CN116944181A - 一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备。该用于玻璃基板的异物吸收装置包括装置主体和电源模块,装置主体内部设有电场形成模块、加速模块和吸收模块;装置主体具有异物吸收口;电场形成模块包括电极,电极设置在异物吸收口的下方;电源模块与电极电连接,电源模块用于为电极供电,电极用于形成电场吸附异物;加速模块设置在电极下方,电源模块与加速模块电连接,电源模块用于为加速模块供电,加速模块用于形成磁场以加速移动异物至吸收模块;吸收模块设置在加速模块的下方,吸收模块用于与异物反应生成固态氧化物。通过采用上述方案,解决了玻璃基板易存在异物导致面板出现暗点三不良,影响面板良品率的问题。
Description
技术领域
本发明涉及面板生产的技术领域,尤其涉及一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备。
背景技术
玻璃基板搬送的过程中,会产生部分异物,例如Cr,铁屑等异物。带有异物的玻璃基板进入面板生产设备后,面板生产设备所生产出的面板可能会由于异物出现暗点三不良,影响面板的良品率。
现有的玻璃基板异物清除装置通常包括传送装置、除尘柜、吹风装置、抽风装置、过滤器、吹风管、抽风管,传送装置用于将玻璃基板传向除尘柜;玻璃基板进入除尘柜时,吹风装置吹风以将玻璃基板上的粉尘吹起;然后抽风装置通过抽风管将含尘气体抽入过滤器,实现去除玻璃基板上的灰尘。
但此方式只能清除一些与玻璃基板粘附不牢的异物,而玻璃基板通常表面带正电,同时附着有不同类型的金属异物,金属异物会较牢固的粘附在玻璃基板表面,仅通过吹风装置和抽风装置难以较彻底的去除玻璃基板上的金属异物,玻璃基板仍容易存在异物导致面板出现暗点三不良,影响面板良品率。
发明内容
本发明提供了一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备,以解决玻璃基板易存在异物导致面板出现暗点三不良,影响面板良品率的问题。
根据本发明的一方面,提供了一种用于玻璃基板的异物吸收装置,该用于玻璃基板的异物吸收装置包括装置主体和电源模块,所述装置主体内部设有电场形成模块、加速模块和吸收模块;
所述装置主体具有异物吸收口;
所述电场形成模块包括电极,所述电极设置在所述异物吸收口的下方;
所述电源模块与所述电极电连接,所述电源模块用于为所述电极供电,所述电极用于形成电场吸附异物;
所述加速模块设置在所述电极下方,所述电源模块与所述加速模块电连接,所述电源模块用于为所述加速模块供电,所述加速模块用于形成磁场以加速移动所述异物至所述吸收模块;
所述吸收模块设置在所述加速模块的下方,所述吸收模块用于与所述异物反应生成固态氧化物。
在本发明的可选实施例中,组成所述电极的元素中,至少一个元素的化合价包括+3价。
在本发明的可选实施例中,所述电极为Al电极。
在本发明的可选实施例中,所述Al电极由Al薄膜制成;
和/或,所述Al电极上设有中空网筛。
在本发明的可选实施例中,所述加速模块包括线圈组件,所述线圈组件用于通电形成所述磁场。
在本发明的可选实施例中,所述线圈组件包括第一线圈、第二线圈和第三线圈,所述第一线圈、所述第二线圈和所述第三线圈沿所述电场形成模块至所述吸收模块的方向间隔设置;
所述第二线圈的匝数大于所述第一线圈的匝数;
所述第三线圈的匝数大于所述第二线圈的匝数。
在本发明的可选实施例中,所述吸收模块包括粘性树脂层。
在本发明的可选实施例中,所述粘性树脂层可拆卸地设置在所述装置主体内部。
在本发明的可选实施例中,所述电极至所述异物吸收口的距离大于6cm且小于9cm。
根据本发明的另一方面,提供了一种面板生产设备,所述面板生产设备包括设备主体,所述设备主体上设有基板入口和本发明任一实施例所述的用于玻璃基板的异物吸收装置;
所述基板入口用于供玻璃基板进入,所述玻璃基板用于进入所述基板入口时覆盖所述异物吸收装置。
本发明实施例的技术方案,通过电场形成模块的电极形成电场,玻璃基板上的异物能够通过电极周围形成的电场从玻璃基板上脱离被吸附到电极上,然后通过加速模块形成磁场,被电极形成的电场吸附的异物能够在磁场的作用下运动至加速模块下方的吸收模块,由于吸收模块能够与所述异物反应生成固态氧化物,所以最后异物能够通过与吸收模块反应生成固态氧化物被清除。故玻璃基板上的异物能够在异物吸收装置的作用下大大减少,解决了玻璃基板易存在异物导致面板出现暗点三不良,影响面板良品率的问题。
应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的一种用于玻璃基板的异物吸收装置的结构示意图;
图2为本发明实施例一提供的一种电极的结构示意图;
图3为本发明实施例一提供的一种加速模块的结构示意图;
图4是本发明实施例一提供的另一种加速模块的结构示意图;
图5为本发明实施例二提供的一种面板生产设备的部分结构示意图。
其中:1、装置主体;11、异物吸收口;2、电源模块;3、电场形成模块;31、电极;311、中空网筛;4、加速模块;41、线圈组件;411、第一线圈;412、第二线圈;413、第三线圈;5、吸收模块;51、树脂层;10、异物吸收装置;20、设备主体;201、基板入口;202、门。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是,本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的一种用于玻璃基板的异物吸收装置的结构示意图,如图1所示,该用于玻璃基板的异物吸收装置包括装置主体1和电源模块2。
装置主体1具有异物吸收口11,装置主体1内部设有电场形成模块3、加速模块4和吸收模块5。其中,装置主体1是该异物吸收装置的主体部分,装置主体1的内部中空,异物吸收口11可位于装置主体1的上端,当玻璃基板位于异物吸收装置上时,玻璃基板覆盖异物吸收口11,使得装置主体1内部形成真空环境。优选的,装置主体1可由绝缘材料制成。
电场形成模块3包括电极31,电极31设置在异物吸收口11的下方;电源模块2与电极31电连接,电源模块2用于为电极31供电,以使电极31附近形成电场并电离异物吸收口11附近的空气以吸附异物。其中,电源模块2是指能够提供工作电压的模块,优选的,电源模块2为高压直流电源。对于玻璃基板而言,其上的异物通常是在搬运过程中与金属异物摩擦,产生静电吸附导致金属异物附着在玻璃基板上,此时玻璃基板带正电,即玻璃基板上的异物会包括正电离子和金属异物,玻璃基板表面通常带正电,同时附着有不同类型的金属异物。通过电源模块2为电极31提供工作电压,电极31附近形成电场并电离异物吸收口11附近的空气以吸附玻璃基板表面的异物。
加速模块4设置在电极31下方,电源模块2与加速模块4电连接,电源模块2用于为加速模块4供电,加速模块4用于形成磁场以加速移动异物至吸收模块5。其中,加速模块4是指能够形成磁场以对异物进行加速的模块,带电粒子在无界匀强磁场中,当带电粒子的运动速度V平行于磁场强度B时,洛伦兹力为0,带电粒子做匀速直线,所以通过形成合适的磁场,调整磁场方向和强度,能够实现使带电粒子做加速运动,即形成磁场加速带加速带电粒子,加速模块4可通过采用现有的电磁感应加速器、磁力加速器、电磁加速器、磁场加速器中的任一种实现形成磁场加速异物,也可采用其他的结构实现形成磁场加速异物,在此不对加速模块4的具体结构做具体限定。
吸收模块5设置在加速模块4的下方,吸收模块5用于与异物反应生成固态氧化物。其中,吸收模块5是指能够与异物进行反应并生成固态氧化物的模块,由于玻璃基板上的异物通常包括正电离子和金属异物,加速模块4位于电极31下方,所以被电极31形成的电场吸附的异物能够在磁场的作用下运动至加速模块4下方的吸收模块5,进而吸收模块5能够与异物反应生成固态氧化物,实现了对异物的清除。在一个具体的实施例中,由于玻璃基板的表面异物附着率下降,比起未设置异物吸收装置清除玻璃基板的异物,暗点三不良的发生率由0.03%下降至0.01%。
此外,由于外接的电源模块2的存在,为了防止电源模块2会对玻璃基板有不良影响,由于玻璃基板通常会由固定件进行固定然后进行运送,所以对电源模块2开启前后固定玻璃基板的固定件表面的电压进行了多次测试,表一为电源模块2开启前后固定玻璃基板的固定件表面电压对照表,表一中Ref是没由电源模块2时固定玻璃基板的固定件的表面电压;Turn On为电源模块2为电极31供电时固定玻璃基板的固定件的表面电压。
表一:电源模块开启前后固定玻璃基板的固定件表面电压对照表
由表一可以看出,电源模块2开启前后固定玻璃基板的固定件的表面电压没有相关性,即电源模块2开启不会产生新的静电影响玻璃基板的品质。
上述方案,通过电场形成模块3的电极31形成电场,玻璃基板上的异物能够通过电极31周围形成的电场从玻璃基板上脱离被吸附到电极31上,然后通过加速模块4形成磁场,被电极31形成的电场吸附的异物能够在磁场的作用下运动至加速模块4下方的吸收模块5,由于吸收模块5能够与异物反应生成固态氧化物,所以最后异物能够通过与吸收模块5反应生成固态氧化物被清除。故玻璃基板上的异物能够在异物吸收装置的作用下大大减少,解决了玻璃基板易存在异物导致面板出现暗点三不良,影响面板良品率的问题。
在本发明的可选实施例中,组成所述电极的元素中,至少一个元素的化合价包括+3价。其中,至少一个元素的化合价包括+3价,所以电极31电离结束之后,外面三层电离有游动,从而能够吸引异物中的正电离子,然后正电离子随着加速模块4的加速,一步步往下,直到最后跟吸收模块5反应形成对应的固态氧化物,沉积小赖,达到去除正电离子的作用。
在上述实施例的基础上,电极31为Al电极31。其中,Al(铝)的化合价主要有两种即0价和+3价。在金属或单质铝中铝的化合价为0价。在化合态铝中只有一个化合价是+3价,Al电极31是指由包括Al的材料制成的电极31。在其他可选的实施例中,电极31也可由其他化合价包括+3价的材料制成,在此不做具体限定。
示例性的,Al电极31由Al薄膜制成;其中,Al(铝)薄膜是一种具有极高应用前景的薄膜材料,它的应用领域广泛,并且其性能优良,具有较高的机械性能,较强的耐腐蚀性,较好的热稳定性和电气性能,并且其成本低廉,因此其应用非常广泛,所以通过Al薄膜制成Al电极31,成本较低且性能较优。
在本发明的可选实施例中,如图2所示,Al电极31上设有中空网筛311。其中,中空网筛311能够提供异物穿过Al电极31的通道,故被电极31形成的电场吸附的异物能够穿过中空网筛311到达加速模块4,然后在磁场的作用下运动至加速模块4下方的吸收模块5。优选的,当Al电极31由Al薄膜制成时,中空网筛311设置在Al薄膜上。
在本发明的可选实施例中,如图3和图4所示,加速模块4包括线圈组件41,线圈组件41用于通电形成磁场。
其中,线圈组件41指经过电流可产生磁场的组件。优选的,线圈组件41通常包括包含磁性材料的主体、设置在主体中的基板、线圈单元以及设置为在主体上彼此间隔开同时分别连接到线圈单元的两个电极31。如图3所示,线圈单元可由单个线圈构成,如图4所示,线圈单元也可由多个线圈组成,在此不做具体限定。
在上述实施例的基础上,如图4所示,线圈组件41包括第一线圈411、第二线圈412和第三线圈413,第一线圈411、第二线圈412和第三线圈413沿电场形成模块3至吸收模块5的方向间隔设置。即第一线圈411较第二线圈412和第三线圈413靠近电场形成模块3,第三线圈413较第一线圈411和第二线圈412靠近吸收模块5。
第二线圈412的匝数大于第一线圈411的匝数。第三线圈413的匝数大于第二线圈412的匝数。优选的,第二线圈412的匝数是第一线圈411的两倍,第三线圈413的匝数是第二线圈412的两倍。
其中,线圈匝数越多,线圈电感越大,进而形成的磁场越强,第二线圈412的匝数大于第一线圈411的匝数,所以第二线圈412附近的磁场较第一线圈411附近的磁场强,第三线圈413的匝数大于第二线圈412的匝数,所以第三线圈413附近的磁场较第二线圈412附近的磁场强。所以异物在由电场形成模块3运动至吸收模块5的过程中,所受到的磁场强度越来越大,从而能够加速运动至吸收模块5。
优选的,该用于玻璃基板的异物吸收装置还包括控制器,控制器与电源模块2的控制端电连接,控制器用于先控制第一线圈411通电,在异物脱离第一线圈411时控制第一线圈411断电并控制第二线圈412通电,在异物脱离第二线圈412时控制第二线圈412断电并控制第三线圈413通电。从而异物能够先被第一线圈411形成的磁场捕获,然后在加速后被第二线圈412形成的磁场捕获继续进行加速,然后被第三磁场捕获进行加速,最后运动至吸收模块5。
在本发明的可选实施例中,如图1所示,电极31与吸收模块5相对设置,线圈组件41的数量为两组,一组线圈组件41设置在电极31下端的一侧,另一组线圈组件41设置在电极31下端的另一侧。从而电极31上的异物能够由两组线圈组件41中间的位置运动至吸收模块5,通过设置两组线圈组件41,异物能够更快速的由电极31运动至吸收模块5,提高了去除异物的效率。
在本发明的可选实施例中,吸收模块5包括粘性树脂层51。其中,粘性树脂层51是由树脂材料制成的层,粘性树脂层51能够方便的与异物形成固态氧化物以去除异物。例如当异物包括铁屑时,粘性树脂层51中的树脂材料与铁屑中和以后能够产生氧化铁之类的固态氧化物。
在上述实施例的基础上,树脂层51可拆卸地设置在装置主体1内部。其中,由于粘性树脂层51会与异物反应生成固态氧化物,所以粘性树脂层51为消耗品,通过使得粘性树脂层51可拆卸,便于更换粘性树脂层51,提高异物吸收装置的使用寿命。粘性树脂层51可拆卸的方式有多种,例如装置主体1上可设有抽拉口,粘性树脂层51从抽拉口抽出或放入装置主体1内,例如也可设置用于放置粘性树脂层51的容器,直接更换容器中的粘性树脂层51即可,在此不做粘性树脂层51可拆卸的方式做具体限定,只是举例说明。
在本发明的可选实施例中,电极31至异物吸收口11的距离大于6cm且小于9cm。优选的,电极31至异物吸收口11的距离大于7cm且小于8cm。其中,由于该异物吸收装置使用时玻璃基板会位于异物吸收口11上方,电极31至异物吸收口11的距离过大或者过小时吸附玻璃基板上的异物的效果会较差,通过使得电极31至异物吸收口11的距离大于7cm且小于8cm,能够更好的减少玻璃基板上的异物。
实施例二
图5为本发明实施例二提供的一种面板生产设备的部分结构示意图,如图1和图5所示,面板生产设备包括设备主体20,设备主体20上设有基板入口201和本发明任一实施例的用于玻璃基板的异物吸收装置10;基板入口201用于供玻璃基板进入,玻璃基板用于进入基板入口201时覆盖异物吸收装置10,异物吸收装置10的装置主体1具有异物吸收口11,此时玻璃基板会覆盖异物吸收口11,从而异物吸收装置10能够方便的吸附玻璃基板上的异物。
具体的,设备主体20上设有用于启闭基板入口201的门202,异物吸收装置10设置在门202上。由于门202打开基板入口201时,由于不同设备的真空度不同会产生气压差导致气体流动,此时极易产生异物附着在玻璃基板上,通过将异物吸收装置10设置在门202上,既能够吸附玻璃基板上本来就存在的异物也能够防止新产生的异物附着在玻璃基板上。优选的,异物吸收装置10的数量为两个,两个异物吸收装置10分别设置在门202的同一侧的两端。
上述方案,通过在设备主体20上设置用于玻璃基板的异物吸收装置10,当玻璃基板由基板入口201进入设备主体20时,玻璃基板上的异物能够被异物吸收装置10吸附,从而玻璃基板上的异物减少,减少暗点三不良的发生,提高了面板生产设备生产出的面板的良品率。
应该理解,可以使用上面所示的各种形式的流程,重新排序、增加或删除步骤。例如,本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行,只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果,本文在此不进行限制。
上述具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是,根据设计要求和其他因素,可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明保护范围之内。
Claims (10)
1.一种用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,包括装置主体和电源模块,所述装置主体内部设有电场形成模块、加速模块和吸收模块;
所述装置主体具有异物吸收口;
所述电场形成模块包括电极,所述电极设置在所述异物吸收口的下方;
所述电源模块与所述电极电连接,所述电源模块用于为所述电极供电,所述电极用于形成电场吸附异物;
所述加速模块设置在所述电极下方,所述电源模块与所述加速模块电连接,所述电源模块用于为所述加速模块供电,所述加速模块用于形成磁场以加速移动所述异物至所述吸收模块;
所述吸收模块设置在所述加速模块的下方,所述吸收模块用于与所述异物反应生成固态氧化物。
2.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,组成所述电极的元素中,至少一个元素的化合价包括+3价。
3.根据权利要求2所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述电极为Al电极。
4.根据权利要求3所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述Al电极由Al薄膜制成;
和/或,所述Al电极上设有中空网筛。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述加速模块包括线圈组件,所述线圈组件用于通电形成所述磁场。
6.根据权利要求5所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述线圈组件包括第一线圈、第二线圈和第三线圈,所述第一线圈、所述第二线圈和所述第三线圈沿所述电场形成模块至所述吸收模块的方向间隔设置;
所述第二线圈的匝数大于所述第一线圈的匝数;
所述第三线圈的匝数大于所述第二线圈的匝数。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述吸收模块包括粘性树脂层。
8.根据权利要求7所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述粘性树脂层可拆卸地设置在所述装置主体内部。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的用于玻璃基板的异物吸收装置,其特征在于,所述电极至所述异物吸收口的距离大于6cm且小于9cm。
10.一种面板生产设备,其特征在于,所述面板生产设备包括设备主体,所述设备主体上设有基板入口和权利要求1-9中任一项所述的用于玻璃基板的异物吸收装置;
所述基板入口用于供玻璃基板进入,所述玻璃基板用于进入所述基板入口时覆盖所述异物吸收装置。
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CN202311051062.0A CN116944181A (zh) | 2023-08-21 | 2023-08-21 | 一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备 |
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CN116944181A true CN116944181A (zh) | 2023-10-27 |
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CN202311051062.0A Pending CN116944181A (zh) | 2023-08-21 | 2023-08-21 | 一种用于玻璃基板的异物吸收装置和面板生产设备 |
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CN (1) | CN116944181A (zh) |
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2023
- 2023-08-21 CN CN202311051062.0A patent/CN116944181A/zh active Pending
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