CN116643339A - 高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 - Google Patents
高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116643339A CN116643339A CN202310478577.2A CN202310478577A CN116643339A CN 116643339 A CN116643339 A CN 116643339A CN 202310478577 A CN202310478577 A CN 202310478577A CN 116643339 A CN116643339 A CN 116643339A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- reflecting
- main
- reflection
- reflective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 191
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 67
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 27
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
本公开提供一种高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜。包括：依次层叠设置的基板、第一反射件和第二反射件；第二反射件背离第一反射件的一侧为高反射膜的入光和出光侧，且第一反射件包括固态电介质，第二反射件包括金属或者金属氧化物，在入射光对高反射膜照射时，入射光在第一反射件和第二反射件的作用下被反射，避免了使用单一反射件时对入射光的损耗大，反射效率低的情况，同时也可以减少反射件层数的叠加，有效的降低成本。
Description
技术领域
本公开涉及反射膜技术领域，尤其涉及高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜。
背景技术
高反射膜是指具有增加反射作用的光学薄膜，一般分为两类，金属反射膜和全电介质反射膜。
金属反射膜是利用金属具有较大的消光系数，进入金属内部的光振幅迅速衰减，光能相应减少而增加反射光能；全电介质反射膜的增反作用是基于多光束干涉效应。
高反射膜在现代应用很广，其中激光器谐振腔的高反镜就是在玻璃基片上镀多层膜构成的多膜系；同时利用增透和增反的原理制成的高反射率多层光学薄膜在激光器和激光陀螺等都有着广泛应用。
目前国内市场对于高反射膜产品的需求量激增，要求越来越高，在供应的过程中，金属反射膜的缺点是光损耗大，反射率低，导致光被吸收无法实现高效的反射；全电介质反射膜若想满足更高反射率的要求，就必须叠加很多层，这样造成了成本的提高，反射率也不能达标。
发明内容
本公开所要解决的一个技术问题是：单一的金属反射膜的缺点是光损耗大，反射率低，导致光被吸收无法实现高效的反射；单一的全电介质反射膜若想满足更高反射率的要求，就必须叠加很多层，这样造成了成本的提高，反射率也不能达标。
为解决上述技术问题，本公开实施例提供一种高反射膜，包括：
依次层叠设置的基板、第一反射件和第二反射件；
第二反射件背离第一反射件的一侧为高反射膜的入光和出光侧，且第一反射件包括固态电介质，第二反射件包括金属或者金属氧化物。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第一反射件包括层叠设置的第一反射层和第二反射层，第一反射层与基板相邻；
第一反射层和第二反射层为相同或不同的固态电介质。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第一反射层包括层叠设置的第一主反射层和第一副反射层，第一主反射层与基板相邻，第一主反射层的折射率大于第一副反射层的折射率；
第二反射层包括层叠设置的第二主反射层和第二副反射层，第二主反射层的折射率大于第二副反射层的折射率。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第一主反射层和第二主反射层为相同固态电介质，第一副反射层和第二副反射层为相同固态电介质或不同固态电介质。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第一主反射层和第二主反射层为不同的固态电介质，第一副反射层和第二副反射层为相同固态电介质或不同固态电介质。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第一主反射层包括Nb2O5层，其厚度为99.2nm-103.2nm；
第一副反射层包括SiO2层，其厚度为75.5nm-79.5nm；
第二主反射层包括Nb2O5层，其厚度为50.1nm-54.1nm；
第二副反射层包括SiO2层，其厚度为60.2nm-64.2nm。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第二反射件包括Al层，基板包括玻璃板。
在一些实施例中，前述的高反射膜，其中第二反射件背离第一反射件的一侧设有保护层，保护层包括抗氧化材质。
本申请第二方面提供一种基于前述高反射膜的制备方法，其包括如下步骤：
对基板进行离子源清洗；
对基板进行磁控溅射，以在基板表面沿别离基板的方向依次形成第一反射件和第二反射件。
本申请第三方面提供一种高反射镜，其包括前述的高反射膜。
通过上述技术方案，本公开提供的高反射膜，通过第一反射件和第二反射件的层叠设置，其中第一反射件包括固态电介质，第二反射件包括金属或者金属氧化物，在入射光对高反射膜照射时，入射光在第一反射件和第二反射件的共同作用下被反射，避免了使用单一反射件时对入射光的损耗大，反射效率低的情况，同时也可以减少通过对反射件层数的叠加来保证反射效果的做法，有效的降低成本。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本公开实施例公开的高反射膜的整体结构示意图；
图2是本公开实施例公开的高反射膜第一反射件的具体结构示意图；
图3是本公开实施例公开的高反射膜第一反射件的第一反射层和第二反射层的第一种具体结构示意图；
图4是本公开实施例公开的高反射膜第一反射件的第一反射层和第二反射层的第二种具体结构示意图；
图5是本公开实施例公开的高反射膜保护层的具体结构示意图；
图6是本公开实施例公开的高反射膜的制备方法的流程图。
附图标记说明：
1、基板；2、第一反射件；21、第一反射层；211、第一主反射层；212、第一副反射层；22、第二反射层；221、第二主反射层；222、第二副反射层；3、第二反射件；4、保护层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本公开的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本公开的原理，但不能用来限制本公开的范围，本公开可以以许多不同的形式实现，不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
本公开提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分、数字表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。
需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是大于或等于两个；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
此外，本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“垂直”并不是严格意义上的垂直，而是在误差允许范围之内。“平行”并不是严格意义上的平行，而是在误差允许范围之内。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。
还需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。当描述到特定器件位于第一器件和第二器件之间时，在该特定器件与第一器件或第二器件之间可以存在居间器件，也可以不存在居间器件。
本公开使用的所有术语与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
实施例一
参考附图1，本公开实施例提供一种高反射膜，包括：依次层叠设置的基板1、第一反射件2和第二反射件3；第二反射件3背离第一反射件2的一侧为高反射膜的入光和出光侧，且第一反射件2包括固态电介质，第二反射件3包括金属或者金属氧化物。
通常入射光直接照射单一反射膜时，入射光在进行反射时，一部分的入射光会被反射膜吸收，进而使反射的入射光强度降低，所以设计者多采用多层固态电介质层叠加的形式，改变入射光接触表面的折射率，来提高反射的入射光的强度，但是多层叠加的设置会造成生产成本的提高，同时最后得到反射膜的反射率数值也无法达标。
进而本申请采用金属层或金属氧化物层，与固态电介质层层叠叠加的方式，来减少反射膜的层数进而降低生产成本，同时还能保证反射膜的反射效果，为了解决现有的反射膜光损耗大反射率低，多层叠加成本高的问题，本实施例提供的高反射膜，在预设的基板1表面层叠设置第一反射件2和第二反射件3，其中第一反射件2包括固态电介质，第二反射件3包括金属或者金属氧化物，此高反膜在对入射光进行反射时，通过第一反射件2和第二反射件3叠加之后的共同作用对入射光进行反射，大大的提高了对入射光的反射效果。
其中，基板1为刚性且表面平整的板材，可以为铁板、钢板或者玻璃板，能保证反射件与基板1顺利的安装即可。
其中，第一反射件2的材质包括固态电介质，可以为单层或者多层层叠的膜结构，可以为材质是Ti3O5、Nb2O5或Ta2O5的膜层，其中第一反射件2的折射率需保证比基板1的折射率高，进而当入射光照射时，由于固态电介质的折射率高于基板1的折射率，进而入射光在对第一反射件2照射时，会使各个方向反射的入射光汇聚到一起，所以在第一反射件2的作用下可反射更多的入射光，提高反射的效果。
其中，第二反射件3的材质包括金属或者金属氧化物，可以为单层或者多层层叠的膜结构，金属或者金属氧化物的光学性质优异，可对不同波长的入射光进行反射。
根据上述所列，本公开提供的高反射膜，通过在预设基板1的表面层叠设置第一反射件2和第二反射件3，其中第一反射件2包括固态电介质，第二反射件3包括金属或者金属氧化物，通过第一反射件2和第二反射件3的设定，当入射光对高反射膜照射时，由于高反射膜的折射率大于基板1的折射率，所以仅有小部分的入射光会被高反射膜吸收，大部分的入射光会被高射膜汇聚到一起进行反射，避免了使用单一反射件时对入射光的损耗大，反射效率低的情况，同时也可以减少反射件层数的叠加，有效的降低成本，满足对入射光的高效反射。
本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，标识可以存在的三种关系，例如，A和/或B，具体地理解为：可以同时包含有A与B，可以单独存在A，也可以单独存在B，能够具备上述三种任一种情况。
在一些实施例中，参考附图2，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第一反射件2包括层叠设置的第一反射层21和第二反射层22，第一反射层21与基板1相邻；第一反射层21和第二反射层22为相同或不同的固态电介质。
具体的，为了保证对光最大效果的反射，本实施例中第一反射件2包括了第一反射层21和第二反射层22，其中第一反射层21和第二反射层22均为固态电介质层，二者的折射率均大于基板1的折射率，进而通过两组反射层的层叠设置，一方面可保证反射光的矢量，振动方向相同，进而实现反射光线的统一汇聚，实现最大化的反射光，同时相比单层反射层，设置第一反射层21和第二反射层22可减少对入射光的吸收损耗，进而实现对入射光最大的反射效果，同时第一反射层21和第二反射层22可以为相同或者不同的固态电介质，在面对入射光需要不同的反射需要时，去调整第一反射层21和第二反射层22的具体材质，当第一反射层21和第二反射层22相同时，可实现同一种波长的入射光反射效果的叠加；当第一反射层21和第二反射层22不同时，可对一定区间内波长的入射光实现反射效果的叠加，可根据入射光的波长进行具体化的调整，来实现对入射光反射效果的最大化。
在一些实施例中，参考附图3，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第一反射层21包括层叠设置的第一主反射层211和第一副反射层212，第一主反射层211与基板1相邻，第一主反射层211的折射率大于第一副反射层212的折射率；第二反射层22包括层叠设置的第二主反射层211和第二副反射层222，第二主反射层221的折射率大于第二副反射层222的折射率。
具体的，为了保证最大化的反射效果，本实施例中，第一反射层21包括层叠设置的第一主反射层211和第一副反射层212，第二反射层22包括层叠设置的第一主反射层211和第二副反射层222，在入射光照射时通过4层结构的叠加作用，可实现对反射效果的最大化，同时第一主反射层211的折射率大于第一副反射层212的折射率，当第一主反射层211和第一副反射层212的折射率差值越大时，则对入射光的汇聚作用越强，进而反射的效果就好，其中第一主反射层211与基板1相邻，可保证折射率高的第一主反射层211可直接作用于基板1接收入射光的一侧，实现反射最大化，第二主反射层221和第二副反射层222之间的关系同第一主反射层211和第一副反射层212的关系相同，即可获得反射效果的叠加，进而实现了对入射光最大的反射效果。
在一些实施例中，参考附图3，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第一主反射层211和第二主反射层221为相同固态电介质，第一副反射层212和第二副反射层222为相同固态电介质或不同固态电介质。
具体的，为了对不同波长的入射光实现最大的反射效果，本实施例中第一主反射层211和第二主反射层221为相同固态电介质，可以为Ti3O5、Nb2O5或Ta2O5，而第一副反射层212和第二副反射层222可以为相同固态电介质或不同固态电介质，其中第一副反射层212和第二副反射层222可均为SiO2或MgF2，或者第一副反射层212为SiO2或MgF2中的任意一种，则第二副反射层222为另一种，可根据不同波长的入射光和需要不同的反射效果进行具体的选择和调整。
在一些实施例中，参考附图4，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第一主反射层211和第二主反射层221为不同固态电介质，第一副反射层212和第二副反射层222为相同固态电介质或不同固态电介质。
具体的，为了对不同波长的入射光实现最大的反射效果，本实施例中，第一主反射层211和第二主反射层221为不同的固态电介质，其中第一主反射层211可以为Ti3O5、Nb2O5或Ta2O5中的任一种，则第二主反射层221可以为不同于第一主反射层211的其余两种中的任意一种，而第一副反射层212和第二副反射层222可以为相同固态电介质或不同固态电介质，其中第一副反射层212和第二副反射层222可均为SiO2，或者第一副反射层212为SiO2或MgF2中的任意一种，则第二副反射层222为另一种，可根据不同波长的入射光和需要不同的反射效果进行具体的选择和调整。
在一些实施例中，参考附图3，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，在第一主反射层211和第二主反射层212相同，第一副反射层221和第二副反射层222相同的情况下，可以设置为以下的形式：第一主反射层211包括Nb2O5层，其厚度为99.2nm-103.2nm；第一副反射层212包括SiO2层，其厚度为75.5nm-79.5nm；第二主反射层221包括Nb2O5层，其厚度为50.1nm-54.1nm；第二副反射层222包括SiO2层，其厚度为60.2nm-64.2nm。
具体的，为了保证入射光反射效果的最大化，本实施例在第一主反射层211、第一副反射层212、第二主反射层221和第二副反射层222此种材质和厚度的设置下，在光学仪器中的反射镜的反射膜应用中，可实现对入射光反射效果的最大化，可以理解的是反射层的具体厚度可根据贴合反射膜的反射镜在光学仪器中的具体使用环境进行调整，可实现对入射光反射效果的最大化。
在一些实施例中，参考附图1，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第二反射件3包括Al层，基板1包括玻璃板。
具体的，为了方便入射光更好的反射，本实施例中第二反射件3包括AL层，相比铜和银来说，使用成本更低同时不易被空气氧化，进而保证了反射的效果；玻璃板作为基板1方便与光学仪器装配，具体为全透光透明玻璃板，方便与反射件进行贴合。
在一些实施例中，参考附图5，本实施例提供的高反射膜，在具体实施中，第二反射件3背离第一反射件2的一侧设有保护层4，保护层4包括抗氧化材质。
具体的，为了防止第二反射件3受到损伤，影响反射效率，本实施例在第二反射件3背离第一反射件2的一侧设有保护层4，此保护层4可以为SiO2，当第二反射件3为金属层时，SiO2可有效的防止第二反射件3被空气氧化而影响反射效果；当第二反射件3为金属氧化物时，SiO2可保护第二反射件3减少第二反射件3的损耗，有利于第二反射件3的长期使用。
实施例二
本实施例提供一种对应于上述高反射膜的制备方法，参考附图6，包括如下步骤：
101、对基板1进行离子源清洗；
具体的，对基板1先采用吸尘器进行清洁，然后再采用无尘布进行擦拭。将基片放入镀膜机第一真空室，设置真空室加热温度200℃，持续加热并抽取真空室直到真空度≤5.0*10-3Pa，可以释放基板1表面吸附的空气和水汽分子，避免其在加工时再释放，影响成膜工艺稳定性和产品质量；第一真空室离子源清洁的Ar流量为500Sccm，离子源电压为1500V，时间为300s，采用上述特定条件及参数的离子源清洁，可有效去除基材表面脏污，改变基板1表面的活性，提高膜层与基板1表面的黏着力，方便第一反射件2和第二反射件3与基板1更好的连接。
102、对基板1进行磁控溅射，以在基板1表面沿别离所述基板1的方向依次形成第一反射件2和第二反射件3；
具体的，第一反射件2包括第一反射层21和第二反射层22，其中第一反射层21包括第一主反射层211和第一副反射层212，第二主反射层22包括第二主反射层221和第二副反射层222，当第一主反射层211和第二主反射层221均为相同固态电介质Nb2O5，第一副反射层212和第二副反射层222均为相同固态电介质SiO2，第二反射件3为AL时，可以将镀膜机第二真空室抽真空至真空度≤3.0*10-3Pa，在Ar与O2的流量比为420Sccm：240Sccm的条件下，以17A的电流对铌靶进行轰击溅射，得到第一主反射层211为Nb2O5，在Ar与O2的流量比为500Sccm：90Sccm的条件下，以23A的电流对硅靶进行轰击溅射，得到第一副反射层212为SiO2，并按照第一主反射层211为Nb2O5、第一副反射层212为SiO2的工艺，得到第二主反射层221为Nb2O5、第二副反射层222为SiO2的顺序依次沉积在基板1表面，最后在Ar流量为400Sccm的条件下，以30A的电流对铝靶进行轰击溅射，得到第二反射件3为Al，形成5层膜系的高反射膜。
实施例三
本实施例提供一种高反射镜，其包括前述的高反射膜。
具体的，本实施例提供的高反射膜可用于激光器谐振腔的高反射镜，高反射膜贴合在镜片的反射面，进而提高反射镜的反射效果，在激光器使用时入射光通过激光器内部贴合有高反射膜的高反射镜时可实现对入射光的高效反射，进而保证了激光器能够高效反射的使用效果。
至此，已经详细描述了本公开的各实施例。为了避免遮蔽本公开的构思，没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述，完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。
虽然已经通过示例对本公开的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本公开的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本公开的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改或者对部分技术特征进行等同替换。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。
Claims (10)
1.一种高反射膜，其特征在于，包括：
依次层叠设置的基板(1)、第一反射件(2)和第二反射件(3)；
所述第二反射件(3)背离所述第一反射件(2)的一侧为所述高反射膜的入光侧和出光侧，且所述第一反射件(2)包括固态电介质，所述第二反射件(3)包括金属或者金属氧化物。
2.根据权利要求1所述的高反射膜，其特征在于，
所述第一反射件(2)包括层叠设置的第一反射层(21)和第二反射层(22)，所述第一反射层(22)与所述基板(1)相邻；
所述第一反射层(21)和所述第二反射层(22)为相同或不同的固态电介质。
3.根据权利要求2所述的高反射膜，其特征在于，
所述第一反射层(21)包括层叠设置的第一主反射层(211)和第一副反射层(212)，所述第一主反射层(211)与所述基板(1)相邻，所述第一主反射层(211)的折射率大于所述第一副反射层(212)的折射率；
所述第二反射层(22)包括层叠设置的第二主反射层(221)和第二副反射层(222)，所述第二主反射层(221)的折射率大于所述第二副反射层(222)的折射率。
4.根据权利要求3所述的高反射膜，其特征在于，
所述第一主反射层(211)和所述第二主反射层(221)为相同固态电介质，所述第一副反射层(212)和所述第二副反射层(222)为相同固态电介质或不同固态电介质。
5.根据权利要求3所述的高反射膜，其特征在于，
所述第一主反射层(211)和所述第二主反射层(221)为不同的固态电介质，所述第一副反射层(212)和所述第二副反射层(222)为相同固态电介质或不同固态电介质。
6.根据权利要求3所述的高反射膜，其特征在于，
所述第一主反射层(211)包括Nb2O5层，其厚度为99.2nm-103.2nm；
所述第一副反射层(212)包括SiO2层，其厚度为75.5nm-79.5nm；
所述第二主反射层(221)包括Nb2O5层，其厚度为50.1nm-54.1nm；
所述第二副反射层(222)包括SiO2层，其厚度为60.2nm-64.2nm。
7.根据权利要求1所述的高反射膜，其特征在于，
所述第二反射件(3)包括Al层，所述基板(1)包括玻璃板。
8.根据权利要求1所述的高反射膜，其特征在于，
所述第二反射件(3)背离所述第一反射件(2)的一侧设有保护层(4)，所述保护层包括抗氧化材质。
9.一种基于权利要求1-8任一项所述高反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
对基板(1)进行离子源清洗；
对基板(1)进行磁控溅射，以在基板(1)表面沿背离所述基板(1)的方向依次形成第一反射件(2)和第二反射件(3)。
10.一种高反射镜，其特征在于，其包括：
权利要求1-8任一所述的高反射膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310478577.2A CN116643339A (zh) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | 高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310478577.2A CN116643339A (zh) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | 高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116643339A true CN116643339A (zh) | 2023-08-25 |
Family
ID=87622122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310478577.2A Pending CN116643339A (zh) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | 高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116643339A (zh) |
-
2023
- 2023-04-28 CN CN202310478577.2A patent/CN116643339A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8693099B2 (en) | Antireflection film | |
| TWI576617B (zh) | 光學濾波器及感測器系統 | |
| JP5229075B2 (ja) | 広帯域反射鏡 | |
| CN212515117U (zh) | 光学滤波器 | |
| WO2014120342A2 (en) | Broad band anti-reflection coating for photovoltaic devices and other devices | |
| JP5279428B2 (ja) | 広域熱線カットフィルタ | |
| JP4793259B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JP2020523642A (ja) | 高反射鏡のための銀コーティング積層体の反射帯域幅の拡大 | |
| WO2006117979A1 (ja) | 赤外線カットフィルター | |
| WO2022253082A1 (zh) | 基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器及制备方法 | |
| JP2691651B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JP4804830B2 (ja) | 多層膜の成膜方法および成膜装置 | |
| CN210270237U (zh) | 一种紫外可见红外高效反射的银基薄膜结构 | |
| CN116643339A (zh) | 高反射膜、高反射膜的制备方法及高反射镜 | |
| JP4461652B2 (ja) | 多層膜反射鏡及び多層膜反射鏡の製造方法 | |
| JP2001100024A (ja) | 多層膜光フィルタ | |
| JP4063062B2 (ja) | 反射鏡 | |
| CN110221368B (zh) | 单元素多层红外高反膜及其制备方法 | |
| JP2001074903A (ja) | 反射防止膜及び光学素子 | |
| LU504559B1 (en) | A Low-Reflectance Neutral Density Filter and Its Preparation Method | |
| CN214795268U (zh) | 基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器 | |
| CN201364391Y (zh) | 可见区、1.06μm和8-12μm三波段高效减反射膜 | |
| CN111378934B (zh) | 提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法 | |
| JP2814595B2 (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP3276182B2 (ja) | 表面反射鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |