CN117377206A - 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法 - Google Patents

一种高可靠性盲孔制作的工艺方法 Download PDF

Info

Publication number
CN117377206A
CN117377206A CN202311107285.4A CN202311107285A CN117377206A CN 117377206 A CN117377206 A CN 117377206A CN 202311107285 A CN202311107285 A CN 202311107285A CN 117377206 A CN117377206 A CN 117377206A
Authority
CN
China
Prior art keywords
blind hole
pcb
reliability
laser
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202311107285.4A
Other languages
English (en)
Inventor
赖建春
吴宜波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uniwell Circuits Co ltd
Original Assignee
Uniwell Circuits Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uniwell Circuits Co ltd filed Critical Uniwell Circuits Co ltd
Priority to CN202311107285.4A priority Critical patent/CN117377206A/zh
Publication of CN117377206A publication Critical patent/CN117377206A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0026Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0055After-treatment, e.g. cleaning or desmearing of holes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/421Blind plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09818Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

本申请涉及电路板盲孔制作技术领域,公开了一种高可靠性盲孔制作的工艺方法,包括开料、黑化或棕化、单面激光镭射、等离子除胶、去膜、二次除胶、水平沉铜和电镀填孔。本申请的高可靠性盲孔制作的工艺方法,PCB板底部在激光镭射时打半穿,避免后期盲孔底部残胶,避免出现T形的底部残胶导致的可靠性问题;镭射从PCB板的一面打穿,解决X形盲孔两面镭射存在的对准度不好引起的断铜可靠性问题;优化了制作工艺,减少了工艺流程;优化了镭射参数,从而形成工形盲孔,盲孔两面两侧均有铜突出残留,形成一个药水的堆积区,从而方便填孔,减少填孔凹陷问题;通过形成的工形盲孔,可以有效解决芯板层漏填孔或填孔凹陷大问题,从而提高盲孔可靠性。

Description

一种高可靠性盲孔制作的工艺方法
技术领域
本申请涉及电路板盲孔制作技术领域,具体是一种高可靠性盲孔制作的工艺方法。
背景技术
HDI产品密度不断增加,传统盲埋孔设计已经无法满足布线密度要求,从而开始向ELIC产品发展,芯板层原来的埋孔向盲孔方向发展,但盲孔可靠性是过程控制的关键,行业中使用的T形或X形孔多家公司因为盲孔加工控制不好,导致质量事故和经济索赔,损失严重。
对于如图2所示的T形盲孔来说,ELIC产品制作中,芯板加工盲孔时,单面镭射底部有铜箔粗糙面影响,底部胶难有效去除,影响后工序制作时,结合力不好,SMT或后续使用时,该盲孔底部易裂开。
对于如图3所示的X形盲孔来说,ELIC产品制作中,芯板加工盲孔时,从两面进行镭射,形成X形盲孔,可以有效解决T形孔底部残胶的质量风险问题,但由于X形盲孔双面贯通,电镀时,药水流动性过大,无法有效堆积形成一个良好的填孔效果,导致漏填或填平凹陷过大。而填孔凹陷大压合时PP胶流入凹陷处,此处介质层厚,后工序镭射无法去除干净,形成树脂胶残留,成品高温时叠孔位置的盲孔底部出现裂开,导致可靠性不良。
因此,本申请提供了一种高可靠性盲孔制作的工艺方法。
发明内容
本申请的目的在于提供一种高可靠性盲孔制作的工艺方法,以解决上述背景技术中提出的技术问题。
为实现上述目的,本申请公开了以下技术方案:一种高可靠性盲孔制作的工艺方法,该方法包括以下步骤:
开料:对原料板进行切割,获取所需尺寸的PCB板;
黑化或棕化;通过化学反应,使所述PCB板表面产生一层均匀的黑色或棕色钝化膜;
单面激光镭射:在所述PCB板的一面进行激光镭射,并将所述PCB板打至半穿;
等离子除胶:采用等离子技术将镭射对位孔内的PP残胶进行去除;
去膜:去除所述PCB板表面的黑色或棕色钝化膜;
二次除胶:采用等离子技术将所述PCB板上的PP残胶和盲孔底部的氧化铜去除;
水平沉铜:利用化学反应,在经过除胶后的盲孔上沉上铜,导通内外层线路;
电镀填孔:采用电镀工艺对盲孔进行电镀处理,实现PCB板的内层芯板和增层导电层的信号连通。
作为优选,在所述单面激光镭射中,激光镭射的脉宽为2-3us。
作为优选,在激光镭射形成盲孔后,再加一枪大脉宽激光进行冗余镭射,使盲孔顶部和底部形成大悬铜区。
作为优选,所述冗余镭射的脉宽为6-10us。
作为优选,在所述水平沉铜后,采用微蚀药水对所述PCB板进行微蚀处理,去除所述PCB板的盲孔底部的氧化铜,并加大所述微蚀药水的用量,使所述PCB板的盲孔底部形成穿孔。
作为优选,经过所述微蚀处理后,微蚀段的微蚀量为80-120um。
作为优选,在所述微蚀处理前,还包括对所述PCB板上与待微蚀处理的露铜部位具有电连接关系的金属部位进行覆膜保护。
作为优选,在所述PCB板的盲孔底部形成穿孔后,所述PCB板上形成工形孔。
作为优选,在所述电镀填孔中,还包括在电镀处理前,对盲孔进行毛刺检查,并对检查到的毛刺进行打磨。
有益效果:本申请的高可靠性盲孔制作的工艺方法,(1)PCB板底部在激光镭射时打半穿,避免后期盲孔底部残胶,避免出现T形的底部残胶导致的可靠性问题;(2)镭射从PCB板的一面打穿,解决X形盲孔两面镭射存在的对准度不好引起的断铜可靠性问题;(3)优化了制作工艺,减少了工艺流程;(4)优化了镭射参数,从而形成工形盲孔,盲孔两面两侧均有铜突出残留,形成一个药水的堆积区,从而方便填孔,减少填孔凹陷问题;(5)通过形成的工形盲孔,可以有效解决芯板层漏填孔或填孔凹陷大问题,从而提高盲孔可靠性。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例中高可靠性盲孔制作的工艺方法的流程框图;
图2为现有技术中T形盲孔的示意图;
图3为现有技术中X形盲孔的示意图;
图4为本申请实施例中工形盲孔的示意图。
具体实施方式
下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本文中,术语“包括”意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
参考图1所示的一种高可靠性盲孔制作的工艺方法,该方法包括以下步骤:
S101-开料:对原料板进行切割,获取所需尺寸的PCB板;
S102-黑化或棕化;通过化学反应,使所述PCB板表面产生一层均匀的黑色或棕色钝化膜;
S103-单面激光镭射:在所述PCB板的一面进行激光镭射,并将所述PCB板打至半穿;
S104-等离子除胶:采用等离子技术将镭射对位孔内的PP残胶进行去除;
S105-去膜:去除所述PCB板表面的黑色或棕色钝化膜;
S106-二次除胶:采用等离子技术将所述PCB板上的PP残胶和盲孔底部的氧化铜去除;
S107-水平沉铜:利用化学反应,在经过除胶后的盲孔上沉上铜,导通内外层线路;
S108-电镀填孔:采用电镀工艺对盲孔进行电镀处理,实现PCB板的内层芯板和增层导电层的信号连通。
本实施例的高可靠性盲孔制作的工艺方法(以下简称工艺),简化了传统的减铜流程,即直接在开料后的PCB板上进行黑化或棕化,然后进行激光镭射,这样能够保留PCB板上足够的铜厚,方便镭射的加工,这是因为如果铜厚不足,则会导致悬铜小,PCB板的底部容易击穿,达不到需求的孔形(即后续的工形)。
本实施例的工艺中,在前次的激光镭射中,激光镭射的脉宽为2-3us。进一步优选地,本实施例的工艺方法还在最后一次激光镭射时,加大激光脉宽进行冗余镭射,这一枪激光的脉宽为6-10us,通过这一枪的激光镭射,将PCB板底部的铜烧蚀掉部分,从而在形成的盲孔顶部、底部均形成大悬铜区,方便药水沉积。
本实施例的工艺中,在所述水平沉铜后,采用微蚀药水对所述PCB板进行微蚀处理,去除所述PCB板的盲孔底部的氧化铜,并加大所述微蚀药水的用量,使所述PCB板的盲孔底部形成穿孔,同时,能够避免成品铜厚太厚,不方便细线路的制作,同时方便底部穿孔的控制,药水咬蚀比激光烧穿孔好控制,效果更好。并且,传统的盲孔制作方法中,微蚀段微蚀量为40-60um,而在本工艺中,水平除胶后的微蚀段微蚀量为80-120um。
作为本实施例的一种优选地实施方式,在所述微蚀处理前,还包括对所述PCB板上与待微蚀处理的露铜部位具有电连接关系的金属部位进行覆膜保护。其中,保护膜将金属部位完全覆盖,将覆膜后的PCB板放入微蚀溶液中进行微蚀处理,保护膜采用在微蚀溶液中不与露铜部位发生贾凡尼效应的材料,同时,保护膜采用耐所述微蚀溶液腐蚀的材料和耐高温材料。
在本实施例的工艺中,在所述PCB板的盲孔底部形成穿孔后,所述PCB板上形成如图4所示的不同于传统方法的工形孔。
作为本实施例的一种优选地实施方式,在所述电镀填孔中,还包括在电镀处理前,对盲孔进行毛刺检查,并对检查到的毛刺进行打磨。
基于上述,本实施例的高可靠性盲孔制作的工艺方法,具有以下特点:
(1)PCB板底部在激光镭射时打半穿,避免后期盲孔底部残胶,避免出现T形的底部残胶导致的可靠性问题;
(2)镭射从PCB板的一面打穿,解决X形盲孔两面镭射存在的对准度不好引起的断铜可靠性问题;
(3)优化了制作工艺,减少了工艺流程;
(4)优化了镭射参数,从而形成工形盲孔,盲孔两面两侧均有铜突出残留,形成一个药水的堆积区,从而方便填孔,减少填孔凹陷问题;
(5)通过形成的工形盲孔,可以有效解决芯板层漏填孔或填孔凹陷大问题,从而提高盲孔可靠性。
最后应说明的是:以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
开料:对原料板进行切割,获取所需尺寸的PCB板;
黑化或棕化;通过化学反应,使所述PCB板表面产生一层均匀的黑色或棕色钝化膜;
单面激光镭射:在所述PCB板的一面进行激光镭射,并将所述PCB板打至半穿;
等离子除胶:采用等离子技术将镭射对位孔内的PP残胶进行去除;
去膜:去除所述PCB板表面的黑色或棕色钝化膜;
二次除胶:采用等离子技术将所述PCB板上的PP残胶和盲孔底部的氧化铜去除;
水平沉铜:利用化学反应,在经过除胶后的盲孔上沉上铜,导通内外层线路;
电镀填孔:采用电镀工艺对盲孔进行电镀处理,实现PCB板的内层芯板和增层导电层的信号连通。
2.根据权利要求1所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在所述单面激光镭射中,激光镭射的脉宽为2-3us。
3.根据权利要求2所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在激光镭射形成盲孔后,再加一枪大脉宽激光进行冗余镭射,使盲孔顶部和底部形成大悬铜区。
4.根据权利要求3所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,所述冗余镭射的脉宽为6-10us。
5.根据权利要求1所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在所述水平沉铜后,采用微蚀药水对所述PCB板进行微蚀处理,去除所述PCB板的盲孔底部的氧化铜,并加大所述微蚀药水的用量,使所述PCB板的盲孔底部形成穿孔。
6.根据权利要求5所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,经过所述微蚀处理后,微蚀段的微蚀量为80-120um。
7.根据权利要求5所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在所述微蚀处理前,还包括对所述PCB板上与待微蚀处理的露铜部位具有电连接关系的金属部位进行覆膜保护。
8.根据权利要求5所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在所述PCB板的盲孔底部形成穿孔后,所述PCB板上形成工形孔。
9.根据权利要求1所述的高可靠性盲孔制作的工艺方法,其特征在于,在所述电镀填孔中,还包括在电镀处理前,对盲孔进行毛刺检查,并对检查到的毛刺进行打磨。
CN202311107285.4A 2023-08-31 2023-08-31 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法 Pending CN117377206A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311107285.4A CN117377206A (zh) 2023-08-31 2023-08-31 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311107285.4A CN117377206A (zh) 2023-08-31 2023-08-31 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117377206A true CN117377206A (zh) 2024-01-09

Family

ID=89389961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311107285.4A Pending CN117377206A (zh) 2023-08-31 2023-08-31 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117377206A (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108055793A (zh) * 2017-11-09 2018-05-18 建业科技电子(惠州)有限公司 一种盲孔加工制作方法
CN113279034A (zh) * 2021-05-14 2021-08-20 惠州中京电子科技有限公司 用于Mini LED微盲孔的填孔电镀加工方法
CN113677105A (zh) * 2021-07-09 2021-11-19 皆利士多层线路版(中山)有限公司 线路板盲孔的镀孔方法及含有镀铜盲孔的hdi线路板

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108055793A (zh) * 2017-11-09 2018-05-18 建业科技电子(惠州)有限公司 一种盲孔加工制作方法
CN113279034A (zh) * 2021-05-14 2021-08-20 惠州中京电子科技有限公司 用于Mini LED微盲孔的填孔电镀加工方法
CN113677105A (zh) * 2021-07-09 2021-11-19 皆利士多层线路版(中山)有限公司 线路板盲孔的镀孔方法及含有镀铜盲孔的hdi线路板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108718480B (zh) 一种内外层6oz超厚铜pcb板及其制作方法
CN100508692C (zh) 制造具有薄核心层的印刷电路板的方法
CN104411106B (zh) 一种印制电路板精细线路的制作方法
CN104349587A (zh) 一种印制电路板及其盘中孔的制作方法、以及印制电路板
CN106535482A (zh) 一种树脂塞背钻孔的pcb板加工方法
US20070070613A1 (en) Method of manufacturing high density printed circuit boad
CN108541150A (zh) Pcb板的制造方法、pcb板及终端
CN108419383A (zh) 用于制造印刷电路板的方法
CN108200734B (zh) 一种生产正凹蚀印制电路板的方法
CN102307437A (zh) 一种提高sap工艺中积层基材与积层导体层的结合力的方法
CN102215640A (zh) 电路板制作方法
CN108323040B (zh) 一种具有阶梯槽的pcb的制作方法及pcb
CN113395833B (zh) 金属基线路板及其制作方法
CN109068490B (zh) 一种hdi基板加工工艺
JP2011105960A (ja) 処理銅箔及び未処理銅箔の粗化処理方法並びに銅張積層板
CN117377206A (zh) 一种高可靠性盲孔制作的工艺方法
CN113709984A (zh) 一种用激光加工电镀孔、焊盘抗镀及抗蚀图案的制电路板方法
JP2015028973A (ja) 配線板および配線板の製造方法
CN105430925B (zh) 厚铜线路板制作方法
JP4195706B2 (ja) プリント配線板およびその製造方法
CN113747683B (zh) 一种印制线路板及其制作方法
CN114206001B (zh) 高耐压mems封装载板及其制作工艺
CN115843155A (zh) Pcb制作方法
CN105657989B (zh) 印刷线路板的加工方法
JP2000252609A (ja) プリント基板およびその加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination