CN116637304A - 美容设备、温度控制装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种美容设备、温度控制装置及方法。该温度控制装置包括温度监测单元,用于监测目标部位温度;控制模块,用于根据温度监测单元监测的目标部位温度生成模式选择信号,以控制射频模块从第一工作模式切换至第二工作模式,控制射频模块从第二工作模式切换至第三工作模式或控制射频模块从第三工作模式切换至第二工作模式。该温度控制装置能够防止目标部位皮肤组织表面的温度过高,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤;还能够实现对输出功率较为精准的控制,提升美容设备工作过程的安全性和有效性。
Description
技术领域
本申请涉及电子设备技术领域,特别是涉及一种美容设备、温度控制装置及方法。
背景技术
射频美容仪,通过对皮肤施加射频电磁场,利用射频电磁场在穿过皮肤组织时产生射频电流的热效应使真皮层胶原蛋白可逆变性,在愈合过程中刺激新的胶原蛋白形成,从而对皮肤产生拉紧和提拉效果。作为非侵入式技术,射频技术已广泛应用于减少面部皱纹和松弛。
由于射频美容仪的原理为利用射频电流对皮肤组织进行加热,如果输出功率过高,容易造成皮肤的烫伤;而如果输出功率过低,导致对应皮肤部位的温度较低,又难以达到最优的美容效果。
因此,如何对射频美容仪进行温度监测与控制,是亟需解决的问题。
发明内容
基于此,有必要针对现有技术中的不足,提供一种美容设备、温度控制装置及方法。
本申请根据一些实施例,提供一种温度控制装置,应用于美容设备,包括:
温度监测单元,集成于所述美容设备的射频模块中;所述射频模块用于接触目标部位,以向所述目标部位输出射频信号;所述温度监测单元用于监测目标部位温度;
控制模块,与所述温度监测单元相连接,用于根据所述温度监测单元监测的所述目标部位温度生成模式选择信号,以在所述目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制所述射频模块从第一工作模式切换至第二工作模式,在所述目标部位温度达到温度下限值时控制所述射频模块从所述第二工作模式切换至第三工作模式,在所述目标部位温度达到温度上限值时控制所述射频模块从所述第三工作模式切换至所述第二工作模式。
上述温度控制装置通过温度监测单元实现对于目标部位温度的监测,能够防止目标部位皮肤组织表面的温度过高,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。上述温度控制装置还通过控制模块根据目标部位温度的情况对射频模块的工作模式进行调整,实现对输出功率较为精准的控制,提升美容设备工作过程的安全性和有效性;即当目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块切换至第二工作模式,避免温度持续升高;当目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块切换至第三工作模式,使目标部位能够保持一定的皮肤温度,避免温度持续下降导致目标部位温度过低,达不到美容和/或治疗所需的温度,进而影响美容设备的使用效果。
在其中一个实施例中,控制所述射频模块工作于所述第一工作模式的所述模式选择信号为第一控制信号;控制所述射频模块工作于所述第二工作模式的所述模式选择信号为第二控制信号;控制所述射频模块工作于所述第三工作模式的所述模式选择信号为第三控制信号;
其中,所述第一控制信号的占空比大于所述第三控制信号的占空比,所述第三控制信号的占空比大于所述第二控制信号的占空比。
上述温度控制装置通过改变模式选择信号的占空比的方式,对射频模块的工作模式进行调整,进而调整射频模块的平均输出功率,使得对于输出功率进行控制的过程简洁、准确。
在其中一个实施例中,所述射频模块包括:
功率放大模块,与所述控制模块相连接,用于响应于所述模式选择信号生成所述射频信号;
射频电极,与所述功率放大模块相连接,用于接触所述目标部位,以向所述目标部位输出所述射频信号;
其中,所述温度监测单元设置于所述射频电极表面。
在其中一个实施例中,所述温度控制装置还包括:
信号处理模块;所述温度监测单元通过所述信号处理模块与所述控制模块相连接;
所述温度监测单元被配置为根据所述目标部位温度生成目标部位温度信号,所述控制模块被配置为根据所述目标部位温度信号生成所述模式选择信号;所述信号处理模块用于对所述目标部位温度信号进行抗干扰处理。
上述温度控制装置,通过信号处理模块对目标部位温度信号进行抗干扰处理,能减少目标部位温度信号对于干扰噪声的拾取,同时不影响目标部位温度信号的正常传输。
在其中一个实施例中,所述温度监测单元包括分散设置的多个温度传感器;所述温度传感器用于监测初始目标部位温度;
所述温度监测单元被配置为将多个所述初始目标部位温度中的最大值作为所述目标部位温度。
上述温度控制装置,通过将多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度,能够保证使用中的安全性,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。
本申请还根据一些实施例,提供一种美容设备,包括前述任一实施例提供的温度控制装置,以及射频模块。
上述美容设备,包括前述实施例提供的温度控制装置;因此,前述温度控制装置所能实现的技术效果,该美容设备也均能实现,此处不再详述。
本申请还根据一些实施例,提供一种温度控制方法,包括:
监测目标部位温度;
根据所述目标部位温度生成模式选择信号;
根据所述模式选择信号,在所述目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块从第一工作模式切换至第二工作模式,在所述目标部位温度达到温度下限值时控制所述射频模块从所述第二工作模式切换至第三工作模式,在所述目标部位温度达到温度上限值时控制所述射频模块从所述第三工作模式切换至所述第二工作模式。
上述温度控制方法,通过监测目标部位温度,能够防止目标部位皮肤组织表面的温度过高,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。上述温度控制方法还根据目标部位温度的情况生成模式选择信号对射频模块的工作模式进行调整,实现对输出功率较为精准的控制;即当目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块切换至第二工作模式,避免温度持续升高;当目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块切换至第三工作模式,使目标部位能够保持一定的皮肤温度,避免温度持续下降导致目标部位温度过低,达不到美容和/或治疗所需的温度,进而影响美容设备的使用效果。通过上述温度控制方法,可以根据目标部位温度是否达到温度上限值或温度下限值,控制射频模块20在第三工作模式和第二工作模式之间来回自动切换。
在其中一个实施例中,所述模式选择信号包括:第一控制信号、第二控制信号和第三控制信号;其中,所述第一控制信号的占空比大于所述第三控制信号的占空比,所述第三控制信号的占空比大于所述第二控制信号的占空比;
所述根据所述目标部位温度生成模式选择信号,包括:
判断所述目标部位温度是否第一次达到目标档温度;
若否,则生成第一控制信号,所述第一控制信号用于控制所述射频模块工作于第一工作模式;
若是,则生成第二控制信号,所述第二控制信号用于控制所述射频模块工作于第二工作模式;
判断所述目标部位温度是否达到温度下限值;
若否,持续生成所述第二控制信号;
若是,则生成第三控制信号,所述第三控制信号用于控制所述射频模块工作于第三工作模式;
判断所述目标部位温度是否达到温度上限值;
若否,持续生成所述第三控制信号;
若是,则生成所述第二控制信号。
上述温度控制方法,通过改变模式选择信号的占空比的方式,对射频模块的工作模式进行调整,进而调整射频模块的平均输出功率,使得对于输出功率进行控制的过程简洁、准确。
在其中一个实施例中,所述监测目标部位温度,还包括:
根据所述目标部位温度生成目标部位温度信号;
所述根据所述目标部位温度生成所述模式选择信号之前,所述温度控制方法还包括:
对所述目标部位温度信号进行抗干扰处理;
所述根据所述目标部位温度生成模式选择信号,包括:
根据抗干扰处理后的所述目标部位温度信号生成所述模式选择信号。
上述温度控制方法,通过对目标部位温度信号进行抗干扰处理,能减少目标部位温度信号对于干扰噪声的拾取,同时不影响目标部位温度信号的正常传输。
在其中一个实施例中,所述监测目标部位温度,包括:监测多个区域的初始目标部位温度,以多个所述初始目标部位温度中的最大值作为所述目标部位温度。
上述温度控制方法,通过将多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度,能够保证使用中的安全性,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案,下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请其中一个实施例提供的温度控制装置的结构示意图;
图2为本申请其中一个实施例提供的温度控制装置中,控制模块输出的用于控制射频模块切换工作模式的模式选择信号的波形图;
图3为本申请其中一个实施例提供的温度控制装置中,控制射频模块输出的射频信号的波形图;
图4至图5均为本申请一些可能的实施例提供的温度控制方法的流程图。
附图标记说明:
10、温度监测单元;101、温度传感器;20、射频模块;201、功率放大模块;202、射频电极;30、控制模块;40、信号处理模块。
具体实施方式
为了便于理解本申请,下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的实施例。但是,本申请可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使本申请的公开内容更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。
可以理解,本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种特征,但这些特征不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个特征与另一个特征区分。举例来说,在不脱离本申请的范围的情况下,可以将第一工作模式称为第二工作模式;且类似地,可将第二工作模式称为第一工作模式。第一工作模式和第二工作模式两者都是工作模式,但其不是同一工作模式。
可以理解,以下实施例中的“连接”,如果被连接的电路、模块、单元等相互之间具有电信号或数据的传递,则应理解为“电连接”、“通信连接”等。
在此使用时,单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式,除非上下文清楚指出另外的方式。还应当理解的是,术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在,但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。同时,在本说明书中使用的术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
射频美容仪,通过对皮肤施加射频电磁场,利用射频电磁场在穿过皮肤组织时产生射频电流的热效应使真皮层胶原蛋白可逆变性,在愈合过程中刺激新的胶原蛋白形成,从而对皮肤产生拉紧和提拉效果。作为非侵入式技术,射频技术已广泛应用于减少面部皱纹和松弛。
由于射频美容仪的原理为利用射频电流对皮肤组织进行加热,如果输出功率过高,容易造成皮肤的烫伤;而如果输出功率过低,导致对应皮肤部位的温度较低,又难以达到最优的美容效果。在射频美容仪使用过程中需要对皮肤表面温度进行实时监测,调整射频输出功率,以防止烫伤,并优化使用效果。因此,对射频美容仪增加实时温度控制功能是必要的。
传统的射频美容仪通常不具备温度监测功能或控制功能;一些具备温度控制功能的美容仪通常仅能够防止过温,即皮肤温度超过安全阈值时发出提醒或降低输出功率,但是对温度达不到治疗温度的情况不做处理,设备的使用效果难以保证。
鉴于上述不足之处,本申请根据一些实施例,提供一种可以应用于美容设备的温度控制装置。
需要说明的是,本申请涉及的美容设备可以包括但不限于射频美容仪、微电流美容仪及LED(发光二极管)光美容仪。其中,射频美容仪可以包括但不仅限于单极射频美容仪、双极射频美容仪及多极射频美容仪。
请参阅图1,在其中一个实施例中,温度控制装置可以包括温度监测单元10及控制模块30。
具体来说,温度监测单元10可以集成于美容设备的射频模块20中。射频模块20可以用于接触目标部位,以向目标部位输出射频信号。温度监测单元10则可以用于监测该目标部位温度。
控制模块30可以与温度监测单元10相连接,用于根据温度监测单元10监测的目标部位温度生成模式选择信号,以在目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块20从第一工作模式切换至第二工作模式,在目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块20从第二工作模式切换至第三工作模式,在目标部位温度达到温度上限值时控制射频模块20从第三工作模式切换至第二工作模式。
上述温度控制装置通过温度监测单元10实现对于目标部位温度的监测,能够防止目标部位皮肤组织表面的温度过高,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。上述温度控制装置还通过控制模块30根据目标部位温度的情况对射频模块20的工作模式进行调整,实现对输出功率较为精准的控制,提升美容设备工作过程的安全性和有效性;即当目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块20切换至第二工作模式,避免温度持续升高;当目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块20切换至第三工作模式,使目标部位能够保持一定的皮肤温度,避免温度持续下降导致目标部位温度过低,达不到美容和/或治疗所需的温度,进而影响美容设备的使用效果。
需要说明的是,本申请对于目标档温度THM的大小并不做具体限定。作为示例,目标档温度可以为36℃~42℃;譬如,目标档温度可以为36℃、38℃、40℃或42℃。本申请对于温度下限值THL与目标档温度的差值也不做具体限定。作为示例,温度下限值可以为目标档温度-1℃~2℃;譬如,当目标档温度为40℃时,温度下限值可以为38℃或39℃。本申请对于温度上限值THH与目标档温度的差值也不做具体限定。作为示例,温度上限值可以为目标档温度+1℃~2℃;譬如,当目标档温度为40℃时,温度下限值可以为41℃或42℃。
可以理解,上述数据仅作为示例,在实际实施例中目标档温度、温度下限值及温度上限值可以根据美容设备的使用情况进行适应性调整,而并不以上述数据为限。
在其中一个实施例中,模式选择信号可以包括第一控制信号、第二控制信号及第三控制信号。其中,第一控制信号可以用于控制射频模块20工作于第一工作模式;第二控制信号可以用于控制射频模块20工作于第二工作模式;第三控制信号可以控制射频模块20工作于第三工作模式。在此基础上,第一控制信号的占空比大于第三控制信号的占空比,第三控制信号的占空比大于第二控制信号的占空比。
上述温度控制装置通过改变模式选择信号的占空比的方式,对射频模块20的工作模式进行调整,进而调整射频模块20的平均输出功率,使得对于输出功率进行控制的过程简洁、准确。
可以理解,在本申请中,射频模块20向目标部位输出射频信号的输出功率可以通过调节射频信号的占空比来进行控制。请参阅图2,图2显示为控制模块30输出的用于控制射频模块20切换工作模式的模式选择信号。
如图2所示,该模式选择信号波形为周期为(Tp+Ti)的脉冲信号;其中,Tp为周期中被脉冲信号占用的时间,Ti为周期中未被脉冲信号占用的时间。此时模式选择信号的占空比D为Tp/(Tp+Ti);在Tp的时间内,模式选择信号是频率为fRF的方波信号,fRF为美容设备工作的射频频率;而在Ti的时间内,模式选择信号为0。可以理解,控制模块30可以通过修改Tp与Ti的时间修改模式选择信号的占空比。
控制模块30可以通过对射频模块20施加如图2所示的模式选择信号,控制射频模块20的输出端输出如图3所示的射频信号。射频模块20输出的射频信号与控制模块30输出的模式选择信号相对应,在Tp时间内,射频信号为频率为fRF的正弦波信号,而在Ti的时间内,射频信号为0。
如此可见,控制模块30可以通过改变模式选择信号的占空比D=Tp/(Tp+Ti),对射频模块20向目标部位输出射频信号的输出功率进行控制。在Tp时间内射频模块20输出功率不变的前提下,可以通过改变占空比的方式调整射频模块20的平均输出功率。例如,当射频模块20在全功率输出状态(占空比100%状态)下的输出功率为Po时,可以通过调整占空比D,使得射频模块20的平均输出功率为D·Po。
本申请对于用于控制射频模块20工作于第一工作模式的第一控制信号的占空比,用于控制射频模块20工作于第二工作模式的第二控制信号的占空比,以及用于控制射频模块20工作于第三工作模式的第三控制信号的占空比均不做具体限定,只要其能够满足第一控制信号的占空比大于第三控制信号的占空比,第三控制信号的占空比大于第二控制信号的占空比即可。作为示例,第一控制信号的占空比可以100%。第二控制信号的占空比可以大于等于50%,且小于70%;譬如,第二控制信号的占空比可以为50%、55%、60%或65%。第三控制信号的占空比可以大于等于70%,且小于90%;譬如,第三控制信号的占空比可以为70%、75%、80%或85%。
请继续参阅图1,在其中一个实施例中,射频模块20可以包括功率放大模块201及射频电极202。
其中,功率放大模块201与控制模块30相连接,可以用于响应于模式选择信号生成射频信号。射频电极202与功率模块相连接,可以用于接触目标部位,以向目标部位输出射频信号。
请继续参阅图1,在上述实施例的基础上,温度监测单元10可以设置于射频电极202表面。
需要说明的是,本申请涉及的射频信号可以包括响应第一控制信号生成的第一射频信号,响应第二控制信号生成的第二射频信号,以及响应第三控制信号生成的第三射频信号;其中,第一射频信号的占空比大于第三射频信号的占空比,第三射频信号的占空比大于第二射频信号的占空比。
可以理解,温度监测单元10可以根据目标部位温度生成目标部位温度信号,控制模块30则根据目标部位温度信号生成模式选择信号。由于射频模块20在输出较大功率的射频信号时,易对温度监测单元10生成目标部位温度信号造成电磁干扰,因此,需要对温度监测单元10的目标部位温度信号做一定的抗干扰处理。请继续参阅图1,在其中一个实施例中,温度控制装置还可以包括信号处理模块40。温度监测单元10可以通过信号处理模块40与控制模块30相连接,信号处理模块40可以用于对目标部位温度信号进行抗干扰处理。
上述温度控制装置,通过信号处理模块40对目标部位温度信号进行抗干扰处理,能减少目标部位温度信号对于干扰噪声的拾取,同时不影响目标部位温度信号的正常传输。
本申请对于信号处理模块40对目标部位温度信号进行抗干扰处理的实现方式并不做具体限定。作为示例,信号处理模块40可以通过但不限于串联磁珠、加入低通滤波器及将信号线绕在磁环上等方式对目标部位温度信号进行抗干扰处理,增强目标部位温度信号的抗干扰性。其中,串联磁珠及将信号线绕在磁环上的方式不仅灵活,还可以重复使用安装。串联磁珠及磁环的吸收干扰能力是用其阻抗特性来表征的,在低频段呈现非常低的感性阻抗值,避免影响目标部位温度信号的传输。
请继续参阅图1,在其中一个实施例中,温度监测单元10可以包括分散设置的多个温度传感器101,温度传感器101可以用于监测初始目标部位温度。在此基础上,温度监测单元10可以将多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度。
上述温度控制装置,通过将多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度,能够保证使用中的安全性,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。
本申请对于温度监测单元10中温度传感器101的数量并不做具体限定。作为示例,温度监测单元10可以包括分散设置的2至5个温度传感器101;譬如,温度监测单元10可以包括分散设置的2个、3个4个或5个温度传感器101。
本申请还根据一些实施例,提供一种美容设备,包括前述任一实施例提供的温度控制装置,以及射频模块20。
上述美容设备,包括前述实施例提供的温度控制装置;因此,前述温度控制装置所能实现的技术效果,该美容设备也均能实现,此处不再详述。
本申请还根据一些实施例,提供一种温度控制方法。
请参阅图4,在其中一个实施例中,该温度控制方法可以包括如下步骤:
S1:监测目标部位温度。
S2:根据目标部位温度生成模式选择信号。
S3:根据模式选择信号,在目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块20从第一工作模式切换至第二工作模式,在目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块20从第二工作模式切换至第三工作模式,在目标部位温度达到温度上限值时控制射频模块20从第三工作模式切换至第二工作模式。
上述温度控制方法,通过监测目标部位温度,能够防止目标部位皮肤组织表面的温度过高,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。上述温度控制方法还根据目标部位温度的情况生成模式选择信号对射频模块20的工作模式进行调整,实现对输出功率较为精准的控制;即当目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块20切换至第二工作模式,避免温度持续升高;当目标部位温度达到温度下限值时控制射频模块20切换至第三工作模式,使目标部位能够保持一定的皮肤温度,避免温度持续下降导致目标部位温度过低,达不到美容和/或治疗所需的温度,进而影响美容设备的使用效果。
对于步骤S1,在其中一个实施例中,步骤S1具体可以包括如下步骤:
根据目标部位温度生成目标部位温度信号。
在其中一个实施例中,模式选择信号包括可以第一控制信号、第二控制信号和第三控制信号;其中,第一控制信号的占空比大于第三控制信号的占空比,第三控制信号的占空比大于第二控制信号的占空比。
下面结合图5,对温度控制方法中的各步骤进行更详细的说明。
在美容设备开始工作后,射频模块20可以首先按照第一工作模式输出射频信号。此时,射频模块20以最大功率迅速加热负载。
在美容设备工作过程中,可以判断目标部位温度是否第一次达到目标档温度。若目标部位温度还没有达到目标档温度,则生成第一控制信号控制射频模块20工作于第一工作模式,或射频模块20持续按照第一工作模式输出射频信号;若目标部位温度是第一次达到目标档温度,则生成第二控制信号,控制射频模块20切换为第二工作模式。
当射频模块20工作于第二工作模式时,目标部位温度逐渐下降,可以判断目标部位温度是否达到温度下限值。若目标部位温度尚未下降至温度下限值,则可以持续生成第二控制信号,控制射频模块20维持在第二工作模式工作;若目标部位温度下降至温度下限值,则生成第三控制信号,控制射频模块20切换至第三工作模式。
当射频模块20工作于第三工作模式时,目标部位温度由温度下限值逐渐上升,可以判断目标部位温度是否达到温度上限值。若目标部位温度尚未上升至温度上限值,则可以持续生成第三控制信号,控制射频模块20维持在第三工作模式工作;若目标部位温度上升至温度上限值,则生成第二控制信号,控制射频模块20切换至第二工作模式。
上述温度控制方法,通过改变模式选择信号的占空比的方式,对射频模块的工作模式进行调整,进而调整射频模块的平均输出功率,使得对于输出功率进行控制的过程简洁、准确。通过上述温度控制方法,可以根据目标部位温度是否达到温度上限值或温度下限值,控制射频模块20在第三工作模式和第二工作模式之间来回自动切换。
对于步骤S1,在其中一个实施例中,可以监测多个区域的初始目标部位温度,以多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度。
上述温度控制方法,通过将多个初始目标部位温度中的最大值作为目标部位温度,能够保证使用中的安全性,避免目标部位在美容设备的工作过程中因过温而被烫伤。
对于步骤S3,在其中一个实施例中,在根据目标部位温度生成模式选择信号之前,还可以包括对目标部位温度信号进行抗干扰处理的步骤。在此基础上,根据目标部位温度生成模式选择信号,可以包括如下步骤:
根据抗干扰处理后的目标部位温度信号生成模式选择信号。
上述温度控制方法,通过对目标部位温度信号进行抗干扰处理,能减少目标部位温度信号对于干扰噪声的拾取,同时不影响目标部位温度信号的正常传输。
需要注意的是,本申请实施例中的温度控制装置均可用于实施对应的温度控制方法,故而本申请中方法实施例与装置实施例之间的技术特征,在不产生冲突的前提下可以相互替换及补充,以使得本领域技术人员能够获悉本发明的技术内容。
应该理解的是,虽然图4及图5的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,这些步骤可以以其它的顺序执行。而且,图4及图5中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段,这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
在本说明书的描述中,参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、“理想实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特征包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性描述不一定指的是相同的实施例或示例。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种温度控制装置,应用于美容设备,其特征在于,包括:
温度监测单元,集成于所述美容设备的射频模块中;所述射频模块用于接触目标部位,以向所述目标部位输出射频信号;所述温度监测单元用于监测目标部位温度;
控制模块,与所述温度监测单元相连接,用于根据所述温度监测单元监测的所述目标部位温度生成模式选择信号,以在所述目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制所述射频模块从第一工作模式切换至第二工作模式,在所述目标部位温度达到温度下限值时控制所述射频模块从所述第二工作模式切换至第三工作模式,在所述目标部位温度达到温度上限值时控制所述射频模块从所述第三工作模式切换至所述第二工作模式。
2.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,控制所述射频模块工作于所述第一工作模式的所述模式选择信号为第一控制信号;控制所述射频模块工作于所述第二工作模式的所述模式选择信号为第二控制信号;控制所述射频模块工作于所述第三工作模式的所述模式选择信号为第三控制信号;
其中,所述第一控制信号的占空比大于所述第三控制信号的占空比,所述第三控制信号的占空比大于所述第二控制信号的占空比。
3.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述射频模块包括:
功率放大模块,与所述控制模块相连接,用于响应于所述模式选择信号生成所述射频信号;
射频电极,与所述功率放大模块相连接,用于接触所述目标部位,以向所述目标部位输出所述射频信号;
其中,所述温度监测单元设置于所述射频电极表面。
4.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于,所述温度控制装置还包括:信号处理模块;所述温度监测单元通过所述信号处理模块与所述控制模块相连接;
所述温度监测单元被配置为根据所述目标部位温度生成目标部位温度信号,所述控制模块被配置为根据所述目标部位温度信号生成所述模式选择信号;所述信号处理模块用于对所述目标部位温度信号进行抗干扰处理。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的温度控制装置,其特征在于,所述温度监测单元包括分散设置的多个温度传感器;所述温度传感器用于监测初始目标部位温度;
所述温度监测单元被配置为将多个所述初始目标部位温度中的最大值作为所述目标部位温度。
6.一种美容设备,其特征在于,包括如权利要求1至5中任一项所述的温度控制装置,以及射频模块。
7.一种温度控制方法,其特征在于,包括:
监测目标部位温度;
根据所述目标部位温度生成模式选择信号;
根据所述模式选择信号,在所述目标部位温度第一次达到目标档温度之后控制射频模块从第一工作模式切换至第二工作模式,在所述目标部位温度达到温度下限值时控制所述射频模块从所述第二工作模式切换至第三工作模式,在所述目标部位温度达到温度上限值时控制所述射频模块从所述第三工作模式切换至所述第二工作模式。
8.根据权利要求7所述的温度控制方法,其特征在于,所述模式选择信号包括:第一控制信号、第二控制信号和第三控制信号;其中,所述第一控制信号的占空比大于所述第三控制信号的占空比,所述第三控制信号的占空比大于所述第二控制信号的占空比;
所述根据所述目标部位温度生成模式选择信号,包括:
判断所述目标部位温度是否第一次达到目标档温度;
若否,则生成第一控制信号,所述第一控制信号用于控制所述射频模块工作于第一工作模式;
若是,则生成第二控制信号,所述第二控制信号用于控制所述射频模块工作于第二工作模式;
判断所述目标部位温度是否达到温度下限值;
若否,持续生成所述第二控制信号;
若是,则生成第三控制信号,所述第三控制信号用于控制所述射频模块工作于第三工作模式;
判断所述目标部位温度是否达到温度上限值;
若否,持续生成所述第三控制信号;
若是,则生成所述第二控制信号。
9.根据权利要求7所述的温度控制方法,其特征在于,所述监测目标部位温度,还包括:
根据所述目标部位温度生成目标部位温度信号;
所述根据所述目标部位温度生成所述模式选择信号之前,所述温度控制方法还包括:
对所述目标部位温度信号进行抗干扰处理;
所述根据所述目标部位温度生成模式选择信号,包括:
根据抗干扰处理后的所述目标部位温度信号生成所述模式选择信号。
10.根据权利要求7所述的温度控制方法,其特征在于,所述监测目标部位温度,包括:
监测多个区域的初始目标部位温度,以多个所述初始目标部位温度中的最大值作为所述目标部位温度。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
CN202210552246.4A CN116637304A (zh) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | 美容设备、温度控制装置及方法 |
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CN202210552246.4A CN116637304A (zh) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | 美容设备、温度控制装置及方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202210552246.4A Pending CN116637304A (zh) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | 美容设备、温度控制装置及方法 |
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Citations (3)
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KR20190112253A (ko) * | 2017-03-31 | 2019-10-04 | 주식회사 루트로닉 | Rf치료기기, rf치료기기의 제어방법 및 rf에너지를 이용한 피부치료방법 |
CN211862950U (zh) * | 2019-12-17 | 2020-11-06 | 深圳旋能至美科技有限公司 | 一种皮肤美容仪 |
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2022
- 2022-05-20 CN CN202210552246.4A patent/CN116637304A/zh active Pending
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