻璃的接触面上设有缓冲棉；所述玻璃包括玻璃基片，以及与玻璃基片相连接的低辐射镀膜层。
进一步，所述低辐射镀膜层包括从下至上依次设置的第一介质层、第一保护层、功能银层、第二保护层、第二介质层以及陶瓷氧化硅膜层，所述第一介质层与玻璃基片相连接。
（三）有益效果
本发明的有益效果是：
1.通过真空处理装置使加工室处于镀膜所需的预定真空度，以便于基片的镀膜处理；装夹装置将基片固定好，供气管输入氩气，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，而多余的靶材原子会随着真空泵抽取氩原子而从真空泵管路被抽走。
2.通过过滤装置，可以将多余的靶材收集，第一过滤组件和第二过滤组件可以回收大部分多余的靶材，减少浪费。
3.在玻璃与容置框的接触面上设有缓冲棉，可以加强密封性和提高降噪效果，并且避免玻璃刮花受损，同时该镀膜玻璃具有厚度薄、隔热、降噪、低辐射、坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点。
附图说明
图1为本发明镀膜玻璃生产设备的立体结构示意图；
图2为图1在A处的局部放大结构示意图；
图3为本发明镀膜玻璃生产设备的剖视结构示意图；
图4为图3在B处的局部放大结构示意图；
【附图标记说明】
加工室1，真空处理装置2，装夹装置3，溅射台4，供气管5，真空处理管21，真空连接管22，抽气孔211，过滤装置23，第一过滤组件231，第二过滤组件232，第一过滤球2311，第一连接座2312，第二过滤球2321，第二连接座2322，第一过滤孔212，第二过滤孔213，承托机构31，承托台311，固定组件312，第一抵顶部3121，第二抵顶部3122，第一柔性抵顶件31211，第一安装座31212，辅助机构32，辅助旋转圆管321，第一齿轮322，第二齿轮323，辅助电机324，镀膜玻璃6。
具体实施方式
为了更好的解释本发明，以便于理解，下面结合附图，通过具体实施方式，对本发明作详细描述。
请参照图1至图4所示，本发明的一种镀膜玻璃生产设备，包括供基片进行镀膜的加工室1，对加工室1进行抽真空处理的真空处理装置2，设于加工室1内对基片进行装夹的装夹装置3，以及设于加工室1内并放置待镀靶材的溅射台4；加工室1设有正交的电场和磁场，加工室1上设有供输入惰性气体的供气管5，溅射台4处于装夹装置3的下方。
在实际工作过程中，通过真空处理装置2使加工室1处于镀膜所需的预定真空度，以便于基片的镀膜处理；装夹装置3将基片固定好，供气管5输入氩气，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，而多余的靶材原子会随着真空泵抽取氩原子而从真空泵管路被抽走。具体地，惰性气体为氩气。具体地，真空处理装置2包括真空处理管21，与真空处理管21相连接的真空连接管22，以及对加工室1内腔室进行抽真空处理的真空泵；真空处理管21具有与加工室1内腔室相连通的抽气孔211。真空泵通过真空连接管22、真空处理管21和抽气孔211对加工室1进行抽真空处理。
具体地，真空处理装置2还包括对多余的靶材进行收集过滤的过滤装置23；通过过滤装置23，可以将多余的靶材收集，第一过滤组件231和第二过滤组件232可以回收大部分多余的靶材，减少浪费。过滤装置23包括第一过滤组件231和第二过滤组件232；第一过滤组件231包括第一过滤球2311和第一连接座2312，第一连接座2312具有容置第一过滤球2311的第一容置槽，第一过滤球2311转动连接于第一容置槽内；第二过滤组件232包括第二过滤球2321和第二连接座2322，第二连接座2322具有容置第二过滤球2321的第二容置槽，第二过滤球2321转动连接于第二容置槽内；真空处理管21具有处于管上部的第一过滤孔212，以及处于管下部的第二过滤孔213，第一过滤球2311的部分球体插入第一过滤孔212内并处于真空处理管21内，第一连接座2312可拆装连接于真空处理管21外壁，第二过滤球2321的部分球体插入第二过滤孔213内并处于真空处理管21内，第二连接座2322可拆装连接于真空处理管21外壁。随着镀膜作业的进行，多余的靶材从抽气孔211进入真空处理管21内，此时第一过滤球2311和第二过滤球2321会收集部分多余的靶材，使多余的靶材附着在第一过滤球2311和第二过滤球2321上，当真空泵抽真空且多余的靶材逐渐附着在第一过滤球2311和第二过滤球2321上，第一过滤球2311和第二过滤球2321会在第一连接座2312和第二连接座2322内不断转动，使整颗过滤球均匀地被靶材附着，提高收集靶材的效率和效果；同时，为了提高转动的流畅度，第一过滤球2311与第一容置槽之间具有预定间隙，第二过滤球2321与第二容置槽之间具有预定间隙，此间隙可以使第一过滤球2311和第二过滤球2321转动更流畅。具体地，当第一过滤球和第二过滤球收集满靶材后，可将第一连接座和第二连接座拆卸更换。
具体地，装夹装置3包括承托基片的承托机构31，承托机构31包括承托台311，以及夹紧基片的固定组件312；将待镀膜的基片放在承托台311上，通过固定组件312将其进行固定，便于后续镀膜处理；固定组件312包括对基片一侧面进行抵顶的第一抵顶部3121，和对基片另一侧面进行抵顶的第二抵顶部3122；对基片对应的两侧进行抵顶，可以使基片更牢固；第一抵顶部3121包括与基片柔性接触的第一柔性抵顶件31211，第一安装座31212，以及连接于第一安装座31212和第一柔性抵顶件31211之间的第一弹性连接件；第二抵顶部3122包括与基片柔性接触的第二柔性抵顶件，第二安装座，以及连接于第二安装座和第二柔性抵顶件之间的第二弹性连接件。第一柔性抵顶件31211和第二柔性抵顶件与基片的柔性接触可以避免基片的边缘受损，同时还具有适应不同尺寸大小的基片的功能。具体地，第一抵顶部3121具有两个，分别抵顶于基片一侧边的上下两处，第二抵顶部3122具有两个，分别抵顶于基片另一侧边的上下两处，此设置可以将基片固定得更牢固。
具体地，装夹装置3还包括驱动承托机构31旋转的辅助机构32；辅助机构32包括辅助旋转圆管321，套设于辅助旋转圆管321上的第一齿轮322，与第一齿轮322相啮合的第二齿轮323，以及驱动第二齿轮323转动的辅助电机324；第一齿轮322具有与承托台311相连接的连接平面。承托台311设于第一齿轮322的连接平面上，当开始镀膜作业时，辅助电机324驱动第二齿轮323转动，第二齿轮323转动带动第一齿轮322转动，使承托台311上的基片旋转180°后，待镀面朝下并处于溅射台4的上方，以此提高靶材附着于基片上成膜的效率，当靶材在基片上成膜后，辅助电机324驱动第二齿轮323转动带动第一齿轮322转动并使基片已镀面朝上，利用加工室1内的冷却系统使镀膜面加速成型。
具体地，为了提高基片的镀膜效率，承托机构31具有多个，并沿辅助旋转圆管321的轴向依次排列，第一齿轮322的数量与承托机构31一一对应。具体地，为了提高基片的镀膜效率，辅助旋转圆管321连接于真空处理管21和真空连接管22之间，真空处理管21、辅助旋转圆管和真空连接管22相连通。具体地，真空处理管21为方管。
一种镀膜玻璃6，包括玻璃，和安装玻璃的容置框，容置框具有与玻璃的四周相适配的安装槽，在安装槽与玻璃的接触面上设有缓冲棉；玻璃包括玻璃基片，以及与玻璃基片相连接的低辐射镀膜层。在玻璃与容置框的接触面上设有缓冲棉，可以加强密封性和提高降噪效果，并且避免玻璃刮花受损。具体地，低辐射镀膜层包括从下至上依次设置的第一介质层、第一保护层、功能银层、第二保护层、第二介质层以及陶瓷氧化硅膜层，第一介质层与玻璃基片相连接。同时该镀膜玻璃6具有厚度薄、隔热、降噪、低辐射、坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种镀膜玻璃生产设备，其特征在于，包括供基片进行镀膜的加工室，对加工室进行抽真空处理的真空处理装置，设于加工室内对基片进行装夹的装夹装置，以及设于加工室内并放置待镀靶材的溅射台；所述加工室设有正交的电场和磁场，所述加工室上设有供输入惰性气体的供气管，所述溅射台处于所述装夹装置的下方；所述真空处理装置还包括对多余的靶材进行收集过滤的过滤装置；所述过滤装置包括第一过滤组件和第二过滤组件；所述第一过滤组件包括第一过滤球和第一连接座，所述第一连接座具有容置第一过滤球的第一容置槽，所述第一过滤球转动连接于所述第一容置槽内；所述第二过滤组件包括第二过滤球和第二连接座，所述第二连接座具有容置第二过滤球的第二容置槽，所述第二过滤球转动连接于所述第二容置槽内；真空处理管具有处于管上部的第一过滤孔，以及处于管下部的第二过滤孔，所述第一过滤球的部分球体插入所述第一过滤孔内并处于真空处理管内，所述第一连接座可拆装连接于真空处理管外壁，所述第二过滤球的部分球体插入所述第二过滤孔内并处于真空处理管内，所述第二连接座可拆装连接于真空处理管外壁；所述装夹装置包括承托基片的承托机构，所述承托机构包括承托台，以及夹紧基片的固定组件；所述固定组件包括对基片一侧面进行抵顶的第一抵顶部，和对基片另一侧面进行抵顶的第二抵顶部；所述第一抵顶部包括与基片柔性接触的第一柔性抵顶件，第一安装座，以及连接于第一安装座和第一柔性抵顶件之间的第一弹性连接件；所述第二抵顶部包括与基片柔性接触的第二柔性抵顶件，第二安装座，以及连接于第二安装座和第二柔性抵顶件之间的第二弹性连接件；所述装夹装置还包括驱动承托机构旋转的辅助机构；所述辅助机构包括辅助旋转圆管，套设于辅助旋转圆管上的第一齿轮，与第一齿轮相啮合的第二齿轮，以及驱动第二齿轮转动的辅助电机；所述第一齿轮具有与承托台相连接的连接平面。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃生产设备，其特征在于：所述真空处理装置包括真空处理管，与真空处理管相连接的真空连接管，以及对加工室内腔室进行抽真空处理的真空泵；所述真空处理管具有与加工室内腔室相连通的抽气孔。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃生产设备，其特征在于：所述承托机构具有多个，并沿辅助旋转圆管的轴向依次排列，所述第一齿轮的数量与所述承托机构一一对应。
4.根据权利要求2所述的一种镀膜玻璃生产设备，其特征在于：所述辅助旋转圆管连接于所述真空处理管和所述真空连接管之间，所述真空处理管、辅助旋转圆管和真空连接管相连通。
5.根据权利要求4所述的一种镀膜玻璃生产设备，其特征在于：所述真空处理管为方管。
6.一种应用权利要求1-5任一项所述的镀膜玻璃生产设备生产的镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃，和安装玻璃的容置框，所述容置框具有与玻璃的四周相适配的安装槽，在所述安装槽与玻璃的接触面上设有缓冲棉；所述玻璃包括玻璃基片，以及与玻璃基片相连接的低辐射镀膜层。
7.根据权利要求6所述的一种镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜层包括从下至上依次设置的第一介质层、第一保护层、功能银层、第二保护层、第二介质层以及陶瓷氧化硅膜层，所述第一介质层与玻璃基片相连接。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101806928A (zh) * | 2010-03-31 | 2010-08-18 | 西安交通大学 | 一种树脂镜片、有机玻璃镜片表面超硬涂层镀膜方法 |
| CN109809708A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-05-28 | 台玻安徽玻璃有限公司 | 一种耐磨隔热纳米镀膜浮法玻璃及其制备方法 |
| CN110467356A (zh) * | 2019-09-02 | 2019-11-19 | 重庆春江镀膜玻璃有限公司 | 一种镀膜玻璃生产装置 |
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| KR20020006479A (ko) * | 2000-07-12 | 2002-01-19 | 아끼모토 유미 | 에프피디용 보호막, 보호막용 증착재 및 그 제조방법,에프피디, 그리고 에프피디용 보호막의 제조장치 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101806928A (zh) * | 2010-03-31 | 2010-08-18 | 西安交通大学 | 一种树脂镜片、有机玻璃镜片表面超硬涂层镀膜方法 |
| CN109809708A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-05-28 | 台玻安徽玻璃有限公司 | 一种耐磨隔热纳米镀膜浮法玻璃及其制备方法 |
| CN110467356A (zh) * | 2019-09-02 | 2019-11-19 | 重庆春江镀膜玻璃有限公司 | 一种镀膜玻璃生产装置 |
| CN218324599U (zh) * | 2022-09-09 | 2023-01-17 | 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司 | 密封门结构及真空镀膜设备 |
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