CN116748081A - 涂布系统、涂布质量检测方法、装置、设备和介质 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种涂布系统、涂布质量检测方法、装置、设备和介质，涉及涂布工艺技术领域，该涂布系统包括：涂布模头和检测装置；所述涂布模头包括多个流量调节块，所述多个流量调节块在第一方向上的尺寸均相同；所述第一方向为所述涂布系统中基材的传送方向；所述流量调节块在第一方向上的尺寸等于所述检测装置照射在所述基材上的检测光斑在第一方向上的尺寸。本申请实施例的涂布系统可有利于通过流量调节块对基材进行分区，实现目标涂布区与流量调节块的匹配，进而可以快速定位到涂布质量异常的区域，通过调节对应的流量调节块来修正涂布质量，提高涂布工序的生产效率。
Description
技术领域
本申请涉及涂布工艺技术领域，特别是涉及一种涂布系统、涂布质量检测方法、装置、设备和介质。
背景技术
目前的涂布技术多采用狭缝挤压涂布，通过涂布组件形成的狭缝将浆料转移到基材上，该涂布技术被应用在多种领域，例如电池生产工艺的涂布工序。
其中，在电池生产工艺的涂布工序中，浆料从喷涂瞬间至稳定涂布是一个动态过程，其浆料的涂布重量受到多种因素影响，因此，需要对涂布重量进行检测。相关技术中，在检测到涂布重量发生异常时，无法定位到重量异常的区域，不利于指导操作人员对异常状态的快速调节，影响涂布工序的生产效率。
上述的陈述仅用于提供与本申请有关的背景技术信息，而不必然地构成现有技术。
发明内容
有鉴于此，本申请的目的在于提出一种涂布系统、涂布质量检测方法、装置、设备和介质，能够根据在目标涂布区存在质量异常时，快速的定位到涂布质量异常的区域，进而可以指导浆料重量的调节，提高涂布工序的生产效率。
基于上述目的，第一方面，本申请实施例提出了涂布系统，所述涂布系统包括：涂布模头和检测装置；所述涂布模头包括多个流量调节块，所述多个流量调节块在第一方向上的尺寸均相同；所述第一方向为所述涂布系统中基材的传送方向；所述流量调节块在第一方向上的尺寸等于所述检测装置照射在所述基材上的检测光斑在第一方向上的尺寸。
本申请实施例的第一方面提供的涂布系统，可以通过涂布模头对基材进行浆料涂布，得到涂层，由于多个流量调节块在第一方向上的尺寸均相同，且流量调节块可以调节其在基材上对应位置的浆料涂布流量，则可以根据每一流量调节块的位置在涂层上得到与其对应的涂布区，进而得到多个均匀分布的涂布区，又由于每一流量调节块在第一方向上的尺寸和检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，则每一涂布区、每一流量调节块、每一检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，如此，在通过检测光斑检测到任一涂布区的涂布质量异常时，可以根据异常涂布区的位置定位到对应的流量调节块，通过调节对应的流量调节块来修正涂布质量，提高涂布工序的生产效率。
在一些实施例中，所述涂布模头还包括：进料口、第一模头、第二模头和垫片；所述第一模头和所述第二模头之间形成腔体，所述垫片设置在所述腔体内；所述多个流量调节块阵列式设置在所述第一模头远离所述第二模头的侧面上，所述流量调节块的第一端与所述垫片相接触；所述进料口与所述腔体相连通。
本申请实施例提供的涂布模头可以通过挤压浆料实现对基材的涂布，其中，流量调节块的第一端与垫片相接触，可以将力作用在垫片上，调节垫片处的狭缝大小，进而实现对基材上涂层厚度进行调节，如此，当涂层质量存在异常时，可以通过调节异常位置对应的流量调节块，来改变狭缝的大小，调节涂层厚度。
在一些实施例中，涂布模头还包括：与所述流量调节块连接的流量调节机构；每一流量调节机构具有对应的流量调节块，所述流量调节机构与其对应的流量调节块的第二端连接。
本申请实施例提供的涂布模头可通过流量调节机构来改变流量调节块施加在垫片上的压力，如此，可以实现当基材上的涂层质量存在异常时，可以通过调节异常位置对应的流量调节块，来改变流量调节块施加在垫片上的压力，实现异常位置的狭缝间隙调节，进而控制浆料的流量，实现涂布浆料的增加或减少。
在一些实施例中，所述涂布系统还包括涂布质量统计装置，所述涂布质量统计装置包括：统计模块，所述统计模块用于基于所述检测装置检测到目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息；所述目标涂布区包括所述基材上的至少一个涂布区；显示模块，所述显示模块用于显示所述目标涂布区的涂布质量信息。
本申请实施例提供的涂布系统，通过统计模块来统计每一目标涂布区的涂布质量信息，并通过显示模块进行显示，可以实现对基材上每一涂布区的涂布质量的可视化，有利于实现涂布质量的精细化监控。
在一些实施例中，所述统计模块还用于基于所述涂布模头的每个流量调节块的位置，确定所述流量调节块在所述基材上的映射位置；根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布系统，可以根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区，可以得到与流量调节块相对应的目标涂布区。
在一些实施例中，所述统计模块还用于在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出所述第一流量调节块对应的第一目标涂布区，所述第一目标涂布区的宽度与所述流量调节块在第一方向上的尺寸相等，所述第一目标涂布区的长度与所述基材在第二方向上的尺寸相等；其中，所述第一流量调节块为每个所述流量调节块中的任一流量调节块；所述第二方向为在所述基材所处的平面中与所述第一方向垂直的方向。
本申请的实施例得到的第一目标涂布区的长度与基材在第二方向上的尺寸相等，如此得到的目标涂布区是一个以流量调节块在第一方向上的尺寸为宽，以基材在第二方向上的尺寸为长的规则区域，既有利于目标涂布区与流量调节块的位置匹配，又有利于对每个目标涂布区的涂布数据的检测。
第二方面，还提供了一种涂布质量检测方法，应用于第一方面任一项所述的涂布系统，所述方法包括：基于预设规则将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区；基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，以便于区分不同区域的涂布质量，实现对基材上的涂层质量进行分区控制，在基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息后，任一目标涂布区的涂布质量存在异常时，可对应到发生异常的目标涂布区，可以实现对异常涂布区的快速定位，指导技术人员对异常区域进行流量调节，提高涂布工序的生产效率。
在一些实施例中，基于每个所述流量调节块的位置及在所述第一方向上的尺寸，将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，可使每一目标涂布区与对应的流量调节块具有映射关系，在基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息后，任一目标涂布区的涂布质量存在异常时，可以根据目标涂布区的位置确定与其对应的流量调节块，进而可以实现对异常涂布区的快速定位和流量调节，提高涂布工序的生产效率。
在一些实施例中，所述基于每个所述流量调节块的位置及在所述第一方向上的尺寸，将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，包括：基于每个所述流量调节块的位置，确定所述流量调节块在所述基材上的映射位置；根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在所述第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区，可以得到与流量调节块相对应的目标涂布区。
在一些实施例中，所述根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在所述第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区，包括：在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出所述第一流量调节块对应的第一目标涂布区，所述第一目标涂布区的宽度与所述流量调节块在第一方向上的尺寸相等，所述第一目标涂布区的长度与所述基材在第二方向上的尺寸相等；其中，所述第一流量调节块为每个所述流量调节块中的任一流量调节块；所述第二方向为在所述基材所处的平面中与所述第一方向垂直的方向。
如此得到的目标涂布区是一个以流量调节块在第一方向上的尺寸为宽，以基材在第二方向上的尺寸为长的规则区域，即有利于目标涂布区与流量调节块的位置匹配，又有利于对每个目标涂布区的涂布数据的检测。
在一些实施例中，所述方法包括：分别为每一所述流量调节块分配不同的编码；分别为每一所述目标涂布区分配不同的序号；存储流量调节块的编码与对应的目标涂布区的序号的映射关系。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以建立每一目标涂布区和对应的流量调节块之间的映射关系，以便于在目标涂布区的涂布质量存在异常时，快速定位到对应的流量调节块。
在一些实施例中，所述分别为每一所述流量调节块分配不同的编码，包括：根据每一所述流量调节块的位置，确定中位流量调节块，所述中位流量调节块为位于阵列式排布的所有流量调节块中间位置的流量调节块；以所述中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿所述第一方向和第三方向对所述流量调节块进行编码，所述第三方向为所述第一方向的反方向。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，根据每一流量调节块的位置，确定中位流量调节块，以中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿第一方向和第三方向对流量调节块进行编码，可以将中位流量调节块作为参考位置，参考位置是不变的，更有利于目标涂布区的快速定位。
在一些实施例中，所述方法包括：根据每个所述目标涂布区的涂布数据，确定涂布质量存在异常的目标涂布区；根据涂布质量存在异常的目标涂布区确定待调节的流量调节块。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以在根据涂布质量存在异常的目标涂布区，快速定位到待调节的流量调节块，通过调节对应的流量调节块，可以快速实现涂布质量的恢复，提高涂布工序的生产质量和效率。
在一些实施例中，所述涂布数据包括目标涂布区中涂布的浆料重量，所述基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：根据预设的目标值和每个所述目标涂布区的浆料重量，得到所述目标涂布区的涂布重量偏差值；根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于分区得到的每个目标涂布区的浆料重量与预设的目标值之间的涂布重量偏差值，可以得到目标涂布区的涂布质量信息，进而可以实现对每一目标涂布区的质量检测。
在一些实施例中，所述涂布质量信息包括涂布质量分布图，根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：根据每个目标涂布区对应的所述涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息；其中，不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同；基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成并显示所述涂布质量分布图，所述涂布质量分布图中包括标注有对应的标志信息的每个所述目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，将涂布质量信息通过涂布质量分布图的方式进行显示，具有很强的可视性，可直观的反映出不同目标涂布区的不同涂布重量偏差程度，可使得工作人员直观的看到每一目标涂布区的涂布质量信息。
在一些实施例中，所述标志信息为色彩标志信息，基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成所述涂布质量分布图，包括：基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；基于每一目标涂布区对应的色彩标志信息，分别在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内填充相应色彩标志信息所指示的颜色，得到所述涂布质量分布图。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，用色彩标志信息作为标志信息，可直观的显示出不同目标涂布区的不同涂布质量信息，可以根据标志信息快速的定位到涂布质量异常的区域，进而可以指导浆料重量的调节，提高涂布工序的生产效率。
在一些实施例中，所述涂布质量信息包括涂布质量分布图，根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成并显示所述目标涂布区的涂布质量分布图，所述多个涂布重量偏差值是根据所述目标涂布区预设次数的最新涂布数据得到的；其中，所述涂布质量分布图用于表征所述目标涂布区的涂布质量趋势信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可实现对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
在一些实施例中，所述根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成所述目标涂布区的涂布质量分布图，包括：根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，分别生成每一所述目标涂布区的涂布质量趋势信息；基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，得到的涂布质量分布图可以显示出每一目标涂布区的质量变化趋势信息，可实现对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
在一些实施例中，所述涂布质量趋势信息包括涂布重量偏差值的变化折线，在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图，包括：在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可更加直观的显示出目标涂布区的涂布质量变化情况，有助于操作人员对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
在一些实施例中，所述方法还包括：根据浆料重量的不同控制阈值，将所述涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域；在每个质量梯度区域中分别填充与所述质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以直观的显示每一目标涂布区的涂布质量趋势。
在一些实施例中，所述方法还包括：根据预设的报警条件和所述目标涂布区的浆料重量，确定所述目标涂布区的涂布质量存在异常；输出报警信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，通过设置预设的报警条件来对目标涂布区的涂布质量是否异常进行判断，提高了涂布质量检测的可靠性。
在一些实施例中，所述方法包括：根据所述涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数；基于所述调节参数，调节所述涂布模头的姿态。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可实时监测涂布模头的位置，使其保持水平，减少非涂布因素对涂布质量的影响，进而提高涂布质量。
第三方面，还提供了一种涂布质量检测装置，分区模块，用于基于预设规则将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区；质量检测模块，用于基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息。
本申请第三方面提供的涂布质量检测装置，可以根据目标涂布区的位置实现对异常涂布区的快速定位，指导技术人员对异常区域进行流量调节，提高涂布工序的生产效率。
第四方面，还提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器运行所述计算机程序以实现第二方面所述的方法。
第五方面，还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行实现第二方面任一项所述的方法。
上述说明仅是本申请实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本申请的具体实施方式。
附图说明
通过阅读对下文实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出本申请的实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在全部附图中，用相同的附图标号表示相同的部件。
图1示出根据一个或多个实施例的一种涂布系统的结构示意图；
图2示出根据一个或多个实施例的一种涂布模头的整体结构示意图；
图3示出根据一个或多个实施例的一种涂布模头的流量调节机构和流量调节块的位置示意图；
图4示出根据一个或多个实施例的一种涂布模头的俯视图；
图5示出根据一个或多个实施例的一种涂布系统的另一结构示意图
图6示出根据一个或多个实施例的涂布质量检测方法的步骤流程图；
图7示出根据一个或多个实施例的一种分区示意图；
图8示出根据一个或多个实施例的一种涂布质量分布图的一种示意图；
图9示出根据一个或多个实施例的一种涂布质量分布图的另一种示意图；
图10示出根据一个或多个实施例的一种表征涂布模头发生横向倾斜的涂布质量分布图；
图11示出根据一个或多个实施例的一种表征涂布模头发生纵向倾斜的涂布质量分布图；
图12示出根据一个或多个实施例的一种涂布质量检测装置的结构示意图；
图13示出根据一个或多个实施例的电子设备结构框图；
图14示出根据一个或多个实施例的一种存储介质的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本申请技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本申请的保护范围。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
在本申请实施例的描述中，技术术语“第一”“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本申请实施例的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
在本申请实施例的描述中，术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
涂布是将涂布材料以液体或粉末形式在织物、纸张、金属箔或板等物体表面上涂盖薄层。涂布是电池单体制造过程中不可或缺的一步。
电池单体包括电极组件和电解液，电极组件包括正极极片、负极极片和隔离件。电池单体主要依靠金属离子在正极极片和负极极片之间移动来工作。在电池单体的生产过程中，正极极片和负极极片均使用涂布工艺制成。示例性地，将正极活性物质、导电剂、粘接剂和溶剂混合并制成糊状粘稠浆料，然后将糊状粘稠浆料均匀的、连续或间断的涂覆在基材(例如铝箔)，以制成正极极片。在涂布时，各个涂布位置的厚度一致性、涂布厚度是否控制在工艺要求的公差范围内直接影响电池单体的安全性、容量、寿命等各项性能，因此，对涂布质量的检测是电池生产工艺的重要环节，相关技术中，通过面密度仪对涂布质量进行检测来发现异常，无法得知具体的异常部位，需要操作人员人工检查，无法直观的定位到重量异常的区域，不利于指导操作人员对异常状态的快速调节，影响涂布工序的生产效率。
基于以上考虑，为了解决当涂布质量发生异常时，无法定位到发生异常的涂布位置的问题，本申请实施例提供一种涂布系统和涂布质量检测方法，涂布系统中涂布模头的多个流量调节块在第一方向上的尺寸均相同，流量调节块在第一方向上的尺寸等于检测装置照射在基材上的检测光斑在第一方向上的尺寸，此设计可以使得每一流量调节块在第一方向上的尺寸和检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，如此，检测光斑检测到的涂布区在第一方向上的尺寸也与每一流量调节块的尺寸相同，实现每一涂布区与每一流量调节块的对应，在检测到涂布区的涂布质量异常时，可以定位到发生异常的位置对应的流量调节块，通过调节对应的流量调节块来修正涂布质量，涂布工序的生产效率。
本申请实施例的涂布系统可以是用于进行浆料涂布操作工序的系统，浆料涂布操作包括但不限于将浆料涂布到基材上的步骤。可以将本申请公开的涂布系统应用在电池单体制造过程的电池极片涂布场景中，例如，在锂离子电池等电池的生产过程中，在浆料涂布操作执行时，涂布系统用于将浆料涂布到基材上，以生产用于制成电池的极片，并检测涂布后的涂层质量，提升电池极片涂布工序的生产效率和电池极片的涂布质量。
请参照图1，图1为本申请一个实施例提供的一种涂布系统的结构示意图，涂布系统包括：涂布模头01和检测装置02；
涂布模头01包括多个流量调节块03，多个流量调节块03在第一方向上的尺寸均相同，流量调节块03在第一方向上的尺寸等于检测装置02照射在基材04上的检测光斑在第一方向上的尺寸。
其中，第一方向为涂布系统中基材04的传送方向，例如，基材04的传送方向是从左往右，则第一方向则为从左往右的方向。
示例性的，流量调节块03在第一方向上的尺寸可以是流量调节块03在第一方向上的宽度值，检测光斑在第一方向上的尺寸可以是检测装置02发出的检测光在第一方向上的覆盖宽度。
本申请实施例提供的涂布系统，可以通过涂布模头01对基材04进行浆料涂布，得到涂层，由于多个流量调节块03在第一方向上的尺寸均相同，且流量调节块03可以调节其在基材04上对应位置的浆料涂布流量，则可以根据每一流量调节块03的位置在涂层上得到与其对应的涂布区，进而得到多个均匀分布的涂布区，又由于每一流量调节块03在第一方向上的尺寸和检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，则每一涂布区、每一流量调节块03、每一检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，如此，在通过检测光斑检测到任一涂布区的涂布质量异常时，可以根据异常涂布区的位置定位到对应的流量调节块，通过调节对应的流量调节块来修正涂布质量，提高涂布工序的生产效率。
请参照图2至图4，图2为本申请一个实施例提供的一种涂布模头的整体结构示意图，图3为本申请一个实施例提供的一种涂布模头的流量调节机构和流量调节块的位置示意图，图4为本申请一个实施例提供的一种涂布模头的俯视图。
根据本申请的一些实施例，涂布模头01还包括：进料口08、第一模头05、第二模头06和垫片09，第一模头05和第二模头06之间形成腔体，垫片09设置在腔体内。多个流量调节块03阵列式设置在第一模头05远离第二模头06的侧面上，流量调节块03的第一端与垫片09相接触。进料口08与腔体相连通。
进料口08用于连接供料系统，以提供浆料，从进料口08进入的浆料在第一模头05远离第二模头06之间的腔体进行匀压，再通过垫片09构成狭缝，通过狭缝将浆料挤出并且转移到移动的基材上，实现浆料涂布。
本申请实施例提供的涂布模头01可以通过挤压浆料实现对基材04的涂布，其中，流量调节块03的第一端与垫片09相接触，可以将力作用在垫片09上，通过调节垫片09处的狭缝大小，进而实现对基材04上的涂层厚度进行调节，如此，当涂层质量存在异常时，可以通过调节异常位置对应的流量调节块，来改变狭缝的大小，调节涂层厚度。
根据本申请的一些实施例，涂布模头01还包括：与流量调节块连接的流量调节机构07，每一流量调节机构07具有对应的流量调节块03，流量调节机构07与其对应的流量调节块03的第二端连接。
请参照图3，流量调节块03的第二端均连接有流量调节机构07，基于流量调节块03为阵列式排列，则流量调节机构07也为阵列式排列。
在一些示例中，流量调节块03可以是压力可调器件，流量调节机构07可以是压力控制器件，以改变流量调节块03施加在垫片上的压力。示例性的，流量调节块03可以是在垂直于垫片09表面的方向上长度可调的紧固件，流量调节机构07可通过改变紧固件在与垫片表面的方向上的长度，以改变流量调节块03施加在垫片上的压力，实现狭缝间隙调节，进而控制浆料的流量，实现涂布浆料的增加或减少。
本申请实施例提供的涂布模头01可通过流量调节机构07来改变流量调节块03施加在垫片09上的压力，如此，可以实现当基材04上的涂层质量存在异常时，可以通过调节异常位置对应的流量调节块，来改变流量调节块施加在垫片上的压力，实现异常位置的狭缝间隙调节，进而控制浆料的流量，实现涂布浆料的增加或减少。
图5为本申请一个实施例提供的一种涂布系统的另一结构示意图，请参照图5，根据本申请的一些实施例，涂布系统10还包括涂布质量统计装置11，涂布质量统计装置11包括：统计模块12以及显示模块13，统计模块12用于基于检测装置检测到目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息，目标涂布区包括基材上的至少一个涂布区。显示模块13用于显示目标涂布区的涂布质量信息。
在一些例子中，统计模块12可以是具有数据处理功能的处理器，以获取检测装置检测到的目标涂布区的涂布数据，并基于该涂布数据进行数据处理。
示例性地，涂布完成后的基材04上具有一定重量的浆料，统计模块12可以通过检测装置来检测目标涂布区涂布的涂布数据，涂布数据可以是单位面积的涂布密度，可以是涂布重量，可以是涂布厚度。每个目标涂布区的涂布质量信息可以反映该目标涂布区的涂布质量情况，其中目标涂布区可以根据预设规则来划分。
在一些例子中，显示模块13可以是显示器，也可以是智能终端的显示屏等。
本申请实施例提供的涂布系统，通过统计模块12来统计每一目标涂布区的涂布质量信息，并通过显示模块13进行显示，可以实现对基材上每一涂布区的涂布质量的可视化，有利于实现涂布质量的精细化监控。
根据本申请的一些实施例，统计模块还用于基于涂布模头的每个流量调节块的位置，确定流量调节块在基材上的映射位置，根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区。
在一些例子中，流量调节块呈阵列式排布，每一流量调节块03可以对与其相接触的垫片09形成的狭缝进行调节，而浆料从该狭缝中喷出，则从对应狭缝位置喷出的浆料在基材04上形成的涂层区域是与流量调节块03相对应的，则可以将每个流量调节块03的位置作为流量调节块在基材04上的映射位置，将该映射位置作为对应的目标涂布区的位置，将流量调节块在第一方向上的尺寸作为目标涂布区的尺寸，得到多个与流量调节块相对应的目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布系统，可以根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区，可以得到与流量调节块相对应的目标涂布区。
根据本申请的一些实施例，统计模块还用于在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出第一流量调节块对应的第一目标涂布区，第一目标涂布区的宽度与流量调节块在第一方向上的尺寸相等，第一目标涂布区的长度与基材在第二方向上的尺寸相等。其中，第一流量调节块为每个流量调节块中的任一流量调节块，第二方向为在基材所处的平面中与第一方向垂直的方向。
在一个例子中，检测装置发出的检测光斑是在基材的第二方向上往复检测的，为了提高检测准确度，本申请的实施例得到的第一目标涂布区的长度与基材在第二方向上的尺寸相等，如此得到的目标涂布区是一个以流量调节块在第一方向上的尺寸为宽，以基材在第二方向上的尺寸为长的规则区域，既有利于目标涂布区与流量调节块的位置匹配，又有利于对每个目标涂布区的涂布数据的检测。
本示例的涂布系统，每一流量调节块03在第一方向上的尺寸和检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，可以根据每一流量调节块03的位置在涂层上得到与其对应的涂布区，进而得到多个与流量调节块03尺寸相同的多个均匀分布的涂布区，实现每一涂布区、每一流量调节块、每一检测光斑在第一方向上的尺寸均相同，检测光斑的尺寸与目标涂布区的尺寸一致，可以使得每次对一个目标涂布区进行涂布检测，提高检测精度。每一涂布区和每一流量调节块的尺寸一致可以在检测到任一涂布区的涂布质量异常时，根据异常涂布区的位置定位到对应的流量调节块，通过调节对应的流量调节块来修正涂布质量，涂布工序的生产效率。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
根据本申请的一些实施例，提供了一种涂布质量检测方法，该涂布质量检测方法应用于上述涂布系统，请参照图6，图6为本申请一个实施例提供的一种涂布质量检测方法的步骤流程图，该方法可以包括如下步骤S601~S602：
S601、基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
在一些示例中，基材是指即将被涂上浆料的基材，基材由辊组件带动，以实现对基材的均匀涂布，基材可以是铝箔、织物或纸张等，为了便于描述，本实施例以电池单体的涂布工艺为例，例如，基材为铝箔，通过在基材上涂布浆料，以制成电池的极片。
在一些示例中，预设规则可以是基于检测光斑在第一方向上的尺寸设置，可以是基于每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸设置，也可以是根据实际需求自定义宽度设置，将基材划分成多个目标涂布区，以便于区分不同区域的涂布质量，实现对基材上的涂层质量进行分区控制。
S602、基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息。
示例性地，涂布完成后的基材04上具有一定重量的浆料，可以通过检测装置02来检测目标涂布区涂布的涂布数据，检测装置02可以是面密度仪，可以是重量检测仪，可以是厚度检测仪，相应地，涂布数据可以是单位面积的涂布密度，可以是涂布重量，可以是涂布厚度。
示例性地，每个目标涂布区的涂布质量信息可以反映该目标涂布区的涂布质量情况，例如，目标涂布区的涂布质量信息表示该目标涂布区的涂层过厚、目标涂布区的涂层过薄、目标涂布区的涂层不均匀等表征目标涂布区涂布质量的信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，以便于区分不同区域的涂布质量，实现对基材上的涂层质量进行分区控制，在基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息后，任一目标涂布区的涂布质量存在异常时，可对应到发生异常的目标涂布区，可以实现对异常涂布区的快速定位，指导技术人员对异常区域进行流量调节，提高涂布工序的生产效率。
根据本申请的一些实施例，基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，包括：基于每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
在一些例子中，基于每个流量调节块03的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头01的基材划分成多个目标涂布区，例如当前时刻涂布模头01的涂布对象是第一方向上长为A，第二方向上宽为B的矩形区域，第二方向为在基材04所处的平面中与第一方向垂直的方向，流量调节块在第一方向上的尺寸为C，则对该矩形区域划分后，得到A/C个，长为C，宽为B的目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，可使每一目标涂布区与对应的流量调节块具有映射关系，在基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息后，任一目标涂布区的涂布质量存在异常时，可以根据目标涂布区的位置确定与其对应的流量调节块，进而可以实现对异常涂布区的快速定位和流量调节，提高涂布工序的生产效率。
根据本申请的一些实施例，基于每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，包括：基于每个流量调节块的位置，确定流量调节块在基材上的映射位置，根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区。
在一些例子中，流量调节块呈阵列式排布，每一流量调节块03可以对与其相接触的垫片09形成的狭缝进行调节，而浆料从该狭缝中喷出，则从对应狭缝位置喷出的浆料在基材04上形成的涂层区域是与流量调节块03相对应的，则可以将每个流量调节块03的位置作为流量调节块在基材04上的映射位置，将该映射位置作为对应的目标涂布区的位置，将流量调节块在第一方向上的尺寸作为目标涂布区的尺寸，得到多个与流量调节块相对应的目标涂布区。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区，可以得到与流量调节块相对应的目标涂布区。
根据本申请的一些实施例，根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区，包括：在基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出第一流量调节块对应的第一目标涂布区，第一目标涂布区的宽度与流量调节块在第一方向上的尺寸相等，第一目标涂布区的长度与基材在第二方向上的尺寸相等。
其中，第一流量调节块为每个流量调节块中的任一流量调节块，第二方向为在基材所处的平面中与第一方向垂直的方向。
在一些例子中，流量调节块包括多个，为了对基材进行精确划分，得到与每一流量调节块对应的目标涂布区，本申请的实施例根据任一流量调节块对应的映射位置，对基材进行划分。
在一个例子中，检测装置发出的检测光斑是在基材的第二方向上往复检测的，为了提高检测准确度，本申请的实施例得到的第一目标涂布区的长度与基材在第二方向上的尺寸相等，如此得到的目标涂布区是一个以流量调节块在第一方向上的尺寸为宽，以基材在第二方向上的尺寸为长的规则区域，既有利于目标涂布区与流量调节块的位置匹配，又有利于对每个目标涂布区的涂布数据的检测。
根据本申请的一些实施例，涂布质量检测方法还包括：分别为每一流量调节块分配不同的编码，分别为每一目标涂布区分配不同的序号，存储流量调节块的编码与对应的目标涂布区的序号的映射关系。
在一个例子中，流量调节块的编码可以使用阿拉伯数字或者字母表示，不同的编码代表不同的流量调节块，目标涂布区的序号也可以使用阿拉伯数字或者字母表示，不同的序号代表不同的目标涂布区。
对于两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块，其对应的编码和序号具有映射关系。需要说明的是，两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块，其对应的编码和序号可以相同，也可以不同，例如两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块，其对应的编码和序号分别为1和a，另外两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块，其对应的编码和序号分别为2和b。又例如，两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块，其对应的编码和序号都为1。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以建立每一目标涂布区和对应的流量调节块之间的映射关系，以便于在目标涂布区的涂布质量存在异常时，快速定位到对应的流量调节块。
根据本申请的一些实施例，分别为每一流量调节块分配不同的编码，包括：根据每一流量调节块的位置，确定中位流量调节块，以中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿第一方向和第三方向对流量调节块进行编码，中位流量调节块为位于阵列式排布的所有流量调节块中间位置的流量调节块，第三方向为第一方向的反方向。
在一个例子中，基于生产需求的不同，基材上连续的涂层在第一方向上的尺寸可能不一致，不同尺寸的涂层的目标涂布区位置也不同，不利于目标涂布区的快速定位。因此，本申请的实施例通过确定中位流量调节块，以中位流量调节块所在位置为起始位置，分别向第一方向和第三方向对流量调节块进行编码，可以将中位流量调节块作为参考位置，参考位置是不变的，如此更有利于目标涂布区的快速定位。
为了便于说明，本实施例中以两个互相匹配的目标涂布区和流量调节块其对应的编码和序号相同，以电池单体的涂布极片为例。
请参考图7，图7示出了本申请一个实施例提供的一种目标涂布区的分区示意图，如图7所示，基材上具有涂布完成的3个极片，分别为极片1、极片2和极片3，每两个极片之间具有极片间隔，其中，流量调节块的编码分别为“L29~L01”、“中位”、”R01~R29”，图7中“中位”代表中位流量调节块，“R01”表示在中位流量调节块右边的第一个流量调节块，“R02”表示在中位流量调节块右边的第二个流量调节块，“R29”表示在中位流量调节块右边的第29个流量调节块，“L01”表示在中位流量调节块左边的第一个流量调节块，“L02”表示在中位流量调节块左边的第二个流量调节块，“L29”表示在中位流量调节块左边的第29个流量调节块，其他编码所代表的流量调节块以此类推，在此不再赘述。相应地，目标涂布区的序号与其对应的流量调节块的编码一致。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，根据每一流量调节块的位置，确定中位流量调节块，以中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿第一方向和第三方向对流量调节块进行编码，可以将中位流量调节块作为参考位置，参考位置是不变的，更有利于目标涂布区的快速定位。
根据本申请的一些实施例，涂布质量检测方法包括：根据每个目标涂布区的涂布数据，确定涂布质量存在异常的目标涂布区，根据涂布质量存在异常的目标涂布区确定待调节的流量调节块。
示例性地，请参考图7，若根据获取到的图7中的序号为“L01”处的目标涂布区的涂布数据，确定“L01”处存在涂布异常，由于目标涂布区的序号与流量调节块的编码具有映射关系，则可以确定待调节的流量调节块为编码为“L01”的流量调节块。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，可以在根据涂布质量存在异常的目标涂布区，快速定位到待调节的流量调节块，通过调节对应的流量调节块，可以快速实现涂布质量的恢复，提高涂布工序的生产质量和效率。
根据本申请的一些实施例，涂布数据包括目标涂布区中涂布的浆料重量，基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息，包括：根据预设的目标值和每个目标涂布区的浆料重量，得到目标涂布区的涂布重量偏差值，根据目标涂布区的涂布重量偏差值，确定目标涂布区的涂布质量信息。
在一些例子中，预设的目标值可以是根据工艺经验值或工艺要求得到的每一目标涂布区的标准重量，将每个目标涂布区的浆料重量与预设的目标值相比较，即可得到目标涂布区的涂布重量偏差值，该目标涂布区的涂布重量偏差值可以反映目标涂布区的涂布质量信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，基于分区得到的每个目标涂布区的浆料重量与预设的目标值之间的涂布重量偏差值，可以得到目标涂布区的涂布质量信息，进而可以实现对每一目标涂布区的质量检测。
根据本申请的一些实施例，涂布质量信息包括涂布质量分布图，根据目标涂布区的涂布重量偏差值，确定目标涂布区的涂布质量信息，包括：根据每个目标涂布区对应的涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息，其中，不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同。基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成并显示涂布质量分布图，涂布质量分布图中包括标注有对应的标志信息的每个目标涂布区。
在一些例子中，涂布重量偏差程度可以包括但不限于表示目标涂布区的涂布质量为超重状态、偏重状态、标准状态、偏轻状态、超轻状态中的任一种。不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同，以区分不同的涂布重量偏差程度。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，将涂布质量信息通过涂布质量分布图的方式进行显示，具有很强的可视性，可使得工作人员直观的看到每一目标涂布区的涂布质量信息。且根据每个目标涂布区对应的涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息，用不同的标志信息对不同涂布重量偏差程度的目标涂布区进行区分，相较于相关技术中用统一的方式表征所有的异常，本申请的实施例用不同的标志信息反映不同的涂布重量偏差程度，可直观的反映出不同目标涂布区的不同涂布重量偏差程度，且可以根据标志信息实现异常目标涂布区的涂布质量的快速判断和异常目标涂布区的快速定位。
根据本申请的一些实施例，标志信息为色彩标志信息，基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成涂布质量分布图，包括：基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图，基于每一目标涂布区对应的色彩标志信息，分别在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内填充相应色彩标志信息所指示的颜色，得到涂布质量分布图。
在一些例子中，标志信息可以是文字信息，可以是图案信息，也可以是色彩标志信息，为了便于描述，本实施例以标志信息为色彩标志信息为例。
请参考图8，图8示出了本申请一个实施例提供的一种涂布质量分布图，图8示出了极片1、极片2、极片3及其各自对应的目标涂布区所对应的涂布分区图，涂布分区图中的每一分区与每一极片的目标涂布区一一对应。本申请的实施例可根据每一目标涂布区的涂布重量偏差值确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息，基于每一目标涂布区对应的色彩标志信息，分别在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内填充相应色彩标志信息所指示的颜色，得到涂布质量分布图。
示例性地，可用红色表征目标涂布区处于超重状态、黄色表征目标涂布区处于偏重状态、绿色表征目标涂布区处于标准状态、青色表征目标涂布区处于偏轻状态、蓝色表征目标涂布区处于超轻状态，如此，得到的涂布质量分布图便可以直观的显示每一目标涂布区及其对应的涂布质量信息，且可以区分不同目标涂布区之间的不同。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，用色彩标志信息作为标志信息，可直观的显示出不同目标涂布区的不同涂布质量信息，可以根据标志信息快速的定位到涂布质量异常的区域，进而可以指导浆料重量的调节，提高涂布工序的生产效率。
根据本申请的一些实施例，涂布质量信息包括涂布质量分布图，上述根据目标涂布区的涂布重量偏差值，确定目标涂布区的涂布质量信息，还包括：根据每一目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成并显示目标涂布区的涂布质量分布图，多个涂布重量偏差值是根据目标涂布区预设次数的最新涂布数据得到的，其中，涂布质量分布图用于表征目标涂布区的涂布质量趋势信息。
在一些例子中，目标涂布区预设次数的最新涂布数据可以是与当前时刻最接近的预设次数的数据。示例性地，获取目标涂布区“L21”与当前时刻最接近的五次涂布重量，分别计算该五次涂布重量与预设的目标值的涂布重量偏差值，得到目标涂布区“L21”的五个涂布重量偏差值，基于目标涂布区“L21”的五个涂布重量偏差值生成并显示目标涂布区的涂布质量分布图。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，根据目标涂布区预设次数的最新涂布数据得到每一目标涂布区的多个涂布重量偏差值，根据每一目标涂布区的多个涂布重量偏差值生成并显示用于表征目标涂布区的涂布质量趋势信息的涂布质量分布图，可实现对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
根据本申请的一些实施例，根据每一目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成目标涂布区的涂布质量分布图，包括：根据每一目标涂布区的多个涂布重量偏差值，分别生成每一目标涂布区的涂布质量趋势信息，基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图，在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到目标涂布区的涂布质量分布图。
在一些示例中，涂布质量趋势信息可以是点图，可以是折线图，也可以是曲线图等可以反映涂布重量变化的信息。
请参考图9，图9示出了本申请一个实施例提供的另一种涂布质量分布图，图9示出了极片1、极片2、极片3及其各自对应的目标涂布区所对应的涂布分区图，涂布分区图中的每一图像区域分别与每一极片的目标涂布区一一对应。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，通过在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到目标涂布区的涂布质量分布图。该涂布质量分布图可以显示出每一目标涂布区的质量变化趋势信息，可实现对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
根据本申请的一些实施例，涂布质量趋势信息包括涂布重量偏差值的变化折线，在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到目标涂布区的涂布质量分布图，包括：在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到目标涂布区的涂布质量分布图。
请参考图9，在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内绘制有各目标涂布区各自的变化折线，该变化折线是根据每一目标涂布区的预设次数的最新涂布数据得到的多个涂布重量偏差值而生成的。
为了便于描述，以目标涂布区“L21”为例进行说明，“L21”中的变化折线是根据目标涂布区“L21”与当前时刻最接近的五次涂布重量连接而成的趋势折线图，从目标涂布区“L21”的折线图可以看出，目标涂布区“L21”具有“增加→减少→增加”的变化趋势。同理，可以看出，目标涂布区“L20”具有“增加→减少”的变化趋势。其他目标涂布区的变化趋势如图9所示，在此不再赘述。如此，可以直观的检测到每一目标涂布区的涂布质量变化趋势。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，将涂布重量偏差值的变化折线作为涂布质量趋势信息，在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到目标涂布区的涂布质量分布图，可更加直观的显示出目标涂布区的涂布质量变化情况，有助于操作人员对目标涂布区涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
根据本申请的一些实施例，涂布质量检测方法还包括：根据浆料重量的不同控制阈值，将涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域，在每个质量梯度区域中分别填充与质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色。
在一些例子中，浆料重量的不同控制阈值可用来划分目标涂布区的涂布质量梯度，也可以作为判断目标涂布区的涂布质量是处于超重状态、偏重状态、标准状态、偏轻状态、超轻状态中的任一种。
请参考图9，图9中根据不同的控制阈值，分别设置上规格线、上控制线、上优线、目标值、下优线、下控制线、下规格线。其中，上规格线表征目标涂布区的重量上限，下规格线表征目标涂布区的重量下限，目标值表征目标涂布区的理想重量，在一个例子中，当目标涂布区的涂布重量在上规格线和上控制线之间的范围内时，可确定目标涂布区的涂布状态为超重状态，当目标涂布区的涂布重量在上控制线和上优线之间的范围内时，可确定目标涂布区的涂布状态为偏重状态，当目标涂布区的涂布重量在上优线和下优线之间的范围内时，可确定目标涂布区的涂布状态为标准状态，当目标涂布区的涂布重量在下优线和下控制线之间的范围内时，可确定目标涂布区的涂布状态为偏轻状态，当目标涂布区的涂布重量在下控制线和下规格线之间的范围内时，可确定目标涂布区的涂布状态为超轻状态。如此，可以将涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域，在每个质量梯度区域中分别填充与质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色，通过实时显示涂布分区图，便可以直观的显示每一目标涂布区的涂布质量趋势。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，根据浆料重量的不同控制阈值，将涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域，在每个质量梯度区域中分别填充与质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色，通过实时显示涂布分区图，便可以直观的显示每一目标涂布区的涂布质量趋势。
根据本申请的一些实施例，涂布质量检测方法还包括：根据预设的报警条件和目标涂布区的浆料重量，确定目标涂布区的涂布质量存在异常，输出报警信息。
在一些例子中，可以通过直接对比目标涂布区的浆料重量来确定法目标涂布区的涂布质量存在异常，也可以根据工艺精度要求设置报警条件，来确定法目标涂布区的涂布质量存在异常。
示例性地，预设的报警条件可以是当目标涂布区的任一涂布重量位于上优线和上规格线之间的范围，则认为该目标涂布区的涂布重量发生异常。可以是当目标涂布区的任一涂布重量位于下优线和下规格线之间的范围，则认为该目标涂布区的涂布重量发生异常。可以是目标涂布区连续的多次涂布重量具有连续增加或连续减少的趋势，则认为该目标涂布区的涂布重量发生异常。也可以是，目标涂布区连续的多次涂布重量出现无规律震荡，则认为该目标涂布区的涂布重量发生异常。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，通过设置预设的报警条件来对目标涂布区的涂布质量是否异常进行判断，提高了涂布质量检测的可靠性。
根据本申请的一些实施例，涂布质量检测方法还包括：根据涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数，基于调节参数，调节涂布模头的姿态。
在一些例子中，涂布质量不仅受涂布模头的流量调节块的压力影响，还可能是由于涂布模头发生位移，基于此，本本申请的一些实施例根据涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数。
请参考图10，图10示出一种表征涂布模头发生横向倾斜的涂布质量分布图，由图10可以看出，在第一方向上，从目标涂布区“L21”到目标涂布区“L01”到目标涂布区“R21”，其涂布重量的变化趋势整体上是由重到轻，则表征基材上的涂布重量在从左到右的方向上具有减少趋势，表明涂布模头发生横向倾斜，则可以确定涂布模头的调节参数为改变涂布模头的横向角度。
请参考图11，图11示出一种表征涂布模头发生纵向倾斜的涂布质量分布图，由图11可以看出，每一目标涂布区内均具有“减少→增加→增加”的变化趋势，且目标涂布区内的涂布重量分层明显，表征基材上的涂布重量在纵向上具有逐渐增加的趋势，表明涂布模头发生纵向倾斜，则可以确定涂布模头的调节参数为改变涂布模头的纵向角度。
本申请实施例提供的涂布质量检测方法，根据涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数，基于调节参数，调节涂布模头的姿态，可实时监测涂布模头的位置，使其保持水平，减少非涂布因素对涂布质量的影响，进而提高涂布质量。
本示例的涂布质量检测方法，通过流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，实现了目标涂布区与流量调节块的匹配，在任一目标涂布区的涂布质量发生异常时，可以快速的定位到异常位置对应的流量调节块，以实现异常的快速纠正，提高涂布工艺效率。通过生成表征目标涂布区不同涂布重量偏差程度的涂布质量分布图，实现了对每一目标涂布区的涂布质量的实时监控，提高了涂布质量检测的可视化程度。通过生成表征目标涂布区涂布质量趋势信息的涂布质量分布图，实现了对每一目标涂布区的涂布质量的质量预测，提高了涂布质量检测的可靠性。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
在一个具体的示例中，提供了一种涂布质量检测方法，可以包括：
采用图1或图5所示的涂布系统的涂布模头对基材进行浆料涂布，基于涂布系统的每个流量调节块的位置及在第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，得到如图7所示的目标涂布区的分区示意图，如图7所示，每一目标涂布区与一流量调节块相对应，每一流量调节块具有对应的编码，则将流量调节块的编号作为对应的目标涂布区的序号，可以快速根据目标涂布区的序号定位到具有相同编码的流量调节块。
采用图5所示的涂布系统的检测装置对涂布完成的基材进行涂布检测，得到涂布数据，基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息，该涂布质量信息可以直观的反映出目标涂布区的涂布质量。以便于在任一目标涂布区的涂布质量存在异常时，可以根据目标涂布区的位置确定与其对应的流量调节块，进而可以实现对异常涂布区的快速定位和流量调节，提高涂布工序的生产效率。
根据预设的目标值和每个目标涂布区的浆料重量，得到目标涂布区的涂布重量偏差值，根据目标涂布区的涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息，基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成并显示涂布质量分布图，其中，不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同，涂布质量分布图中包括标注有对应的标志信息的每个目标涂布区。参考图8，实时显示涂布质量分布图，可使得工作人员直观的看到每一目标涂布区的涂布质量信息。涂布重量偏差程度包括表示目标涂布区的涂布质量为超重状态、偏重状态、标准状态、偏轻状态、超轻状态中的任一种。分别用不同的颜色显示不同的涂布重量偏差程度。
根据目标涂布区的5次最新涂布数据，得到目标涂布区的最新5次涂布重量偏差值，得到涂布质量趋势信息，通过涂布质量分布图来显示该涂布质量趋势信息。参考图9，根据目标涂布区的最新5次涂布重量偏差值得到表征目标涂布区涂布质量趋势的变化折线，在涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到目标涂布区的涂布质量分布图。可以实现对目标涂布区的涂布质量的预测，提高对目标涂布区的涂布质量的检测可靠性。
根据浆料重量的不同控制阈值，将涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域，在每个质量梯度区域中分别填充与质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色。不同的控制阈值如图9中显示的上规格线、上控制线、上优线、目标值、下优线、下控制线、下规格线。可以将涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域，在每个质量梯度区域中分别填充与质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色，通过实时显示涂布分区图，便可以直观的显示每一目标涂布区的涂布质量趋势。
根据涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数，基于调节参数，调节涂布模头的姿态。由图10可以看出，在第一方向上，从目标涂布区“L21”到目标涂布区“L01”到目标涂布区“R21”，其涂布重量的变化趋势整体上是由重到轻，则表征基材上的涂布重量在从左到右的方向上具有减少趋势，表明涂布模头发生横向倾斜，则可以确定涂布模头的调节参数为改变涂布模头的横向角度。
由图11可以看出，每一目标涂布区内均具有“减少→增加→增加”的变化趋势，且目标涂布区内的涂布重量分层明显，表征基材上的涂布重量在纵向上具有逐渐增加的趋势，表明涂布模头发生纵向倾斜，则可以确定涂布模头的调节参数为改变涂布模头的纵向角度。在确定涂布模头的调节参数之后，可以基于调节参数，调节涂布模头的姿态，可实时监测涂布模头的位置，使其保持水平，减少非涂布因素对涂布质量的影响，进而提高涂布质量。
本示例的涂布质量检测方法实现了目标涂布区与流量调节块的匹配，在任一目标涂布区的涂布质量发生异常时，可以快速的定位到异常位置对应的流量调节块，以实现异常的快速纠正，提高涂布工艺效率。实现了对每一目标涂布区的涂布质量的实时监控，提高了涂布质量检测的可视化程度。实现了对每一目标涂布区的涂布质量的质量预测，提高了涂布质量检测的可靠性。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
本申请另一个实施例提供了一种涂布质量检测装置，请参考图12，图12示出一种涂布质量检测装置的结构示意图，涂布质量检测装置400包括：
分区模块401，用于基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
质量检测模块402，用于基于检测到的每个目标涂布区的涂布数据，确定每个目标涂布区的涂布质量信息。
在一些实施例中，分区模块401进一步用于基于每个流量调节块的位置及在所述第一方向上的尺寸，将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
在一些实施例中，分区模块401进一步用于基于每个流量调节块的位置，确定所述流量调节块在所述基材上的映射位置。根据每个流量调节块在基材上的映射位置和每个流量调节块在所述第一方向上的尺寸，将基材划分成多个目标涂布区。
在一些实施例中，分区模块401进一步用于在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出所述第一流量调节块对应的第一目标涂布区，所述第一目标涂布区的宽度与所述流量调节块在第一方向上的尺寸相等，所述第一目标涂布区的长度与所述基材在第二方向上的尺寸相等；其中，所述第一流量调节块为每个所述流量调节块中的任一流量调节块；所述第二方向为在所述基材所处的平面中与所述第一方向垂直的方向。
在一些实施例中，分区模块401进一步用于分别为每一所述流量调节块分配不同的编码；分别为每一所述目标涂布区分配不同的序号；存储流量调节块的编码与对应的目标涂布区的序号的映射关系。
在一些实施例中，分区模块401进一步用于根据每一所述流量调节块的位置，确定中位流量调节块，所述中位流量调节块为位于阵列式排布的所有流量调节块中间位置的流量调节块；以所述中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿所述第一方向和第三方向对所述流量调节块进行编码，所述第三方向为所述第一方向的反方向。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据每个所述目标涂布区的涂布数据，确定涂布质量存在异常的目标涂布区；根据涂布质量存在异常的目标涂布区确定待调节的流量调节块。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据预设的目标值和每个所述目标涂布区的浆料重量，得到所述目标涂布区的涂布重量偏差值；根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息。
在一些实施例中，涂布质量信息包括涂布质量分布图，质量检测模块403进一步用于根据每个目标涂布区对应的所述涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息；其中，不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同；基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成并显示所述涂布质量分布图，所述涂布质量分布图中包括标注有对应的标志信息的每个所述目标涂布区。
在一些实施例中，标志信息为色彩标志信息，质量检测模块403进一步用于基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；基于每一目标涂布区对应的色彩标志信息，分别在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内填充相应色彩标志信息所指示的颜色，得到所述涂布质量分布图。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成并显示所述目标涂布区的涂布质量分布图，所述多个涂布重量偏差值是根据所述目标涂布区预设次数的最新涂布数据得到的；其中，所述涂布质量分布图用于表征所述目标涂布区的涂布质量趋势信息。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，分别生成每一所述目标涂布区的涂布质量趋势信息；基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
在一些实施例中，涂布质量趋势信息包括涂布重量偏差值的变化折线，质量检测模块403进一步用于在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据浆料重量的不同控制阈值，将所述涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域；在每个质量梯度区域中分别填充与所述质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色。
在一些实施例中，质量检测模块402进一步用于根据预设的报警条件和所述目标涂布区的浆料重量，确定所述目标涂布区的涂布质量存在异常；输出报警信息。
本申请实施例提供的涂布质量检测装置，实现了目标涂布区与流量调节块的匹配，在任一目标涂布区的涂布质量发生异常时，可以快速的定位到异常位置对应的流量调节块，以实现异常的快速纠正，提高涂布工艺效率。实现了对每一目标涂布区的涂布质量的实时监控，提高了涂布质量检测的可视化程度。实现了对每一目标涂布区的涂布质量的质量预测，提高了涂布质量检测的可靠性。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
本申请另一个实施例提供了一种电子设备，请参考图13，其示出了本申请的一些实施方式所提供的一种电子设备的示意图。如图13所示，电子设备20包括：处理器200，存储器201，总线202和通信接口203，处理器200、通信接口203和存储器201通过总线202连接；存储器201中存储有可在处理器200上运行的计算机程序，处理器200运行计算机程序时执行本申请前述任一实施方式所提供的涂布质量检测方法。
其中，存储器201可能包含高速随机存取存储器（RAM：Random Access Memory），也可能还包括非不稳定的存储器（non-volatile memory），例如至少一个磁盘存储器。通过至少一个通信接口203（可以是有线或者无线）实现该系统网元与至少一个其他网元之间的通信连接，可以使用互联网、广域网、本地网、城域网等。
总线202可以是ISA总线、PCI总线或EISA总线等。总线可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。其中，存储器201用于存储程序，处理器200在接收到执行指令后，执行前述程序，前述本申请实施例任一实施方式揭示的涂布质量检测方法可以应用于处理器200中，或者由处理器200实现。
处理器200可能是一种集成电路芯片，具有信号的处理能力。在实现过程中，上述方法的各步骤可以通过处理器200中的硬件的集成逻辑电路或者软件形式的指令完成。上述的处理器200可以是通用处理器，包括中央处理器(Central Processing Unit，简称CPU)、网络处理器(Network Processor，简称NP)等；还可以是数字信号处理器(DSP)、专用集成电路(ASIC)、现成可编程门阵列(FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件。可以实现或者执行本申请实施例中的公开的各方法、步骤及逻辑框图。通用处理器可以是微处理器或者该处理器也可以是任何常规的处理器等。结合本申请实施例所公开的方法的步骤可以直接体现为硬件译码处理器执行完成，或者用译码处理器中的硬件及软件模块组合执行完成。软件模块可以位于随机存储器，闪存、只读存储器，可编程只读存储器或者电可擦写可编程存储器、寄存器等本领域成熟的存储介质中。该存储介质位于存储器201，处理器200读取存储器201中的信息，结合其硬件完成上述方法的步骤。
本申请实施例提供的电子设备与本申请实施例提供的涂布质量检测方法出于相同的申请构思，具有与其采用、运行或实现的方法相同的有益效果。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
本申请另一个实施例提供了一种计算机可读存储介质，请参考图14，其示出的计算机可读存储介质为光盘30，其上存储有计算机程序（即程序产品），所述计算机程序在被处理器运行时，会执行前述任意实施方式所提供的涂布质量检测方法。
需要说明的是，计算机可读存储介质的例子还可以包括，但不限于相变内存(PRAM)、静态随机存取存储器 (SRAM)、动态随机存取存储器 (DRAM)、其他类型的随机存取存储器 (RAM)、只读存储器 (ROM)、电可擦除可编程只读存储器 (EEPROM)、快闪记忆体或其他光学、磁性存储介质，在此不再一一赘述。
本申请的上述实施例提供的计算机可读存储介质与本申请实施例提供的涂布质量检测方法出于相同的申请构思，具有与其存储的应用程序所采用、运行或实现的方法相同的有益效果。
上文对各个实施例的描述倾向于强调各个实施例之间的不同之处，其相同或相似之处可以相互参考，为了简洁，本文不再赘述。
需要说明的是：
术语“模块”并非意图受限于特定物理形式。取决于具体应用，模块可以实现为硬件、固件、软件和/或其组合。此外，不同的模块可以共享公共组件或甚至由相同组件实现。不同模块之间可以存在或不存在清楚的界限。
在此提供的算法和显示不与任何特定计算机、虚拟装置或者其它设备固有相关。各种通用装置也可以与基于在此的示例一起使用。根据上面的描述，构造这类装置所要求的结构是显而易见的。此外，本申请也不针对任何特定编程语言。应当明白，可以利用各种编程语言实现在此描述的本申请的内容，并且上面对特定语言所做的描述是为了披露本申请的最佳实施方式。
应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
以上实施例仅表达了本申请的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (25)
1.一种涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括：涂布模头和检测装置；
所述涂布模头包括多个流量调节块，所述多个流量调节块在第一方向上的尺寸均相同；所述第一方向为所述涂布系统中基材的传送方向；
所述流量调节块在第一方向上的尺寸等于所述检测装置照射在所述基材上的检测光斑在第一方向上的尺寸。
2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布模头还包括：进料口、第一模头、第二模头和垫片；
所述第一模头和所述第二模头之间形成腔体，所述垫片设置在所述腔体内；
所述多个流量调节块阵列式设置在所述第一模头远离所述第二模头的侧面上，所述流量调节块的第一端与所述垫片相接触；
所述进料口与所述腔体相连通。
3.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布模头还包括：与所述流量调节块连接的流量调节机构；
每一流量调节机构具有对应的流量调节块，所述流量调节机构与其对应的流量调节块的第二端连接。
4.根据权利要求1-3任一项所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括涂布质量统计装置，所述涂布质量统计装置包括：
统计模块，所述统计模块用于基于所述检测装置检测到目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息；所述目标涂布区包括所述基材上的至少一个涂布区；
显示模块，所述显示模块用于显示所述目标涂布区的涂布质量信息。
5.根据权利要求4所述的涂布系统，其特征在于，
所述统计模块还用于基于所述涂布模头的每个流量调节块的位置，确定所述流量调节块在所述基材上的映射位置；
根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区。
6.根据权利要求5所述的涂布系统，其特征在于，
所述统计模块还用于在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出所述第一流量调节块对应的第一目标涂布区，所述第一目标涂布区的宽度与所述流量调节块在第一方向上的尺寸相等，所述第一目标涂布区的长度与所述基材在第二方向上的尺寸相等；
其中，所述第一流量调节块为每个所述流量调节块中的任一流量调节块；所述第二方向为在所述基材所处的平面中与所述第一方向垂直的方向。
7.一种涂布质量检测方法，其特征在于，应用于权利要求1-6任一项所述的涂布系统，所述方法包括：
基于预设规则将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区；
基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述基于预设规则将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，包括：
基于每个所述流量调节块的位置及在所述第一方向上的尺寸，将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于每个所述流量调节块的位置及在所述第一方向上的尺寸，将经过所述涂布模头的基材划分成多个目标涂布区，包括：
基于每个所述流量调节块的位置，确定所述流量调节块在所述基材上的映射位置；
根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在所述第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述根据每个所述流量调节块在基材上的映射位置和每个所述流量调节块在所述第一方向上的尺寸，将所述基材划分成多个目标涂布区，包括：
在所述基材上第一流量调节块对应的第一映射位置处，划分出所述第一流量调节块对应的第一目标涂布区，所述第一目标涂布区的宽度与所述流量调节块在第一方向上的尺寸相等，所述第一目标涂布区的长度与所述基材在第二方向上的尺寸相等；
其中，所述第一流量调节块为每个所述流量调节块中的任一流量调节块；所述第二方向为在所述基材所处的平面中与所述第一方向垂直的方向。
11.根据权利要求9-10任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
分别为每一所述流量调节块分配不同的编码；
分别为每一所述目标涂布区分配不同的序号；
存储流量调节块的编码与对应的目标涂布区的序号的映射关系。
12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述分别为每一所述流量调节块分配不同的编码，包括：
根据每一所述流量调节块的位置，确定中位流量调节块，所述中位流量调节块为位于阵列式排布的所有流量调节块中间位置的流量调节块；
以所述中位流量调节块所在位置为起始位置，分别沿所述第一方向和第三方向对所述流量调节块进行编码，所述第三方向为所述第一方向的反方向。
13.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
根据每个所述目标涂布区的涂布数据，确定涂布质量存在异常的目标涂布区；
根据涂布质量存在异常的目标涂布区确定待调节的流量调节块。
14.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述涂布数据包括目标涂布区中涂布的浆料重量，所述基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：
根据预设的目标值和每个所述目标涂布区的浆料重量，得到所述目标涂布区的涂布重量偏差值；
根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述涂布质量信息包括涂布质量分布图，根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：
根据每个目标涂布区对应的所述涂布重量偏差值，分别确定用于表征每个目标涂布区涂布重量偏差程度的标志信息；其中，不同涂布重量偏差程度对应的标志信息不同；
基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成并显示所述涂布质量分布图，所述涂布质量分布图中包括标注有对应的标志信息的每个所述目标涂布区。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述标志信息为色彩标志信息，基于每个目标涂布区对应的标志信息，生成所述涂布质量分布图，包括：
基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；
基于每一目标涂布区对应的色彩标志信息，分别在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内填充相应色彩标志信息所指示的颜色，得到所述涂布质量分布图。
17.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述涂布质量信息包括涂布质量分布图，根据所述目标涂布区的涂布重量偏差值，确定所述目标涂布区的涂布质量信息，包括：
根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成并显示所述目标涂布区的涂布质量分布图，所述多个涂布重量偏差值是根据所述目标涂布区预设次数的最新涂布数据得到的；
其中，所述涂布质量分布图用于表征所述目标涂布区的涂布质量趋势信息。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，生成所述目标涂布区的涂布质量分布图，包括：
根据每一所述目标涂布区的多个涂布重量偏差值，分别生成每一所述目标涂布区的涂布质量趋势信息；
基于每一目标涂布区的位置信息，绘制涂布分区图；
在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述涂布质量趋势信息包括涂布重量偏差值的变化折线，在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别标注各目标涂布区各自的涂布质量趋势信息，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图，包括：
在所述涂布分区图中各目标涂布区对应的图像区域内分别绘制各目标涂布区各自的变化折线，得到所述目标涂布区的涂布质量分布图。
20.根据权利要求18或19所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
根据浆料重量的不同控制阈值，将所述涂布分区图中每一目标涂布区对应的图像区域划分为多个质量梯度区域；
在每个质量梯度区域中分别填充与所述质量梯度区域的质量梯度相对应的颜色。
21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
根据预设的报警条件和所述目标涂布区的浆料重量，确定所述目标涂布区的涂布质量存在异常；
输出报警信息。
22.根据权利要求15-19任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
根据所述涂布质量分布图，确定涂布模头的调节参数；
基于所述调节参数，调节所述涂布模头的姿态。
23.一种涂布质量检测装置，其特征在于，包括：
分区模块，用于基于预设规则将经过涂布模头的基材划分成多个目标涂布区；
质量检测模块，用于基于检测到的每个所述目标涂布区的涂布数据，确定每个所述目标涂布区的涂布质量信息。
24.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器运行所述计算机程序以实现如权利要求7-22任一项所述的方法。
25.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述程序被处理器执行实现如权利要求7-22中任一项所述的方法。
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