CN117289496B - 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法 - Google Patents

一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法 Download PDF

Info

Publication number
CN117289496B
CN117289496B CN202311552668.2A CN202311552668A CN117289496B CN 117289496 B CN117289496 B CN 117289496B CN 202311552668 A CN202311552668 A CN 202311552668A CN 117289496 B CN117289496 B CN 117289496B
Authority
CN
China
Prior art keywords
electro
crystal
transparent conductive
conductive film
optic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202311552668.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN117289496A (zh
Inventor
杨昭辉
姜永亮
刘厚康
杜征宇
谭典
刘波
王圣辉
汤博兰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Optical Valley Aerospace Sanjiang Laser Industry Technology Research Institute Co Ltd
Original Assignee
Wuhan Optical Valley Aerospace Sanjiang Laser Industry Technology Research Institute Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Optical Valley Aerospace Sanjiang Laser Industry Technology Research Institute Co Ltd filed Critical Wuhan Optical Valley Aerospace Sanjiang Laser Industry Technology Research Institute Co Ltd
Priority to CN202311552668.2A priority Critical patent/CN117289496B/zh
Publication of CN117289496A publication Critical patent/CN117289496A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN117289496B publication Critical patent/CN117289496B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305Constructional arrangements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305Constructional arrangements
    • G02F1/0311Structural association of optical elements, e.g. lenses, polarizers, phase plates, with the crystal
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305Constructional arrangements
    • G02F1/0316Electrodes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0327Operation of the cell; Circuit arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

本发明公开了一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法,所述装置包括施加电压单元(1)和电光晶体单元(2),其中;施加电压单元(1)包括正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102),所述正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)贴覆于电光晶体单元(2)上作为电极,所述电光晶体单元(2)包括第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202);使用方法通过向正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)施加电压使具有不同电光系数的第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)处于匀强电场下产生不同折射率变化,且通过调节电源电压实现激光束扫描角度控制,完成无惯性的激光束指向及相位调控。

Description

一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法
技术领域
本发明属于激光技术领域,更具体地,涉及一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法。
背景技术
激光光谱合成技术是一种能够突破单个激光器的功率极限,获得高光束质量、高功率激光束的技术途径,通过对各路窄线宽激光束传输方向进行高精度控制,使各路窄线宽激光束以不同的角度入射到光栅上,通过光栅衍射实现各路窄线宽激光束的合成叠加,从而获得高亮度、高光束质量的合成光束。通过光学装置对窄线宽激光束的输入方向进行高精度扫描角度控制,是实现光谱合成路数不断递增的关键技术之一。
中国发明CN202210657696.X公开了一种激光扫描振镜系统,包括平面反射振镜和曲面反射振镜,通过平面反射振镜和曲面反射振镜共同实现对激光光束的反射和聚焦;其技术途径属于以振镜和振镜之类的高精度运动执行机构为载体,带动反射镜进行高精度偏转控制,实现对激光束传输方向扫描和指向控制;此类技术途径由于反射镜的惯性以及运动执行机构在启动和关断时的电气响应特性,反射镜的运动控制精度需要进行反馈调控,影响激光束扫描控制精度和扫描频率。
中国发明CN202110058574.4公开了一种基于DKDP晶体实现扫描偏转的多光谱高速成像装置,包括组成包括外增强器和耦合镜头的高灵敏度相机,通过外部加载超快高压脉冲,使晶体的折射率随着电压值线性变化,实现对输入光信号做偏转扫描并采用ICCD相机采集以提高探测灵敏度;其中电光晶体的电极材料为常规的金属电极,在此种情况下为了增强电光调控效果,通常将电光晶体设计成长条形状且将电极设置于晶体长条的宽面来减小电极间距,且由于金属材料电极不透光,故而通光孔只能设置于非电极设置的晶体窄面,导致激光束通光孔大小受到限制,在大口径激光束进入电光晶体前需要进行聚焦,难以在高功率激光系统中应用。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法,包括电光晶体单元和施加电压单元,其中,施加电压单元以透明导电薄膜作为电极结构电光晶体单元的楔形电光晶体结构,通过施加电压至透明导电薄膜改变与其连接的电光晶体的折射率实现了对激光束扫描角度的高精度控制,实现了大通光孔径的电光晶体器件和提高激光束扫描控制精度及扫描频率。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一方面,本发明提供一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,包括施加电压单元和电光晶体单元,其中;
所述施加电压单元包括正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜,所述正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜贴覆于电光晶体单元上作为电极,同时电光晶体单元通光孔设于其上;
所述电光晶体单元包括第一电光晶体和第二电光晶体,所述第一电光晶体和第二电光晶体电光系数不同,
通过向所述正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜施加电压使具有不同电光系数的第一电光晶体和第二电光晶体处于匀强电场下产生不同折射率变化,且通过调节电场强度实现激光束扫描角度控制,完成无惯性的激光束指向及相位调控;
进一步的,所述施加电压单元还包括电源,所述电源上设有电源正极和电源负极,通过所述电源向正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜施加电压;
进一步的,所述施加电压单元还包括电源导线,所述电源导线连接正极透明导电薄膜边缘和电源正极以及负极透明导电薄膜边缘和电源负极,且电源通过所述电源导线向正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜施加电压;
进一步的,所述电光晶体单元还包括镜框,所述第一电光晶体和第二电光晶体通过该镜框固定连接;
进一步的,所述第一电光晶体和第二电光晶体为相同材料的相同尺寸楔形结构,且楔形夹角相同,所述第一电光晶体和第二电光晶体通过楔形的斜面贴合组成上下表面平行的电光晶体片;
进一步的,所述第一电光晶体和第二电光晶体以不同晶轴为切型,具有不同的电光系数,在电场下具有不同的折射率;
进一步的,所述正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜为掺锡氧化铟材料制作而成;
另一方面,本发明提供一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置使用方法;
进一步的,包括以下步骤:
S1、根据需求对本发明装置进行设计,通过设计晶体的切型来选择对应需求的晶轴的电光系数,所得到的第一电光晶体的电光系数为a,第二电光晶体的电光系数为b,且测量得到第一电光晶体与第二电光晶体的楔形夹角为θ,进一步的,根据得到第一电光晶体上表面或第二电光晶体的下表面进行设计正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜的大小;
S2、调节激光束指向及相位,开启激光发射器发射入射激光,通过调整激光发射器使入射激光通过第一电光晶体与第二电光晶体的设置电极面,当电源未开启时,第一电光晶体与第二电光晶体的折射率相等,均为n0,开启电源,通过电源分别向正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜提供电压V,在第一电光晶体与第二电光晶体上产生匀强电场E,此时在第一电光晶体与第二电光晶体上产生的匀强电场的强度为E(V),进一步的,根据此时的第一电光晶体和第二电光晶体的折射率数值以及通过调整电压调节激光束指向及相位时通过调控电源施加于正极透明导电薄膜上的负极透明导电薄膜上的电压E(V),调节出射光束和输入光束的扫描角。
进一步的,步骤S2,所述第一电光晶体的折射率n1为:
;
式中,n1为第一电光晶体的折射率,n0为第一电光晶体的折射率,a为第一电光晶体的电光系数,E(V)为第一电光晶体上产生的匀强电场强度;
第二电光晶体的折射率n2为:
;
式中,n2为第二电光晶体的折射率,n0为第二电光晶体的折射率,b为第二电光晶体的电光系数,E(V)为第二电光晶体上产生的匀强电场强度;
进一步的,步骤S2,所述出射光束和输入光束的扫描角的表达式为:
;
式中, nθ为出射光束和输入光束的扫描角,a为第一电光晶体的电光系数,b为第二电光晶体的电光系数,E(V1)为调整后的匀强电场强度,θ为第一电光晶体和第二电光晶体的楔形夹角。
总体而言,通过本发明所构思的以上技术方案与现有技术相比,能够取得下列有益效果:
1.本发明一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置包括电光系数不同的第一电光晶体和第二电光晶体以及贴覆于其上的正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜,通过向正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜施加电压使具有不同电光系数的第一电光晶体和第二电光晶体处于匀强电场下产生不同折射率变化,且通过调节电场强度实现激光束扫描角度控制,完成无惯性的激光束指向及相位调控,避免了以振镜和振镜之类的高精度运动执行机构为载体,带动反射镜进行高精度偏转控制从而对激光束传输方向扫描和指向控制出现的反射镜的惯性以及运动执行机构在启动和关断时的电气响应特性,影响激光束扫描控制精度和扫描频率,从而提高了本发明装置进行调节激光束指向及相位时的准确度与灵敏性;
2.本发明一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的电极为正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜;由于为提高电光调控效果,电光晶体通常设计为长条形且设置电极于长条形晶体的宽面由此减少电极间距,本发明设有所述正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜作为电极的晶体面同时作为通光孔设置面,解决了金属材料作为电极时通光孔只能设置于所述长条形晶体的窄面,使通光孔孔径受限导致的在大口径激光束进入电光晶体前需要进行聚焦难以在高功率激光系统中应用的问题;
3.本发明一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜采用掺锡氧化铟材料制作而成,其具有高的导电率、高的机械硬度和良好的化学稳定性,方便正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜与电源导线能接触良好,形成良好的电压等势体,同时正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜设置面作为通光孔设置面且正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜具有高的可见光透过率,故而本发明装置进行通过调整电压调节激光束指向及相位时准确率较高且灵敏度较好;
4.本发明一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置通过向正极透明导电薄膜和负极透明导电薄膜施加电压使具有不同电光系数的第一电光晶体和第二电光晶体处于匀强电场下产生不同折射率变化,且通过调节电场强度实现激光束扫描角度控制,完成无惯性的激光束指向及相位调控,相较与传统快反镜的kHz量级调节频率,本发明所述调控方式极大地提高了调节频率,可以实现GHz量级的调节频率。
附图说明
图1为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的施加电压单元结构的示意图;
图2为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的电光晶体和透明导电薄膜连接及结构示意图;
图3为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的电光晶体单元结构的示意图;
图4为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置的结构示意图;
图5为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置未启动电源时激光束指向图;
图6为本发明实施例一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置启动电源时激光束指向图。
在所有附图中,同样的附图标记表示相同的技术特征,具体为:101-正极透明导电薄膜、102-负极透明导电薄膜、103-电源正极、104-电源负极、105-电源导线、106-电源、201-第一电光晶体、202-第二电光晶体、203-镜框。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
参见如图1-3,本发明一个实施例提供一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,包括施加电压单元1和电光晶体单元2,其中,所述施加电压单元1包括正极透明导电薄膜101和负极透明导电薄膜102,所述电光晶体单元2包括第一电光晶体201和第二电光晶体202,所述施加电压单元1以透明导电薄膜作为正、负电极,其分别涂覆在所述电光晶体单元2的电光晶体表面上,且所述电光晶体单元2包括的电光晶体为不同切型的相同楔形结构,具有不同的电光系数;如图4所示,入射光束入射至所述电光晶体单元2后,通过向施加电压单元1的正、负电极的透明导电薄膜施加电压使具有不同电光系数的电光晶体处于匀强电场下产生不同折射率变化,使通过所述电光晶体的激光束出射角度发生变化,通过改变正、负极的电压,调整电光晶体的折射率,实现了对激光束扫描角度的高精度控制;所述装置相较于现有技术中以金属材料作为电极和长条形电光晶体,使用透明导电薄膜作为电极和楔形的电光晶体,极大地提高了激光束通光孔的大小,使得本发明装置无需聚焦可应用于大口径的激光束指向调控,应用范围更为广泛;且所述方式调控激光束指向无需应用振镜和振镜之类的运动执行机构,除去了振镜和振镜之类的运动执行机构在启动和关断时的电气响应特性,导致的影响激光束扫描控制精度和扫描频率,极大地增加了激光束扫描控制精度及扫描频率。
如图1所示,施加电压单元1包括正极透明导电薄膜101、负极透明导电薄膜102、电源正极103、电源负极104、电源导线105和电源106;其中,所述正极透明导电薄膜101和负极透明导电薄膜102采用掺锡氧化铟材料制作而成,其具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性;所述正极透明导电薄膜101和电源正极103之间以及负极透明导电薄膜102和电源负极104之间分别通过所述电源导线105连接,所述电源导线105与正极透明导电薄膜101及负极透明导电薄膜102连接处为薄膜边缘,所述电源正极103和电源负极104设于电源106上,所述电源106通过电源正极103或电源负极104以及电源导线105分别向正极透明导电薄膜101和负极透明导电薄膜102提供电压,且可通过所述电源106调整输入电压大小;施加电压单元1和电光晶体单元2的连接方式参见如图2,其中正极透明导电薄膜101或负极透明导电薄膜102为圆形尺寸,大小与电光晶体表面一致,所述正极透明导电薄膜101或负极透明导电薄膜102完全贴合覆盖在电光晶体表面上,所述正极透明导电薄膜101或负极透明导电薄膜102边沿处为与电源导线105连接处,且其于电源导线105接触良好,能够形成良好的电压等势体。
在通过调整电压调节激光束指向及相位时,为了增强电光调控效果,需要减少电极间距,为此,电光晶体通常设计为长条形且设置电极于长条形晶体的宽面由此减少电极间距,当使用本发明装置进行激光束的指向及相位调控时,通过以透明导电薄膜作为电极使用,通光孔可设于设置电极的电光晶体面,解决了传统技术中以金属材料作为电极使用,由于金属材料不透光导致的通光孔只能设置于非设置电极的晶体窄面导致的通光孔大小受限,解决了由于通光孔大小受限导致的在大口径激光束进入电光晶体前需要进行聚焦,难以在高功率激光系统中应用的问题,同时透明导电薄膜采用高导电率与高可见光透过率的掺锡氧化铟材料,使电源与透明导电薄膜电极传送电压功率良好且电极材料具有高可见光透过率特性,由此本发明装置进行通过调整电压调节激光束指向及相位时准确率较高且灵敏度较好。
如图3所示,电光晶体单元2包括第一电光晶体201、第二电光晶体202和镜框203,其中,所述第一电光晶体201和第二电光晶体202属于同种电光晶体材料。
优选地,所述的电光晶体为相同材料的圆柱体;对于晶体材料,以不同的切面切割时,垂直于切割面的轴称之为晶轴,以圆柱体晶体为例,把圆柱体晶体置于在一个坐标轴上,那么这三个坐标轴分别是3个晶轴,在对所述晶体进行切割时,不仅可以沿着任意两个坐标轴组成的平面进行切割,同时也可以沿着三个坐标轴组成的斜面进行切割,此时,垂直于切割面的轴为该晶体的晶轴;而对于圆柱体晶体而言,从任意上表面一点开始至任意下表面一点结束的任意斜切面或者从任意下表面一点开始至任意上表面一点结束的任意斜切面进行切割均可以得到相同尺寸的楔形结构晶体;所述第一电光晶体201和第二电光晶体202为通过所述途径获得的同种电光晶体材料的相同尺寸的楔形结构晶体,且所述第一电光晶体201和第二电光晶体202楔形夹角相同,但所述第一电光晶体201和第二电光晶体202晶轴不同。
晶体光轴是指晶体中具有特殊光学性质的方向,同时也是晶体的对称轴,所述第一电光晶体201和第二电光晶体202以任意上表面一点开始至任意下表面一点结束的任意斜切面或者从任意下表面一点开始至任意上表面一点结束的任意斜切面进行切割,所述斜切面为晶体对称轴,故而晶体晶格结构晶轴为光轴方向;晶体光轴具有高度对称性、特殊的光学性质和特殊的光学效应,由于所述第一电光晶体201和第二电光晶体202为不同光轴方向,故而其具有不同的电光系数。
所述第一电光晶体201和第二电光晶体202为相同材料的相同尺寸楔形结构,且楔形夹角相同,其通过楔形的斜面贴合组成上下表面平行的电光晶体片,第一电光晶体201和第二电光晶体202通过镜框203固定;如图5所示,在入射光束以第一电光晶体201上表面法线方向入射后,在施加电压单元2未启动电源时,第一电光晶体201与第二电光晶体202具有相同的折射率,入射光束通过第二电光晶体2后以与入射光束相同角度于第二电光晶体202下表面出射,当通过施加电压单元2对所述第一电光晶体201和第二电光晶体202上施加电压后,如图6所示,所述第一电光晶体201和第二电光晶体202处于匀强电场上,在匀强电场的作用下,所述第一电光晶体201和第二电光晶体202产生不同折射率变化,使出射激光束出射角度变化,通过调节施加电压单元2施加电压,调节出射激光束的出射角度;所述方式利用相同材料和相同尺寸的圆柱体晶体在任意上表面一点开始至任意下表面一点结束的任意斜切面或者从任意下表面一点开始至任意上表面一点结束的任意斜切面进行切割的条件下,得到的第一电光晶体201和第二电光晶体202为相同尺寸的楔形电光晶体,所述电光晶体具有不同的电光系数的特性,通过施加电压单元2向所述第一电光晶体201和第二电光晶体202施加电压且调节所施加的电压调节出射激光束的出射角度,实现了高精度地控制激光束扫描角度,除去了振镜和振镜之类的运动执行机构在启动和关断时的电气响应特性,导致的影响激光束扫描控制精度和扫描频率,极大地增加了激光束扫描控制精度及扫描频率。
本发明另一个实施例提供一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置使用方法,包括以下步骤:
S1、根据需求对本发明装置进行设计;
由于本发明中第一电光晶体201与第二电光晶体202的晶体材料相同,且为相同尺寸的楔形结构晶体,且所述第一电光晶体201和第二电光晶体202楔形夹角相同,因此所述第一电光晶体201与第二电光晶体202的电光系数受到晶体的切型影响,且本发明中以晶体的晶轴作为切型,通过设计晶体的切型来选择对应需求的晶轴的电光系数,所得到的第一电光晶体201的电光系数为a,第二电光晶体202的电光系数为b,且测量得到第一电光晶体201和第二电光晶体202的楔形夹角为θ,进一步的,根据得到第一电光晶体201上表面或第二电光晶体202的下表面进行设计正极透明导电薄膜101和负极透明导电薄膜102的大小。
S2、调节激光束指向及相位;
开启激光发射器发射入射激光,通过调整激光发射器使入射激光通过第一电光晶体201与第二电光晶体202的设置电极面,当电源106未开启时,第一电光晶体201与第二电光晶体202的折射率相等,均为n0,开启电源106,通过电源106分别向正极透明导电薄膜101和负极透明导电薄膜102提供电压V,在第一电光晶体201与第二电光晶体202上产生匀强电场E,此时在第一电光晶体201与第二电光晶体202上产生的匀强电场的强度为E(V),此时第一电光晶体201的折射率n1为:
;
式中,n1为第一电光晶体201的折射率,n0为第一电光晶体201的折射率,a为第一电光晶体201的电光系数,E(V)为第一电光晶体201上产生的匀强电场强度;
第二电光晶体202的折射率n2为:
;
式中,n2为第二电光晶体202的折射率,n0为第二电光晶体202的折射率,b为第二电光晶体202的电光系数,E(V)为第二电光晶体202上产生的匀强电场强度;
进一步的,通过调整电压调节激光束指向及相位时通过调控电源106施加于正极透明导电薄膜101上的负极透明导电薄膜102上的电压E(V),出射光束和输入光束的扫描角的表达式为:
;
式中, nθ为出射光束和输入光束的扫描角,a为第一电光晶体201的电光系数,b为第二电光晶体202的电光系数,E(V1)为调整后的匀强电场强度,θ为第一电光晶体201和第二电光晶体202的楔形夹角。
本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,包括施加电压单元(1)和电光晶体单元(2),其中;
所述施加电压单元(1)包括正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102),所述正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)贴覆于电光晶体单元(2)上作为电极,同时电光晶体单元(2)通光孔设于其上;
所述电光晶体单元(2)包括第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202),所述第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)电光系数不同,且所述第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)为相同材料的相同尺寸楔形结构,且楔形夹角相同,所述第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)通过楔形的斜面贴合组成上下表面平行的电光晶体片;
通过向所述正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)施加电压使具有不同电光系数的第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)处于匀强电场下产生不同折射率变化,且通过调节电场强度实现激光束扫描角度控制,完成无惯性的激光束指向及相位调控。
2.根据权利要求1所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,其特征在于,所述施加电压单元(1)还包括电源(106),所述电源(106)上设有电源正极(103)和电源负极(104),通过所述电源(106)向正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)施加电压。
3.根据权利要求2所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,其特征在于,所述施加电压单元(1)还包括电源导线(105),所述电源导线(105)连接正极透明导电薄膜(101)边缘和电源正极(103)以及负极透明导电薄膜(102)边缘和电源负极(104),且电源(106)通过所述电源导线(105)向正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)施加电压。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,其特征在于,所述电光晶体单元(2)还包括镜框(203),所述第一电光晶体(201)和第二电光晶体(202)通过该镜框(203)固定连接。
5.根据权利要求4中所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,其特征在于,所述第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)以不同晶轴为切型,具有不同的电光系数,在电场下具有不同的折射率。
6.根据权利要求5中任一项所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置,其特征在于,所述正极透明导电薄膜(101)与负极透明导电薄膜(102)为掺锡氧化铟材料制作而成。
7.一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置使用方法,其特征在于,应用如权利要求1-6中任一项所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置实现,包括以下步骤:
S1、根据需求对所述装置进行设计,通过设计晶体的切型来选择对应需求的晶轴的电光系数,所得到的第一电光晶体(201)的电光系数为a,第二电光晶体(202)的电光系数为b,且测量得到第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)的楔形夹角为θ,进一步的,根据得到第一电光晶体(201)的上表面与第二电光晶体(202)的下表面设计正极透明导电薄膜(101)与负极透明导电薄膜(102)的大小;
S2、调节激光束指向及相位,开启激光发射器发射入射激光,通过调整激光发射器使入射激光通过第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)的设置电极面,当电源(106)未开启时,第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)的折射率相等,均为n0,开启电源(106),通过电源(106)分别向正极透明导电薄膜(101)与负极透明导电薄膜(102)提供电压V,在第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)上产生匀强电场E,此时在第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)上产生的匀强电场的强度为E(V),进一步的,根据此时的第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)的折射率数值以及通过调整电压调节激光束指向及相位时通过调控电源(106)施加于正极透明导电薄膜(101)和负极透明导电薄膜(102)之间的电压E(V),调节出射光束和输入光束的扫描角。
8.根据权利要求7所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置使用方法,其特征在于,步骤S2,所述电源开启时第一电光晶体(201)的折射率n1为:
n1=n0+a×E(V)
式中,n1为电源开启时第一电光晶体(201)的折射率,n0为电源未开启时第一电光晶体(201)的折射率,a为第一电光晶体(201)的电光系数,E(V)为第一电光晶体(201)上产生的匀强电场强度;
电源开启时第二电光晶体(202)的折射率n2为:
n2=n0+b×E(V)
式中,n2为电源开启时第二电光晶体(202)的折射率,n0为电源未开启时第二电光晶体(202)的折射率,b为第二电光晶体(202)的电光系数,E(V)为第二电光晶体(202)上产生的匀强电场强度。
9.根据权利要求8所述的一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置使用方法,其特征在于,步骤S2,所述出射光束和输入光束的扫描角的表达式为:
nθ=(a-b)×E(V1)×θ
式中,nθ为出射光束和输入光束的扫描角,a为第一电光晶体(201)的电光系数,b为第二电光晶体(202)的电光系数,E(V1)为调整后的匀强电场强度,θ为第一电光晶体(201)与第二电光晶体(202)的楔形夹角。
CN202311552668.2A 2023-11-21 2023-11-21 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法 Active CN117289496B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311552668.2A CN117289496B (zh) 2023-11-21 2023-11-21 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311552668.2A CN117289496B (zh) 2023-11-21 2023-11-21 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN117289496A CN117289496A (zh) 2023-12-26
CN117289496B true CN117289496B (zh) 2024-02-23

Family

ID=89244643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311552668.2A Active CN117289496B (zh) 2023-11-21 2023-11-21 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117289496B (zh)

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902088A (en) * 1986-03-25 1990-02-20 Apa Optics, Inc. Integrated optic device for laser beam scanning
JPH08211423A (ja) * 1995-02-03 1996-08-20 Sharp Corp 偏向装置及びそれを用いた画像シフト型撮像装置
EP1291703A2 (de) * 2001-08-29 2003-03-12 Schepers GmbH Anordnung zur schnellen elektrooptischen Amplituden- oder Phasen-Modulation von polarisiertem Laserlicht
CN1554978A (zh) * 2003-12-19 2004-12-15 中国科学院上海光学精密机械研究所 高速电光相控阵二维激光光束扫描器
CN101178487A (zh) * 2006-11-10 2008-05-14 精工爱普生株式会社 电光元件、电光元件的制造方法以及扫描型光学装置
CN101726870A (zh) * 2009-12-04 2010-06-09 南京大学 一种利用电光晶体实现ocdma编解码的方法与装置
CN102240848A (zh) * 2011-06-15 2011-11-16 中科中涵激光设备(福建)股份有限公司 一种调节激光束产生动态横向位移的方法
CN102629002A (zh) * 2012-03-16 2012-08-08 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光装置、3d显示器和3d显示系统
CN103645560A (zh) * 2013-12-06 2014-03-19 吉林大学 一种高速光扫描显示装置
CN104076573A (zh) * 2014-07-16 2014-10-01 哈尔滨工业大学 电控连续渐变折射率电光晶体偏转器
CN104155776A (zh) * 2014-07-22 2014-11-19 京东方科技集团股份有限公司 电子窗及其控制方法
CN107065234A (zh) * 2017-03-22 2017-08-18 山西大学 一种降低剩余振幅调制的装置
CN109249783A (zh) * 2018-11-22 2019-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种车载防远光装置和防远光方法
CN114481321A (zh) * 2020-11-13 2022-05-13 中国科学院福建物质结构研究所 一种电光晶体硼铌酸钾及其应用
CN116184737A (zh) * 2023-03-29 2023-05-30 南开大学 基于铌酸锂光子晶体的高消光比双级联电光调制器
CN116540468A (zh) * 2023-04-17 2023-08-04 暨南大学 基于钽酸锂晶体的二维光束偏转装置及方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102692734B (zh) * 2012-06-07 2014-07-16 山东省科学院新材料研究所 一种基于ktn晶体二次电光效应的激光偏转调制方法
CN110398845A (zh) * 2018-04-25 2019-11-01 福州高意光学有限公司 一种电光光开关

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902088A (en) * 1986-03-25 1990-02-20 Apa Optics, Inc. Integrated optic device for laser beam scanning
JPH08211423A (ja) * 1995-02-03 1996-08-20 Sharp Corp 偏向装置及びそれを用いた画像シフト型撮像装置
EP1291703A2 (de) * 2001-08-29 2003-03-12 Schepers GmbH Anordnung zur schnellen elektrooptischen Amplituden- oder Phasen-Modulation von polarisiertem Laserlicht
CN1554978A (zh) * 2003-12-19 2004-12-15 中国科学院上海光学精密机械研究所 高速电光相控阵二维激光光束扫描器
CN101178487A (zh) * 2006-11-10 2008-05-14 精工爱普生株式会社 电光元件、电光元件的制造方法以及扫描型光学装置
CN101726870A (zh) * 2009-12-04 2010-06-09 南京大学 一种利用电光晶体实现ocdma编解码的方法与装置
CN102240848A (zh) * 2011-06-15 2011-11-16 中科中涵激光设备(福建)股份有限公司 一种调节激光束产生动态横向位移的方法
CN102629002A (zh) * 2012-03-16 2012-08-08 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光装置、3d显示器和3d显示系统
CN103645560A (zh) * 2013-12-06 2014-03-19 吉林大学 一种高速光扫描显示装置
CN104076573A (zh) * 2014-07-16 2014-10-01 哈尔滨工业大学 电控连续渐变折射率电光晶体偏转器
CN104155776A (zh) * 2014-07-22 2014-11-19 京东方科技集团股份有限公司 电子窗及其控制方法
CN107065234A (zh) * 2017-03-22 2017-08-18 山西大学 一种降低剩余振幅调制的装置
CN109249783A (zh) * 2018-11-22 2019-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种车载防远光装置和防远光方法
CN114481321A (zh) * 2020-11-13 2022-05-13 中国科学院福建物质结构研究所 一种电光晶体硼铌酸钾及其应用
CN116184737A (zh) * 2023-03-29 2023-05-30 南开大学 基于铌酸锂光子晶体的高消光比双级联电光调制器
CN116540468A (zh) * 2023-04-17 2023-08-04 暨南大学 基于钽酸锂晶体的二维光束偏转装置及方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Linear electro-optic effect of 0.88Pb(Zn1/3Nb2/3)O3-0.12PbTiO3 single crystal;Lu, Y 等;《JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS》;20000101;第39卷(第1期);第141-145页 *
SDUV-FEL装置上利用电光频谱解码法测量束团长度实验设计与仿真;华连发 等;《核技术》;20160410;第39卷(第4期);第11-19页 *
基于飞秒激光的液晶非线性应用研究;金萍;《中国优秀硕士学位论文全文数据库 基础科学辑》;20230215(第2期);A005-662 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN117289496A (zh) 2023-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6317449B1 (en) Method and device for resonance enhancement, in particular for tunable frequency conversion of laser radiation
US6169594B1 (en) Beam deflector and scanner
KR101681337B1 (ko) 레이저 가공장치
Yamada et al. Electric‐field induced cylindrical lens, switching and deflection devices composed of the inverted domains in LiNbO3 crystals
US11982945B2 (en) Two-photon-polymerization laser direct writing system based on acousto-optic deflector
US4510402A (en) Optical harmonic generator
CN111175862B (zh) 一种全介质平场扫描超分辨平面透镜
CN113654462B (zh) 监测超快电子显微镜探测光斑位置的方法及装置
US20220308419A9 (en) Solid state electrically variable-focal length lens
US7706047B2 (en) Acousto-optical laser scanner and UV laser analyzer of micro-objects based on it
CN117289496B (zh) 一种基于电光晶体的高精度激光束扫描装置及使用方法
JP6660314B2 (ja) 2次元光偏向器
JP6836468B2 (ja) 光偏向器
JPH02305269A (ja) ラスター出力スキャナ用の可変減衰器
CN109387949B (zh) 一种基于偏振调节的光束控制装置
CN114002857A (zh) 锥透镜激光整形装置和锥透镜激光整形方法
CN111061060B (zh) 一种紧凑型时间整形系统
CN111641097A (zh) 基于铌酸锂晶体的波导型电光调制太赫兹波发生器
CN112786220B (zh) 激光惯性约束聚变直接驱动的连续动态聚焦装置和方法
JPH04264420A (ja) 光走査装置
CN118011630B (zh) 应用于共孔径探测和发射方案的光学元件及其设计方法
CN114002855B (zh) 锥透镜、锥透镜最小底角调整装置和调整方法
CN220019981U (zh) 用于共聚焦激光扫描荧光成像的光学装置及荧光成像系统
CN111596464B (zh) 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法
CN113399823B (zh) 一种镜片阵列镜面的制备装置及制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant