CN117268541A - 一种光谱仪、光谱检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光谱仪，包括沿光轴依次设有入射光、准直透镜组、柱面透镜阵列、F‑P平板、光栅、聚焦透镜组、光信号处理组件；所述准直透镜组、柱面透镜阵列、F‑P平板、光栅、聚焦透镜组及光信号处理组件同轴等高设置，所述柱面透镜阵列与F‑P平板平行设置且往一侧倾斜以使得柱面透镜阵列焦线聚焦于F‑P平板入射面上，所述F‑P平板入射面上设有狭缝阵列，所述狭缝阵列包括设在F‑P平板入射面上且沿Y轴方向等距的多个入射狭缝，所述F‑P平板入射面上渡有高反膜、出射面上渡有反射膜，具有够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，增大灵敏度检测以提高检测精度的优点；本发明还公开了一种光谱检测方法，能够提高探测信号强度和增大灵敏度检测的优点。

Description

一种光谱仪、光谱检测方法

【技术领域】

本发明涉及一种使用F-P标准具的高分辨光谱仪及光谱检测方法。

【背景技术】

通常中阶梯光栅光谱仪具有体积小、高色散、高分辨率等特点，代表了先进光谱技术的发展趋势。这种光谱仪采用的中阶梯光栅其性质介于小阶梯光栅和阶梯光栅之间。它与闪耀光栅不同，不以增加光栅刻线，而以增大闪耀角(高光谱级次和加大光栅刻划面积)来获得高分辨率和高色散率。

但在实际加工生产当中，中阶梯光栅的加工难度高，对各阶梯的平行度，一致性，要求非常高，由于刻刀加工的工艺水平限制，误差要求小不易实现，故这种光栅存在着难以加工制作或制作成本高昂的问题，故现在有一种采用F-P标准具的方式，其分光原理与中阶梯光谱仪类似，通过光产生干涉，其不同波长干涉条纹位置不同，来实现对不同波长光的散开，能达到同样的分开光谱的效果却同时能降低制作难度节约成本。

这里所指的F-P标准具是指一块两面平面度很高的平板，F-P标准具分开波长的原理基本类似于法布里-珀罗干涉仪，在平板两面镀高反膜，入射进平板内的光会在平板内多次反射，然后形成多光束干涉，不同波长的光的干涉条纹所处位置不同，达到实现光谱分光的功能，这种通过干涉式实现光谱分光的光谱仪存在的问题在于，干涉所需的光强相比光栅空间上分光式的光谱要高，故需要进入F-P标准具的光强足够高，而现有的光进入F-P标准具的方式为一狭缝或者说单窗口，这种方式进入F-P标准具的光强不够，效果不好，光的损失也大。在目前的技术中，这种单狭缝入射平板方式常结合聚焦，调整入射角度，入射狭缝增透镀膜，增加入射玻璃模块等方式，来增加进入标准具的光强。

对于现有的F-P标准具，其所使用的单窗口入射的方式，仍然存在着入射光效率低，损耗大，精度不够的问题。采用单狭缝入射，为了增大通光效率，需要增大入射狭缝，即增大入射狭缝宽度，但为了增大分辨率，需要缩小狭缝宽度，即减小入射狭缝，二者存在矛盾，限制了性能。且在实际生产制作中，采用镀膜方式还存在入射狭缝不易做小，采用添加入射玻璃模组的方式也存在着加工组合不易的问题。

注：本发明中的F-P标准具和F-P平板相同。

为此，本发明即针对上述问题而研究提出。

【发明内容】

本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种高分辨光谱仪，可以改善现有技术存在的问题，能够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，从而增大检测灵敏度以提高检测精度的优点；另外还具有加工难度低，制作成本低，体积小的特点。

本发明还提供一种光谱检测方法，由于采用上述光谱仪，因此能够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，从而增大检测灵敏度以提高检测精度的优点。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种光谱仪，包括沿光轴依次设有：

入射光1、准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7、光信号处理组件8。

所述准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7及光信号处理组件8同轴等高设置，所述柱面透镜阵列3与F-P平板4平行设置且往一侧倾斜以使得柱面透镜阵列3焦线聚焦于F-P平板4入射面上，所述F-P平板4入射面上设有狭缝阵列5，所述狭缝阵列5包括设在F-P平板4入射面上且沿Y轴方向等距的多个入射狭缝，所述F-P平板4入射面上镀有高反膜、出射面上镀有反射膜。

所述入射光1用于提供及发射入射光束。

所述准直透镜组2用于将入射光1入射出的光束准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上。

所述柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜用于将准直透镜组2所射出的平行光束9聚焦为细线形光束10而射向F-P平板4上对应的入射狭缝上。

所述F-P平板4用于将柱面透镜阵列3所射出的细线形光束10在Y轴方向上按级次以角度条纹分开，且所述F-P平板4用于使进入F-P平板4的细线形光束10进行多次反射出射后形成多光束干涉、进而产生级次条纹的横向条纹光束11，所述横向条纹光束11以不同波长按角度射向光栅6上，且横向条纹光束11中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠。

所述光栅6用于将存在X轴方向重叠的横向条纹光束11在X轴方向上进行色散，且不同波长的横向条纹光束11会因光栅6色散而在X轴方向上处于不同位置而形成二维色散光束12以射向聚焦透镜组7上。

所述聚焦透镜组7用于将所述光栅6所射出的二维色散光束12聚焦到光信号处理组件8上。

所述光信号处理组件8用于接收及处理所述聚焦透镜组7聚焦成像的光谱图形或光谱信号。

如上所述一种光谱仪，如上所述狭缝阵列5包括设在F-P平板4入射面上且沿Y轴方向等距相邻的多个入射狭缝。

如上所述一种光谱仪，所述F-P平板4上相邻入射狭缝的中心间距为0.1～10mm。

如上所述一种光谱仪，所述F-P平板4上的入射狭缝的宽为1～100um。

如上所述一种光谱仪，所述光栅6为透射式刻线光栅或反射式刻线光栅。

如上所述一种光谱仪，所述光信号处理组件8为CCD探测器或CMOS器件。

本发明一种光谱检测方法，采用如上所述光谱仪，包括如下步骤：

S1、调节准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7、光信号处理组件8同轴等高和调节柱面透镜阵列3与F-P平板4平行且往一侧倾斜；

S2、接入入射光1，所述入射光1入射出的光束经过准直透镜组2准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上，柱面透镜阵列3上每一柱面透镜将准直透镜组2所射出的平行光束9进行X轴方向上聚焦为多条细线形光束10而射向F-P平板4上对应的入射狭缝上；

S3、柱面透镜阵列3所射出的细线形光束10经由F-P平板4上对应的入射狭缝射入而射在F-P平板4出射面上，之后细线形光束10在F-P平板4出射面与入射面之间进行多次反射出射后而在不同角度上形成多光束干涉、进而产生横向条纹光束11以射向光栅6上，且横向条纹光束11中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠，相同角度的横向条纹光束11有相同的波长组合，其光程差为Δ，且Δ＝2π×2ndCOS(θ)，其中n为玻璃折射率，d为F-P平板厚度，θ为光线角度；当Δ为波长的整数倍时为亮纹；

对于m＝Δ/λ，其中λ为波长，m为整数，所有Δ相同，当m为整数时，所有波长将出现在同一角度上；

S4、接着光栅6将横向条纹光束11X轴方向重叠的波长散开以形成Y轴方向和X轴方向的二维色散光束12射向聚焦透镜组7上，由聚焦透镜组7聚焦到光信号处理组件8上，然后光信号处理组件8接收处理光信号且传递给外部上位机进行分析反馈。

如上所述一种光谱检测方法，在步骤S2、S3中使用了设有狭缝阵列5的F-P平板4，通过所述F-P平板4上的多个入射狭缝实现增加入射光强。

与现有技术相比较，本发明具有如下优点：

1、本发明一种光谱仪与现有技术中的光谱仪相比，所使用的F-P平板相比中阶梯光栅具有加工难度低，制作成本低，体积小的优点。

2、本发明通过现有装置，实现对F-P平板的多狭缝入射，解决了现有F-P平板光谱仪中通光效率低，检测灵敏度低的问题，具有够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，增大灵敏度检测以提高检测精度的优点。

3、本发明一种光谱检测方法，由于采用上述光谱仪，因此能够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，增大灵敏度检测以提高检测精度的优点。

【附图说明】

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细说明，其中：

图1为本发明光谱仪的结构示意图。

图2为本发明光谱仪中部分光束在F-P平板产生多光束干涉的原理示意图。

图3为本发明装置涉及的F-P平板多狭缝的刻蚀装置的结构示意图。

图4为本发明中横向条纹光束在不加光栅时经过聚焦透镜组汇聚后的光束的图像示意图。

图5为本发明中二维色散光束经过聚焦透镜组聚焦成像后的图像示意图。

【具体实施方式】

下面结合附图1-5对本发明的实施方式作详细说明。

如图1、2所示，本发明一种光谱仪，包括沿光轴依次设有：

入射光1、准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7、光信号处理组件8。

所述准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7及光信号处理组件8同轴等高设置，所述柱面透镜阵列3与F-P平板4平行设置且往一侧倾斜以使得柱面透镜阵列3焦线聚焦于F-P平板4入射面上，所述F-P平板4入射面上设有狭缝阵列5，所述狭缝阵列5包括设在F-P平板4入射面上且沿Y轴方向等距的多个入射狭缝，所述F-P平板4入射面上镀有高反膜、出射面上镀有反射膜。

所述入射光1用于提供及发射入射光束。或者所述入射光1为标准光源,使用标准光源时可在准直透镜组2和柱面透镜阵列3之间放入待测样品。

所述准直透镜组2用于将入射光1入射出的光束准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上。

所述柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜用于将准直透镜组2所射出的平行光束9聚焦为细线形光束10而相应射向F-P平板4上对应的入射狭缝上。

所述F-P平板4用于将柱面透镜阵列3所射出的细线形光束10在Y轴方向上按级次以角度条纹分开，且所述F-P平板4用于使进入F-P平板4的细线形光束10进行多次反射出射后形成多光束干涉、进而产生级次条纹的横向条纹光束11，所述横向条纹光束11以不同波长按角度射向光栅6上，且横向条纹光束11中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠。

所述光栅6用于将存在X轴方向重叠的横向条纹光束11在X轴方向上进行色散，且不同波长的横向条纹光束11会因光栅6色散而在X轴方向上处于不同位置而形成二维色散光束12以射向聚焦透镜组7上。

所述聚焦透镜组7用于将所述光栅6所射出的二维色散光束12聚焦到光信号处理组件8上。

所述光信号处理组件8用于接收及处理所述聚焦透镜组7聚焦成像的光谱图形或光谱信号。

本发明一种光谱仪通过准直透镜组、柱面透镜阵列、F-P平板、光栅、聚焦透镜组及光信号处理组件配合，且所述F-P平板4入射面上设有狭缝阵列5，所述狭缝阵列5包括设在F-P平板4入射面上且沿Y轴方向等距的多个入射狭缝，所述F-P平板4入射面上镀有高反膜、出射面上镀有反射膜，具有加工难度低，制作成本低，体积小的优点，另外能够降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，增大灵敏度检测以提高检测精度的优点。

优选地，所述狭缝阵列5包括设在F-P平板4入射面上且沿Y轴方向等距相邻的多个入射狭缝。

如图1、2所示，为了进一步提高多光束干涉效果，所述F-P平板4上相邻入射狭缝的中心间距为0.1～10mm。优选地，所述F-P平板4上相邻入射狭缝的中心间距为1～3mm，如中心间距为1.5mm或2mm。

如图1、2所示，为了提高入射光效率，降低损耗，提高精度，所述F-P平板4上的入射狭缝的宽为1～100um。优选地，所述F-P平板4上的入射狭缝的宽为10～30um，如15um或20um。

如图1、2所示，为了提高色散效果，所述光栅6为透射式刻线光栅或反射式刻线光栅。

如图1、2所示，为了提高处理效率，所述光信号处理组件8为CCD探测器或CMOS器件。

本发明一种光谱检测方法，采用如上所述光谱仪，包括如下步骤：

S1、调节准直透镜组2、柱面透镜阵列3、F-P平板4、光栅6、聚焦透镜组7、光信号处理组件8同轴等高和调节柱面透镜阵列3与F-P平板4平行且往一侧倾斜；

S2、接入入射光1，所述入射光1入射出的光束经过准直透镜组2准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上，柱面透镜阵列3上每一柱面透镜将准直透镜组2所射出的平行光束9进行X轴方向上聚焦为多条细线形光束10而相应射向F-P平板4上对应的入射狭缝上；

S3、柱面透镜阵列3所射出的细线形光束10经由F-P平板4上对应的入射狭缝射入而射在F-P平板4出射面上，之后细线形光束10在F-P平板4出射面与入射面之间进行多次反射出射后而在不同角度上形成多光束干涉、进而产生横向条纹光束11以射向光栅6上，且横向条纹光束11中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠，相同角度的横向条纹光束11有相同的波长组合，其光程差为Δ，且Δ＝2π×2ndCOS(θ)，其中n为玻璃折射率，d为F-P平板厚度，θ为光线角度；当Δ为波长的整数倍时为亮纹；

F-P平板也可以由两个反射面组成空心F-P平板，此时n＝1，则Δ＝2πx2dCOS(θ)。

对于m＝Δ/λ，其中λ为波长，m为整数，所有Δ相同，当m为整数时，所有波长将出现在同一角度上。

S4、接着光栅6将横向条纹光束11X轴方向重叠的波长散开以形成Y轴方向和X轴方向的二维色散光束12射向聚焦透镜组7上，由聚焦透镜组7聚焦到光信号处理组件8上，然后光信号处理组件8接收处理光信号且传递给外部上位机进行分析反馈。因此本发明一种光谱检测方法能够实现降低入射损耗，增大光强，提高探测信号强度，增大检测灵敏度，以提高检测精度。

在步骤S2、S3中使用了设有狭缝阵列5的F-P平板4，通过所述F-P平板4上的多个入射狭缝实现增加入射光强。

如图2所示，第一光束10a为细线形光束10的部分光束，第二光束14为第一光束10a的中心光束；第一入射狭缝19a为设在F-P平板4入射面上的狭缝阵列5的入射狭缝之一，第二入射狭缝19b为第一入射狭缝19a的相邻入射狭缝。第一光束10a由第一入射狭缝19a入射，使得第一光束10a照射在镀有95％反射膜的出射表面上，这里以第二光束14来简化作图与说明，第一光束10a等价参考于第二光束14，第二光束14有5％出射为第四光束16、95％反射形成第三光束15照射在镀有高反膜的入射表面上，接着第三光束15全部反射形成第五光束17，第五光束17照射在镀有95％反射膜的出射表面上且5％出射为第六光束18，第五光束17其余反射，重复以上反射射出过程中，出射的第四光束16，第六光束18光程差固定，同光源同频率，其他部分的出射光同理，满足了干涉条件，这些出射光束之间形成了多光束干涉。

对于从第二入射狭缝19b入射的光束，其与第一光束10a等光程，故其本身和在其F-P平板4内的反射光与第一光束10a的光程差也稳定，也满足多光束干涉条件。

如图3所示，为本发明中使用的F-P平板的多狭缝的实现方式之一，是一种用于对F-P平板入射狭缝刻蚀的自对准刻蚀装置及刻蚀方法的示意图，该装置引用了上述光谱仪的部分装置结构，更换入射光1为刻蚀光源50，刻蚀光源50波长短且功率高，一般为紫外光源，该装置包括沿光轴依次设有：

刻蚀光源50、准直透镜组2、柱面透镜阵列3，所述准直透镜组2与柱面透镜阵列3同轴等高设置，且所述柱面透镜阵列3与F-P平板4平行且往一侧倾斜，所述F-P平板4上涂布有感光材料；

所述刻蚀光源50提供及发射用于刻蚀所需波长的刻蚀光束；

所述准直透镜组2用于将刻蚀光源50发射出的刻蚀光束准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上；

所述柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜用于将准直透镜组2所射出的平行光束9聚焦为多条平行的细线形光束10而射向F-P平板4入射面上、进而对F-P平板4入射面的感光材料进行感光以显影刻蚀出所需的狭缝阵列。

通过采用上述部分装置，以如下方法进行F-P平板的多入射狭缝刻蚀：

S1、调节准直透镜组2、柱面透镜阵列3及F-P平板4同轴等高和调节柱面透镜阵列3与F-P平板4平行且往一侧倾斜；

S2、开启刻蚀光源50，所述刻蚀光源50发射出的刻蚀光束经过准直透镜组2准直为平行光束9而射向柱面透镜阵列3中的每一柱面透镜上，柱面透镜阵列3上每一柱面透镜将准直透镜组2所射出的平行光束9进行横向上聚焦为多条细线形光束10而射向F-P平板4入射面上、进而对F-P平板4入射面进行感光刻蚀工作，待感光完成后，关闭刻蚀光源50，显影刻蚀后F-P平板4入射面上被刻蚀出多个入射狭缝，且每一入射狭缝与每一柱面透镜焦线位置一致。

因为直接引用了光谱仪装置进行刻蚀，进入装置光束位置同入射光1或刻蚀光源5时，其经过柱面透镜阵列3后光束细线所处位置正好在入射狭缝上，因而能免去F-P平板装调困难的问题，因此本发明具有加工难度低，制作成本低，体积小，刻蚀效果好的特点。

此外，还可使用多种方式实现F-P平板的多狭缝制作，包括刻刀加工刻划等。

图4为本发明横向条纹光束11在不加光栅6时经过聚焦透镜组7汇聚后的光束的图像示意图，其中每条横向条纹光束11被聚焦透镜组7在横向上汇聚，表现一个竖形光斑区域，整体表现为一竖直细线，其中301为被汇聚后的光斑区域。

图5为本发明中横向条纹光束11经过光栅在横向上色散后的二维色散光束的图像示意图，也可表示为二维色散光束12经过聚焦透镜组7聚焦成像后的图像示意图，经过聚焦透镜组7聚焦成像后的图像为二维光谱图像分布。如图5所示，其中401图像的亮暗或者灰度表示为不同波长，不表示光强，且301光斑区域在横向上被色散开，即横向上的级次重叠被色散开，故获得了一个二维的色散光谱图像。

Claims (8)

1.一种光谱仪，其特征在于包括沿光轴依次设有：

入射光(1)、准直透镜组(2)、柱面透镜阵列(3)、F-P平板(4)、光栅(6)、聚焦透镜组(7)、光信号处理组件(8)；

所述准直透镜组(2)、柱面透镜阵列(3)、F-P平板(4)、光栅(6)、聚焦透镜组(7)及光信号处理组件(8)同轴等高设置，所述柱面透镜阵列(3)与F-P平板(4)平行设置且往一侧倾斜以使得柱面透镜阵列(3)焦线聚焦于F-P平板(4)入射面上，所述F-P平板(4)入射面上设有狭缝阵列(5)，所述狭缝阵列(5)包括设在F-P平板(4)入射面上且沿Y轴方向等距的多个入射狭缝，所述F-P平板(4)入射面上渡有高反膜、出射面上渡有反射膜；

所述入射光(1)用于提供及发射入射光束；

所述准直透镜组(2)用于将入射光(1)入射出的光束准直为平行光束(9)而射向柱面透镜阵列(3)中的每一柱面透镜上；

所述柱面透镜阵列(3)中的每一柱面透镜用于将准直透镜组(2)所射出的平行光束(9)聚焦为细线形光束(10)而射向F-P平板(4)上对应的入射狭缝上；

所述F-P平板(4)用于将柱面透镜阵列(3)所射出的细线形光束(10)在Y轴方向上按级次以角度条纹分开，且所述F-P平板(4)用于使进入F-P平板(4)的细线形光束(10)进行多次反射出射后形成多光束干涉、进而产生级次条纹的横向条纹光束(11)，所述横向条纹光束(11)以不同波长按角度射向光栅(6)上，且横向条纹光束(11)中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠；

所述光栅(6)用于将存在X轴方向重叠的横向条纹光束(11)在X轴方向上进行色散，且不同波长的横向条纹光束(11)会因光栅(6)色散而在X轴方向上处于不同位置而形成二维色散光束(12)以射向聚焦透镜组(7)上；

所述聚焦透镜组(7)用于将所述光栅(6)所射出的二维色散光束(12)聚焦到光信号处理组件(8)上；

所述光信号处理组件(8)用于接收及处理所述聚焦透镜组(7)聚焦成像的光谱图形或光谱信号。

2.根据权利要求1所述一种光谱仪，其特征在于所述狭缝阵列(5)包括设在F-P平板(4)入射面上且沿Y轴方向等距相邻的多个入射狭缝。

3.根据权利要求2所述一种光谱仪，其特征在于所述F-P平板(4)上相邻入射狭缝的中心间距为0.1～10mm。

4.根据权利要求1所述一种光谱仪，其特征在于所述F-P平板(4)上的入射狭缝的宽为1～100um。

5.根据权利要求1所述一种光谱仪，其特征在于所述光栅(6)为透射式刻线光栅或反射式刻线光栅。

6.根据权利要求1所述一种光谱仪，其特征在于所述光信号处理组件(8)为CCD探测器或CMOS器件。

7.一种光谱检测方法，其特征在于采用如权利要求1-6任一项所述光谱仪，包括如下步骤：

S1、调节准直透镜组(2)、柱面透镜阵列(3)、F-P平板(4)、光栅(6)、聚焦透镜组(7)、光信号处理组件(8)同轴等高和调节柱面透镜阵列(3)与F-P平板(4)平行且往一侧倾斜；

S2、接入入射光(1)，所述入射光(1)入射出的光束经过准直透镜组(2)准直为平行光束(9)而射向柱面透镜阵列(3)中的每一柱面透镜上，柱面透镜阵列(3)上每一柱面透镜将准直透镜组(2)所射出的平行光束(9)进行X轴方向上聚焦为多条细线形光束(10)而射向F-P平板(4)上对应的入射狭缝上；

S3、柱面透镜阵列(3)所射出的细线形光束(10)经由F-P平板(4)上对应的入射狭缝射入而射在F-P平板(4)出射面上，之后细线形光束(10)在F-P平板(4)出射面与入射面之间进行多次反射出射后而在不同角度上形成多光束干涉、进而产生横向条纹光束(11)以射向光栅(6)上，且横向条纹光束(11)中的每条亮条纹都存在着不同波长的光的不同级次的重叠，相同角度的横向条纹光束(11)有相同的波长组合，其光程差为Δ，且Δ＝2π×2ndCOS(θ)，其中n为玻璃折射率，d为F-P平板厚度，θ为光线角度；当Δ为波长的整数倍时为亮纹；

对于m＝Δ/λ，其中λ为波长，m为整数，所有Δ相同，当m为整数时，所有波长将出现在同一角度上；

S4、接着光栅(6)将横向条纹光束(11)X轴方向重叠的波长散开以形成Y轴方向和X轴方向的二维色散光束(12)射向聚焦透镜组(7)上，由聚焦透镜组(7)聚焦到光信号处理组件(8)上，然后光信号处理组件(8)接收处理光信号且传递给外部上位机进行分析反馈。

8.根据权利要求7所述一种光谱检测方法，其特征在于在步骤S2、S3中使用了设有狭缝阵列(5)的F-P平板(4)，通过所述F-P平板(4)上的多个入射狭缝实现增加入射光强。