CN117222264A - 显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及显示装置,其中,显示面板包括多个子像素区域和多个透光区域,所述透光区域位于相邻的所述子像素区域之间,各所述子像素区域设置有发光结构,各所述透光区域设置有透光结构;光路改变器件,设置于所述发光结构的发光侧和非发光侧的至少一侧,用于改变射向所述子像素区域的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构并从入射方向相反的一侧出射。上述方案可以提高环境光的透过率。
Description
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
对于透明显示技术来说,一般会设置正常显示像素单元(子像素)和透明单元,其中,环境光可以经过透明单元从显示面板的一侧透射到相背的另一侧,但是,由于照射至正常显示像素单元(子像素)的环境光会被反射或者吸收,因此,目前透明显示装置(面板)环境光的透过率约为40%-45%左右,透过率相对较低。
发明内容
本申请期望提供一种显示面板及显示装置,至少用于提高透明显示面板的环境光透过率。
第一方面,本发明提供一种显示面板,包括:
多个子像素区域和多个透光区域,所述透光区域位于相邻的所述子像素区域之间,各所述子像素区域设置有发光结构,各所述透光区域设置有透光结构;
光路改变器件,设置于所述发光结构的发光侧和非发光侧的至少一侧,用于改变射向所述子像素区域的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构并从入射方向相反的一侧出射。
作为可实现方式,所述发光结构的发光侧和非发光侧均设置有所述光路改变器件。
作为可实现方式,所述光路改变器件位于各所述子像素区域内。
作为可实现方式,包括像素界定层,所述像素界定层具有与所述子像素区域对应的子像素开口和与透光区域对应的透光开口,所述子像素开口内形成有所述发光结构,所述透光开口内形成有所述透光结构。
作为可实现方式,所述光路改变器件背离所述像素界定层的一侧设置有透明膜层,所述透明膜层的折射率大于所述光路改变器件的折射率。
作为可实现方式,所述透明膜层的折射率为1.7-2.4,所述光路改变器件的折射率为1.375-1.4。
作为可实现方式,所述透光结构的折射率为1.6-1.8。
作为可实现方式,所述光路改变器件包括凸起结构。
作为可实现方式,所述凸起结构包括棱镜,所述棱镜沿自所述发光侧向所述非发光侧方向的截面为三角形;或,所述凸起结构包括凸透镜。
第二方面,本发明提供一种显示装置,包括上述的显示面板。
上述方案,由于设置了光路改变器件,且该光路改变器件用于改变射向子像素区域的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分环境光,穿过透光结构并从入射方向相反的一侧出射,也即,本应被子像素区域反射和/或吸收的环境光中的至少一部分,传播路径改变至入射进透光结构,从穿过透光结构并从入射方向相反的一侧出射,因此,提高了环境光的透过率。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明实施例提供的显示面板的主视图;
图2为图1的A-A剖视图;
图3为本发明另一实施例提供的对应于A-A位置剖视图;
图4为本发明又一实施例提供的对应于A-A位置剖视图;
图5为本发明实施例提供的显示面板制备过程结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
对于透明显示技术来说,其显示面板包括用于进行正常显示的子像素区域3和用于使环境光从显示面板一侧透过至另一侧的透光区域4(如从正面透过至背面,和/或,从背面透过至正面;其中,正面可以认为是显示面板供使用者观看画面的一面,背面是背对使用者的一面),在环境光从显示面板的一侧透过至另一侧的过程中,一部分环境光会照射到子像素区域3,环境光无法穿透子像素区域3,且照射至子像素区域3的环境光会被反射和/或吸收,而只有照射至透光区域4的环境光的一部分才能从显示面板的一侧透过至另一侧,这就导致环境光的透过率相对较低,一般环境光的透过率只有40%-45%左右。为了提高环境光的透过率,本发明实施例提供了一种显示面板,包括:
多个子像素区域3和多个透光区域4,所述透光区域4位于相邻的所述子像素区域3之间,各所述子像素区域3设置有发光结构1,各所述透光区域4设置有透光结构2。
其中,发光结构1可以包括有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode;OLED)器件,OLED器件可以包括有机发光层;还可以包括顺次层叠设置的空穴传输层、有机发光层和电子传输层;还可以包括顺次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层;当然,在其他示例中,发光结构1可以包括次毫米发光二级管(Mini Light Emitting Diode;Mini-LED)、微型发光二极管(Micro Light EmittingDiode;Mirco-LED)等。
透光结构2一般选择光透过率较高的材料形成于透光区域4,一般地,透光结构2的光透过率可以在95%以上。
光路改变器件6,设置于所述发光结构1的发光侧和非发光侧的至少一侧,用于改变射向所述子像素区域3的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构2并从入射方向相反的一侧出射。
其中,发光侧对应于该显示面板进行画面显示的一侧,也即供使用者观看画面的一侧,对应于上述显示面板的正面,非发光侧则对应于上述显示面板的背面。
光路改变器件6可以通过折射和/或反射的方式,将射向所述子像素区域3的环境光的传播路径进行改变,使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构2并从入射方向相反的一侧出射,以提高环境光的透过率。
其中,以下示例中,以光路改变器件6采用反射的方式,来改变射向所述子像素区域3的环境光的传播路径,对本发明方案予以详细的示例性介绍。
上述方案,由于设置了光路改变器件6,且该光路改变器件6用于改变射向子像素区域3的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分环境光,穿过透光结构2并从入射方向相反的一侧出射,也即,本应被子像素区域3反射和/或吸收的环境光中的至少一部分,传播路径改变至入射进透光结构2,从穿过透光结构2并从入射方向相反的一侧出射,因此,提高了环境光的透过率。
具体地,如图1、图2所示,该示例的显示面板,包括:
多个子像素区域3和多个透光区域4,所述透光区域4位于相邻的所述子像素区域3之间,各所述子像素区域3设置有发光结构1,各所述透光区域4设置有透光结构2;
光路改变器件6,设置于所述发光结构1的发光侧,用于改变射向所述子像素区域3的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构2并从入射方向相反的一侧出射。
通过在发光结构1的发光侧设置光路改变器件6,可以将显示面板正面,射向所述子像素区域3的环境光,经过光路改变器件6的反射后,射向透光区域4,并穿过所述透光结构2,从显示面板的背面出射,提高了环境光从显示面板正面向背面传输的透过率。
如图3所示,该示例的显示面板,包括:
多个子像素区域3和多个透光区域4,所述透光区域4位于相邻的所述子像素区域3之间,各所述子像素区域3设置有发光结构1,各所述透光区域4设置有透光结构2;
光路改变器件6,设置于所述发光结构1的非发光侧,用于改变射向所述子像素区域3的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构2并从入射方向相反的一侧出射。
通过在发光结构1的非发光侧设置光路改变器件6,可以将显示面板背面,射向所述子像素区域3的环境光,经过光路改变器件6的反射后,射向透光区域4,并穿过所述透光结构2,从显示面板的正面出射,提高了环境光从显示面板背面向正面传输的透过率。
如图4所示,该示例的显示面板,包括:
多个子像素区域3和多个透光区域4,所述透光区域4位于相邻的所述子像素区域3之间,各所述子像素区域3设置有发光结构1,各所述透光区域4设置有透光结构2;
光路改变器件6,设置于所述发光结构1的发光侧和非发光侧,用于改变射向所述子像素区域3的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构2并从入射方向相反的一侧出射。
通过在发光结构1的发光侧和非发光侧设置光路改变器件6,可以将显示面板正面,射向所述子像素区域3的环境光,经过发光侧的光路改变器件6的反射后,射向透光区域4,并穿过所述透光结构2,从显示面板的背面出射,提高了环境光从显示面板正面向背面传输的透过率;同时,还可以将显示面板背面,射向所述子像素区域3的环境光,经过非发光侧的光路改变器件6的反射后,射向透光区域4,并穿过所述透光结构2,从显示面板的正面出射,提高了环境光从显示面板背面向正面传输的透过率。
作为可实现方式,为了最大限度的提高环境光的透过,所述光路改变器件6位于各所述子像素区域3内,避免因光路改变器件6延伸至透光区域4,将照射至透光区域4的部分环境光进行反射和/或折射,使得本可以透过透光区域4的环境光,因传播路径改变而无法透过透光区域4的情况发生。
作为可实现方式,本发明各示例提供的显示面板包括像素界定层5,所述像素界定层5具有与所述子像素区域3对应的子像素开口51和与透光区域4对应的透光开口52,所述子像素开口51内形成有所述发光结构1,所述透光开口52内形成有所述透光结构2,另参见图5所示。
一般地,在像素界定层5上通过图案化,形成多个子像素开口51和多个透光开口52,而子像素开口51与透光开口52之间是相互隔离的,其二者之间具有形成像素界定层5的材料,一般地形成像素界定层5的材料是不透光或透光率较低的材料,这样可以避免相邻子像素区域3内的发光结构1所发出的光透过透光结构2而出现穿扰的问题。
作为可实现方式,所述光路改变器件6背离所述像素界定层5的一侧设置有透明膜层7,所述透明膜层7的折射率大于所述光路改变器件6的折射率。通过在光路改变器件6背离像素界定层5的一侧,设置折射率大于光路改变器件6的折射率的透明膜层7,使得光路改变器件6与透明膜层7之间可以发生全反射,降低环境光进入光路改变器件6的光量,使尽量多的环境光被反射进透光结构2,以从环境光入射方向相反的一侧出射,提高环境光的透过率。
作为可实现方式,所述透明膜层7的折射率为1.7-2.4,所述光路改变器件6的折射率为1.375-1.4。
例如但不限于,透明膜层7的材料包括SiN、TiO2、Ta2O5、和设置高折射率纳米粒子的聚甲基丙烯酸甲酯(PolymethylMethacrylate;PMMA)等;其中,SiN的折射率小于2.0,TiO2的折射率小于2.4、Ta2O5的折射率小于2.2,设置高折射率纳米粒子的PMMA的折射率小于1.8。
光路改变器件6的材料包括SiO2、PMMA等,其中,SiO2的折射率小于1.4,PMMA的折射率小于1.4。
作为可实现方式,所述透光结构2的折射率为1.6-1.8。
透光结构2的材料包括SiN,其折射率为1.6-1.8。
作为可实现方式,所述光路改变器件6包括凸起结构。
作为可实现方式,所述凸起结构包括棱镜,所述棱镜沿自所述发光侧向所述非发光侧方向的截面为三角形;或,所述凸起结构包括凸透镜。其中,图1-图3各示例中,凸起的结构均为自所述发光侧向所述非发光侧方向的截面为三角形的棱镜。
该凸起结构可以采用纳米压印或巨量转移等工艺制备。
下面通过加工方法对本发明提供的显示面板予以示例性说明,其不应理解为对本发明的唯一性限定。
其中,本发明实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理,是相关技术中成熟的制备工艺。本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光和显影,是相关技术中成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺,涂覆可采用已知的涂覆工艺,刻蚀可采用已知的方法,生长外延也采用已知的方法,在此不做具体的限定。
在本实施例的描述中,需要理解的是,“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积、涂覆或生长工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺,则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺,则在构图工艺前称为“薄膜”,构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。例如但不限于,本文中所指的薄膜的厚度可以在100μm以下。
如图5所示,上述显示面板的制备方法包括以下步骤:
S1:制备阵列基板10;
例如但不限于,阵列基板10中形成有由薄膜晶体管构成的像素驱动电路,其中,像素电路可以采用2T1C、3T1C、4T1C、5T1C、6T1C、7T1C、7T2C等电路结构,其中,T为薄膜晶体管,C为像素电容;上述像素电路可以采用现有技术中的结构,这里不对其进行赘述。
S2:在所述阵列基板10上形成阳极层8;
在阵列基板10上沉积阳极金属薄膜,对所述阳极金属薄膜进行图案化以形成阳极层8,阳极层8包括多个阳极图案,每个阳极图案对应一个子像素。
S3:在所述阳极层8上形成像素界定层5;
在所述阳极层8上沉积像素界定薄膜,对所述像素界定薄膜进行图案化,形成相互隔离的子像素开口51和透光开口52,其中,子像素开口51和透光开口52之间的像素界定层5的侧壁在满足功能的要求下,厚度越小越好,以提高开口率以及提高环境光的透过率。
S4:分别形成发光结构1以及透光结构2;
在子像素开口51内形成发光结构1,在透光开口52内形成透光结构2。
其中,可以先形成发光结构1,再形成透光结构2;还可以先形成透光结构2,再形成发光结构1。
该示例中,可以先通过沉积的方式在透光开口52内形成透光结构2,然后再通过打印或蒸镀等方式,在子像素开口51内形成发光结构1。
S5:形成阴极层9;
在像素界定层5上沉积阴极薄膜以作为阴极层9。例如但不限于,阴极层9的材料为氧化铟锡(Indium Tin Oxide;ITO)等。
S6:形成光路改变器件6;
在阵列基板10背离发光结构1的一侧形成光路改变器件6,可以通过纳米压印或巨量转移等工艺制备光路改变器件6。
在其他示例中,还可以在阴极层9背离发光结构1的一侧形成光路改变器件6。
在发光结构1发光侧和非发光侧均设置光路改变器件6的情况下,可以在发光侧和非发光侧任一侧制备完光路改变器件6后,再在另一侧制备光路改变器件6。
S7:形成透明膜层7;
在各层光路改变器件6制备完成后,均可以通过沉积的方式形成一层透明膜层7。
在其他示例中,还可以先形成光路改变器件6和透明膜层7,然后再顺次制备整列基板、像素界定层5以及发光结构1和透光结构2等。
第二方面,本发明提供一种显示装置,包括上述的显示面板。
需要理解的是,上文如有涉及术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的发明范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
多个子像素区域(3)和多个透光区域(4),所述透光区域(4)位于相邻的所述子像素区域(3)之间,各所述子像素区域(3)设置有发光结构(1),各所述透光区域(4)设置有透光结构(2);
光路改变器件(6),设置于所述发光结构(1)的发光侧和非发光侧的至少一侧,用于改变射向所述子像素区域(3)的环境光的传播路径,以使传播路径改变的至少部分所述环境光,穿过所述透光结构(2)并从入射方向相反的一侧出射。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光结构(1)的发光侧和非发光侧均设置有所述光路改变器件(6)。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光路改变器件(6)位于各所述子像素区域(3)内。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板,其特征在于,包括像素界定层(5),所述像素界定层(5)具有与所述子像素区域(3)对应的子像素开口(51)和与透光区域4)对应的透光开口(52),所述子像素开口(51)内形成有所述发光结构(1),所述透光开口(52)内形成有所述透光结构(2)。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述光路改变器件(6)背离所述像素界定层(5)的一侧设置有透明膜层(7),所述透明膜层(7)的折射率大于所述光路改变器件(6)的折射率。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述透明膜层(7)的折射率为1.7-2.4,所述光路改变器件(6)的折射率为1.375-1.4。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述透光结构(2)的折射率为1.6-1.8。
8.根据权利要求1-3、5-7任一项所述的显示面板,其特征在于,所述光路改变器件(6)包括凸起结构。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述凸起结构包括棱镜,所述棱镜沿自所述发光侧向所述非发光侧方向的截面为三角形;或,所述凸起结构包括凸透镜。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的显示面板。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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