CN117075245A - 偏振膜及采用其的显示装置 - Google Patents

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边炳勳
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Abstract

本发明提供了一种显示装置，其包括：显示面板，包括显示元件和布置在所述显示元件上的薄膜封装层；偏振膜，布置在所述显示面板上，并且包括相位补偿层、相位延迟层和偏振层，其中，所述显示面板的厚度方向相位差是‑35nm以下。

Description

偏振膜及采用其的显示装置
技术领域
本发明涉及偏振膜及采用其的显示装置。
背景技术
显示装置作为实现图像的装置，包括液晶显示装置(LCD)、有机发光显示装置(OLED)、电泳显示装置(EPD)等。这类显示装置引入了偏振膜以防止从外部入射的光从显示装置反射。
发明内容
解决的技术问题
本发明的实施例可以使显示装置的厚度方向相位差具有在预定范围内的值，从而可以提高显示装置的可视性。然而，这些技术问题仅仅是示例性的，并且本发明的范围不限于此。
解决方法
根据本发明的一方面，提供了一种显示装置，其包括：显示面板，包括显示元件和布置在显示元件上的薄膜封装层；偏振膜，布置在显示面板上，并且包括相位补偿层、相位延迟层和偏振层，其中，显示面板的厚度方向相位差是-35nm以下。
在本实施例中，相位补偿层可以包括第一相位补偿层和第二相位补偿层。
在本实施例中，相位延迟层可以位于第一相位补偿层与第二相位补偿层之间。
在本实施例中，第二相位补偿层可以位于相位延迟层与偏振层之间。
在本实施例中，第一相位补偿层可以包括正C板。
在本实施例中，第一相位补偿层的厚度方向相位差可以是-40nm以下。
在本实施例中，第二相位补偿层可以包括TAC膜。
在本实施例中，第二相位补偿层的厚度方向相位差可以是+4nm以上。
在本实施例中，第二相位补偿层可以包括负C板。
在本实施例中，第二相位补偿层可以布置在第一相位补偿层上，并且相位延迟层可以布置在第二相位补偿层上。
在本实施例中，相位延迟层可以包括1/4波板(Quarter-Wave Plate，QWP)。
在本实施例中，偏振膜还可以包括布置在偏振层上的保护基材。
在本实施例中，显示元件可以包括像素电极、相对电极以及位于像素电极与相对电极之间的发光层。
在本实施例中，薄膜封装层可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。
在本实施例中，至少一个无机封装层可以包括：第一无机封装层，包括至少一种无机物；以及第二无机封装层，包括至少一种无机物。
根据本发明的另一方面，提供了一种偏振膜，其包括：第一相位补偿层，包括正C板；相位延迟层，布置在第一相位补偿层上；第二相位补偿层，布置在相位延迟层的一侧，并且具有+4nm以上的厚度方向相位差；以及偏振层，布置在第二相位补偿层上。
在本实施例中，第一相位补偿层的厚度方向相位差可以是-40nm以下。
在本实施例中，第二相位补偿层可以包括TAC膜或负C板。
在本实施例中，相位延迟层可以包括1/4波板(Quarter-Wave Plate，QWP)。
在本实施例中，偏振膜还可以包括：保护基材，布置在偏振层上。
本发明的除上述之外的其它方面、特征和优点将从以下具体实施方式、所附权利要求书以及附图中变得清楚。
发明的效果
根据本发明的实施例的偏振膜及采用其的显示装置可以使显示装置的厚度方向相位差具有在预定范围内的值，从而实现可视性提高的显示装置。当然，本发明的范围不受这些效果的限制。
附图说明
图1是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的平面图。
图2是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的截面图。
图3是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的显示面板的一部分的截面图。
图4是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的偏振膜的一部分的截面图。
图5是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的偏振膜的一部分的截面图。
图6和图7是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的截面图。
图8a至图8d是当显示装置的总厚度方向相位差分别为约-67nm、约-47nm、约-17nm和约0nm时，在CIE L*a*b*坐标系中示出根据视角变化的反射色度的图表。
附图标记的说明
1：显示装置
10：显示面板
40：偏振膜
300：薄膜封装层
310：第一无机封装层
320：有机封装层
330：第二无机封装层
410：偏振层
420：相位延迟层
430：相位补偿层
431：第一相位补偿层
433：第二相位补偿层
具体实施方式
本发明可以进行多种变换，并且可以具有多种实施例，在附图中例示了特定实施例，并在详细说明中进行了详细描述。本发明的效果和特征以及实现这些效果和特征的方法将参照附图和下面详细描述的实施例而变得清楚。然而，本发明不限于以下公开的实施例，而是可以以各种形式实现。
在以下实施例中，第一、第二等用语不以限制性含义使用，而是用于将一个构成元件与另一构成元件区分开的目的。
在以下实施例中，单数形式的表达包括复数形式的表达，除非在上下文中明确地指出不同的含义。
在以下实施例中，术语“包括”或“具有”等表示在说明书中记载的特征或构成元件的存在，而不是预先排除附加有一个或多个其它特征或构成元件的可能性。
在以下实施例中，当诸如膜、区域、构成元件等的部分被称为在另一部分“上”或“上方”时，其不仅包括该部分直接位于另一部分上的情况，还包括两者之间插置有其它膜、区域、构成元件等的情况。
在附图中，为了便于说明，构成元件的大小可能被夸大或缩小。例如，在附图中示出的每个构成的大小和厚度为了便于说明而任意地示出，因此本发明不限于附图中示出的大小和厚度。
在本说明书中，“A和/或B”表示“A，或者B，或者A与B”的情况。此外，在本说明书中，“A和B中的至少一个”表示“A，或者B，或者A与B”的情况。
在以下实施例中，布线“在第一方向或第二方向上延伸”不仅包括以直线形状延伸的情况，还包括沿第一方向或第二方向以Z字形或曲线延伸的情况。
在以下实施例中，当称为“在平面上”时，其表示从上方观察目标部分时的情况，而当称为“在截面上”时，其表示从侧面观察竖直切割目标部分的截面时的情况。在以下实施例中，当称为“重叠”时，其包括“平面上”以及“截面上”的重叠。
在下文中，将参照附图详细描述本发明的实施例，且在参照附图描述时，相同或相应的构成元件将被赋予相同的附图标记。
图1是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的平面图。
参照图1，显示装置1可以包括显示区域DA和周边区域PA。此外，显示装置1可以包括衬底100。此时，也可以理解为：衬底100包括显示区域DA和周边区域PA。
包括诸如有机发光二极管的显示元件的多个像素PX可以布置在衬底100的显示区域DA中。像素PX还可以包括用于控制显示元件的多个薄膜晶体管和存储电容器。包括在一个像素PX中的薄膜晶体管的数量可以不同地改变，诸如在1个至7个的范围内等。
用于传输要施加到显示区域DA的电信号的各种布线可以布置在衬底100的周边区域PA中。在周边区域PA中也可以设置有薄膜晶体管。此时，布置在周边区域PA中的薄膜晶体管可以是用于控制施加到显示区域DA内的电信号的电路部的一部分。
下面，以有机发光显示装置作为根据本发明一实施例的显示装置1为例进行说明，但本发明的显示装置1不限于此。例如，可以使用各种类型的显示装置1，诸如无机EL(电致发光；ElectroLuminescence)显示装置、量子点发光显示装置等。
图2是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的截面图。
参照图2，显示装置1可以包括显示面板10、缓冲膜20、输入感测层30、偏振膜40和覆盖窗50。
缓冲膜20可以布置在显示面板10的下方。缓冲膜20可以保护显示面板10不受外部冲击的影响。第一粘合层71可以布置在显示面板10和缓冲膜20之间。第一粘合层71可以是压敏粘合剂(PSA)。
输入感测层30可以布置在显示面板10上。输入感测层30可获得外部输入(例如，根据触摸事件的坐标信息)。输入感测层30可以包括感测电极(sensing electrode或touchelectrode)以及与感测电极连接的轨迹线(trace line，或信号线)。输入感测层30可以直接位于显示面板10上。然而，本发明不限于此。
偏振膜40可以布置在输入感测层30上。将参照图4和图5更详细地描述偏振膜40。
第二粘合层73可以布置在偏振膜40和输入感测层30之间。第二粘合层73可以是压敏粘合剂(PSA)。
覆盖窗50可以布置在偏振膜40上。覆盖窗50可以保护布置在覆盖窗50下方的显示面板10、输入感测层30和偏振膜40。第三粘合层75可以布置在偏振膜40和覆盖窗50之间。第三粘合层75可以是光学透明粘合剂(OCA)。
图3是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的显示面板的一部分的截面图。
参照图3，显示面板10可以包括衬底100、布置在衬底100上的薄膜晶体管T1、T2、与薄膜晶体管T1、T2电连接的显示元件210、封盖层220以及薄膜封装层300。此外，显示面板10还可以包括各种绝缘层111、112、113、115、118、119以及存储电容器Cst。
衬底100可以由玻璃材料、金属材料或塑料材料等各种材料形成。在一实施例中，衬底100可以是柔性衬底，例如，衬底100可以包括聚合物树脂，诸如聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯(polyarylate)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。
缓冲层111可以位于衬底100上，从而减少或阻挡杂质、湿气或外部空气从衬底100的下部渗透，并且可以在衬底100上提供平坦表面。缓冲层111可以包括诸如氧化物或氮化物的无机材料、有机材料或有机无机复合材料，并且缓冲层111可以形成为无机材料和有机材料的单层或多层结构。在衬底100和缓冲层111之间还可以包括阻挡外部空气渗透的阻挡层(未示出)。缓冲层111可以由二氧化硅(SiO2)或氮化硅(SiNX)形成。
第一薄膜晶体管T1和/或第二薄膜晶体管T2可以布置在缓冲层111上。第一薄膜晶体管T1可以包括第一半导体层A1、第一栅电极G1、第一源电极S1和第一漏电极D1。第二薄膜晶体管T2可以包括第二半导体层A2、第二栅电极G2、第二源电极S2和第二漏电极D2。第一薄膜晶体管T1可以连接到显示元件210以用作驱动显示元件210的驱动薄膜晶体管。第二薄膜晶体管T2可以连接到数据线DL以用作开关薄膜晶体管。虽然在附图中示出了两个薄膜晶体管，但是不限于此。薄膜晶体管的数量可以不同地改变，诸如在1个至7个的范围内等。
第一半导体层A1和第二半导体层A2可以各自包括非晶硅或多晶硅。或者，第一半导体层A1和第二半导体层A2可以各自包括从由铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)和锌(Zn)组成的组中选择的至少一种材料的氧化物。第一半导体层A1和第二半导体层A2可以各自包括沟道区和掺杂有杂质的源区和漏区。
第一栅电极G1和第二栅电极G2可以分别隔着第一栅绝缘层112布置在第一半导体层A1和第二半导体层A2上。第一栅电极G1和第二栅电极G2可以各自包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，并且可以形成为单层或多层。例如，第一栅电极G1和第二栅电极G2可以是Mo的单层。
第一栅绝缘层112可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等，锌氧化物ZnOX可以是ZnO和/或ZnO2。
第二栅绝缘层113可以布置为覆盖第一栅电极G1和第二栅电极G2。第二栅绝缘层113可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等，锌氧化物ZnOX可以是ZnO和/或ZnO2。
存储电容器Cst的第一存储电极CE1可以与第一薄膜晶体管T1重叠。例如，第一薄膜晶体管T1的第一栅电极G1可以用作存储电容器Cst的第一存储电极CE1。然而，本发明不限于此。存储电容器Cst可以不与第一薄膜晶体管T1重叠，而可以形成为与第一薄膜晶体管T1间隔开。
存储电容器Cst的第二存储电极CE2可以隔着第二栅绝缘层113与第一存储电极CE1重叠。在这种情况下，第二栅绝缘层113可以用作存储电容器Cst的介电层。第二存储电极CE2可以包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等的导电材料，并且可以形成为包含上述材料的多层或单层。例如，第二存储电极CE2可以是Mo的单层或Mo/Al/Mo的多层。
层间绝缘层115可以形成在衬底100的整个表面上以覆盖第二存储电极CE2。层间绝缘层115可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等，锌氧化物ZnOX可以是ZnO和/或ZnO2。
第一源电极S1、第二源电极S2、第一漏电极D1和第二漏电极D2可以布置在层间绝缘层115上。第一源电极S1、第二源电极S2、第一漏电极D1和第二漏电极D2可以各自包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等的导电材料，并且可以形成为包括上述材料的多层或单层。例如，第一源电极S1、第二源电极S2、第一漏电极D1和第二漏电极D2可以各自形成为Ti/Al/Ti的多层结构。
平坦化层118可以布置在第一源电极S1、第二源电极S2、第一漏电极D1和第二漏电极D2上，并且显示元件210可以布置在平坦化层118上。显示元件210可以包括像素电极211、发光层213以及相对电极215。
平坦化层118可具有平坦的上表面，以使像素电极211平坦地形成。平坦化层118可以形成为由有机材料或无机材料形成的单层或多层膜。这种平坦化层118可以包括诸如苯并环丁烯(BCB)、聚酰亚胺、六甲基二硅氮烷(HMDSO)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS)的通用聚合物、具有酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物以及它们的混合物等。另外，平坦化层118可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等，锌氧化物ZnOX可以是ZnO和/或ZnO2。在形成平坦化层118之后，可以执行化学机械抛光(CMP)以提供平坦的上表面。
平坦化层118具有暴露第一薄膜晶体管T1的第一源电极S1和第一漏电极D1中的任一个的开口部，并且像素电极211可以通过经由该开口部与第一源电极S1或第一漏电极D1接触而电连接到第一薄膜晶体管T1。
像素电极211可以包括导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)或氧化锌铝(AZO)。在一实施例中，像素电极211可以包括反射膜，该反射膜包括银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或它们的化合物。在一实施例中，像素电极211还可以包括在反射层的上面/下面由ITO、IZO、ZnO或In2O3形成的膜。例如，像素电极211可以具有ITO/Ag/ITO的多层结构。
像素限定膜119可以布置在像素电极211上。像素限定膜119可具有与每个像素PX(参见图1)对应的开口119OP(即，至少暴露像素电极211的中央部分的开口119OP)，从而起到限定像素PX的作用。此外，像素限定膜119可以增加像素电极211的边缘与相对电极215之间的距离，从而防止它们之间产生电弧等。像素限定膜119可以例如由诸如聚酰亚胺或六甲基二硅氮烷(HMDSO)等的有机材料形成。
分隔件(未示出)可以布置在像素限定膜119上。分隔件可以防止在掩模工艺期间可能出现的掩模的损坏。分隔件可以由诸如聚酰亚胺或六甲基二硅氮烷(HMDSO)等的有机材料形成。分隔件可以由与像素限定膜119相同的材料同时形成。在这种情况下，可以使用半色调掩模。
显示元件210的发光层213可以包括有机材料，该有机材料包括发射红光、绿光、蓝光或白光的荧光或磷光材料。发光层213可以是低分子有机材料或高分子有机材料，并且在发光层213的下面和上面还可以选择性地布置有诸如空穴输送层(HTL)、空穴注入层(HIL)、电子输送层(ETL)和电子注入层(EIL)等的功能层。发光层213可以布置成分别对应于多个像素电极211中的每个。然而，不限于此。发光层213可以具有各种变型，诸如可以包括跨多个像素电极211而成一体的层等。
相对电极215可以是透射电极或反射电极。或者，相对电极215可以是透明或半透明电极，并且可以由包括Yb、Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及它们的化合物的功函数小的金属薄膜形成。此外，在金属薄膜上还可以布置有诸如ITO、IZO、ZnO或In2O3等的透明导电氧化物(TCO)膜。相对电极215可以跨显示区域DA和周边区域PA而布置，并且可以布置在发光层213和像素限定膜119上。相对电极215可以针对多个显示元件210形成为一体，从而对应于多个像素电极211。
封盖层220可以布置在显示元件210上。具体地，封盖层220可以布置在相对电极215上。封盖层220可以包括有机材料和/或无机材料。当封盖层220包括有机材料时，封盖层220可以包括α-NPD、NPB、TPD、m-MTDATA、Alq3、CuPc、TPD15(N4,N4,N4',N4'-四(联苯-4-基)联苯-4,4'-二胺)、TCTA(4,4',4"-三(咔唑-9-基)三苯胺)等，或者可以包括诸如环氧树脂或甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯。或者，当封盖层220包括无机材料时，封盖层220可以包括诸如LiF等的碱金属化合物、诸如MgF2等的碱土金属化合物、氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氮氧化硅(SiON)等。封盖层220可以设置为单层或多层。通过在显示元件210上设置封盖层220，可以提高从显示元件210发射的光的效率。
薄膜封装层300可以布置在封盖层220上。薄膜封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。具体地，薄膜封装层300可以包括顺序堆叠的第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330。
第一无机封装层310可以包括至少一种无机材料。第一无机封装层310可以包括陶瓷、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物、氧化铟(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化铟锡(ITO)、氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅等。第一无机封装层310可以设置为单层或多层。
有机封装层320可以包括选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯和六甲基二硅氧烷组成的组中的一种以上的材料。
第二无机封装层330可以覆盖有机封装层320，并且可以包括陶瓷、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物、氧化铟(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化铟锡(ITO)、氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅等。第二无机封装层330可以设置为单层或多层。这种第二无机封装层330在位于显示区域DA外侧的边缘处与第一无机封装层310接触，从而可以防止有机封装层320暴露于外部。
如上所述，薄膜封装层300包括第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330，因此，通过这种多层结构，即使在薄膜封装层300中产生裂纹时，也可以不会使裂纹在第一无机封装层310和有机封装层320之间或在有机封装层320和第二无机封装层330之间连接。因此，可以防止或最小化水分或氧气等从外部渗透到显示层中的路径的形成。
图4是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的偏振膜的一部分的截面图。
参照图4，显示装置1(参照图2)可以包括显示面板10(参照图2)和偏振膜40，且偏振膜40可以包括偏振层410、相位延迟层420、相位补偿层430和保护基材440。
偏振层410可以起到将从光源(未示出)入射的光偏振为与偏振轴相同的方向上的光的作用。偏振层410可以通过在聚乙烯醇(PVA)膜中包括偏振器和/或二向色性染料而形成。二向色性染料可以是碘分子和/或染料分子。或者，偏振层410可以通过在一个方向上拉伸聚乙烯醇膜并将其浸入碘和/或二向色性染料的溶液中而形成。在这种情况下，碘分子和/或二向色性染料分子可以沿拉伸方向平行排列。由于碘分子和染料分子呈现二向色性，因此可以吸收在拉伸方向上振动的光，并且可以透射在与拉伸方向垂直的方向上振动的光。
相位延迟层420可以布置在偏振层410的下方。相位延迟层420可以延迟穿过偏振层410而被偏振的光的相位。穿过相位延迟层420的光可以被偏振为圆形或椭圆形。因此，可以降低光的反射率。相对于光源，相位延迟层420可以布置在比偏振层410更远的位置。例如，当外部光从偏振层410的上部入射时，相位延迟层420可以布置在偏振层410的下方。
相位延迟层420可以包括正(Positive)A板。换句话说，相位延迟层420可以是正A板。然而，本发明不限于此。相位延迟层420可以是负(Negative)A板、正C板和负C板中的一种。相位延迟层420可以包括1/4波板(QWP：Quarter Wave Plate)。换句话说，相位延迟层420可以是1/4波板。相位延迟层420可以由聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物(Cyclo olefin polymer)中的至少一种形成。
相位补偿层430可以包括第一相位补偿层431和第二相位补偿层433。第一相位补偿层431可以包括正C板。换句话说，第一相位补偿层431可以是正C板。然而，本发明不限于此。第一相位补偿层431可以是正A板、负A板和负C板中的一种。第一相位补偿层431可以由聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物中的至少一种形成。
第二相位补偿层433可以包括TAC膜。换句话说，第二相位补偿层433可以是TAC膜。第二相位补偿层433可以包括聚碳酸酯(PC)和环烯烃聚合物中的至少一种。或者，第二相位补偿层433可以包括正C板、正A板、负A板和负C板中的一种。第二相位补偿层433可以支承偏振层410从而起到补偿偏振层410的机械强度的作用。
保护基材440可以布置在偏振层410上。保护基材440可以起到保护偏振层410并且补偿偏振层410的机械强度的作用。保护基材440可以包括三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的至少一种。
在一实施例中，第二相位补偿层433可以布置在第一相位补偿层431上方，并且相位延迟层420可以布置在第一相位补偿层431与第二相位补偿层433之间。此外，偏振层410可以布置在第二相位补偿层433上，且保护基材440可以布置在偏振层410上。
图5是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置中包括的偏振膜的一部分的截面图。图5的实施例与图4的实施例的不同之处在于第二相位补偿层433布置在相位延迟层420的下方。在图5中，与图4相同的附图标记指代相同的部件，并且将省略其重复说明。
参照图5，第二相位补偿层433可以布置在第一相位补偿层431上，且相位延迟层420可以布置在第二相位补偿层433上。此外，偏振层410可以布置在相位延迟层420上，且保护基材440可以布置在偏振层410上。即，相位延迟层420可以位于第二相位补偿层433与偏振层410之间。
在一实施例中，第二相位补偿层433可以包括负C板。换句话说，第二相位补偿层433可以是负C板。在第二相位补偿层433是负C板的情况下，第二相位补偿层433可以布置在相位延迟层420的一侧。例如，在第二相位补偿层433是负(Negative)C板的情况下，第二相位补偿层433可以布置在相位延迟层420与偏振层410之间，或者可以布置在第一相位补偿层431与相位延迟层420之间。
图6和图7是概略地示出根据本发明一实施例的显示装置的截面图。图6和图7的显示面板10概略地示出前面在图3中描述的显示面板10，并且图6和图7的偏振膜40分别示出图4和图5的偏振膜40。如前面在图2中描述的，在显示面板10与偏振膜40之间可以布置有输入感测层30(参照图2)。
参照图6和图7，根据本发明一实施例的显示装置1可以包括显示面板10和偏振膜40。显示面板10可以包括显示元件210(参照图3)和布置在显示元件210(参照图3)上的薄膜封装层300(参照图3)。此外，偏振膜40可以包括偏振层410、相位延迟层420和相位补偿层430。
显示面板10的薄膜封装层300可以包括第一无机封装层310(参照图3)、有机封装层320(参照图3)和第二无机封装层330(参照图3)，并且第一无机封装层310和第二无机封装层330可以分别包括至少一种无机物。第一无机封装层310和第二无机封装层330可以分别设置为具有彼此不同的折射率的多个层。即，显示面板10可以包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300。
显示装置1需要在关闭电源的状态下在从外部观察的画面上形成黑色视觉效果。例如，如果显示装置1的像素结构被用户原样识别，则可能损害产品的美感，因此需要在显示装置1的断电状态下使画面被识别为黑色状态。
例如，显示装置1的厚度方向相位差Rth可以满足下面的公式1。
<公式1>
–1.5nm≤Rth≤+1.5nm
在显示装置1的厚度方向相位差Rth超出±1.5nm的情况下，即，在显示装置1的厚度方向相位差Rth不满足上述公式1的情况下，在断电状态下反射率可能增加，并且黑色的反射色感可能偏向特定的颜色(例如，绿色)，从而阻碍无缝(seamless)设计。
因此，在使显示装置1的厚度方向相位差Rth落入±1.5nm以内的情况下，可以防止显示装置1的反射色感偏向特定的颜色(例如，绿色)，并且可以在显示装置1的断电状态下使每个方位角的反射颜色的变化最小化。
然而，在显示面板10包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的情况下，显示面板10的厚度方向相位差Rth1可能改变。具体地，在显示面板10包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的情况下，由于共振结构的变化，显示面板10的厚度方向相位差Rth1可能减小。例如，如稍后将描述的，由于显示面板10的厚度方向相位差Rth1具有负值，所以显示面板10的厚度方向相位差Rth1减小意味着显示面板10的厚度方向相位差Rth1的绝对值变大。
在一实施例中，在显示面板10包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的情况下，相对于550nm波长的显示面板10的厚度方向相位差Rth1可以是约-35nm以下。即，作为显示面板10的厚度方向相位差的Rth1可以由以下公式2表示。
<公式2>
Rth1≤–35nm
或者，在显示面板10包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的情况下，相对于550nm波长的显示面板10的厚度方向相位差Rth1可以是约-25nm以下。
偏振膜40的相位延迟层420的厚度方向相位差Rth2可以是约+71nm。具体地，相对于550nm波长的偏振膜40的相位延迟层420的厚度方向相位差Rth2可以是约+71nm。
偏振膜40的第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3可以通过以下公式3导出。
<公式3>
Rth3＝((nx+ny)/2–nz)×d
(在公式3中，nx是第一相位补偿层431的x方向上的折射率，ny是第一相位补偿层431的y方向上的折射率，nz是第一相位补偿层431的z方向上的折射率，且d是第一相位补偿层431的厚度(nm)。)
在偏振膜40的第一相位补偿层431包括正C板的情况下，由于nz>nx＝ny，所以第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3可以具有负值。
随着第一相位补偿层431的厚度减小，第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3可以增加。此时，由于第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3具有负值，所以第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3增加意味着第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3的绝对值减小。
如上所述，在显示面板10包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的情况下，由于显示面板10的厚度方向相位差Rth1减小，所以可以通过增加第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3来使显示装置1的厚度方向相位差Rth满足公式1。
此时，可以通过减小第一相位补偿层431的厚度来增加第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3。然而，由于第一相位补偿层431的制造工艺中的最小涂覆厚度限制，第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3可以是约-40nm以下。例如，在第一相位补偿层431设置为正C板的情况下，可以通过取向膜涂覆、取向(光取向方法、摩擦方法)、液晶涂覆和UV固化的顺序形成第一相位补偿层431，而由于涂覆工艺中的最小涂覆厚度限制，第一相位补偿层431的厚度不能减小到使第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3超过约-40nm。相对于550nm波长的第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3可以是约-40nm以下。即，作为第一相位补偿层431的厚度方向相位差的Rth3可以由以下公式4表示。
<公式4>
Rth3≤–40nm
因此，为了使显示装置1的厚度方向相位差Rth满足公式1，可能还需要具有正的厚度方向相位差的补偿层。
在一实施例中，偏振膜40可以包括第二相位补偿层433，并且第二相位补偿层433可以具有正的厚度方向相位差。第二相位补偿层433可以包括TAC膜或负C板。此时，在第二相位补偿层433包括TAC膜的情况下，如图6所示，第二相位补偿层433可以布置在相位延迟层420与偏振层410之间。相对地，在第二相位补偿层433包括负C板的情况下，如图6和图7所示，第二相位补偿层433可以布置在相位延迟层420与偏振层410之间，或者可以布置在第一相位补偿层431与相位延迟层420之间。
第二相位补偿层433的厚度方向相位差Rth4可以是约+4nm以上。具体地，相对于550nm波长的第二相位补偿层433的厚度方向相位差Rth4可以是约+4nm以上。即，作为第二相位补偿层433的厚度方向相位差的Rth4可以由以下公式5表示。
<公式5>
Rth4≥+4nm
在一实施例中，由于偏振膜40包括具有+4nm以上的厚度方向相位差Rth4的第二相位补偿层433，所以包括偏振膜40的显示装置1的总厚度方向相位差Rth可以具有±1.5nm以内的值，由此可以防止显示装置1的反射色感偏向特定的颜色(例如，绿色)，并且可以在显示装置1的断电状态下使每个方位角的反射颜色的变化最小化。
具体地，显示装置1可以包括显示面板10和偏振膜40。此时，显示装置1的显示面板10可以包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300，并且显示装置1的偏振膜40可以包括偏振层410、相位延迟层420、第一相位补偿层431和第二相位补偿层433。此外，在包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的显示面板10的厚度方向相位差Rth1满足约-35nm以下、相位延迟层420的厚度方向相位差Rth2满足约+71nm、第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3满足约-40nm以下以及第二相位补偿层433的厚度方向相位差Rth4满足约+4nm以上的情况下，显示装置1的总厚度方向相位差Rth可以具有±4nm以内的值，由此可以防止显示装置1的反射色感偏向特定的颜色(例如，绿色)，并且可以在显示装置1的断电状态下使每个方位角的反射颜色的变化最小化。
图8a至图8d是当显示装置的总厚度方向相位差分别为约-67nm、约-47nm、约-17nm和约0nm时，在CIE L*a*b*坐标系中示出根据视角变化的反射色度的图表。具体地，图8a是当显示装置的总厚度方向相位差Rth为约-67nm时在CIE L*a*b*坐标系中示出反射色度的图表，图8b是当显示装置的总厚度方向相位差Rth为约-47nm时在CIE L*a*b*坐标系中示出反射色度的图表，图8c是当显示装置的总厚度方向相位差Rth为约-17nm时在CIE L*a*b*坐标系中示出反射色度的图表，以及图8d是当显示装置的总厚度方向相位差Rth为约0nm时在CIE L*a*b*坐标系中示出反射色度的图表。此外，图8a至图8d中的a*和b*表示在60°极角处针对方位角测量的值。
在图8a至图8d中，在CIE L*a*b*颜色空间坐标中处于a*＝0、b*＝0的情况下，反射色度表示中性黑(neutral black)。
在CIE L*a*b*坐标系中，随着远离a*＝0、b*＝0，例如，+a*可以表示红色方向，-a*可以表示绿色方向，+b*可以表示黄色方向，以及-b*可以表示蓝色方向。换句话说，在CIEL*a*b*坐标系中，随着远离a*＝0、b*＝0，第一象限可以表示红色系列，第二象限可以表示绿色系列，第三象限可以表示蓝色系列，以及第四象限可以表示紫色系列。或者，当a*为负数时，可以理解为偏向绿色的颜色，当a*为正数时，可以理解为偏向红色/紫色侧的颜色，当b*为负数时，可以理解为偏向蓝色，以及当b*为正数时，可以理解为偏向黄色侧的颜色。
另一方面，“距a*＝0、b*＝0的坐标的距离增加”可以理解为反射光的色度升高。此外，“反射光的色度升高”可以意味着色感被识别到并且黑色(black)视觉效果降低。
参照图8a至图8d，可以确认，当显示装置1的总厚度方向相位差Rth减小时，距a*＝0、b*＝0的距离增加。例如，可以确认，由于显示装置1的总厚度方向相位差Rth具有负值，当显示装置1的总厚度方向相位差Rth的绝对值变大时，距a*＝0、b*＝0的距离增加。
具体地，可以确认，在显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-67nm的情况下，与显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-47nm的情况相比，a*值和b*值分别整体上远离a*＝0、b*＝0。此外，可以确认，在显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-47nm的情况下，与显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-17nm的情况相比，a*值和b*值分别整体上远离a*＝0、b*＝0。此外，可以确认，在显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-17nm的情况下，与显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约0nm的情况相比，a*值和b*值分别整体上远离a*＝0、b*＝0。即，可以确认，在显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约0nm时，与其他情况相比，a*值和b*值分别接近0。
因此，随着显示装置1的总厚度方向相位差Rth增加，可以在显示装置1的断电状态下实现黑色视觉效果。换句话说，随着显示装置1的总厚度方向相位差Rth接近0，可以在显示装置1的断电状态下实现黑色视觉效果。
此外，侧面特性方位角度颜色分布(AACD；Azimuthal Angle ColorDistribution)可以通过以下数学公式求出。
AACD＝{Max(a*)-Min(a*)}×{Max(b*)-Min(b*)}
这里，a*和b*是CIE L*a*b*坐标系中的坐标值，Max(a*)和Min(a*)分别是针对方位角测量的a*坐标值中的最大值和最小值，Max(b*)和Min(b*)分别是在极角60°处针对方位角/>测量的b*坐标的最大值和最小值。
这种侧面特性是从根据方位角在CIE L*a*b*坐标系中所呈现的值提取的，其意味着值越低，根据方位角的侧面颜色变化越小。
参照图8a至图8d，当显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-67nm时的AACD可以是约71.63，当显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-47nm时的AACD可以是约43.26，当显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约-17nm时的AACD可以是约25.49，以及当显示装置1的总厚度方向相位差Rth为约0nm时的AACD可以是约16.74。
因此，可以确认，随着显示装置1的总厚度方向相位差Rth增加，AACD值减小。换句话说，可以确认，随着显示装置1的总厚度方向相位差Rth收敛至0，AACD值减小。此时，AACD值越低，其意味着根据方位角的侧面颜色变化越小，因此可以确认，随着显示装置1的总厚度方向相位差Rth收敛至0，根据方位角的反射颜色变化减小。
如上所述，显示装置1可以包括显示面板10和偏振膜40。此时，显示装置1的显示面板10可以包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300，并且显示装置1的偏振膜40可以包括偏振层410、相位延迟层420、第一相位补偿层431和第二相位补偿层433。此外，在包括彼此间的折射率差异大的多层膜的薄膜封装层300的显示面板10的厚度方向相位差Rth1满足约-35nm以下、相位延迟层420的厚度方向相位差Rth2满足约+71nm、第一相位补偿层431的厚度方向相位差Rth3满足约-40nm以下以及第二相位补偿层433的厚度方向相位差Rth4满足约+4nm以上的情况下，由于显示装置1的总厚度方向相位差Rth可以具有±1.5nm以内的值，所以可以在显示装置1的断电状态下实现黑色视觉效果，并且可以使根据方位角的反射颜色变化最小化。
本发明参照附图所示的实施例进行了说明，但这只是例示性的，本领域的普通技术人员应当理解，可以由这些实施例实现各种变型及等同的其他实施例。因此，本发明的真正的技术保护范围应由所附的权利要求书的技术思想来确定。

Claims (20)

1.一种显示装置，包括：
显示面板，包括显示元件和布置在所述显示元件上的薄膜封装层；以及
偏振膜，布置在所述显示面板上，并且包括相位补偿层、相位延迟层和偏振层，
其中，所述显示面板的厚度方向相位差是-35nm以下。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述相位补偿层包括第一相位补偿层和第二相位补偿层。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述相位延迟层位于所述第一相位补偿层与所述第二相位补偿层之间。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第二相位补偿层位于所述相位延迟层与所述偏振层之间。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第一相位补偿层包括正C板。
6.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第一相位补偿层的厚度方向相位差是-40nm以下。
7.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第二相位补偿层包括TAC膜。
8.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第二相位补偿层的厚度方向相位差是+4nm以上。
9.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第二相位补偿层包括负C板。
10.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述第二相位补偿层布置在所述第一相位补偿层上，并且所述相位延迟层布置在所述第二相位补偿层上。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述相位延迟层包括1/4波板。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述偏振膜还包括布置在所述偏振层上的保护基材。
13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述显示元件包括像素电极、相对电极以及位于所述像素电极与所述相对电极之间的发光层。
14.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述薄膜封装层包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述至少一个无机封装层包括：
第一无机封装层，包括至少一种无机物；以及
第二无机封装层，包括至少一种无机物。
16.一种偏振膜，包括：
第一相位补偿层，包括正C板；
相位延迟层，布置在所述第一相位补偿层上；
第二相位补偿层，布置在所述相位延迟层的一侧，并且具有+4nm以上的厚度方向相位差；以及
偏振层，布置在所述第二相位补偿层上。
17.根据权利要求16所述的偏振膜，其中，
所述第一相位补偿层的厚度方向相位差是-40nm以下。
18.根据权利要求16所述的偏振膜，其中，
所述第二相位补偿层包括TAC膜或负C板。
19.根据权利要求16所述的偏振膜，其中，
所述相位延迟层包括1/4波板。
20.根据权利要求16所述的偏振膜，还包括：
保护基材，布置在所述偏振层上。
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