CN116794936A - 曝光设备和高精度图形对位的曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种曝光设备和高精度图形对位的曝光方法，曝光设备包括输送装置、旋转装置、对位装置和曝光装置。输送装置用于输送待曝光件；旋转装置设在输送装置的输送方向的下游，旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台，放置平台用于放置待曝光件，驱动件为放置平台的转动提供驱动力。对位装置设在旋转装置的远离输送装置的一侧，对位装置包括固定平台和移动系统，固定平台用于固定掩膜版，且固定平台位于放置平台的上方，移动系统用于带动固定平台移动使掩膜版与待曝光件对准；曝光装置设在对位装置的上方。根据本发明实施例的曝光设备，能够满足高精度的图形化要求，同时曝光设备更加自动化，能够有效提升生产效率，降低生产成本。

Description

曝光设备和高精度图形对位的曝光方法

技术领域

本发明涉及曝光设备技术领域，尤其是涉及一种曝光设备和高精度图形对位的曝光方法。

背景技术

随着光伏太阳能电池的技术不断提升，对复杂结构的图形化技术提出了更高的要求：更细的线径、更高的精度、更高的加工速度以及更低的工艺成本。然而，现有的图形曝光设备无法满足当下对图形精度要求和图形对位要求，导致效率较低，生产成本较高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种曝光设备，能够满足高精度的图形化要求，同时曝光设备更加自动化，能够有效提升生产效率，降低生产成本。

本发明的另一个目的在于提出一种高精度图形对位的曝光方法。

根据本发明第一方面实施例的曝光设备，包括：输送装置，用于输送待曝光件；旋转装置，所述旋转装置设在所述输送装置的输送方向的下游，所述旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台，所述放置平台用于放置所述待曝光件，所述驱动件为所述放置平台的转动提供驱动力；对位装置，所述对位装置设在所述旋转装置的远离所述输送装置的一侧，所述对位装置包括固定平台和移动系统，所述固定平台用于固定掩膜版，且所述固定平台位于所述放置平台的上方，所述移动系统用于带动所述固定平台移动使所述掩膜版与所述待曝光件对准；曝光装置，所述曝光装置设在所述对位装置的上方；所述曝光设备工作时，所述输送装置将所述待曝光件输送至所述放置平台上，所述驱动件带动所述放置平台转动至所述固定平台的下方，所述移动系统带动所述固定平台运动使所述掩膜版与所述待曝光件对准，所述曝光件对所述待曝光件进行曝光处理，以得到曝光件。

根据本发明实施例的曝光设备，通过设置对位装置和曝光装置，对位装置的移动系统能够带动安装在固定平台上的掩膜版进行移动，使掩膜版与待曝光件实现高精度对位，进而对待曝光件进行曝光后，曝光件上的图形的位置更加精准。由此，与传统的曝光设备相比，能够满足高精度的图形化要求，同时曝光设备更加自动化，能够有效提升生产效率，降低生产成本。

根据本发明的一些实施例，所述移动系统包括：第一移动模块，用于带动所述固定平台沿所述待曝光件的宽度方向移动；第二移动模块，所述第二移动模块可滑动地设在所述第一移动模块上，用于带动所述固定平台沿待曝光件的长度方向移动；第三移动模块，所述第三移动模块可滑动地设在所述第二移动模块上，用于带动所述固定平台沿待曝光件的高度方向移动。

根据本发明的一些实施例，所述移动系统还包括旋转件，所述旋转件设在所述第三移动模块上，所述固定平台设在所述旋转件上。

根据本发明的一些实施例，所述旋转件和所述放置平台之间设有测距系统，用于测量所述掩膜版和所述待曝光件之间的最小距离，且所述测量系统与所述移动系统通讯连接。

根据本发明的一些实施例，所述放置平台上设有吸附系统，所述吸附系统用于将所述待曝光件吸附在所述放置平台上。

根据本发明的一些实施例，所述放置平台为多个，多个所述放置平台沿所述驱动件的周向间隔开，每个所述放置平台具有至少一个放置区，所述待曝光件放置于所述放置区。

根据本发明的一些实施例，还包括：气体喷射装置，所述气体喷射装置邻近所述曝光装置设置，用于在曝光过程中向所述待曝光件喷射惰性气体。

根据本发明的一些实施例，还包括：成像系统，所述成像系统设在所述对位装置的邻近所述输送装置的一侧，所述放置平台转动时先经过所述成像系统再经过所述曝光装置。

根据本发明的一些实施例，所述输送装置包括上料输送线、下料输送线和运输机构，所述上料输送线和所述下料输送线分别位于所述旋转装置的彼此相对的两侧，所述运输机构设在所述上料输送线和所述下料输送线之间，用于将所述上料输送线的所述待曝光件搬运至所述放置平台上，且同时将所述放置平台的所述曝光件搬运至所述下料输送线上。

根据本发明的一些实施例，所述输送装置还包括多个纠偏机构，多个所述纠偏机构分别设在所述上料输送线和所述下料输送线上，所述纠偏机构用于调整所述待曝光件的输送方向。

根据本发明第二方面实施例的高精度图形对位的曝光方法，包括以下步骤：

S1、在待曝光件的表面制作定位图形；

S2、将步骤S1中的所述待曝光件搬运至曝光设备的放置平台上，并转动至所述曝光设备的成像系统处，对所述待曝光件的所述定位图形进行成像,所述曝光设备为根据本发明上述第一方面实施例的曝光设备；

S3、将步骤S2中的所述待曝光件转动至所述曝光设备的对位装置处，调节所述对位装置的固定平台使掩膜版运动至设定高度且与所述待曝光件对准；

S4、开启所述曝光设备的曝光装置对所述待曝光件进行曝光处理。

根据本发明实施例的高精度图形对位的曝光方法，使待曝光件上的定位图形能够与掩膜版的定位图形实现高精度对准，满足了高精度图形对位的工艺需求，提高了对待曝光件图形化的生产效率，降低了生产成本。

根据本发明的一些实施例，在步骤S4中，需开启所述曝光设备的气体喷射装置，使所述待曝光件和所述掩膜版之间填充惰性气体。

根据本发明的一些实施例，在步骤S3中，控制所述掩膜版与所述待曝光件之间的最小距离在0～100微米之间。

根据本发明的一些实施例，在步骤S1之后和步骤S2之前还包括：

S2’、在所述待曝光件的表面涂覆感光材料。

根据本发明的一些实施例，步骤S4之后还包括：

S5、对步骤S5中的曝光件进行显影处理，以在所述曝光件表面形成相应图形。

根据本发明的一些实施例，所述待曝光件通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成所述定位图形。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本发明实施例的曝光设备的示意图；

图2是根据本发明实施例的曝光设备的俯视图；

图3是图2中圈示的A部放大图；

图4是根据本发明实施例的曝光设备的对位装置和旋转装置的示意图；

图5是根据本发明实施例的曝光设备的测距系统的示意图；

图6是根据本发明实施例的曝光设备的对位装置的示意图；

图7是根据本发明实施例的曝光设备的侧视图；

图8是根据本发明实施例的曝光设备的旋转装置的示意图；

图9是根据本发明另一个实施例的旋转装置的示意图；

图10是根据本发明实施例的曝光设备的放置平台的示意图；

图11是根据本发明实施例的曝光设备的输送装置和旋转装置的示意图；

图12是根据本发明另一个实施例的曝光设备的输送装置和旋转装置的示意图；

图13是根据本发明的曝光方法的流程图。

附图标记：

100、曝光设备；

1、输送装置；11、上料输送线；12、下料输送线；13、运输机构；131、旋转臂；132、驱动器；14、输送带；15、纠偏机构；2、旋转装置；21、驱动件；22、放置平台；221、吸附系统；222、放置区；3、对位装置；31、固定平台；32、移动系统；321、第一移动模块；3212、滑动件；322、第二移动模块；323、第三移动模块；324、旋转件；33、测距系统；331、安装板；332、距离感应装置；4、曝光装置；5、气体喷射装置；6、成像系统；61、CCD成像系统；62、照明系统；7、待曝光件；8、安装平台。

具体实施方式

下面参考图1-图13描述根据本发明第一方面实施例的曝光设备100。

如图1-图13所示，根据本发明第一方面实施例的曝光设备100，包括输送装置1、旋转装置2、对位装置3和曝光装置4。

具体而言，输送装置1用于输送待曝光件7。旋转装置2设在输送装置1的输送方向的下游，旋转装置2包括驱动件21和至少一个放置平台22，放置平台22用于放置待曝光件7，驱动件21为放置平台22的转动提供驱动力。对位装置3设在旋转装置2的远离输送装置1的一侧，对位装置3包括固定平台31和移动系统32，固定平台31用于固定掩膜版，且固定平台31位于放置平台22的上方，移动系统32用于带动固定平台31移动使掩膜版与待曝光件7对准。曝光装置4设在对位装置3的上方。

曝光设备100工作时，输送装置1将待曝光件7输送至放置平台22上，驱动件21带动放置平台22转动至固定平台31的下方，移动系统32带动固定平台31运动使掩膜版与待曝光件7对准，曝光件对待曝光件7进行曝光处理，以得到曝光件。

例如，在图1-图12的示例中，输送装置1包括多个输送带14，多个输送带14并排设置，旋转装置2位于输送装置1的宽度方向(例如，图2中的左右方向)的一侧，驱动件21位于多个放置平台22的中部，驱动件21能够驱动放置平台22绕驱动件21的中心轴线转动，待曝光件7放置于放置平台22上以跟随放置平台22转动。对位装置3位于旋转装置2的转动方向的下游，例如，对位装置3位于旋转装置2的右侧，此时放置平台22顺时针转动。移动系统32位于固定平台31的下方，掩膜版安装在固定平台31上，当移动系统32移动时可以带动固定平台31移动，同时固定平台31带动掩膜版移动，调整掩膜版的位置使其与待曝光件7对准。曝光装置4发出的曝光线照射在固定平台22的掩膜版上，用于使掩膜版上的图形投影至待曝光件7上，使得待曝光件7上能够形成掩膜版上的图形。

其中，曝光装置4还包括光源和光路组件。光源可以为激光器、LED和泵灯中的一种或多种。

具体地，待曝光件7通过输送装置1传输至旋转装置2的放置平台22上后，待曝光件7随着放置平台22旋转，当待曝光件7旋转至对位装置3时，移动系统32通过固定平台31可以使掩膜版跟随移动系统32移动，使掩膜版能够与放置平台22上的待曝光件7实现高精度对准；对准后，再打开曝光装置4对掩膜版和待曝光件7进行曝光，使得掩膜版上的图形投影至待曝光件7上，并通过曝光使得待曝光件7上形成图形；曝光完成后，曝光件再通过放置平台22转动至输送装置1上，通过输送装置1将曝光件输送至下一道工序，至此，完成待曝光件7的图形化工艺。

根据本发明实施例的曝光设备100，通过设置对位装置3和曝光装置4，对位装置3的移动系统能够带动安装在固定平台31上的掩膜版进行移动，使掩膜版与待曝光件7实现高精度对位，进而对待曝光件7进行曝光后，曝光件上的图形的位置更加精准。由此，与传统的曝光设备相比，能够满足高精度的图形化要求，同时曝光设备100更加自动化，能够有效提升生产效率，降低生产成本。

根据本发明的一些实施例，移动系统32包括第一移动模块321、第二移动模块322和第三移动模块323。第一移动模块321用于带动固定平台31沿待曝光件7的宽度方向(例如，图3中的前后方向)移动。第二移动模块322可滑动地设在第一移动模块321上，用于带动固定平台31沿待曝光件7的长度方向(例如，图3中的左右方向)移动。第三移动模块323可滑动地设在第二移动模块322上，用于带动固定平台31沿待曝光件7的高度方向(例如，图1中的上下方向)移动。

参照图4和图6，第一移动模块321、第二移动模块322和第三移动模块323在高度方向(例如，图1中的上下方向)上堆叠排布。其中，第一移动模块321包括底座和滑动件3212，底座固定在安装平台8上，底座和滑动件3212中的其中一个上形成有第一滑槽，第一滑槽沿水平方向的X轴延伸，底座和滑动件3212中的另一个上设有第一滑轨，第一滑轨滑动配合在第一滑槽内。第二移动模块322和滑动件3212中的其中一个上形成有第二滑槽，第二滑槽沿水平方向的Y轴延伸，第二移动模块322和滑动件3212中的另一个上设有第二滑轨，第二滑轨滑动配合在第二滑槽内。第三移动模块323和第二移动模块322中的其中一个上形成有第三滑槽，第三滑槽沿竖直方向的Z轴延伸，第三移动模块323和第二移动模块322中的另一个上设有第三滑轨，第三滑轨滑动配合在第三滑槽内。

当掩膜版需要在前后方向移动时，滑动件相对底座移动，以调整掩膜版在前后方向的位置，当掩膜版需要在左右方向移动时，第二移动模块322能够相对滑动件在左右方向移动，以调整掩膜版在左右方向的位置，当掩膜版需要在上下方向上的移动时，第三移动模块323能够相对第二移动模块322移动，以调整掩膜版在上下方向的位置。如此设置，使掩膜版的位置在各个方向上都能够被调整，实现了对掩膜版高精度地移动，使掩膜版与待曝光件7对准时，掩膜版的中心与待曝光件7的中心能够高精度地重合，确保最终曝光后掩膜版上的定位图形能与待曝光件7的定位图形对准，满足了高精度图形对位的需求。

进一步地，如图6所示，移动系统32还包括旋转件324，旋转件324设在第三移动模块323上，固定平台31设在旋转件324上。如此设置，固定平台31能随旋转件324的旋转而实现360°转动，使得掩膜版与待曝光件7之间的角度能调整，确保掩膜版的定位图形与待曝光件7的定位图形完全对准，保证掩膜版与待曝光件7之间的相对位置的准确。

需要说明的是，对位装置3能够满足±10微米以内的图形对位精度要求，即掩膜版的定位图形与待曝光件7的定位图形对位后的误差可以控制在±10微米以内。

根据本发明的一些实施例，旋转件324和放置平台22之间设有测距系统33，用于测量掩膜版和待曝光件7之间的最小距离，且测量系统与移动系统32通讯连接。例如，在图4和图5的示例中，测距系统33包括安装板331和多个距离感应装置332，安装板331的形状大致呈Z字形，多个距离感应装置332间隔设在安装板331的长度方向的一端，安装板331的另一端固定在驱动件21上，且安装板331设置距离感应装置332的一端位于放置平台22与固定平台31之间，从而使测距系统33能够感应掩膜版与待曝光件7之间的距离。可选地，距离感应装置332可以为激光测距仪。但不限于此。

具体地，当移动系统32移动掩膜版时，测距系统33能够实时地监测掩膜版与待曝光件7之间的距离，使得移动系统32能够根据测距系统33提供的距离信息进行移动，从而使掩膜版与待曝光件7之间的距离满足曝光所需的距离，进一步提高掩膜版与待曝光件7的对准精度。

根据本发明的一些实施例，放置平台22上设有吸附系统221，吸附系统221用于将待曝光件7吸附在放置平台22上。如图10所示，吸附系统221位于放置平台22的表面，待曝光件7从输送装置1移动至放置平台22上后，吸附系统221可以抽取待曝光件7和放置平台22之间的空气，以将待曝光件7吸附在放置平台22上，防止放置平台22旋转时待曝光件7在离心力的作用下在放置平台22上滑动，待曝光件7保证待曝光件7的位置的稳定，使掩膜版和待曝光件7能够精确对准。

根据本发明的一些实施例，如图2、图8和图9所示，放置平台22为多个，在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。多个放置平台22沿驱动件21的周向间隔开，每个放置平台22具有至少一个放置区222，待曝光件7放置于放置区222。放置平台22可以在驱动件21的驱动下旋转，以将待曝光件7移动至不同工位，使待曝光件7能够完成不同工位的加工。每个放置平台22上的放置区222用于放置待曝光件7。

例如，在图8的示例中，放置平台22可以设置四个，每个放置平台22上的放置区222可以设置为两个，使每个放置平台22上可以放置两个待曝光件7，如此设置，曝光装置4可以同时对四个放置平台22上的八个待曝光件7进行加工，提高了生产效率。

在一些可选的实施例中，如图9所示，放置平台22可以为五个，每个放置平台22上的放置区222可以设置为两个，曝光装置4可以同时对五个放置平台22上的十个待曝光件7进行加工。也就是说，放置平台22的数量越多，曝光设备100的生产效率越高，降低了生产成本。

根据本发明的一些实施例，曝光设备100还包括气体喷射装置5。气体喷射装置5邻近曝光装置4设置，用于在曝光过程中向待曝光件7喷射惰性气体。参照图1和图10，气体喷射装置5设在对位装置3上方的放置平台22上，且气体喷射装置5位于放置平台22的远离驱动件21的一侧。由于待曝光件7上涂覆有感光材料，当对待曝光件7进行曝光时，向掩膜版与待曝光件7之间喷射惰性气体，可减少感光材料在光固化过程中的氧阻聚效应，保证曝光件上形成有完整且清楚的图形。

在一些可选的实施例中，惰性气体可一为氮气、二氧化碳、氦气、氖气、氩气、氪气、氙气中的一种或多种。

根据本发明的一些实施例，曝光设备100还包括成像系统6。成像系统6设在对位装置3的邻近输送装置1的一侧，放置平台22转动时先经过成像系统6再经过曝光装置4。例如，在图2和图7的示例中，成像系统6位于对位装置3和输送装置1之间，成像系统6用于对待曝光件7上的定位图形进行高清成像，随后经过计算机计算以得到定位图形的准确位置信息，以便于后续对位装置3进行掩膜版和待曝光件7的对位。

具体地，成像系统6包括CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合元件)成像系统61和照明系统62，CCD成像系统61用于对定位图形进行高清成像，照明系统62为定位图形的高清成像提供背景光。由此，可以使成像系统6对待曝光件7的定位图形的成像更加清晰，得到的定位图形的位置信息更加准确。

可选地，照明系统62采用的背景光可以为LED光。

根据本发明的一些实施例，输送装置1包括上料输送线11、下料输送线12和运输机构13，上料输送线11和下料输送线12分别位于旋转装置2的彼此相对的两侧，运输机构13设在上料输送线11和下料输送线12之间，用于将上料输送线11的待曝光件7搬运至放置平台22上，且同时将放置平台22的曝光件搬运至下料输送线12上。

如图2和图11所示，上料输送线11、运输机构13和下料输送线12沿输送装置1的输送方向排布，运输机构13位于上料输送线11和下料输送线12的中间，使得输送装置1的形状大致呈I字形。当输送装置1工作时，待曝光件7从上料输送线11向运输机构13的方向移动，运输机构13将待曝光件7搬运至旋转装置2的放置平台22上，使待曝光件7可以跟随放置平台22转动至加工工位，完成加工后的曝光件会通过运输机构13搬运至下料输送线12上，曝光件从下料输送线12向远离运输机构13的方向移动，将曝光件运输至下一道工序。如此设置，可以使生产过程更加流畅，节省生产所需时间，提高了生产效率，降低生产成本。

在另一些可选的实施例中，如图12所示，上料输送线11与下料输送线12平行放置，运输机构13位于上料输送线11和下料输送线12的长度方向的一端，使得输送装置1的形状大致呈U字形，运输机构13将上料输送线11与下料输送线12连接。如此设置，在保证待曝光件7顺利运输的同时，可以减小曝光设备100的尺寸，便于曝光设备100小型化设计。

其中，如图11和图12所示，运输机构13包括旋转臂131和驱动器132。驱动器132位于上料输送线11和下料输送线12之间，旋转臂131从驱动器132向远离驱动器132的方向延伸。旋转臂131上带有真空吸盘，用于吸附待曝光件7。驱动器132用于驱动旋转臂131绕驱动器132的中心轴线转动。

例如，在图11和图12的示例中，旋转臂131的数量为两个，两个旋转臂131之间的夹角为直角，其中一个旋转臂131将上料输送线11上的待曝光件7吸附后，另一个旋转臂131在旋转装置2的放置平台22上吸附已完成曝光的曝光件，此时，驱动器132带动旋转臂131转动，使待曝光件7移动至旋转装置2的放置平台22上，曝光件移动至下料输送线12上，由此，实现待曝光件7和曝光件在输送装置1和旋转装置2之间的传输。

其中，运输机构13可以为卷纸机构、传送带机构或搬运装置中的一种或多种。

根据本发明的一些实施例，输送装置1还包括多个纠偏机构15，多个纠偏机构15分别设在上料输送线11和下料输送线12上，纠偏机构15用于调整待曝光件7的输送方向。如此设置，可以防止待曝光件7和曝光件在输送装置1的运输过程中发生路线偏移，避免待曝光件7和曝光件从输送装置1上掉落，保证输送装置1能够正常完成上料和下料工作，提高生产效率。需要说明的是，纠偏机构15可按照不同的待曝光件7的尺寸做调整。

另外，曝光设备100还包括环控系统。环控系统包括高效空气过滤系统和温控系统。其中，高效空气过滤系统可使曝光设备100的洁净度保持在一万级，温控系统可使曝光设备100的工作温度维持在25±2℃范围内。由此，为曝光设备100的运行提供良好的环境，保证待曝光件7经过曝光设备100的加工后仍然洁净，也提升了待曝光件7上形成的图形的清晰度的均匀性。如图11所示，根据本发明第二方面实施例的高精度图形对位的曝光方法，包括以下步骤：

S1、在待曝光件7的表面制作定位图形。保证进行后续的曝光工艺时，掩膜版能够准确对位在待曝光件7上的定位图形上。

S2、将步骤S1中的待曝光件7搬运至曝光设备100的放置平台22上，并转动至曝光设备100的成像系统6处，对待曝光件7的定位图形进行成像,曝光设备100为根据本发明上述第一方面实施例的曝光设备100。

待曝光件7从输送装置1搬运至放置平台22后，随放置平台22转动至成像工位，成像系统6对待曝光件7上的定位图形进行高清成像并记录，以确定待曝光件7上定位图形的位置，并通过计算机计算出待曝光件7上定位图形的位置信息，便于后续掩膜版与待曝光件7进行对位。

S3、将步骤S2中的待曝光件7转动至曝光设备100的对位装置3处，调节对位装置3的固定平台31使掩膜版运动至设定高度且与待曝光件7对准。其中，待曝光件7转动至对位装置3后，通过对位装置3的移动系统32调整掩膜版的位置，使待曝光件7与掩膜版的对准，同时将掩膜版移动至设定高度，防止曝光时待曝光件7与掩膜版的位置有偏差或者两者相距太远或太近而影响曝光效果。

S4、开启曝光设备100的曝光装置4对待曝光件7进行曝光处理。将掩膜版的定位图形与待曝光件7的定位图形对准后，开启曝光装置4，将掩膜版上的图形投影至待曝光件7上，使曝光件上形成掩膜版上的图形，从而完成曝光处理。

根据本发明实施例的高精度图形对位的曝光方法，使待曝光件7上的定位图形的能够与掩膜版的定位图形实现高精度对准，满足了高精度图形对位的工艺需求，提高了对待曝光件7图形化的生产效率，降低了生产成本。

根据本发明的一些实施例，在步骤S4中，需开启曝光设备100的气体喷射装置5，使待曝光件7和掩膜版之间填充惰性气体。如此设置，减少待曝光件7上的感光材料在光固化过程的氧阻聚效应，保护在曝光件上形成的图形的稳定性。

根据本发明的一些实施例，在步骤S3中，控制掩膜版与待曝光件7之间的最小距离在0～100微米之间。当掩膜版与待曝光件7之间的距离为0微米时，无法使掩膜版上的图形投影在待曝光件7上；当掩膜版与待曝光件7之间的距离大于100微米时，待曝光件7上投影的掩膜版的图形不清晰。由此，使掩膜版与待曝光件7之间的最小距离控制在0～100微米之间，可以使待曝光件7上所投影的图形更加清晰明了，从而进一步提升了曝光件上形成的图形的清晰度。根据本发明的一些实施例，在步骤S1之后和步骤S2之前还包括：

S2’、在待曝光件7的表面涂覆感光材料。感光材料有利于提高待曝光件7进行曝光工序时对光的灵敏度，使待曝光件7进行曝光后在曝光件的表面能够形成掩膜版上投影的图形。

在一些可选的实施例中，所述感光材料可以是光刻胶、感光油墨和感光干膜中的一种或多种。

根据本发明的一些实施例，步骤S4之后还包括：

S5、对步骤S4中的曝光件进行显影处理，以在曝光件表面形成相应图形。曝光件完成曝光后，通过显影可以使图形显示出来，从而使曝光件上形成的图形显示出来，由此，完成对待曝光件7的图形化显示。

根据本发明的一些实施例，待曝光件7通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成定位图形。通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成的定位图形清晰，无污染，使用寿命长，可以避免待曝光件7在进行其他工序时，定位图形被破坏。

在一些可选的实施例中，定位图形可以为十字、圆环、圆、方块，方框、横竖线交叉图形中的一种或多种。

根据本发明实施例的曝光设备100的其他构成以及操作对于本领域普通技术人员而言都是已知的，这里不再详细描述。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“周向”指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (16)

1.一种曝光设备，其特征在于，包括：

输送装置，用于输送待曝光件；

旋转装置，所述旋转装置设在所述输送装置的输送方向的下游，所述旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台，所述放置平台用于放置所述待曝光件，所述驱动件为所述放置平台的转动提供驱动力；

对位装置，所述对位装置设在所述旋转装置的远离所述输送装置的一侧，所述对位装置包括固定平台和移动系统，所述固定平台用于固定掩膜版，且所述固定平台位于所述放置平台的上方，所述移动系统用于带动所述固定平台移动使所述掩膜版与所述待曝光件对准；

曝光装置，所述曝光装置设在所述对位装置的上方；

所述曝光设备工作时，所述输送装置将所述待曝光件输送至所述放置平台上，所述驱动件带动所述放置平台转动至所述固定平台的下方，所述移动系统带动所述固定平台运动使所述掩膜版与所述待曝光件对准，所述曝光件对所述待曝光件进行曝光处理，以得到曝光件。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述移动系统包括：

第一移动模块，用于带动所述固定平台沿所述待曝光件的宽度方向移动；

第二移动模块，所述第二移动模块可滑动地设在所述第一移动模块上，用于带动所述固定平台沿待曝光件的长度方向移动；

第三移动模块，所述第三移动模块可滑动地设在所述第二移动模块上，用于带动所述固定平台沿待曝光件的高度方向移动。

3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述移动系统还包括旋转件，所述旋转件设在所述第三移动模块上，所述固定平台设在所述旋转件上。

4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述旋转件和所述放置平台之间设有测距系统，用于测量所述掩膜版和所述待曝光件之间的最小距离，且所述测量系统与所述移动系统通讯连接。

5.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述放置平台上设有吸附系统，所述吸附系统用于将所述待曝光件吸附在所述放置平台上。

6.根据权利要求1-5任一项所述的曝光设备，其特征在于，所述放置平台为多个，多个所述放置平台沿所述驱动件的周向间隔开，每个所述放置平台具有至少一个放置区，所述待曝光件放置于所述放置区。

7.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：

气体喷射装置，所述气体喷射装置邻近所述曝光装置设置，用于在曝光过程中向所述待曝光件喷射惰性气体。

8.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：

成像系统，所述成像系统设在所述对位装置的邻近所述输送装置的一侧，所述放置平台转动时先经过所述成像系统再经过所述曝光装置。

9.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述输送装置包括上料输送线、下料输送线和运输机构，所述上料输送线和所述下料输送线分别位于所述旋转装置的彼此相对的两侧，所述运输机构设在所述上料输送线和所述下料输送线之间，用于将所述上料输送线的所述待曝光件搬运至所述放置平台上，且同时将所述放置平台的所述曝光件搬运至所述下料输送线上。

10.根据权利要求9所述的曝光设备，其特征在于，所述输送装置还包括多个纠偏机构，多个所述纠偏机构分别设在所述上料输送线和所述下料输送线上，所述纠偏机构用于调整所述待曝光件的输送方向。

11.一种高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在待曝光件的表面制作定位图形；

S2、将步骤S1中的所述待曝光件搬运至曝光设备的放置平台上，并转动至所述曝光设备的成像系统处，对所述待曝光件的所述定位图形进行成像,所述曝光设备为根据权利要求1-10任一项所述的曝光设备；

S3、将步骤S2中的所述待曝光件转动至所述曝光设备的对位装置处，调节所述对位装置的固定平台使掩膜版运动至设定高度且与所述待曝光件对准；

S4、开启所述曝光设备的曝光装置对所述待曝光件进行曝光处理。

12.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，在步骤S4中，需开启所述曝光设备的气体喷射装置，使所述待曝光件和所述掩膜版之间填充惰性气体。

13.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，在步骤S3中，控制所述掩膜版与所述待曝光件之间的最小距离在0～100微米之间。

14.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，在步骤S1之后和步骤S2之前还包括：

S2’、在所述待曝光件的表面涂覆感光材料。

15.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，步骤S4之后还包括：

S5、对步骤S4中的曝光件进行显影处理，以在所述曝光件表面形成相应图形。

16.根据权利要求11-15任一项所述的高精度图形对位的曝光方法，其特征在于，所述待曝光件通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成所述定位图形。