CN117274474A - 环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和存储介质 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质,本申请实施例通过获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;根据顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;确定目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;基于目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成目标模型对应的环境光遮罩。本申请实施例可以提高为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
Description
技术领域
本申请涉及渲染技术领域,具体涉及一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质。
背景技术
在互联网的浪潮下,通过渲染引擎来渲染模型,以用于动漫、电影、游戏等场景中,在人们的生活中越来越常见,而人们对于渲染后的模型的显示精度的要求也越来越高。
目前,为了更好的展现模型在不同游戏场景中的体积感,以提升模型的显示效果,有时需为模型身上增添光照细节,一般可通过人为操作绘制软件来绘制生成一张符合环境所需的环境光遮蔽(Ambient Occlusion,AO)贴图,并使用该AO贴图从而达到环境光遮蔽的效果。
但由于,不同场景所需的AO贴图不同,仅通过人为操作来生成AO贴图的话,无疑会花费大量的时间,从而导致为模型生成环境光遮蔽效果的速度较慢。
发明内容
本申请实施例提供一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质,可以提高为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
第一方面,本申请实施例提供一种环境光遮罩的生成方法,上述方法包括:
获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
第二方面,本申请实施例还提供一种环境光遮罩的生成装置,上述装置包括:
信息获取模块,用于获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
提取模块,用于根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
强度确定模块,用于确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
生成模块,用于基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
第三方面,本申请实施例还提供一种电子设备,包括存储器存储有多条指令;所述处理器从所述存储器中加载指令,以执行本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法。
第四方面,本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有多条指令,所述指令适于处理器进行加载,以执行本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法。
本申请实施例中,通过获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息,以根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,再确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,从而基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,自动生成上述目标模型对应的环境光遮罩,避免了人为操作来生成AO贴图所需花费的时间,提高了为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的环境光遮罩的生成系统示意图;
图2是本申请实施例提供的环境光遮罩的生成方法的一种实施例流程示意图;
图3是本申请实施例中提供的目标模型的法线示意图;
图4是本申请实施例中提供的目标模型的法线分量值示意图;
图5是本申请实施例中提供的环境光遮罩示意图;
图6是本申请实施例中提供的处理后的环境光遮罩示意图;
图7a是本申请实施例提供的一种未对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图7b是本申请实施例提供的一种对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图7c是本申请实施例提供的另一种未对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图7d是本申请实施例提供的一种对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图7e是本申请实施例提供的再一种未对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图7f是本申请实施例提供的一种对模型生成环境光遮蔽效果示意图;
图8是本申请实施例提供的环境光遮罩的生成装置的结构示意图;
图9是本申请实施例提供的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在对本申请实施例进行详细地解释说明之前,先对本申请实施例涉及到的一些名词进行解释说明。
其中,在本申请实施例的描述中,术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种概念,但除非特别说明,这些概念不受这些术语限制。这些术语仅用于将一个概念与另一个概念区分。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
其中,上述环境光遮蔽技术是一种通过模拟光线在3D场景中的传播和反射,来计算物体表面上遮蔽程度的技术。环境光遮蔽可以模拟出物体之间的遮挡、阴影和反射,从而让物体看起来更真实,展现物体在场景中的体积感。这种技术通常用于游戏、影视、建筑和产品设计等方面。
其中,本地模型空间(Model space)是指一个3D模型所定义的坐标系,该坐标系以模型中心为原点,模型的尺寸和形状为基准。在模型本地空间中,每个顶点的位置、法线和纹理坐标等信息都是相对于模型中心和模型尺寸的。模型本地空间的优点是简单明了,易于理解和操作。在3D建模和渲染中,常常使用模型本地空间来进行顶点的变换、旋转和缩放等操作。但是在实际应用中,为了实现场景的复杂变换和动画效果,还需要将模型从本地空间转换到世界空间、相机空间或屏幕空间等其他坐标系中。
其中,上述体积感是指一个物体或场景在3D渲染中所呈现出来的立体感和厚重感。它是由物体或场景的形状、纹理、光影等因素综合作用所形成的。通过合理地运用灯光、材质、阴影等技术,可以增强物体或场景的立体感和厚实感,让其看起来更加真实、有质感。体积感是一个重要的3D渲染效果,尤其在游戏、影视、建筑等领域中非常重要。
本申请实施例提供一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质。具体地,本申请实施例的环境光遮罩的生成方法可以由电子设备执行,其中,该电子设备可以为终端或者服务器等设备。该终端可以为智能手机、平板电脑、笔记本电脑、触控屏幕、游戏机、个人计算机(PC,Personal Computer)、个人数字助理(Personal DigitalAssistant,PDA)等终端设备,终端还可以包括客户端,该客户端可以是游戏应用客户端、携带有游戏程序的浏览器客户端或即时通信客户端等。服务器可以是独立的物理服务器,也可以是多个物理服务器构成的服务器集群或者分布式系统,还可以是提供云服务、云数据库、云计算、云函数、云存储、网络服务、云通信、中间件服务、域名服务、安全服务、内容分发网络(Content Delivery Network,CDN)、以及大数据和人工智能平台等基础云计算服务的云服务器。
例如,如图1所示,该电子设备以终端10为例进行说明,该终端可以获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
基于上述问题,本申请实施例提供一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质,可以提高为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
以下结合附图分别进行详细说明。需说明的是,以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。虽然在流程图中示出了逻辑顺序,但是在某些情况下,可以以不同于附图所示的顺序执行所示出或描述的步骤。
在本实施例中,以终端为例进行说明,本实施例提供了一种环境光遮罩的生成方法,如图2所示,该环境光遮罩的生成方法的具体流程可以如下:
201、获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息。
其中,上述待处理的目标模型为需生成环境光遮蔽效果的模型。而由于本地模型空间是以模型中心为原点构建的坐标系,所以为了更好的基于模型本身的信息得到实现环境光遮蔽效果所需要的相关遮蔽数据,在本实施例中,将目标模型设置于本地模型空间中进行处理。
其中,上述实现环境光遮蔽效果所需要的相关遮蔽数据用于指示目标模型表面的不同位置的遮蔽程度,以通过该遮蔽程度改善目标模型相应位置的细节信息,如增加阴影。
而由于光线可以通过不同的角度照射在目标模型表面,并且目标模型各顶点的法线是垂直于顶点所处的模型表面,所以,在本实施例中,终端通过获取目标模型各顶点的法线信息,以通过各顶点的法线信息来确定各顶点对应的环境光遮蔽的遮蔽程度。
其中,上述法线信息可以包括顶点在X轴方向上的法线信息、顶点在Y轴方向上的法线信息以及顶点在Z轴方向上的法线信息。可以理解的是,上述顶点的法线可以用于在3D渲染中用于计算光照和阴影。它们是指在3D模型的每个顶点处计算的法向量,即上述法线信息,该法向量是垂直于该点的表面的向量。例如,如图3所示,可以看到顶点在不同轴向上存在对应的法线信息。
在一些实施例中,由于上述顶点的法线信息可以包括在不同轴方向上的法线信息,即X轴方向上的法线信息、Y轴方向上的法线信息以及Z轴方向上的法线信息,所以,终端可以将不同轴方向上的法线信息存储于模型顶点中,从而直接从模型顶点中读取相应信息。
202、根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
可以理解的是,由于顶点的法线在不同轴方向上的法线信息不同,而且环境光遮蔽效果需基于当前环境光对相应位置的光照情况来明确对应的遮蔽程度,所以,在本实施例中,终端需基于预设的光照方向明确相应的法线信息,该光照方向即为照射目标模型的环境光的照射方向,即终端可以根据顶点在至少一个轴方向上的法线信息来得到在预设光照方向上的法线分量值。
其中,上述法线分量值即相当于法线相对于环境光照射方向的分量。通过根据环境光照射方向来计算每个顶点在该方向上的法线分量值,可以用于计算出相应位置的像素的颜色和阴影等,从而创建出更为真实的3D场景和对象。
在一些实施例中,上述光照方向包括预设的天光照射模型的照射方向,而一般天光照射模型所对应的天光的照射方向是自上而下的,平行于顶点法线的Z轴方向,所以上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,可以包括:根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在Z轴方向上的法线分量值,作为顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
示例性地,如图4所示,倘若当前的光照方向是自上而下,且平行于Z轴方向,那么可以基于顶点法线在Z轴方向上的法线分量值来确定,即图4中的圆,在Z轴方向上与光照方向平行,且方向相对的法线所属的顶点,即圆最上方的顶点的法线在Z轴方向上的法线分量值可以为1;在Z轴方向上与光照方向垂直的法线所属的顶点,即处于圆中间的顶点的法线在Z轴方向上的法线分量值为0;在Z轴方向上与光照方向平行,且方向反向的法线所属的顶点,即圆最下方的顶点法线在Z轴方向上的法线分量值可以为-1。
在一些实施例中,可以基于法线向量在光照方向向量上的投影信息来计算对应的法线分量。
具体地,上述法线信息包括法线向量,上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,可以包括:获取预设光照方向对应的光照方向向量,然后,根据上述顶点的法线向量,以及上述光照方向向量,确定顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息。最后,根据上述投影信息,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
其中,倘若顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息为锐角,则对应的法线分量值为正值,如图4中的1;倘若顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息为直角,则对应的法线分量值为0,如图4中的0;倘若顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息为钝角,则对应的法线分量值为负值,如图4中的-1。
其中,上述根据上述投影信息,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,可以包括:根据顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影数量,以及顶点的法线向量,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
203、确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度。
在本实施例中,由于在一环境光的光照下,目标模型的不同位置对应的法线分量值不同,所以可基于目标模型各顶点的法线分量值来确定出目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,该环境光遮蔽强度即相当于上述实现环境光遮蔽效果所需要的相关遮蔽数据,可以用于指示上述环境光遮蔽的遮蔽程度,由于目标模型的不同位置对应的环境光遮蔽强度不同,所以就导致对应的遮蔽程度不同,例如,有的位置完全被遮蔽,而有的位置不被遮蔽。
在一些实施例中,上述确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,可以包括:将上述目标模型的顶点的法线分量值直接作为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度;或者,基于法线分量值与上述环境光遮蔽强度之间的预设映射方法,将上述目标模型的顶点的法线分量值映射为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度。
其中,上述映射方法可以是设置一法线分量值和环境光遮蔽强度对应的映射曲线或映射函数,以将法线分量值映射为对应的环境光遮蔽强度,又或者是,设置一映射区间,如0至1,以基于法线分量值的最大值和最小值组成的范围,将每个顶点对应的法线分量值映射在上述映射区间中,将映射后的值作为相应顶点的环境光遮蔽强度。
204、基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
在本实施例中,在得到上述目标模型各个顶点的环境光遮蔽强度之后,即得到了实现环境光遮蔽效果所需要的相关遮蔽数据,从而基于该相关遮蔽数据生成上述目标模型对应的环境光遮罩,以将得到的环境光遮蔽作用于需进行环境光遮蔽效果处理的相关处理节点中。
可以理解的是,不同场景所需的AO贴图不同,且通常游戏为了性能需求,会对贴图进行压缩,以降低AO贴图对应的包体,从而导致压缩过后的贴图的精度不高,容易出现马赛克的形状,从而影响模型的显示效果,并且AO贴图是一个包含模型各部件的完整贴图,当模型的某一部件发生切换时,还需对AO贴图重新绘制。所以,本方法不再生成AO贴图,而是得到一组由遮蔽数据构成的环境光遮罩,以在不占用任何空间体积和极少量计算量的情况下,以低消耗的方式来实现了为模型生成环境光遮蔽效果。
示例性地,如图5所示的环境光遮罩中,可以看出目标模型在不同位置对应的环境光遮蔽强度不同。
在一些实施例中,由于目标模型在光照方向上呈现渐变变化的环境光遮蔽效果有时并不能很好的符合相关人员的需求,所以,在本实施例中,终端可以引入范围控制参数,以通过该范围控制参数来控制目标模型中呈现渐变变化的环境光遮蔽效果的范围,从而得到更为符合人们需求的环境光遮罩。
具体地,在生成上述目标模型对应的环境光遮罩之后,还可以包括:获取上述环境光遮罩对应的范围控制参数,上述范围控制参数包括范围最小值和范围最大值。然后,基于上述范围最小值和上述范围最大值,确定出目标模型上不同样式的环境光遮蔽效果的范围,以对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,可以包括:对上述环境光遮罩中处于上述范围最小值和范围最大值之间的区域的上述环境光遮蔽强度进行强度渐变处理;对上述环境光遮罩中小于上述范围最小值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第一强度调整处理;对上述环境光遮罩中大于上述范围最大值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第二强度调整处理;基于上述强度渐变处理、上述第一强度调整处理和上述第二强度调整处理,得到处理后的环境光遮罩。
其中,上述强度渐变处理可以是基于范围最大值和范围最小值分别对应的环境光遮蔽强度将上述范围最小值和范围最大值之间的区域进行相应的渐变。
其中,上述第一强度调整处理可以是将小于上述范围最小值的区域中各顶点的上述环境光遮蔽强度调整为上述范围最小值对应的环境光遮蔽强度。
其中,上述第二强度调整处理可以是将大于上述范围最大值的区域中各顶点的上述环境光遮蔽强度调整为上述范围最大值对应的环境光遮蔽强度。
示例性地,若设定上述范围最小值为0,上述范围最大值为0.5,且上述环境光遮罩中的目标模型的最大值为1,最小值为-1,那么经上述强度渐变处理、上述第一强度调整处理和上述第二强度调整处理之后,所得到处理后的环境光遮罩,如图6所示,可以看到图6中仅有中间的部分区域呈渐变效果,而其他区域则是纯色效果。
在一些实施例中,终端可以直接引入相应的包含插值函数的节点来对环境光遮罩进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
具体地,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,可以包括:将上述范围最小值和上述范围最大值输入预设的插值函数中,通过上述插值函数对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
其中,上述插值函数可以是Smoothstep函数或Lerp函数。
示例性地,若设定范围最小值为0,设定范围最大值为1,那么可以将0作为最小值、1作为最大值,将环境光遮罩作为Value值,输入至SmoothStep函数,以使SmoothStep函数进行插值处理,从而生成处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,终端可以采用Vertexlnterpolator节点来将上述环境光遮罩和处理后的环境光遮罩的生成过程放置在顶点阶段进行计算,从而极大地减少了计算量。
在一些实施例中,通过将上述环境光遮罩或处理后的环境光遮罩作用于目标模型上进行渲染,可以提升目标模型在展示时的体积感,如图7a、图7c、图7e所示的未对模型生成环境光遮蔽效果的图示,以及图7a对应的图7b、图7c对应的图7d、图7e对应的图7f所示的对模型生成环境光遮蔽效果的图示。
由以上内容可以看出,通过获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息,以根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,再确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,从而基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,自动生成上述目标模型对应的环境光遮罩,避免了人为操作来生成AO贴图所需花费的时间,提高了为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
为了更好地实施以上方法,本申请实施例还提供一种环境光遮罩的生成装置,该环境光遮罩的生成装置具体可以集成在电子设备中,比如,计算机设备,该计算机设备可以为终端、服务器等设备。
其中,终端可以为手机、平板电脑、智能蓝牙设备、笔记本电脑、个人电脑等设备;服务器可以是单一服务器,也可以是由多个服务器组成的服务器集群。
比如,在本实施例中,将以环境光遮罩的生成装置具体集成在终端为例,对本申请实施例的方法进行详细说明,本实施例提供了一种环境光遮罩的生成装置,如图8所示,该环境光遮罩的生成装置可以包括:
信息获取模块801,用于获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
提取模块802,用于根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
强度确定模块803,用于确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
生成模块804,用于基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述环境光遮罩的生成装置还包括处理模块,上述处理模块具体用于:
获取上述环境光遮罩对应的范围控制参数,上述范围控制参数包括范围最小值和范围最大值;
基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述处理模块具体用于:
对上述环境光遮罩中处于上述范围最小值和范围最大值之间的区域的上述环境光遮蔽强度进行强度渐变处理;
对上述环境光遮罩中小于上述范围最小值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第一强度调整处理;
对上述环境光遮罩中大于上述范围最大值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第二强度调整处理;
基于上述强度渐变处理、上述第一强度调整处理和上述第二强度调整处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述处理模块具体用于:
将上述范围最小值和上述范围最大值输入预设的插值函数中,通过上述插值函数对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述光照方向包括预设的天光照射模型的照射方向,上述提取模块802具体用于:
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在Z轴方向上的法线分量值,作为顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述法线信息包括法线向量,上述提取模块802具体用于:
获取预设光照方向对应的光照方向向量;
根据上述顶点的法线向量,以及上述光照方向向量,确定顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息;
根据上述投影信息,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述强度确定模块803具体用于:
将上述目标模型的顶点的法线分量值直接作为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度;
或者,基于法线分量值与上述环境光遮蔽强度之间的预设映射方法,将上述目标模型的顶点的法线分量值映射为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度。
由上可知,本实施例的环境光遮罩的生成装置通过信息获取模块801获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息,以通过提取模块802根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,再通过强度确定模块803确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,从而通过生成模块804基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,自动生成上述目标模型对应的环境光遮罩,避免了人为操作来生成AO贴图所需花费的时间,提高了为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
相应的,本申请实施例还提供一种电子设备,该电子设备可以为终端,该终端可以为智能手机、平板电脑、笔记本电脑、触控屏幕、游戏机、个人计算机(PC,PersonalComputer)、个人数字助理(Personal Digital Assistant,PDA)等终端设备。如图9所示,图9为本申请实施例提供的电子设备的结构示意图。该电子设备900包括有一个或者一个以上处理核心的处理器901、有一个或一个以上计算机可读存储介质的存储器902及存储在存储器902上并可在处理器上运行的计算机程序。其中,处理器901与存储器902电性连接。本领域技术人员可以理解,图中示出的电子设备结构并不构成对电子设备的限定,可以包括比图示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者不同的部件布置。
处理器901是电子设备900的控制中心,利用各种接口和线路连接整个电子设备900的各个部分,通过运行或加载存储在存储器902内的软件程序和/或模块,以及调用存储在存储器902内的数据,执行电子设备900的各种功能和处理数据,从而对电子设备900进行整体监控。
在本申请实施例中,电子设备900中的处理器901会按照如下的步骤,将一个或一个以上的应用程序的进程对应的指令加载到存储器902中,并由处理器901来运行存储在存储器902中的应用程序,从而实现各种功能:
获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
在一些实施例中,在生成上述目标模型对应的环境光遮罩之后,还包括:
获取上述环境光遮罩对应的范围控制参数,上述范围控制参数包括范围最小值和范围最大值;
基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
对上述环境光遮罩中处于上述范围最小值和范围最大值之间的区域的上述环境光遮蔽强度进行强度渐变处理;
对上述环境光遮罩中小于上述范围最小值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第一强度调整处理;
对上述环境光遮罩中大于上述范围最大值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第二强度调整处理;
基于上述强度渐变处理、上述第一强度调整处理和上述第二强度调整处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
将上述范围最小值和上述范围最大值输入预设的插值函数中,通过上述插值函数对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述光照方向包括预设的天光照射模型的照射方向,上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在Z轴方向上的法线分量值,作为顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述法线信息包括法线向量,上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
获取预设光照方向对应的光照方向向量;
根据上述顶点的法线向量,以及上述光照方向向量,确定顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息;
根据上述投影信息,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,包括:
将上述目标模型的顶点的法线分量值直接作为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度;
或者,基于法线分量值与上述环境光遮蔽强度之间的预设映射方法,将上述目标模型的顶点的法线分量值映射为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度。
由此,本实施例提供的电子设备900可以带来如下技术效果:提高为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
以上各个操作的具体实施可参见前面的实施例,在此不再赘述。
可选的,如图9所示,电子设备900还包括:触控显示屏903、射频电路904、音频电路905、输入单元906以及电源907。其中,处理器901分别与触控显示屏903、射频电路904、音频电路905、输入单元906以及电源907电性连接。本领域技术人员可以理解,图9中示出的电子设备结构并不构成对电子设备的限定,可以包括比图示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者不同的部件布置。
触控显示屏903可用于显示图形用户界面以及接收用户作用于图形用户界面产生的操作指令。触控显示屏903可以包括显示面板和触控面板。其中,显示面板可用于显示由用户输入的信息或提供给用户的信息以及电子设备的各种图形用户接口,这些图形用户接口可以由图形、文本、图标、视频和其任意组合来构成。可选的,可以采用液晶显示器(LCD,Liquid Crystal Display)、有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)等形式来配置显示面板。触控面板可用于收集用户在其上或附近的触摸操作(比如用户使用手指、触笔等任何适合的物体或附件在触控面板上或在触控面板附近的操作),并生成相应的操作指令,且操作指令执行对应程序。可选的,触控面板可包括触摸检测装置和触摸控制器两个部分。其中,触摸检测装置检测用户的触摸方位,并检测触摸操作带来的信号,将信号传送给触摸控制器;触摸控制器从触摸检测装置上接收触摸信息,并将它转换成触点坐标,再送给处理器901,并能接收处理器901发来的命令并加以执行。触控面板可覆盖显示面板,当触控面板检测到在其上或附近的触摸操作后,传送给处理器901以确定触摸事件的类型,随后处理器901根据触摸事件的类型在显示面板上提供相应的视觉输出。在本申请实施例中,可以将触控面板与显示面板集成到触控显示屏903而实现输入和输出功能。但是在某些实施例中,触控面板与触控面板可以作为两个独立的部件来实现输入和输出功能。即触控显示屏903也可以作为输入单元906的一部分实现输入功能。
射频电路904可用于收发射频信号,以通过无线通信与网络设备或其他电子设备建立无线通讯,与网络设备或其他电子设备之间收发信号。
音频电路905可以用于通过扬声器、传声器提供用户与电子设备之间的音频接口。音频电路905可将接收到的音频数据转换后的电信号,传输到扬声器,由扬声器转换为声音信号输出;另一方面,传声器将收集的声音信号转换为电信号,由音频电路905接收后转换为音频数据,再将音频数据输出处理器901处理后,经射频电路904以发送给比如另一电子设备,或者将音频数据输出至存储器902以便进一步处理。音频电路905还可能包括耳塞插孔,以提供外设耳机与电子设备的通信。
输入单元906可用于接收输入的数字、字符信息或用户特征信息(例如指纹、虹膜、面部信息等),以及产生与用户设置以及功能控制有关的键盘、鼠标、操作杆、光学或者轨迹球信号输入。
电源907用于给电子设备900的各个部件供电。可选的,电源907可以通过电源管理系统与处理器901逻辑相连,从而通过电源管理系统实现管理充电、放电、以及功耗管理等功能。电源907还可以包括一个或一个以上的直流或交流电源、再充电系统、电源故障检测电路、电源转换器或者逆变器、电源状态指示器等任意组件。
尽管图9中未示出,电子设备900还可以包括摄像头、传感器、无线保真模块、蓝牙模块等,在此不再赘述。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
本领域普通技术人员可以理解,上述实施例的各种方法中的全部或部分步骤可以通过指令来完成,或通过指令控制相关的硬件来完成,该指令可以存储于一计算机可读存储介质中,并由处理器进行加载和执行。
为此,本申请实施例提供一种计算机可读存储介质,其中存储有多条计算机程序,该计算机程序能够被处理器进行加载,以执行本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法。例如,该计算机程序可以执行如下步骤:
获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
基于上述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成上述目标模型对应的环境光遮罩。
在一些实施例中,在生成上述目标模型对应的环境光遮罩之后,还包括:
获取上述环境光遮罩对应的范围控制参数,上述范围控制参数包括范围最小值和范围最大值;
基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
对上述环境光遮罩中处于上述范围最小值和范围最大值之间的区域的上述环境光遮蔽强度进行强度渐变处理;
对上述环境光遮罩中小于上述范围最小值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第一强度调整处理;
对上述环境光遮罩中大于上述范围最大值的区域的上述环境光遮蔽强度进行第二强度调整处理;
基于上述强度渐变处理、上述第一强度调整处理和上述第二强度调整处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述基于上述范围最小值和上述范围最大值,对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
将上述范围最小值和上述范围最大值输入预设的插值函数中,通过上述插值函数对上述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
在一些实施例中,上述光照方向包括预设的天光照射模型的照射方向,上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在Z轴方向上的法线分量值,作为顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述法线信息包括法线向量,上述根据上述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
获取预设光照方向对应的光照方向向量;
根据上述顶点的法线向量,以及上述光照方向向量,确定顶点的法线向量在上述光照方向向量上的投影信息;
根据上述投影信息,确定上述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
在一些实施例中,上述确定上述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,包括:
将上述目标模型的顶点的法线分量值直接作为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度;
或者,基于法线分量值与上述环境光遮蔽强度之间的预设映射方法,将上述目标模型的顶点的法线分量值映射为上述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度。
可见,计算机程序能够被处理器进行加载,以执行本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法,从而带来如下技术效果:提高为模型生成环境光遮蔽效果的速度。
以上各个操作的具体实施可参见前面的实施例,在此不再赘述。
其中,该计算机可读存储介质可以包括:只读存储器(ROM,Read Only Memory)、随机存取记忆体(RAM,Random Access Memory)、磁盘或光盘等。
由于该计算机可读存储介质中所存储的计算机程序,可以执行本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法,因此,可以实现本申请实施例所提供的任一种环境光遮罩的生成方法所能实现的有益效果,详见前面的实施例,在此不再赘述。
以上对本申请实施例所提供的一种环境光遮罩的生成方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述方法包括:
获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
根据所述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
确定所述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
基于所述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成所述目标模型对应的环境光遮罩。
2.如权利要求1所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,在生成所述目标模型对应的环境光遮罩之后,还包括:
获取所述环境光遮罩对应的范围控制参数,所述范围控制参数包括范围最小值和范围最大值;
基于所述范围最小值和所述范围最大值,对所述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
3.如权利要求2所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述基于所述范围最小值和所述范围最大值,对所述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
对所述环境光遮罩中处于所述范围最小值和范围最大值之间的区域的所述环境光遮蔽强度进行强度渐变处理;
对所述环境光遮罩中小于所述范围最小值的区域的所述环境光遮蔽强度进行第一强度调整处理;
对所述环境光遮罩中大于所述范围最大值的区域的所述环境光遮蔽强度进行第二强度调整处理;
基于所述强度渐变处理、所述第一强度调整处理和所述第二强度调整处理,得到处理后的环境光遮罩。
4.如权利要求2所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述基于所述范围最小值和所述范围最大值,对所述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩,包括:
将所述范围最小值和所述范围最大值输入预设的插值函数中,通过所述插值函数对所述环境光遮罩中的环境光遮罩强度进行处理,得到处理后的环境光遮罩。
5.如权利要求1所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述光照方向包括预设的天光照射模型的照射方向,所述根据所述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
根据所述顶点的法线信息提取顶点法线在Z轴方向上的法线分量值,作为顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
6.如权利要求1所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述法线信息包括法线向量,所述根据所述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值,包括:
获取预设光照方向对应的光照方向向量;
根据所述顶点的法线向量,以及所述光照方向向量,确定顶点的法线向量在所述光照方向向量上的投影信息;
根据所述投影信息,确定所述顶点法线在预设光照方向上的法线分量值。
7.如权利要求1至6任一项所述的环境光遮罩的生成方法,其特征在于,所述确定所述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度,包括:
将所述目标模型的顶点的法线分量值直接作为所述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度;
或者,基于法线分量值与所述环境光遮蔽强度之间的预设映射方法,将所述目标模型的顶点的法线分量值映射为所述目标模型的顶点的环境光遮蔽强度。
8.一种环境光遮罩的生成装置,其特征在于,所述装置包括:
信息获取模块,用于获取在本地模型空间中待处理的目标模型各顶点的法线信息;
提取模块,用于根据所述顶点的法线信息提取顶点法线在预设光照方向上的法线分量值;
强度确定模块,用于确定所述目标模型各顶点的法线分量值对应的环境光遮蔽强度;
生成模块,用于基于所述目标模型各顶点对应的环境光遮蔽强度,生成所述目标模型对应的环境光遮罩。
9.一种电子设备,其特征在于,包括处理器和存储器,所述存储器存储有多条指令;所述处理器从所述存储器中加载指令,以执行如权利要求1至7任一项所述的环境光遮罩的生成方法。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质存储有多条指令,所述指令适于处理器进行加载,以执行权利要求1至7任一项所述的环境光遮罩的生成方法。
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