CN117031811A - 彩膜基板及显示面板、显示装置 - Google Patents
彩膜基板及显示面板、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117031811A CN117031811A CN202311006866.9A CN202311006866A CN117031811A CN 117031811 A CN117031811 A CN 117031811A CN 202311006866 A CN202311006866 A CN 202311006866A CN 117031811 A CN117031811 A CN 117031811A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- crystal layer
- photonic crystal
- light
- color
- blue
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 135
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 claims abstract description 154
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 51
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 11
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 abstract description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种彩膜基板及显示面板、显示装置，彩膜基板包括：基底；设于基底上的黑矩阵和多个色滤层，黑矩阵和色滤层均位于显示区，多个色滤层在显示区内呈阵列排布，黑矩阵为网格状并将多个色滤层相互间隔开；设于基底上的第一光子晶体层，第一光子晶体层位于非显示区并阻挡可见光而允许紫外光透过。通过在彩膜基板上设置与非显示区对应的第一光子晶体层，从而可以从彩膜基板一侧对框胶进行紫外光固化处理，避免阵列基板上非显示区内的走线或驱动电路对紫外光的干扰，以增加框胶的紫外光固化效果；而且在正常使用时，第一光子晶体层可以阻挡可见光，以起到遮挡的作用，防止非显示区出现漏光而影响正常画面的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示器技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及显示面板、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，轻薄化的显示面板倍受消费者的喜爱，尤其是轻薄化的显示面板(liquid crystal display，LCD)。现有的一种显示面板包括薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、彩膜基板(ColorFilter Substrate，CF Substrate)以及填充在薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板之间的液晶分子，上述显示面板工作时，对薄膜晶体管阵列基板与彩膜基板分别施加驱动电压，控制两个基板之间的液晶分子的旋转方向，以将显示面板的背光模组提供的背光折射出来，从而显示画面。
为了防止阵列基板和彩膜基板之间的液晶层漏液，在显示面板的外围非显示区设有一圈框胶。框胶一般采用UV(紫外光)固化和加热固化同时起作用的。在成盒工艺时，分别将框胶和液晶涂布在彩膜基板侧和阵列基板侧，在真空设备中将彩膜基板和阵列基板贴合在一起，贴合过程中框胶是未固化的，贴合完成后将显示面板进行UV固化，使框胶中的UV固化胶固化，然后再加热整个显示面板，使热固化框胶固化，同时液晶在加热环境下扩散至整个显示面板。但是，随着显示面板规格的不断更新，边框也越来越窄，非显示区内还要设置各种走线或者栅集成驱动电路。在框胶涂布的时侯，框胶不可避免的会覆盖一部分金属，在框胶固化时，这部分金属会挡住部分UV光，导致阴影部对应的框胶固化效果不好，使得框胶中的离子容易向液晶中扩散，造成液晶和配向膜的污染，显示时会出现残像或者周边色差。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种彩膜基板及显示面板、显示装置，以解决现有技术中显示面板中框胶的紫外光固化效果较差的问题。
本发明的目的通过下述技术方案实现：
本发明提供一种彩膜基板，包括：
基底；
设于所述基底上的黑矩阵和多个色滤层，所述黑矩阵和所述色滤层均位于显示区，多个所述色滤层在所述显示区内呈阵列排布，所述黑矩阵为网格状并将多个所述色滤层相互间隔开；
设于所述基底上的第一光子晶体层，所述第一光子晶体层位于非显示区并阻挡可见光而允许紫外光透过。
进一步地，所述色滤层为色阻材料层，所述色阻材料层包括与红色像素单元对应的红色色阻、绿色像素单元对应的绿色色阻以及蓝色像素单元对应的蓝色色阻。
进一步地，所述色滤层为第二光子晶体层，所述第二光子晶体层包括与红色像素单元对应的红光光子晶体层、绿色像素单元对应的绿光光子晶体层以及蓝色像素单元对应的蓝光光子晶体层，所述红光光子晶体层仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层仅允许蓝光透过。
进一步地，所述色滤层为包括相互层叠设置的色阻材料层和第二光子晶体层；
所述色阻材料层包括与红色像素单元对应的红色色阻、绿色像素单元对应的绿色色阻以及蓝色像素单元对应的蓝色色阻；
所述第二光子晶体层包括与红色像素单元对应的红光光子晶体层、绿色像素单元对应的绿光光子晶体层以及蓝色像素单元对应的蓝光光子晶体层，所述红光光子晶体层仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层仅允许蓝光透过。
进一步地，所述彩膜基板包括第三光子晶体层，所述第三光子晶体层与所述黑矩阵相对应并设于所述黑矩阵远离所述基底的一侧，相邻两个像素单元的颜色与其之间的所述第三光子晶体层的透光颜色不同。
进一步地，所述第三光子晶体层包括红光光子晶体层、绿光光子晶体层以及蓝光光子晶体层，所述红光光子晶体层仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层仅允许蓝光透过；
红色像素单元与绿色像素单元之间设有所述蓝光光子晶体层，所述绿色像素单元与蓝色像素单元之间设有所述红光光子晶体层，所述蓝色像素单元与所述红色像素单元之间设有所述绿光光子晶体层；
相邻两个所述红色像素单元之间设有所述蓝光光子晶体层或所述绿光光子晶体层，相邻两个所述绿色像素单元之间设有所述蓝光光子晶体层或所述红光光子晶体层，相邻两个所述蓝色像素单元之间设有所述红光光子晶体层或所述绿光光子晶体层。
进一步地，所述基底上设有覆盖所述黑矩阵、所述色滤层以及所述第一光子晶体层的平坦层，所述平坦层在所述非显示区内且远离所述基底的一侧设有凹槽结构，所述凹槽结构对从所述基底射入的光线具有聚光作用。
本申请还提供一种显示面板，包括如上所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板与所述阵列基板之间设有框胶，所述框胶与所述非显示区相对应。
进一步地，所述阵列基板上设有呈阵列分布的像素电极，所述彩膜基板或所述阵列基板上设有与所述像素电极配合的公共电极。
本申请还提供一种显示装置，包括如上所述显示面板。
本发明有益效果在于：通过在彩膜基板上设置与非显示区对应的第一光子晶体层，从而可以从彩膜基板一侧对框胶进行紫外光固化处理，避免阵列基板上非显示区内的走线或驱动电路对紫外光的干扰，以增加框胶的紫外光固化效果；而且在正常使用时，第一光子晶体层可以阻挡可见光，以起到遮挡的作用，防止非显示区出现漏光而影响正常画面的显示效果。
附图说明
图1是本发明实施例一中显示面板的俯视结构示意图；
图2是本发明实施例一中彩膜基板的俯视结构示意图；
图3是本发明实施例一中一维光子晶体的立体结构示意图；
图4是本发明实施例一中二维光子晶体的立体结构示意图；
图5是本发明实施例一中三维光子晶体的立体结构示意图；
图6是本发明实施例一中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图；
图7是本发明实施例一中阵列基板的平面结构示意图；
图8是本发明实施例一中显示装置在显示时的纵截面结构示意图；
图9a-9e是本发明实施例一中显示装置制作过程的结构示意图；
图10是本发明实施例二中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图；
图11是本发明实施例二中彩膜基板的俯视结构示意图；
图12是本发明实施例三中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图；
图13是本发明实施例四中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图；
图14是本发明实施例四中彩膜基板的俯视结构示意图；
图15是本发明实施例五中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的彩膜基板及显示面板、显示装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：
[实施例一]
图1是本发明实施例一中显示面板的俯视结构示意图。图2是本发明实施例一中彩膜基板的俯视结构示意图。图3是本发明实施例一中一维光子晶体的立体结构示意图。图4是本发明实施例一中二维光子晶体的立体结构示意图。图5是本发明实施例一中三维光子晶体的立体结构示意图。图6是本发明实施例一中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。
如图1所示，显示面板具有显示区110以及位于显示区110周缘的非显示区120，显示区110用于显示画面，非显示区120用于设置走线或驱动电路等。如图2所示，显示面板在显示区110具有多个呈阵列分布的像素单元P，多个像素单元P中包括红色像素单元Pr、绿色像素单元Pg以及蓝色像素单元Pb。
如图1至图6所示，本发明实施例一提供的一种彩膜基板，包括：基底10；设于基底10上的黑矩阵11和多个色滤层，黑矩阵11和色滤层均位于显示区110，多个色滤层在显示区110内呈阵列排布，黑矩阵11为网格状并将多个色滤层相互间隔开；设于基底10上的第一光子晶体层41，第一光子晶体层41位于非显示区120并阻挡可见光而允许紫外光透过，即第一光子晶体层41允许波长为320nm～380nm的紫外光透过而阻挡波长为380nm～760nm的可见光。
其中，光子晶体(Photonic Crystal)是在1987年由S.John和E.Yablonovitch分别独立提出，是由不同折射率的介质周期性排列而成的人工微结构。光子晶体的结构可以这样理解，正如半导体材料在晶格结点(各个原子所在位点)周期性的出现离子一样，光子晶体是在高折射率材料的某些位置周期性的出现低折射率(如人工造成的空气空穴)的材料。如图3至图5所示，从一维到三维结构的光子晶体，可以明显看出周期性的存在，而且三维光子晶体(图5)的结构图与普通的硅晶体单从结构是很相似的。高低折射率的材料交替排列形成周期性结构就可以产生光子晶体带隙(BandGap，类似于半导体中的禁带)，可以通过调整光子晶体层的周期性常数来改变光子晶体层的带隙。而周期排列的低折射率位点的之间的距离大小相同，导致了一定距离大小的光子晶体只对一定频率的光波产生能带效应。也就是只有某种频率的光才会在某种周期距离一定的光子晶体中被完全禁止传播。因此，光子晶体具有波长选择的功能，可以选择地使某个波段的光透过而阻止其他波段的光透过。
由于在彩膜基板上设置与非显示区120对应的第一光子晶体层41，从而可以从彩膜基板一侧对框胶50进行紫外光固化处理，避免阵列基板20上非显示区120内的走线或驱动电路对紫外光的干扰，以增加框胶50的紫外光固化效果；而且在正常使用时，第一光子晶体层41可以阻挡可见光，以起到遮挡的作用，防止非显示区120出现漏光而影响正常画面的显示效果。
本实施例中，色滤层为色阻材料层12，色阻材料层12包括与红色像素单元Pr对应的红色色阻12r、绿色像素单元Pg对应的绿色色阻12g以及蓝色像素单元Pb对应的蓝色色阻12b。
进一步地，基底10上设有覆盖黑矩阵11、色滤层以及第一光子晶体层41的平坦层13，从而对基底10进行平坦化处理。
图7是本发明实施例一中阵列基板的平面结构示意图。图8是本发明实施例一中显示装置在显示时的纵截面结构示意图。如图6至图8所示，本申请还提供一种显示面板，包括如上所述的彩膜基板、与彩膜基板相对设置的阵列基板20以及位于彩膜基板与阵列基板20之间的液晶层30。彩膜基板与阵列基板20之间设有框胶50，框胶50与非显示区120相对应。
其中，液晶层30优选采用正性液晶分子，即介电各向异性为正的液晶分子。初始状态的时候，液晶层30中的正性液晶分子平行于彩膜基板和阵列基板20进行配向，靠近彩膜基板一侧的正性液晶分子与靠近阵列基板20一侧的正性液晶分子的配向方向平行或反向平行。当然，在其他实施例中，液晶层30也可采用负性液晶分子，液晶层30中的负性液晶分子可垂直于彩膜基板和阵列基板20进行配向，即类似于VA显示模式的配向方式。
如图7所示，阵列基板20在朝向液晶层30的一侧上由多条扫描线1和多条数据线2相互绝缘交叉限定形成多个像素单元P。每个像素单元P内设有像素电极22和薄膜晶体管3，像素电极22通过薄膜晶体管3与邻近薄膜晶体管3的数据线2电性连接。其中，薄膜晶体管3包括栅极、有源层、漏极以及源极，栅极与扫描线1位于同一层并电性连接，栅极与有源层通过绝缘层隔离开，源极与数据线2电性连接，漏极与像素电极22通过接触孔电性连接。
如图6所示，本实施例中，阵列基板20朝向液晶层30的一侧还设有公共电极21，公共电极21与像素电极22位于不同层并通过绝缘层绝缘隔离。公共电极21可位于像素电极22上方或下方(图1中所示为公共电极21位于像素电极22的下方)。优选地，公共电极21为整面设置的面状电极，像素电极22为在每个像素单元内整块设置的块状电极或者具有多个电极条的狭缝电极，以形成边缘场开关模式(Fringe Field Switching，FFS)。当然，在其他实施例中，像素电极22与公共电极21可位于同一层，但是两者相互绝缘隔离开，像素电极22和公共电极21各自均可包括多个电极条，像素电极22的电极条和公共电极21的电极条相互交替排列，以形成面内切换模式(In～Plane Switching，IPS)。或者，在其他实施例中，阵列基板20在朝向液晶层30的一侧设有像素电极22，彩膜基板在朝向液晶层30的一侧设有公共电极21，以形成TN模式或VA模式，至于TN模式和VA模式的其他介绍请参考现有技术，这里不再赘述。
进一步地，显示面板的上侧设有第一偏光片61，显示面板的下侧设有第二偏光片62，第一偏光片61的透光轴与第二偏光片62的透光轴相互垂直。
其中，彩膜基板、阵列基板20可以用玻璃、丙烯酸和聚碳酸酯等材料制成。公共电极21、像素电极22的材料可以为氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等。
本申请还提供一种显示装置，如图6所示，显示装置包括背光模组70以及如上所述的显示面板，显示面板设于背光模组70的出光侧，背光模组70用于给液晶显示面板提供背光源。其中，背光模组70可以是侧入式背光模组，也可以是直下式背光模组。
图9a-9e是本发明实施例一中显示装置制作过程的结构示意图。
如图9a所示，提供基底10，并在基底10的边缘上制作第一光子晶体层41，第一光子晶体层41与非显示区120相对应。其中，光子晶体的制备方式采用电子束刻蚀，具体地，在基底10上沉积一层硅层，再在硅层上沉积一层100nm的SiO2作为刻蚀过程中的硬母版；再在其上旋涂一层光刻胶；在光刻胶上用电子束刻蚀的方式写上合适参数的圆柱状结构；通过光刻胶，用干刻蚀的方法通过光刻胶刻蚀SiO2硬母版；再通过硬母版和光刻胶刻蚀硅层刻蚀Si；最后清理掉光刻胶和SiO2硬母版，形成了硅基光子晶体结构。至于光子晶体更具体的制作方法可以参考现有技术，这里不再赘述。
如图9b所示，然后在基底10上制作黑矩阵11和多个色滤层，黑矩阵11和色滤层均位于显示区110。在基底10上制作覆盖黑矩阵11、色滤层以及第一光子晶体层41的平坦层13，从而形成彩膜基板。
如图9c所示，再提供阵列基板20、液晶以及框胶50，阵列基板20、彩膜基板、液晶以及框胶50通过成盒工艺制成显示面板。
如图9d所示，采用紫外光从彩膜基板一侧对框胶50进行紫外光固化处理。当然，还可以采用加热工艺对框胶50进行进一步地的热固化处理。
如图9e所示，再在显示面板上下两侧分别粘接第一偏光片61和第二偏光片62。最后，再提供背光模组70，将背光模组70粘接在显示面板的下侧，以形成显示装置。
[实施例二]
图10是本发明实施例二中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。图11是本发明实施例二中彩膜基板的俯视结构示意图。如图10和图11所示，本发明实施例二提供的彩膜基板及显示面板、显示装置与实施例一(图1至图6)中的彩膜基板及显示面板、显示装置基本相同，不同之处在于，在本实施例中：
色滤层为第二光子晶体层42，第二光子晶体层42包括与红色像素单元Pr对应的红光光子晶体层42r、绿色像素单元Pg对应的绿光光子晶体层42g以及蓝色像素单元Pb对应的蓝光光子晶体层42b。其中，红光光子晶体层42r仅允许红光透过，即红光光子晶体层42r允许透过波长为630～780nm的红光而阻挡其它波长的光透过。绿光光子晶体层42g仅允许绿光透过，即绿光光子晶体层42g允许透过波长为520nm～560nm的绿光而阻挡其它波长的光透过。蓝光光子晶体层42b仅允许蓝光透过，即蓝光光子晶体层42b允许透过波长为450nm～520nm的蓝光而阻挡其它波长的光头透过。
本实施例中，通过将色滤层采用第二光子晶体层42制成，从而不需要采用色阻材料也可以实现滤光作用。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与实施例一相同，这里不再赘述。
[实施例三]
图12是本发明实施例三中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。如图12所示，本发明实施例三提供的彩膜基板及显示面板、显示装置与实施例一(图1至图6)中的彩膜基板及显示面板、显示装置基本相同，不同之处在于，在本实施例中：
色滤层为包括相互层叠设置的色阻材料层12和第二光子晶体层42。色阻材料层12和第二光子晶体层42的厚度可以相同，也可以根据实际需要进行调整。色阻材料层12可以设置在第二光子晶体层42上侧，也可以设置在第二光子晶体层42下侧。
其中，色阻材料层12包括与红色像素单元Pr对应的红色色阻12r、绿色像素单元Pg对应的绿色色阻12g以及蓝色像素单元Pb对应的蓝色色阻12b。第二光子晶体层42包括与红色像素单元Pr对应的红光光子晶体层42r、绿色像素单元Pg对应的绿光光子晶体层42g以及蓝色像素单元Pb对应的蓝光光子晶体层42b。红光光子晶体层42r仅允许红光透过，即红光光子晶体层42r允许透过波长为630～780nm的红光而阻挡其它波长的光透过。绿光光子晶体层42g仅允许绿光透过，即绿光光子晶体层42g允许透过波长为520nm～560nm的绿光而阻挡其它波长的光透过。蓝光光子晶体层42b仅允许蓝光透过，即蓝光光子晶体层42b允许透过波长为450nm～520nm的蓝光而阻挡其它波长的光头透过。
本实施例中，通过将色滤层采用色阻材料层12和第二光子晶体层42共同制成，从而可以提高透过彩膜基板光线的颜色纯度，以提高显示效果。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与实施例一相同，这里不再赘述。
[实施例四]
图13是本发明实施例四中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。图14是本发明实施例四中彩膜基板的俯视结构示意图。如图13和图14所示，本发明实施例四提供的彩膜基板及显示面板、显示装置与实施例一(图1至图6)、实施例二(图10和图11)、实施例三(图12)中的彩膜基板及显示面板、显示装置基本相同，不同之处在于，在本实施例中：
彩膜基板包括第三光子晶体层43，第三光子晶体层43与黑矩阵11相对应并设于黑矩阵11远离基底10的一侧，相邻两个像素单元P的颜色与其之间的第三光子晶体层43的透光颜色不同。
具体地，第三光子晶体层43包括红光光子晶体层42r、绿光光子晶体层42g以及蓝光光子晶体层42b。其中，红光光子晶体层42r仅允许红光透过，即红光光子晶体层42r允许透过波长为630～780nm的红光而阻挡其它波长的光透过。绿光光子晶体层42g仅允许绿光透过，即绿光光子晶体层42g允许透过波长为520nm～560nm的绿光而阻挡其它波长的光透过。蓝光光子晶体层42b仅允许蓝光透过，即蓝光光子晶体层42b允许透过波长为450nm～520nm的蓝光而阻挡其它波长的光头透过。
红色像素单元Pr与绿色像素单元Pg之间设有蓝光光子晶体层42b，绿色像素单元Pg与蓝色像素单元Pb之间设有红光光子晶体层42r，蓝色像素单元Pb与红色像素单元Pr之间设有绿光光子晶体层42g。相邻两个红色像素单元Pr之间设有蓝光光子晶体层42b或绿光光子晶体层42g，相邻两个绿色像素单元Pg之间设有蓝光光子晶体层42b或红光光子晶体层42r，相邻两个蓝色像素单元Pb之间设有红光光子晶体层42r或绿光光子晶体层42g。
本实施例中，通过在黑矩阵11远离基底10的一侧设置与黑矩阵11对应的第三光子晶体层43，第三光子晶体层43可以阻挡相邻两个像素单元P之间的光线相互透过，从而减小混色的问题，进一步提高透过彩膜基板光线的颜色纯度，以提高显示效果。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与实施例一、实施例二、实施例三相同，这里不再赘述。
[实施例五]
图15是本发明实施例五中显示装置在初始状态时的纵截面结构示意图。如图15所示，本发明实施例五提供的彩膜基板及显示面板、显示装置与实施例一(图1至图6)、实施例二(图10和图11)、实施例三(图12)、实施例四(图13和图14)中的彩膜基板及显示面板、显示装置基本相同，不同之处在于，在本实施例中：
基底10上设有覆盖黑矩阵11、色滤层以及第一光子晶体层41的平坦层13，平坦层13在非显示区120内且远离基底10的一侧设有凹槽结构131，凹槽结构131对从基底10射入的光线具有聚光作用，即从彩膜基板一侧对框胶50进行紫外光固化处理时，凹槽结构131可以对紫外光具有聚光作用，从而使得紫外光可以集中照射至框胶50上，使得框胶50可以更好的固化。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与实施例一、实施例二、实施例三、实施例四相同，这里不再赘述。
在本文中，所涉及的上、下、左、右、前、后等方位词是以附图中的结构位于图中的位置以及结构相互之间的位置来定义的，只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解，所述方位词的使用不应限制本申请请求保护的范围。还应当理解，本文中使用的术语“第一”和“第二”等，仅用于名称上的区分，并不用于限制数量和顺序。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限定，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰，为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
基底(10)；
设于所述基底(10)上的黑矩阵(11)和多个色滤层，所述黑矩阵(11)和所述色滤层均位于显示区(110)，多个所述色滤层在所述显示区(110)内呈阵列排布，所述黑矩阵(11)为网格状并将多个所述色滤层相互间隔开；
设于所述基底(10)上的第一光子晶体层(41)，所述第一光子晶体层(41)位于非显示区(120)并阻挡可见光而允许紫外光透过。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色滤层为色阻材料层(12)，所述色阻材料层(12)包括与红色像素单元(Pr)对应的红色色阻(12r)、绿色像素单元(Pg)对应的绿色色阻(12g)以及蓝色像素单元(Pb)对应的蓝色色阻(12b)。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色滤层为第二光子晶体层(42)，所述第二光子晶体层(42)包括与红色像素单元(Pr)对应的红光光子晶体层(42r)、绿色像素单元(Pg)对应的绿光光子晶体层(42g)以及蓝色像素单元(Pb)对应的蓝光光子晶体层(42b)，所述红光光子晶体层(42r)仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层(42g)仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层(42b)仅允许蓝光透过。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色滤层为包括相互层叠设置的色阻材料层(12)和第二光子晶体层(42)；
所述色阻材料层(12)包括与红色像素单元(Pr)对应的红色色阻(12r)、绿色像素单元(Pg)对应的绿色色阻(12g)以及蓝色像素单元(Pb)对应的蓝色色阻(12b)；
所述第二光子晶体层(42)包括与红色像素单元(Pr)对应的红光光子晶体层(42r)、绿色像素单元(Pg)对应的绿光光子晶体层(42g)以及蓝色像素单元(Pb)对应的蓝光光子晶体层(42b)，所述红光光子晶体层(42r)仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层(42g)仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层(42b)仅允许蓝光透过。
5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括第三光子晶体层(43)，所述第三光子晶体层(43)与所述黑矩阵(11)相对应并设于所述黑矩阵(11)远离所述基底(10)的一侧，相邻两个像素单元的颜色与其之间的所述第三光子晶体层(43)的透光颜色不同。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述第三光子晶体层(43)包括红光光子晶体层(42r)、绿光光子晶体层(42g)以及蓝光光子晶体层(42b)，所述红光光子晶体层(42r)仅允许红光透过，所述绿光光子晶体层(42g)仅允许绿光透过，所述蓝光光子晶体层(42b)仅允许蓝光透过；
红色像素单元(Pr)与绿色像素单元(Pg)之间设有所述蓝光光子晶体层(42b)，所述绿色像素单元(Pg)与蓝色像素单元(Pb)之间设有所述红光光子晶体层(42r)，所述蓝色像素单元(Pb)与所述红色像素单元(Pr)之间设有所述绿光光子晶体层(42g)；
相邻两个所述红色像素单元(Pr)之间设有所述蓝光光子晶体层(42b)或所述绿光光子晶体层(42g)，相邻两个所述绿色像素单元(Pg)之间设有所述蓝光光子晶体层(42b)或所述红光光子晶体层(42r)，相邻两个所述蓝色像素单元(Pb)之间设有所述红光光子晶体层(42r)或所述绿光光子晶体层(42g)。
7.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述基底(10)上设有覆盖所述黑矩阵(11)、所述色滤层以及所述第一光子晶体层(41)的平坦层(13)，所述平坦层(13)在所述非显示区(120)内且远离所述基底(10)的一侧设有凹槽结构(131)，所述凹槽结构(131)对从所述基底(10)射入的光线具有聚光作用。
8.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板(20)以及位于所述彩膜基板与所述阵列基板(20)之间的液晶层(30)，所述彩膜基板与所述阵列基板(20)之间设有框胶(50)，所述框胶(50)与所述非显示区(120)相对应。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板(20)上设有呈阵列分布的像素电极(22)，所述彩膜基板或所述阵列基板(20)上设有与所述像素电极(22)配合的公共电极(21)。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8-9任一项所述显示面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311006866.9A CN117031811A (zh) | 2023-08-10 | 2023-08-10 | 彩膜基板及显示面板、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311006866.9A CN117031811A (zh) | 2023-08-10 | 2023-08-10 | 彩膜基板及显示面板、显示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117031811A true CN117031811A (zh) | 2023-11-10 |
Family
ID=88638598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202311006866.9A Pending CN117031811A (zh) | 2023-08-10 | 2023-08-10 | 彩膜基板及显示面板、显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117031811A (zh) |
-
2023
- 2023-08-10 CN CN202311006866.9A patent/CN117031811A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7436472B2 (en) | Liquid crystal display device and method with color filters having overcoat layer thereover formed on substrate except for fourth color filter formed on the overcoat layer | |
| JP3122985B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| KR100827962B1 (ko) | 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 | |
| US8154703B2 (en) | Liquid crystal display panel | |
| US9195110B2 (en) | Liquid crystal display device and process for producing the same | |
| KR101835545B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| CN104656303A (zh) | 液晶显示面板 | |
| US8861070B2 (en) | Electronic paper display substrate and the manufacturing method thereof | |
| KR20090112089A (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| KR101167313B1 (ko) | 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 | |
| US7532299B2 (en) | Method of fabricating a liquid crystal display device having column spacers and overcoat layer formed by double exposure | |
| KR20050069531A (ko) | 액정표시장치 | |
| CN103235444A (zh) | 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法 | |
| CN103744211B (zh) | 彩色液晶显示面板 | |
| KR100577797B1 (ko) | 반투과형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 | |
| CN117031811A (zh) | 彩膜基板及显示面板、显示装置 | |
| KR100462376B1 (ko) | 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JP3896191B2 (ja) | カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置 | |
| JP2019090954A (ja) | カラーフィルタ基板及びその製造方法、並びに表示パネル | |
| KR20150018144A (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조방법 | |
| US8605236B2 (en) | Liquid crystal display apparatus having color filter with color connection on black matrix and method of manufacturing the same | |
| CN113671745A (zh) | 显示面板及其制备方法、显示装置 | |
| KR101186009B1 (ko) | 횡전계 방식 액정 표시 장치의 제조 방법 및 배향막 형성방법 | |
| KR101225300B1 (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조 방법 | |
| TW201831930A (zh) | 偏振片、偏振片的製作方法及顯示裝置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |