CN116396689A - 带覆盖薄膜的光学薄膜 - Google Patents

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Abstract

提供一种带覆盖薄膜的光学薄膜，其适合于抑制激光加工中的激光输出功率。带覆盖薄膜的光学薄膜(X1)具备光学薄膜(10)、覆盖薄膜(20)、(30)和粘合剂层(40)、(50)。光学薄膜(10)和覆盖薄膜(20)中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。选自由覆盖薄膜(20)、粘合剂层(40)、光学薄膜(10)和粘合剂层(50)组成的组中的至少一者是波长355nm处的透光率为80％以上的高透过层。至少一个高透过层的厚度相对于覆盖薄膜(20)、粘合剂层(40)、光学薄膜(10)和粘合剂层(50)的总厚度的比例小于88％。

Description

带覆盖薄膜的光学薄膜
技术领域
本发明涉及带覆盖薄膜的光学薄膜。
背景技术
显示器面板具有例如包含像素面板、触摸面板和透明覆盖薄膜等要素的层叠结构。在显示器面板的层叠结构中，设置有具有规定光学功能的光学薄膜。作为光学薄膜，可列举出例如薄膜状的偏光板和相位差薄膜。光学薄膜以例如在光学薄膜的两面分别设置有粘合剂层的带粘合剂层的光学薄膜的形式制造。另外，带粘合剂层的光学薄膜以例如粘合剂层被覆盖薄膜覆盖的带覆盖薄膜的光学薄膜的形式制造。在该制造过程中，以往通过冲切加工而对带覆盖薄膜的光学薄膜的外形进行加工。关于这种带覆盖薄膜的光学薄膜，例如在下述专利文献1中有所记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-111754号公报
发明内容
发明要解决的问题
在智能手机用途和平板终端用途中，进行了能够反复折弯(可折叠)的显示器面板的开发。具体而言，可折叠显示器面板能够在弯曲形状与平坦的非弯曲形状之间反复变形。在这种可折叠显示器面板中，以能够反复折弯的方式制作层叠结构中的各要素。并且，对可折叠显示器面板用的带粘合剂层的光学薄膜中的粘合剂层要求高度软质，以使其具有在弯曲时对被粘物的充分追随性和优异的应力松弛性。
然而，粘合剂层越为软质，则在带覆盖薄膜且带粘合剂层的光学薄膜的制造过程中的上述冲切加工(冲切刀刃接触软质的粘合剂层)中，越容易发生不良情况。因而，可以考虑通过激光加工而对带覆盖薄膜的光学薄膜的外形进行加工。但是，为了对以往的带覆盖薄膜的光学薄膜适当地进行激光加工，需要高的激光输出功率。
本发明提供适合于抑制激光加工中的激光输出功率的带覆盖薄膜的光学薄膜。
用于解决问题的方案
本发明[1]包括一种带覆盖薄膜的光学薄膜，其沿着厚度方向依次具备第一覆盖薄膜、第一粘合剂层、光学薄膜、第二粘合剂层和第二覆盖薄膜，前述第一覆盖薄膜和前述光学薄膜中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率，选自由前述第一覆盖薄膜、前述第一粘合剂层、前述光学薄膜和前述第二粘合剂层组成的组中的至少一者是波长355nm处的透光率为80％以上的高透过层，前述至少一个高透过层的厚度相对于前述第一覆盖薄膜、前述第一粘合剂层、前述光学薄膜和前述第二粘合剂层的总厚度的比例小于88％。
本发明[2]包括上述[1]所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，前述第一覆盖薄膜在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
本发明[3]包括上述[2]所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，前述第一覆盖薄膜的前述杨氏模量(MPa)与前述透光率(％)的乘积为1×105以下。
本发明[4]包括上述[1]所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，前述第一覆盖薄膜和前述光学薄膜在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
本发明[5]包括上述[4]所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，前述第一覆盖薄膜和前述光学薄膜各自的前述杨氏模量(MPa)与前述透光率(％)的乘积为1×105以下。
本发明[6]包括上述[1]～[5]中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其光透射比Y为60％以下。
本发明[7]包括上述[1]～[6]中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，在将前述第二覆盖薄膜转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的前述厚度方向的激光切割而产生的切割部位，与前述厚度方向正交的面方向上的、前述第一粘合剂层和前述第二粘合剂层自前述光学薄膜的端部边缘的后退长度为10μm以下。
本发明[8]包括上述[1]～[7]中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，前述光学薄膜为偏光薄膜。
发明的效果
本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜中，如上所述，第一覆盖薄膜和光学薄膜中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。这种构成适合于在第一覆盖薄膜和/或光学薄膜中确保可折叠显示器面板用途所要求的强度，并且，确保加工用激光的吸收性，降低带覆盖薄膜的光学薄膜的外形加工所需的激光照射能量。另外，本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜中，如上所述，高透过层(波长355nm处的透光率为80％以上)的厚度相对于第一覆盖薄膜、第一粘合剂层、光学薄膜和第二粘合剂层的总厚度的比例小于88％。这种构成适合于确保带覆盖薄膜的光学薄膜整体的加工用激光的吸收性，因此，适合于降低该薄膜的外形加工所需的激光照射能量。以上那样的带覆盖薄膜的光学薄膜适合于抑制激光加工中的激光输出功率。
附图说明
图1是本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜的第一实施方式的截面示意图。
图2表示图1中示出的带覆盖薄膜的光学薄膜的使用方法的一例。图2的A表示将第二覆盖薄膜剥离的第一剥离工序，图2的B表示借助第二粘合剂层将光学薄膜与第一被粘物接合的第一接合工序，图2的C表示将第一覆盖薄膜剥离的第二剥离工序，图2的D表示借助第一粘合剂层将光学薄膜与第二被粘物接合的第二接合工序。
图3是本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜的第二实施方式的截面示意图。
图4表示图3中示出的带覆盖薄膜的光学薄膜的使用方法的一例。图4的A表示将第二覆盖薄膜剥离的剥离工序，图4的B表示借助第二粘合剂层将光学薄膜与第一被粘物接合的接合工序。
附图标记说明
X1、X2 光学薄膜(带覆盖薄膜的光学薄膜)
Y1、Y2 带粘合剂层的光学薄膜
H 厚度方向
10 光学薄膜
11 第一面
12 第二面
20、60 覆盖薄膜(第一覆盖薄膜)
30 覆盖薄膜(第二覆盖薄膜)
40 粘合剂层(第一粘合剂层)
41、51 粘合面
50 粘合剂层(第二粘合剂层)
具体实施方式
作为本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜的第一实施方式的光学薄膜X1如图1所示那样，具备光学薄膜10、覆盖薄膜20(第一覆盖薄膜)、覆盖薄膜30(第二覆盖薄膜)、粘合剂层40(第一粘合剂层)和粘合剂层50(第二粘合剂层)。光学薄膜X1具有规定厚度的片形状，在与厚度方向H正交的方向(面方向)上扩展。具体而言，光学薄膜X1沿着厚度方向H依次具备覆盖薄膜20、粘合剂层40、光学薄膜10、粘合剂层50和覆盖薄膜30。
光学薄膜10在本实施方式中为功能性光学薄膜。作为功能性光学薄膜，可列举出例如薄膜状的偏光板(偏光薄膜)、相位差薄膜和它们的组合。光学薄膜10具有第一面11以及与该第一面11相反一侧的第二面12。粘合剂层40贴附于第一面11，并且，在与光学薄膜10相反的一侧具有粘合面41。粘合剂层50贴附于第二面12，并且，在与光学薄膜10相反的一侧具有粘合面51。这种光学薄膜10和粘合剂层40、50形成带粘合剂层的光学薄膜Y1。带粘合剂层的光学薄膜Y1是例如组装至可折叠显示器面板的层叠结构中的光学薄膜。光学薄膜X1具备这种带粘合剂层的光学薄膜Y1、覆盖薄膜20、30。覆盖薄膜20以能够剥离的方式配置在带粘合剂层的光学薄膜Y1中的粘合面41上。覆盖薄膜30以能够剥离的方式配置在粘合面51上。覆盖薄膜20、30具有挠性。
这种光学薄膜X1在可折叠显示器面板的制造过程中作为向该面板的层叠结构中组装的带粘合剂层的光学薄膜Y1的供给材料而使用。本实施方式中，覆盖薄膜20是剥离力相对较大的剥离衬垫(重剥离衬垫)，覆盖薄膜30是剥离力相对较小的剥离衬垫(轻剥离衬垫)。覆盖薄膜30和覆盖薄膜20依次自带粘合剂层的光学薄膜Y1剥离。
在光学薄膜X1中，光学薄膜10和覆盖薄膜20中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。优选的是：光学薄膜10和覆盖薄膜20这两者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
光学薄膜10在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率(透光率T1)时，适合于在光学薄膜X1中的硬质的光学薄膜10中确保加工用激光的吸收性(激光吸收性)，降低光学薄膜X1的外形加工所需的激光照射能量。从光学薄膜10的激光吸收性的观点出发，透光率T1优选为8％以下、更优选为6％以下、进一步优选为5％以下。透光率T1例如为0.1％以上。透光率的测定方法如针对实施例而在后面说明的那样。作为透光率T1的调整方法，可列举出例如利用波长355nm的光的吸收能力高的构件和配混材料。
覆盖薄膜20在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率(透光率T2)时，适合于在光学薄膜X1中的硬质的覆盖薄膜20中确保激光吸收性，降低光学薄膜X1的外形加工所需的激光照射能量。从覆盖薄膜20的激光吸收性的观点出发，透光率T2优选为8％以下、更优选为6％以下、进一步优选为4％以下、特别优选为2％以下。透光率T2例如为0.1％以上。作为透光率T2的调整方法，可列举出例如调整覆盖薄膜20中的紫外线吸收剂的配混量。
在光学薄膜X1中，选自由覆盖薄膜20、粘合剂层40、光学薄膜10和粘合剂层50组成的组中的至少一者是波长355nm处的透光率为80％以上的高透过层。并且，高透过层的厚度(存在多个高透过层时，是全部高透过层的总厚度)相对于覆盖薄膜20、粘合剂层40、光学薄膜10和粘合剂层50的总厚度的比例R1小于88％。这种构成适合于确保光学薄膜X1整体的激光吸收性。从确保光学薄膜X1整体的激光吸收性的观点出发，比例R1优选为85％以下、更优选为82％以下、进一步优选为80％以下、特别优选为78％以下。比例R1例如为10％以上。
以上那样的光学薄膜X1如后述实施例和比较例所示那样，适合于抑制基于激光加工的外形加工时的激光输出功率。
光学薄膜10在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量(杨氏模量E1)对于在光学薄膜10中确保可折叠显示器面板用途所要求的强度而言是优选的。从确保光学薄膜10的强度的观点出发，杨氏模量E1优选为2500MPa以上、更优选为2800MPa以上、进一步优选为3000MPa以上。从在光学薄膜10中确保可折叠显示器面板用途所要求的挠性的观点出发，杨氏模量E1优选为10000MPa以下、更优选为7000MPa以下、进一步优选为5000MPa以下、更进一步优选为4000MPa以下、特别优选为3500MPa以下。杨氏模量的测定方法如针对实施例而在后面说明的那样。
在光学薄膜10中，从利用激光对光学薄膜10进行加工的容易度(激光加工性)的观点出发，杨氏模量E1(MPa)与上述透光率T1(％)的乘积(E1×T1)优选为1×105以下、更优选为0.7×105以下、进一步优选为0.4×105以下、更进一步优选为0.3×105以下、特别优选为0.25×105以下。乘积(E1×T1)例如为0.01×105以上。
覆盖薄膜20在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量(杨氏模量E2)对于确保利用覆盖薄膜20来保护带粘合剂层的光学薄膜Y1的功能而言是优选的。从确保覆盖薄膜20的保护功能的观点出发，杨氏模量E2优选为3000MPa以上、更优选为4000MPa以上、进一步优选为5000MPa以上。从确保覆盖薄膜20的挠性的观点出发，杨氏模量E2优选为10000MPa以下、更优选为8000MPa以下、进一步优选为6000MPa以下、特别优选为5500MPa以下。
在覆盖薄膜20中，从覆盖薄膜20的激光加工性的观点出发，杨氏模量E2(MPa)与上述透光率T2(％)的乘积(E2×T2)优选为1×105以下、更优选为0.7×105以下、进一步优选为0.4×105以下、更进一步优选为0.3×105以下、特别优选为0.25×105以下。乘积(E2×T2)例如为0.01×105以上。
从在显示器面板中通过降低光反射而确保良好外观的观点出发，光学薄膜X1的光透射比Y优选为60％以下、更优选为50％以下、进一步优选为45％以下。从抑制显示器面板的光取出效率降低的观点出发，优选为20％以上、更优选为30％以上、进一步优选为40％以上。光透射比Y的测定方法如针对实施例而在后面说明的那样。
从在带粘合剂层的光学薄膜Y1被组装至显示器面板的层叠结构中后抑制在该面板的图像显示区域发生干涉的观点出发，在光学薄膜X1中，将覆盖薄膜30转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的厚度方向H的激光切割而产生的切割部位，与厚度方向H正交的面方向上的、粘合剂层40自光学薄膜10的端部边缘10a的后退长度(面方向上的端部边缘10a与粘合剂层40的端部边缘40a之间的距离)优选为10μm以下、更优选为7μm以下、进一步优选为5μm以下、更进一步优选为3μm以下、特别优选为1μm以下、极其优选为0μm。
从在带粘合剂层的光学薄膜Y1被组装至显示器面板的层叠结构中后抑制在该面板的图像显示区域发生干涉的观点出发，在光学薄膜X1中，将覆盖薄膜30转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的厚度方向H的激光切割而产生的切割部位，面方向上的、粘合剂层50自光学薄膜10的端部边缘10a的后退长度(面方向上的端部边缘10a与粘合剂层50的端部边缘50a之间的距离)优选为10μm以下、更优选为7μm以下、进一步优选为5μm以下、更进一步优选为3μm以下、特别优选为1μm以下、极其优选为0μm。
在光学薄膜X1中，光学薄膜10优选为偏光薄膜。偏光薄膜可列举出例如具备偏光件和粘贴于该偏光件的单面或两面的透明保护薄膜的偏光薄膜。作为偏光件，可列举出例如吸附有二色性物质的单轴拉伸的亲水性高分子薄膜和多烯取向薄膜。作为亲水性高分子薄膜，可列举出例如聚乙烯醇薄膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇薄膜和乙烯-乙酸乙烯酯共聚物部分皂化薄膜。作为二色性物质，可列举出例如碘和二色性染料。作为多烯取向薄膜，可列举出例如聚乙烯醇的脱水处理物和聚氯乙烯的脱盐酸处理物。
作为偏光件，可以使用厚度10μm以下的薄型偏光件。作为薄型偏光件，可列举出例如日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、WO2010/100917号、日本特许第4691205号和日本特许第4751481号中记载的偏光件。
作为透明保护薄膜，优选为透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性和光学各向同性优异的薄膜。作为这样的透明保护薄膜的材料，可列举出例如纤维素树脂、环状聚烯烃树脂、丙烯酸类树脂、苯基马来酰亚胺树脂和聚碳酸酯树脂。
作为覆盖薄膜20，可列举出例如具有挠性的塑料薄膜。作为该塑料薄膜，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜和聚酯薄膜。覆盖薄膜20的粘合剂层40侧的表面优选进行了剥离处理。作为剥离处理，可列举出例如有机硅剥离处理和氟剥离处理(关于后述剥离处理也同样)。
作为覆盖薄膜30，可列举出例如针对覆盖薄膜20而在上面说明的塑料薄膜。覆盖薄膜30的粘合剂层50侧的表面优选进行了剥离处理。
粘合剂层40是由第一粘合剂组合物形成的压敏粘合剂层。粘合剂层40具有透明性(可见光透过性)。第一粘合剂组合物至少含有基础聚合物。
基础聚合物是使粘合剂层40表现出粘合性的粘合成分。作为基础聚合物，可列举出例如丙烯酸类聚合物、有机硅聚合物、聚酯聚合物、聚氨酯聚合物、聚酰胺聚合物、聚乙烯醚聚合物、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃聚合物、环氧聚合物、氟聚合物和橡胶聚合物。基础聚合物可以单独使用，也可以组合使用两种以上。从确保粘合剂层40的良好透明性和粘合性的观点出发，作为基础聚合物，优选使用丙烯酸类聚合物。
丙烯酸类聚合物是以50质量％以上的比例包含(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分的共聚物。“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，适合使用烷基的碳原子数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可以具有直链状或支链状的烷基，也可以具有脂环式烷基等环状烷基。
作为具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯(即(甲基)丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸异十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸异十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸鲸蜡酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸异十八烷基酯和(甲基)丙烯酸十九烷基酯。
作为具有脂环式烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸环烷基酯、具有二环式脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯和具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯。作为(甲基)丙烯酸环烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环庚酯和(甲基)丙烯酸环辛酯。作为具有二环式脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸异冰片酯。作为具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊基氧乙酯、(甲基)丙烯酸三环戊基酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯和(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯。
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，优选使用具有碳原子数3～15的烷基的丙烯酸烷基酯，更优选使用选自由丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯和丙烯酸十二烷基酯组成的组中的至少一者。
从在粘合剂层40中适当地表现出粘合性等基本特性的观点出发，单体成分中的(甲基)丙烯酸烷基酯的比例优选为50质量％以上、更优选为60质量％以上、进一步优选为70质量％以上。该比例例如为99质量％以下。
单体成分可以包含能够与(甲基)丙烯酸烷基酯发生共聚的共聚性单体。作为共聚性单体，可列举出例如具有极性基团的单体。作为含有极性基团的单体，可列举出例如具有含氮原子的环的单体、含羟基单体和含羧基单体。含有极性基团的单体有助于向丙烯酸类聚合物中导入交联点、确保丙烯酸类聚合物的内聚力等丙烯酸类聚合物的改性。
作为具有含氮原子的环的单体，可列举出例如N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-甲基乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑、N-(甲基)丙烯酰基-2-吡咯烷酮、N-(甲基)丙烯酰基哌啶、N-(甲基)丙烯酰基吡咯烷、N-乙烯基吗啉、N-乙烯基-3-吗啉酮、N-乙烯基-2-己内酰胺、N-乙烯基-1,3-噁嗪-2-酮、N-乙烯基-3,5-吗啉二酮、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基异噁唑、N-乙烯基噻唑和N-乙烯基异噻唑。作为具有含氮原子的环的单体，优选使用N-乙烯基-2-吡咯烷酮。
从确保粘合剂层40的内聚力和确保粘合剂层40的对被粘物密合力的观点出发，单体成分中的具有含氮原子的环的单体的比例优选为0.1质量％以上、更优选为0.3质量％以上、进一步优选为0.55质量％以上。从调整丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度和调整丙烯酸类聚合物的极性(与粘合剂层40中的各种添加剂成分及丙烯酸类聚合物的相容性有关)的观点出发，该比例优选为30质量％以下、更优选为20质量％以下。
作为含羟基单体，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯和(甲基)丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯。作为含羟基单体，优选使用(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯，更优选使用丙烯酸4-羟基丁酯。
从向丙烯酸类聚合物中导入交联结构和确保粘合剂层40的内聚力的观点出发，单体成分中的含羟基单体的比例优选为0.1质量％以上、更优选为0.5质量％以上、进一步优选为0.8质量％以上。从调整丙烯酸类聚合物的极性(与粘合剂层40中的各种添加剂成分及丙烯酸类聚合物的相容性有关)的观点出发，该比例优选为20质量％以下、更优选为10质量％以下。
作为含羧基单体，可列举出例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸和异巴豆酸。
从向丙烯酸类聚合物中导入交联结构、确保粘合剂层40的内聚力和确保粘合剂层40的对被粘物密合力的观点出发，单体成分中的含羧基单体的比例优选为0.1质量％以上、更优选为0.5质量％以上、进一步优选为0.8质量％以上。从调整丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度和避免被粘物因酸而发生腐蚀的风险的观点出发，该比例优选为30质量％以下、更优选为20质量％以下。
为了防止可折叠显示器面板中的电极等金属要素因酸成分而发生腐蚀，粘合剂层40优选酸的含量小。另外，在粘合剂层40被用于粘接偏光薄膜的情况下，为了抑制由酸成分导致的聚乙烯醇偏光件的多烯化，粘合剂层40优选酸的含量小。这种无酸的粘合剂层40中的有机酸单体(例如(甲基)丙烯酸和含羧基单体)的含量优选为100ppm以下、更优选为70ppm以下、进一步优选为50ppm以下。粘合剂层40的有机酸单体含量如下求出：将粘合剂层40浸渍在纯水中，以100℃加热45分钟，利用离子色谱对由此提取至水中的酸单体进行定量来求出。
从无酸的观点出发，粘合剂层40中的基础聚合物优选实质上不含有机酸单体作为单体成分。从无酸的观点出发，单体成分中的有机酸单体的比例优选为0.5质量％以下、更优选为0.1质量％以下、进一步优选为0.05质量％，理想而言为0。
单体成分可以包含其它的共聚性单体。作为其它的共聚性单体，可列举出例如酸酐单体、含磺酸基的单体、含磷酸基的单体、含环氧基的单体、含氰基的单体、含烷氧基的单体和芳香族乙烯基化合物。这些其它的共聚性单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
基础聚合物在本实施方式中具有交联结构。作为向基础聚合物中导入交联结构的方法，可列举出：将具有能够与交联剂反应的官能团的基础聚合物与交联剂配混至第一粘合剂组合物中，使基础聚合物与交联剂在粘合剂层40中发生反应的方法(第一方法)；以及，在形成基础聚合物的单体成分中包含多官能单体，通过该单体成分的聚合而形成在聚合物链中导入有分枝结构(交联结构)的基础聚合物的方法(第二方法)。这些方法可以组合使用。
作为上述第一方法中使用的交联剂，可列举出例如与基础聚合物中包含的官能团(羟基和羧基等)发生反应的化合物。作为这样的交联剂，可列举出例如异氰酸酯交联剂、过氧化物交联剂、环氧交联剂、噁唑啉交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂和金属螯合物交联剂。交联剂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。作为交联剂，从与基础聚合物中的羟基和羧基的反应性高而容易导入交联结构的方面出发，优选使用异氰酸酯交联剂、过氧化物交联剂和环氧交联剂。
作为异氰酸酯交联剂，可列举出例如甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯和多亚甲基多苯基异氰酸酯。另外，作为异氰酸酯交联剂，也可列举出这些异氰酸酯的衍生物。作为该异氰酸酯衍生物，可列举出例如异氰脲酸酯改性体和多元醇改性体。作为异氰酸酯交联剂的市售品，可列举出例如CORONATE L(甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合体、东曹公司制)、CORONATE HL(六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合体、东曹公司制)、CORONATE HX(六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体、东曹公司制)和TAKENATE D110N(苯二亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合体、三井化学公司制)。
作为过氧化物交联剂，可列举出过氧化二苯甲酰、过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯和过氧化特戊酸叔丁酯。
作为环氧交联剂，可列举出双酚A、环氧氯丙烷型的环氧树脂、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、1,6-己二醇缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、二缩水甘油基苯胺、二胺缩水甘油胺、N,N,N',N'-四缩水甘油基间苯二甲胺和1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷。
从确保粘合剂层40的适度柔软性(由此的弯曲性)的观点出发，优选为异氰酸酯交联剂(尤其是二官能的异氰酸酯交联剂)和过氧化物交联剂。从确保粘合剂层40的耐久性的观点出发，优选为异氰酸酯交联剂(尤其是三官能的异氰酸酯交联剂)。在基础聚合物中，二官能异氰酸酯交联剂和过氧化物交联剂形成更柔软的二维交联，与此相对，三官能异氰酸酯交联剂形成更牢固的三维交联。从兼顾粘合剂层40的耐久性和柔软性的观点出发，优选将三官能异氰酸酯交联剂与过氧化物交联剂和/或二官能异氰酸酯交联剂组合使用。
从确保粘合剂层40的内聚力的观点出发，交联剂的配混量相对于基础聚合物100质量份例如为0.01质量份以上、优选为0.05质量份以上、更优选为0.07质量份以上。从在粘合剂层40中确保良好的粘性的观点出发，交联剂相对于基础聚合物100质量份的配混量例如为10质量份以下、优选为5质量份以下、更优选为3质量份以下。
在上述第二方法中，单体成分(包含用于导入交联结构的多官能单体和其它单体)可以一次性聚合，也可以分多个阶段使其聚合。在多阶段聚合的方法中，首先，使用于形成基础聚合物的单官能单体发生聚合(预聚合)，由此制备含有部分聚合物(低聚合度的聚合物与未反应单体的混合物)的预聚物组合物。接着，向预聚物组合物中添加多官能单体后，使部分聚合物与多官能单体发生聚合(主聚合)。
作为多官能单体，可列举出例如1分子中含有2个以上烯属不饱和双键的多官能(甲基)丙烯酸酯。作为多官能单体，从能够通过活性能量射线聚合(光聚合)而导入交联结构的观点出发，优选为多官能丙烯酸酯。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯和四官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。
作为二官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙烯酸二环戊烯酯、二(甲基)丙烯酰基异氰脲酸酯和环氧烷烃改性双酚二(甲基)丙烯酸酯。
作为三官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。
作为四官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
丙烯酸类聚合物可通过使上述单体成分发生聚合而形成。作为聚合方法，可列举出例如溶液聚合、本体聚合和乳液聚合。从粘合剂层40的透明性、耐水性和成本的观点出发，优选为溶液聚合。作为溶液聚合的溶剂，使用例如乙酸乙酯和甲苯。另外，作为聚合的引发剂，使用例如热聚合引发剂和光聚合引发剂。聚合引发剂的用量相对于单体成分100质量份例如为0.05质量份以上，另外，例如为1质量份以下。
作为热聚合引发剂，可列举出例如偶氮聚合引发剂和过氧化物聚合引发剂。作为偶氮聚合引发剂，可列举出例如2,2'-偶氮双异丁腈、2,2'-偶氮双-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮双-4-氰基戊酸、偶氮双异戊腈、2,2'-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2,2'-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2,2'-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐和2,2'-偶氮双(N,N'-二亚甲基异丁基脒)二盐酸盐。作为过氧化物聚合引发剂，可列举出例如过氧化二苯甲酰、过马来酸叔丁酯和过氧化月桂酰。
作为光聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻醚光聚合引发剂、苯乙酮光聚合引发剂、α-酮醇光聚合引发剂、芳香族磺酰氯光聚合引发剂、光活性肟光聚合引发剂、苯偶姻光聚合引发剂、苯偶酰光聚合引发剂、二苯甲酮光聚合引发剂、缩酮光聚合引发剂、噻吨酮光聚合引发剂和酰基氧化膦光聚合引发剂。
在聚合中，出于调整分子量等的目的，可以使用链转移剂和/或阻聚剂(聚合延迟剂)。作为链转移剂，可列举出α-硫代甘油、月桂基硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸、2-巯基乙醇、巯基乙酸、巯基乙酸2-乙基己酯、2,3-二巯基-1-丙醇和α-甲基苯乙烯二聚物。
通过调整聚合引发剂的种类和/或量而能够调整基础聚合物的分子量。例如，在自由基聚合中，聚合引发剂的量越多，则反应体系的自由基浓度越高，因此，存在反应起始点的密度变高、所形成的基础聚合物的分子量变小的倾向。与此相对，聚合引发剂的量越少，则反应起始点的密度越低，因此，存在聚合物链容易伸长、所形成的基础聚合物的分子量变大的倾向。
从确保粘合剂层40的内聚力的观点出发，丙烯酸类聚合物的重均分子量优选为10万以上、更优选为30万以上、进一步优选为50万以上。该重均分子量优选为500万以下、更优选为300万以下、进一步优选为200万以下。丙烯酸类聚合物的重均分子量通过凝胶渗透色谱(GPC)进行测定并利用聚苯乙烯换算来计算。
基础聚合物的玻璃化转变温度(Tg)优选为0℃以下、更优选为-10℃以下、进一步优选为-20℃以下。该玻璃化转变温度例如为-80℃以上。
关于基础聚合物的玻璃化转变温度(Tg)，可以使用根据下述Fox式而求出的玻璃化转变温度(理论值)。Fox式是聚合物的玻璃化转变温度Tg与构成该聚合物的单体的均聚物的玻璃化转变温度Tgi的关系式。下述Fox式中，Tg表示聚合物的玻璃化转变温度(℃)，Wi表示构成该聚合物的单体i的重量分数，Tgi表示由单体i形成的均聚物的玻璃化转变温度(℃)。关于均聚物的玻璃化转变温度，可以使用文献值。例如，在“Polymer Handbook”(第4版、John Wiley&Sons,Inc.,1999年)和“新高分子文库7涂料用合成树脂入门”(北冈协三著、高分子刊行会、1995年)中列举出各种均聚物的玻璃化转变温度。另一方面，关于单体的均聚物的玻璃化转变温度，也可利用日本特开2007-51271号公报中具体记载的方法来求出。
Fox式1/(273+Tg)＝Σ[Wi/(273+Tgi)]
第一粘合剂组合物可以在包含基础聚合物的基础上包含一种或两种以上的低聚物。在使用丙烯酸类聚合物作为基础聚合物的情况下，优选使用丙烯酸类低聚物作为低聚物。丙烯酸类低聚物是以50质量％以上的比例包含(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分的共聚物，重均分子量例如为1000以上且30000以下。
丙烯酸类低聚物的玻璃化转变温度优选为60℃以上、更优选为80℃以上、进一步优选为100℃以上、特别优选为110℃以上。丙烯酸类低聚物的玻璃化转变温度例如为200℃以下、优选为180℃以下、更优选为160℃以下。通过组合使用导入有交联结构的低Tg的丙烯酸类聚合物(基础聚合物)和高Tg的丙烯酸类低聚物，从而提高粘合剂层40的粘接力、尤其是高温下的粘接力。丙烯酸类低聚物的玻璃化转变温度利用上述Fox式来计算。
玻璃化转变温度为60℃以上的丙烯酸类低聚物优选为包含具有链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯((甲基)丙烯酸链状烷基酯)和具有脂环式烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯((甲基)丙烯酸脂环式烷基酯)的单体成分的聚合物。作为这些(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，可列举出例如作为丙烯酸类聚合物的单体成分而在上面记载的(甲基)丙烯酸烷基酯。
作为(甲基)丙烯酸链状烷基酯，从玻璃化转变温度高、与基础聚合物的相容性优异的方面出发，优选为甲基丙烯酸甲酯。作为(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯，优选为丙烯酸二环戊基酯、甲基丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸环己酯和甲基丙烯酸环己酯。即，丙烯酸类低聚物优选为包含选自由丙烯酸二环戊基酯、甲基丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸环己酯和甲基丙烯酸环己酯组成的组中的1种以上和甲基丙烯酸甲酯的单体成分的聚合物。
丙烯酸类低聚物的单体成分中的(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯的比例优选为10重量％以上、更优选为20重量％以上、进一步优选为30重量％以上。该比例优选为90重量％以下、更优选为80重量％以下、进一步优选为70重量％以下。丙烯酸类低聚物的单体成分中的(甲基)丙烯酸链状烷基酯的比例优选为90重量％以下、更优选为80重量％以下、进一步优选为70重量％以下。该比例优选为10重量％以上、更优选为20重量％以上、进一步优选为30重量％以上。
丙烯酸类低聚物的重均分子量优选为1000以上、更优选为1500以上、进一步优选为2000以上。该分子量优选为30000以下、更优选为10000以下、进一步优选为8000以下。这种丙烯酸类低聚物的分子量范围对于确保粘合剂层40的粘接力和粘接保持力是优选的。
丙烯酸类低聚物可通过将该丙烯酸类低聚物的单体成分进行聚合来获得。作为聚合方法，可列举出例如溶液聚合、活性能量射线聚合(例如UV聚合)、本体聚合和乳液聚合。在丙烯酸类低聚物的聚合中，可以使用聚合引发剂，也可以出于调整分子量的目的而使用链转移剂。
为了充分提高粘合剂层40的粘接力，粘合剂层40中的丙烯酸类低聚物的含量相对于基础聚合物100质量份优选为0.5质量份以上、更优选为0.8质量份以上、进一步优选为1质量份以上。另一方面，从确保粘合剂层40的透明性的观点出发，粘合剂层40中的丙烯酸类低聚物的含量相对于基础聚合物100质量份优选为5质量份以下、更优选为4质量份以下、进一步优选为3质量份以下。在粘合剂层40中，丙烯酸类低聚物的含量过大时，因该丙烯酸类低聚物的相容性降低而存在雾度上升、透明性降低的倾向。
第一粘合剂组合物可以含有硅烷偶联剂。第一粘合剂组合物中的硅烷偶联剂的含量相对于基础聚合物100质量份优选为0.1质量份以上、更优选为0.2质量份以上。该含量优选为5质量份以下、更优选为3质量份以下。
第一粘合剂组合物根据需要可以含有其它成分。作为其它成分，可列举出例如增粘剂、增塑剂、软化剂、抗劣化剂、填充剂、着色剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、表面活性剂和抗静电剂。
粘合剂层40的雾度优选为3％以下、更优选为2％以下、更优选为1％以下。粘合剂层40的雾度可按照JIS K7136(2000年)，使用雾度计进行测定。作为雾度计，可列举出例如日本电色工业公司制的“NDH2000”和村上色彩技术研究所公司制的“HM-150型”。
粘合剂层40的总透光率优选为60％以上、更优选为80％以上、进一步优选为85％以上。粘合剂层40的总透光率例如为100％以下。粘合剂层40的总透光率可按照JIS K 7375(2008年)进行测定。
粘合剂层50是由第二粘合剂组合物形成的压敏粘合剂层。粘合剂层50具有透明性。第二粘合剂组合物至少含有基础聚合物。作为第二粘合剂组合物中含有的基础聚合物，可列举出例如针对第一粘合剂组合物而在上面记载的基础聚合物。第一粘合剂组合物中的基础聚合物与第二粘合剂组合物中的基础聚合物可以相同也可以不同。第二粘合剂组合物可以含有除基础聚合物之外的成分。作为第二粘合剂组合物中含有的该成分，可列举出例如针对第一粘合剂组合物而在上面记载的除基础聚合物之外的成分。第一粘合剂组合物的组成与第二粘合剂组合物的组成可以相同也可以不同。
粘合剂层50的雾度优选为3％以下、更优选为2％以下、更优选为1％以下。粘合剂层50的雾度可按照JIS K7136(2000年)，使用雾度计进行测定。
粘合剂层50的总透光率优选为60％以上、更优选为80％以上、进一步优选为85％以上。粘合剂层50的总透光率例如为100％以下。粘合剂层50的总透光率可按照JIS K 7375(2008年)进行测定。
光学薄膜X1例如可如下操作来制造。
首先，准备光学薄膜10、带覆盖薄膜20的粘合剂层40和带覆盖薄膜30的粘合剂层50(准备工序)。
带覆盖薄膜20的粘合剂层40可通过在覆盖薄膜20上涂布第一粘合剂组合物(清漆)而形成涂膜后，将该涂膜干燥来形成。作为第一粘合剂组合物的涂布方法，可列举出例如辊涂、辊舐涂布、凹版涂布、反向涂布、辊刷、喷涂、浸渍辊涂、棒涂、刀涂、气刀涂布、帘涂、唇涂和模涂(关于其它粘合剂组合物的后述涂布方法也同样)。可以在覆盖薄膜20上的粘合剂层40上进一步层叠别的剥离衬垫。该剥离衬垫在光学薄膜10与粘合剂层40的贴合之前被剥离。
带覆盖薄膜30的粘合剂层50可通过在覆盖薄膜30上涂布第二粘合剂组合物(清漆)而形成涂膜后，将该涂膜干燥来形成。可以在覆盖薄膜30上的粘合剂层50上进一步层叠别的剥离衬垫。该剥离衬垫在光学薄膜10与粘合剂层50的贴合之前被剥离。
接着，将光学薄膜10的第一面11与带覆盖薄膜20的粘合剂层40的粘合剂层40侧进行贴合(第一贴合工序)。接着，将光学薄膜10的第二面12与带覆盖薄膜30的粘合剂层50的粘合剂层50侧进行贴合(第二贴合工序)。优选的是：在它们的贴合之前，对光学薄膜10的第一面11和第二面12、带覆盖薄膜20的粘合剂层40的露出面、以及带覆盖薄膜30的粘合剂层50的露出面进行等离子体处理。
如上操作，能够制造上述光学薄膜X1(带覆盖薄膜的光学薄膜)。光学薄膜X1在通过激光加工进行外形加工的情况下，如上所述地适合于抑制激光输出功率。激光切割能够高精度地对外形进行加工，因此，优选作为外形加工方法。
作为激光加工用激光，可列举出例如气体激光、固体激光和半导体激光。作为气体激光，可列举出例如准分子激光和CO2激光(10.6μm)(括弧内的数值表示激光波长。关于激光，以下同样)。作为准分子激光，可列举出例如F2准分子激光(157nm)、ArF准分子激光(193nm)、KrF准分子激光(248nm)和XeCl准分子激光(308nm)。作为固体激光，可列举出例如Nd:YAG激光(1064nm)、Nd:YAG激光的二次谐波(532nm)、Nd:YAG激光的三次谐波(355nm)和Nd:YAG激光的四次谐波(266nm)。作为半导体激光，可列举出例如波长405nm的半导体激光。在激光加工中，照射激光的脉冲宽度例如为0.5～50μ秒，脉冲的频率例如为1～200kHz，激光输出功率例如为2～250W。
图2的A～图2的D表示光学薄膜X1的使用方法的一例。
本方法中，首先如图2的A所示那样，从光学薄膜X1的粘合剂层50上剥离覆盖薄膜30。由此，粘合剂层50的粘合面51露出。
接着，如图2的B所示那样，借助粘合剂层50将光学薄膜10与第一构件M1(第一被粘物)进行接合。第一构件M1例如为柔性显示器面板所具有的层叠结构中的一个要素。作为该要素，可列举出例如像素面板、触摸面板和透明覆盖薄膜(关于后述第二构件M2，也同样)。针对在该接合工序中得到的层叠体，在本实施方式中，利用激光加工进行外形加工。优选的是：通过对图2B所示的层叠体的第一构件M1侧进行的厚度方向H的激光照射，从而将该层叠体沿着厚度方向H进行激光切割。作为激光加工用激光，可列举出例如气体激光、固体激光和半导体激光，具体而言如上所述。光学薄膜X1在剥离覆盖薄膜30后的该激光加工中，如上所述地适合于抑制激光输出功率。
接着，如图2的C所示那样，从粘合剂层40上剥离覆盖薄膜20。由此，粘合剂层40的粘合面41露出。
接着，如图2的D所示那样，借助粘合剂层40将光学薄膜10与第二构件M2(第二被粘物)进行接合。
例如，在柔性面板的制造过程中，如上那样地使用光学薄膜X1。
作为本发明的带覆盖薄膜的光学薄膜的第二实施方式的光学薄膜X2如图3所示那样，具备光学薄膜10、覆盖薄膜60(第一覆盖薄膜)、覆盖薄膜30(第二覆盖薄膜)、粘合剂层40(第一粘合剂层)和粘合剂层50(第二粘合剂层)。光学薄膜X2具有规定厚度的片形状，在与厚度方向H正交的方向(面方向)上扩展。具体而言，光学薄膜X2沿着厚度方向H依次具备覆盖薄膜60、粘合剂层40、光学薄膜10、粘合剂层50和覆盖薄膜30。
光学薄膜X2在具备带粘合剂层的光学薄膜Y2和带粘合剂层40的覆盖薄膜60来代替带粘合剂层的光学薄膜Y1和覆盖薄膜20这一点上与光学薄膜X1不同。带粘合剂层的光学薄膜Y2除了不具备粘合剂层40之外，与带粘合剂层的光学薄膜Y1相同。带粘合剂层40的覆盖薄膜60具备覆盖薄膜60、以及该覆盖薄膜60的厚度方向H的一面上的粘合剂层40。覆盖薄膜60为具有挠性的透明表面保护薄膜。粘合剂层40与带粘合剂层的光学薄膜Y2的光学薄膜10的第一面11接触。带粘合剂层40的覆盖薄膜60是以能够剥离的方式配置在带粘合剂层的光学薄膜Y2的第一面11上的带粘合剂层的表面保护薄膜。关于其它构成，光学薄膜X2与光学薄膜X1相同。
这种光学薄膜X2在可折叠显示器面板的制造过程中作为向该面板的层叠结构中组装的带粘合剂层的光学薄膜Y2的供给材料而使用。覆盖薄膜30在可折叠显示器面板的制造过程中在规定的时刻从带粘合剂层的光学薄膜Y2上被剥离。带粘合剂层40的覆盖薄膜60可以不从带粘合剂层的光学薄膜Y2上剥离。
作为覆盖薄膜60(表面保护薄膜)，可列举出例如兼具挠性和透明性的塑料薄膜。作为该塑料薄膜，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜和聚酯薄膜。
在光学薄膜X2中，光学薄膜10和覆盖薄膜60中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。优选光学薄膜10和覆盖薄膜60两者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
覆盖薄膜60在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且，在波长355nm处具有10％以下的透光率(透光率T3)时，适合于在光学薄膜X2中的硬质的覆盖薄膜60中确保激光吸收性，降低光学薄膜X2的外形加工所需的激光照射能量。从覆盖薄膜60的激光吸收性的观点出发，透光率T3优选为8％以下、更优选为6％以下、进一步优选为4％以下、特别优选为2％以下。透光率T3例如为0.1％以上。作为透光率T3的调整方法，可列举出例如调整覆盖薄膜60中的紫外线吸收剂的配混量。
在覆盖薄膜60中，从覆盖薄膜60的激光加工性的观点出发，杨氏模量E3(MPa)与上述透光率T3(％)的乘积(E3×T3)优选为1×105以下、更优选为0.7×105以下、进一步优选为0.4×105以下、更进一步优选为0.3×105以下、特别优选为0.25×105以下。乘积(E3×T3)例如为0.01×105以上。
在光学薄膜X2中，选自由覆盖薄膜60、粘合剂层40、光学薄膜10和粘合剂层50组成的组中的至少一者是波长355nm处的透光率为80％以上的高透过层。并且，高透过层的厚度(存在多个高透过层时，是全部高透过层的总厚度)相对于覆盖薄膜60、粘合剂层40、光学薄膜10和粘合剂层50的总厚度的比例R2小于88％。这种构成适合于确保光学薄膜X2整体的激光吸收性。从确保光学薄膜X2整体的激光吸收性的观点出发，比例R2优选为85％以下、更优选为82％以下、进一步优选为80％以下、特别优选为78％以下。比例R2例如为10％以上。
关于光学薄膜X2中的光学薄膜10、覆盖薄膜30和粘合剂层40、50，与光学薄膜X2中的光学薄膜10、覆盖薄膜30和粘合剂层40、50相同。
以上那样的光学薄膜X2如后述实施例和比较例所示那样，适合于抑制基于激光加工的外形加工时的激光输出功率。
光学薄膜10在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量(杨氏模量E1)对于在光学薄膜10中确保在可折叠显示器面板用途所要求的强度而言是优选的。从确保光学薄膜10的强度的观点出发，杨氏模量E1优选为2500MPa以上、更优选为2800MPa以上、进一步优选为3000MPa以上。从在光学薄膜10中确保可折叠显示器面板用途所要求的挠性的观点出发，杨氏模量E1优选为10000MPa以下、更优选为7000MPa以下、进一步优选为5000MPa以下、更进一步优选为4000MPa以下、特别优选为3500MPa以下。杨氏模量的测定方法如针对实施例而在后面说明的那样。
在光学薄膜10中，从利用激光对光学薄膜10进行加工的容易度(激光加工性)的观点出发，杨氏模量E1(MPa)与上述透光率T1(％)的乘积(E1×T1)优选为1×105以下、更优选为0.7×105以下、进一步优选为0.4×105以下、更进一步优选为0.3×105以下、特别优选为0.25×105以下。乘积(E1×T1)例如为0.01×105以上。
覆盖薄膜60在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量(杨氏模量E3)对于确保利用覆盖薄膜60来保护带粘合剂层的光学薄膜Y2的功能而言是优选的。从确保覆盖薄膜60的保护功能的观点出发，杨氏模量E2优选为3000MPa以上、更优选为4000MPa以上、进一步优选为5000MPa以上。从确保覆盖薄膜60的挠性的观点出发，杨氏模量E3优选为10000MPa以下、更优选为8000MPa以下、进一步优选为6000MPa以下、特别优选为5500MPa以下。
从在显示器面板中通过降低光反射而确保良好外观的观点出发，光学薄膜X2的光透射比Y优选为60％以下、更优选为50％以下、进一步优选为45％以下。从抑制显示器面板的光取出效率降低的观点出发，优选为20％以上、更优选为30％以上、进一步优选为40％以上。
从在带粘合剂层的光学薄膜Y2被组装至显示器面板的层叠结构中后抑制在该面板的图像显示区域发生干涉的观点出发，在光学薄膜X2中，将覆盖薄膜30转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的厚度方向H的激光切割而产生的切割部位，与厚度方向H正交的面方向上的、粘合剂层40自光学薄膜10的端部边缘10a的后退长度(面方向上的端部边缘10a与粘合剂层40的端部边缘40a之间的距离)优选为10μm以下、更优选为7μm以下、进一步优选为5μm以下、更进一步优选为3μm以下、特别优选为1μm以下、极其优选为0μm。
从在带粘合剂层的光学薄膜Y2被组装至显示器面板的层叠结构中后抑制该面板的图像显示区域发生干涉的观点出发，在光学薄膜X2中，将覆盖薄膜30转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的厚度方向H的激光切割而产生的切割部位，面方向上的、粘合剂层50自光学薄膜10的端部边缘10a的后退长度(面方向上的端部边缘10a与粘合剂层50的端部边缘50a之间的距离)优选为10μm以下、更优选为7μm以下、进一步优选为5μm以下、更进一步优选为3μm以下、特别优选为1μm以下、极其优选为0μm。
光学薄膜X2例如可如下操作来制造。
首先，准备光学薄膜10、带覆盖薄膜30的粘合剂层50和带粘合剂层40的覆盖薄膜60(准备工序)。带覆盖薄膜30的粘合剂层50的形成方法如针对第一实施方式而在上面记载的那样。
在带粘合剂层40的覆盖薄膜60的形成中，首先，对覆盖薄膜60的表面进行等离子体处理。接着，在覆盖薄膜60的等离子体处理面上涂布规定的粘合剂组合物(清漆)而形成涂膜后，将该涂膜干燥。由此，得到带粘合剂层40的覆盖薄膜60。可以在覆盖薄膜60上的粘合剂层40上进一步层叠别的剥离衬垫。该剥离衬垫在光学薄膜10与粘合剂层40的贴合之前被剥离。
接着，将光学薄膜10的第二面12与带覆盖薄膜30的粘合剂层50的粘合剂层50侧进行贴合(第一贴合工序)。优选的是：在该贴合之前，对光学薄膜10的第二面12和带覆盖薄膜30的粘合剂层50的露出面进行等离子体处理。
接着，将光学薄膜10的第一面11与带粘合剂层40的覆盖薄膜60的粘合剂层40侧进行贴合(第二贴合工序)。
如上那样操作，能够制造上述光学薄膜X2(带覆盖薄膜的光学薄膜)。光学薄膜X2在通过激光加工进行外形加工的情况下，如上所述地适合于抑制激光输出功率。
图4的A和图4的B表示光学薄膜X2的使用方法的一例。
本方法中，首先，如图4的A所示那样，从光学薄膜X2的粘合剂层50上剥离覆盖薄膜30。由此，粘合剂层50的粘合面51露出。
接着，如图4的B所示那样，借助粘合剂层50将光学薄膜10与第一构件M1(第一被粘物)进行接合。第一构件M1例如为柔性面板所具有的层叠结构中的一个要素。作为该要素，可列举出例如像素面板和触摸面板。针对该接合工序中得到的层叠体，在本实施方式中，利用激光加工进行外形加工。优选的是：通过对图4B所示的层叠体的第一构件M1侧进行的厚度方向H的激光照射，从而将该层叠体沿着厚度方向H进行激光切割。作为激光加工用的激光，可列举出例如气体激光、固体激光和半导体激光，详情如上所述。光学薄膜X2在剥离覆盖薄膜30后的该激光加工中，如上所述地适合于抑制激光输出功率。
例如，在柔性面板的制造过程中，光学薄膜X2如上那样地加以使用。
实施例
针对本发明，以下示出实施例进行具体说明。其中，本发明不限定于实施例。另外，以下记载的配混量(含量)、物性值、参数等的具体数值可替换成在上述“具体实施方式”中记载的、与它们对应的配混量(含量)、物性值、参数等的上限(以“以下”或“小于”的形式定义的数值)或下限(以“以上”或“超过”的形式定义的数值)。
〈第一丙烯酸类基础聚合物的制备〉
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)64质量份、丙烯酸正丁酯(BA)30质量份、丙烯酸月桂酯(LA)4质量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA)1质量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)1质量份、作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)0.3质量份和作为溶剂的乙酸乙酯的混合物在56℃下、氮气气氛下搅拌6小时(聚合反应)。由此，得到含有第一丙烯酸类基础聚合物的第一聚合物溶液。该聚合物溶液中的第一丙烯酸类基础聚合物的重均分子量为约200万。
〈第二丙烯酸类基础聚合物的制备〉
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)96.2质量份、丙烯酸2-羟基乙酯(HEA)3.8质量份、作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)0.3质量份和作为溶剂的乙酸乙酯150质量份的混合物在65℃下、氮气气氛下搅拌6小时(聚合反应)。由此，得到含有第二丙烯酸类基础聚合物的第二聚合物溶液。该聚合物溶液中的第二丙烯酸类基础聚合物的重均分子量为约54万。
〈丙烯酸类低聚物的制备〉
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含甲基丙烯酸环己酯(CHMA)95质量份、丙烯酸(AA)5质量份、作为链转移剂的α-甲基苯乙烯二聚物10质量份和作为溶剂的甲苯的混合物在室温下、氮气气氛下搅拌1小时。其后，向混合物中添加作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)10质量份，制备反应溶液，在氮气气氛下、85℃下使其反应5小时(丙烯酸类低聚物的形成)。由此，得到含有丙烯酸类低聚物的低聚物溶液(固体成分浓度为50质量％)。丙烯酸类低聚物的重均分子量为4000。另外，丙烯酸类低聚物的玻璃化转变温度(Tg)为84℃。
〈粘合剂组合物C1的制备〉
在上述第一聚合物溶液中，相对于该聚合物溶液中的第一丙烯酸类基础聚合物100质量份，添加丙烯酸类低聚物1.5质量份、第一交联剂(品名“NIPER BMT-40SV”、过氧化二苯甲酰、日本油脂公司制)0.26质量份、第二交联剂(品名“CORONATE L”、甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合体、东曹公司制)0.02质量份和硅烷偶联剂(品名“KBM-403”、信越化学工业公司制)0.3质量份并混合，制备粘合剂组合物C1。
〈粘合剂组合物C2的制备〉
进一步配混紫外线吸收剂(品名“TINOSORB S”、BASF公司制)0.04质量份，除此之外，与粘合剂组合物C1同样操作，制备粘合剂组合物C2。
〈粘合剂组合物C3的制备〉
进一步配混紫外线吸收剂(品名“TINOSORB S”、BASF公司制)0.175质量份，除此之外，与粘合剂组合物C1同样操作，制备粘合剂组合物C3。
〈第一粘合片的制作〉
在单面经有机硅剥离处理的剥离衬垫L1的剥离处理面上，涂布粘合剂组合物C1而形成涂膜。剥离衬垫L1是单面经有机硅剥离处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(品名“DIAFOIL MRV75T500(SJUV04T-CT)”、厚度75μm、三菱化学公司制)，添加有规定的紫外线吸收剂。接着，在剥离衬垫L1上的涂膜上贴合单面经有机硅剥离处理的剥离衬垫L2的剥离处理面。剥离衬垫L2是单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MHE50”、厚度50μm、三菱化学公司制)。接着，通过100℃、1分钟的加热以及其后的150℃、3分钟的加热对被剥离衬垫L1和剥离衬垫L2夹持的涂膜进行干燥，形成厚度50μm的由透明的粘合剂层C1’形成的第一粘合片。如上操作，制作带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片(剥离衬垫L1/粘合剂层C1’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。
使用剥离衬垫L3来代替剥离衬垫L1，除此之外，与带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片同样操作，制作带剥离衬垫L3、L2的第一粘合片(剥离衬垫L3/粘合剂层C1’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。剥离衬垫L3是单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MRV75”、厚度75μm、三菱化学公司制)，其未添加紫外线吸收剂。
使用剥离衬垫L4来代替剥离衬垫L1，除此之外，与带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片同样操作，制作带第一剥离衬垫L4、L2的第一粘合片(剥离衬垫L4/粘合剂层C1’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。剥离衬垫L4是单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOILMRV125”、厚度125μm、三菱化学公司制)，其未添加紫外线吸收剂。
使用剥离衬垫L4来代替剥离衬垫L1，且将粘合剂组合物C1’的厚度设为250μm，除此之外，与带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片同样操作，制作带第二剥离衬垫L4、L2的第一粘合片(剥离衬垫L4/粘合剂层C1’(厚度250μm)/剥离衬垫L2)。
使用剥离衬垫L5来代替剥离衬垫L1，除此之外，与带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片同样操作，制作带剥离衬垫L5、L2的第一粘合片(剥离衬垫L5/粘合剂层C1’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。剥离衬垫L5是单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MRV50”、厚度50μm、三菱化学公司制)，其未添加紫外线吸收剂。
〈第二粘合片的制作〉
在剥离衬垫L3的剥离处理面上涂布粘合剂组合物C2而形成涂膜。接着，在剥离衬垫L3上的涂膜上贴合剥离衬垫L2的剥离处理面。接着，通过100℃、1分钟的加热以及其后的150℃、3分钟的加热对被剥离衬垫L3和剥离衬垫L2夹持的涂膜进行干燥，形成厚度50μm的由透明的粘合剂层C2’形成的第二粘合片。如上操作，制作带剥离衬垫L3、L2的第二粘合片(剥离衬垫L3/粘合剂层C2’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。
〈第三粘合片的制作〉
在剥离衬垫L1的剥离处理面上涂布粘合剂组合物C3而形成涂膜。接着，在剥离衬垫L1上的涂膜上贴合剥离衬垫L2的剥离处理面。接着，通过100℃、1分钟的加热以及其后的150℃、3分钟的加热而将被剥离衬垫L1和剥离衬垫L2夹持的涂膜干燥，形成厚度50μm的由透明的粘合剂层C3’形成的第三粘合片。如上操作，制作带剥离衬垫L1、L2的第三粘合片(剥离衬垫L1/粘合剂层C3’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。
另一方面，使用剥离衬垫L3来代替剥离衬垫L1，除此之外，与带剥离衬垫L1、L2的第三粘合片同样操作，制作带剥离衬垫L3、L2的第三粘合片(剥离衬垫L3/粘合剂层C3’(厚度50μm)/剥离衬垫L2)。
〔实施例1〕
首先，从带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片上剥掉剥离衬垫L2，对由此露出的露出面进行等离子体处理。另一方面，厚度31μm的偏光薄膜的两面(第一面、第二面)也进行等离子体处理。在各等离子体处理中，使用等离子体照射装置(品名“AP-TO5”、积水工业公司制)，将电压设为160V，将频率设为10kHz，将处理速度设为5000mm/分钟(在后述等离子体处理中也同样)。并且，将第一粘合片的上述露出面与偏光薄膜的第一面进行贴合。在该贴合中，通过在25℃的环境下使2kg的辊来回一次的操作而使带剥离衬垫L1的第一粘合片与偏光薄膜进行压接。
接着，从带剥离衬垫L5、L2的第一粘合片上剥掉剥离衬垫L2，对由此露出的露出面进行等离子体处理。并且，将第一粘合片的露出面与偏光薄膜的第二面进行贴合。在该贴合中，通过在25℃的环境下使2kg的辊来回一次的操作而使带剥离衬垫L5的第一粘合片与偏光薄膜进行压接。
如上操作，制作实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜。该带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L1(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。第一粘合剂层、偏光薄膜和第二粘合剂层形成了两面带粘合剂层的偏光薄膜(在后述实施例2～5和比较例1、2中也同样)。
〔实施例2〕
使用带剥离衬垫L1、L2的第三粘合片来代替带剥离衬垫L1、剥离衬垫L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作实施例2的带覆盖薄膜的光学薄膜。实施例2的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L1(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第三粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔实施例3〕
使用带剥离衬垫L3、L2的第一粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作实施例3的带覆盖薄膜的光学薄膜。实施例3的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L3(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔实施例4〕
使用带剥离衬垫L3、L2的第二粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作实施例4的带覆盖薄膜的光学薄膜。实施例4的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L3(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第二粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔实施例5〕
使用带剥离衬垫L3、L2的第三粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作实施例5的带覆盖薄膜的光学薄膜。实施例5的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L3(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第三粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔比较例1〕
使用带第一剥离衬垫L4、L2的第一粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作比较例1的带覆盖薄膜的光学薄膜。比较例1的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L4(厚度125μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔比较例2〕
使用带第二剥离衬垫L4、L2的第一粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作比较例2的带覆盖薄膜的光学薄膜。比较例2的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L4(厚度125μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度250μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔实施例6〕
使用基材薄膜(品名“Lumirror S10”、PET薄膜、厚度50μm、东丽公司制)来代替偏光薄膜，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作实施例6的带覆盖薄膜的光学薄膜。实施例6的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L1(厚度75μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的基材薄膜(厚度50μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。第一粘合剂层、基材薄膜和第二粘合剂层形成了具有芯基材的两面粘合片(在后述比较例3中也同样)。
〔比较例3〕
使用带第一剥离衬垫L4、L2的第一粘合片来代替带剥离衬垫L1、L2的第一粘合片，并且，使用基材薄膜(品名“Lumirror S10”、PET薄膜、厚度50μm、东丽公司制)来代替偏光薄膜，除此之外，与实施例1的带覆盖薄膜的光学薄膜同样操作，制作比较例3的带覆盖薄膜的光学薄膜。比较例3的带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为第一覆盖薄膜的剥离衬垫L4(厚度125μm)、作为第一粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为光学薄膜的基材薄膜(厚度50μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)和作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。
〔实施例7〕
<带粘合剂层的覆盖薄膜的制作>
首先，在第二聚合物溶液中，相对于该聚合物溶液中的第二丙烯酸类基础聚合物100质量份，添加第四交联剂(品名“CORONATE HX”、六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体、东曹公司制)5质量份和作为交联催化剂的二月桂酸二丁基锡0.03质量份并混合，制备粘合剂组合物C4。
接着，在单面经电晕处理的表面保护薄膜(品名“T100C-38”、聚酯薄膜、厚度38μm、三菱化学公司制)的电晕处理面上，涂布粘合剂组合物C4而形成涂膜。接着，在表面保护薄膜上的涂膜上贴合剥离衬垫L4的剥离处理面。剥离衬垫L4是单面经有机硅剥离处理的聚酯薄膜(厚度25μm)。接着，通过130℃、2分钟的加热对被两张薄膜夹持的涂膜进行干燥，形成厚度10μm的透明的粘合剂层C4’。其后，从粘合剂层C4’上剥掉剥离衬垫L4。如上操作，制作带粘合剂层的表面保护薄膜(带粘合剂层的覆盖薄膜)。
<带覆盖薄膜的光学薄膜的制作>
首先，从带剥离衬垫L5、L2的第一粘合片上剥掉剥离衬垫L2，对由此露出的露出面进行等离子体处理。另一方面，对厚度31μm的偏光薄膜的两面(第一面、第二面)也进行等离子体处理。并且，将第一粘合片的上述露出面与偏光薄膜的第二面进行贴合。在该贴合中，通过在25℃的环境下使2kg的辊来回一次的操作而使带剥离衬垫L5的第一粘合片与偏光薄膜进行压接。
接着，将上述带粘合剂层的表面保护薄膜的粘合剂层侧与偏光薄膜的第一面进行贴合。在该贴合中，通过在25℃的环境下使2kg的辊来回一次的操作而使带粘合剂层的表面保护薄膜与偏光薄膜进行压接。
如上操作，制作实施例7的带覆盖薄膜的光学薄膜。该带覆盖薄膜的光学薄膜沿着厚度方向依次具备作为带第一粘合剂层的第一覆盖薄膜的带粘合剂层(厚度10μm)的表面保护薄膜(厚度38μm)、作为光学薄膜的偏光薄膜(厚度31μm)、作为第二粘合剂层的第一粘合片(厚度50μm)、作为第二覆盖薄膜的剥离衬垫L5(厚度50μm)。偏光薄膜和第二粘合剂层形成了单面带粘合剂层的偏光薄膜。
〈透光率〉
针对实施例1～7和比较例1～3中使用的各薄膜和各粘合剂层，利用分光光度计(品名“U-4100”、日立高新科技公司制)，测定波长355nm处的透光率T。将测定温度设为23℃。在粘合剂层的透光率测定中，使用将粘合剂层贴合于玻璃板而得到的测定样品，并且，将在相同条件下仅对玻璃板进行测定而得到的透过率作为基线。将测定结果示于表1、2。另外，将第一覆盖薄膜、第一粘合剂层、光学薄膜和第二粘合剂层的总厚度(示于表1、2)中的高透过层(波长355nm处的透光率为80％以上的层)的厚度的比例R(％)和低透过层(波长355nm处的透光率小于80％的层)的厚度的比例R’(％)也示于表1。
〈光透射比Y〉
针对实施例1～7和比较例1～3的带覆盖薄膜的光学薄膜，使用分光光度计(品名“U-4100”、日立高新科技公司制)来测定光透射比Y。具体而言，利用分光光度计，测定带覆盖薄膜的光学薄膜的可见光(280nm～780nm)的透射光谱，由所得透射光谱来计算光透射比Y(％)。将测定结果示于表1、2。
〈杨氏模量〉
针对实施例1～7和比较例1～3中使用的各薄膜和各粘合剂层，调查23℃下的杨氏模量。详情如下所示。
首先，从测定对象(薄膜、粘合剂层)中切出试验片(宽度10mm×规定长度)。接着，针对试验片，在23℃和相对湿度为50％的环境下，使用拉伸试验机(品名“Autograph AGS-J”、岛津制作所制)进行拉伸试验，测定在拉伸过程中产生的拉伸应力。本拉伸试验中，将初始卡盘间距离设为10mm，将拉伸速度设为200mm/分钟。并且，根据拉伸变形量(ε1)为0.05％(＝0.0005)时的拉伸应力σ1和拉伸变形量(ε2)为0.25％(＝0.0025)时的拉伸应力σ2，根据下述式来求出杨氏模量E。将求出的杨氏模量E(MPa)示于表1、2。另外，针对各薄膜和各粘合剂层，将杨氏模量E(MPa)与透光率T(％)的乘积的值也示于表1、2。
E＝(σ2-σ1)/(ε2-ε1)
〈激光加工〉
针对实施例1～7和比较例1～3的带覆盖薄膜的光学薄膜，调查激光加工性。详情如下所示。
首先，在带覆盖薄膜的光学薄膜中，从第二粘合剂层上剥离第二覆盖薄膜后，将由此露出的第二粘合剂层的露出面贴合于厚度25μm的聚酰亚胺(PI)薄膜(品名“UPILEX”、宇部兴产公司制)，得到层叠体。接着，使用COHERENT公司制的具备振荡器的皮秒激光加工装置(最大激光输出功率为4W)，对层叠体实施(试行)多次边从PI薄膜侧沿着层叠体的厚度方向照射激光边沿着切割预定线扫描激光照射部位的切割用工艺。在各切割用工艺中，使用波长355nm的皮秒激光，将激光频率设为50kHz，将脉冲宽度设为0.2μm，将装置的激光衰减器(衰减机)设定为规定的输出功率，由此，将激光输出功率调节至规定值，将扫描速度设为10mm/秒，将沿着切割预定线的激光照射的扫描次数设为3。在切割用工艺的多次试行之中的最初试行时，将激光衰减器(LA)输出功率设为100％，每次试行依次降低LA输出功率，反复试行直至以规定的LA输出功率切断层叠体为止。将能够切断层叠体的最大LA输出功率(％)示于表1、2。另外，将最大LA输出功率时的激光输出功率相对于最大激光输出功率(4W)的比率作为切割激光输出功率(％)而示于表1、2(切割激光输出功率越小，则意味着越容易被切断)。
〈粘合剂层的后退长度〉
针对上述激光加工后的实施例1～7和比较例1～3的带覆盖薄膜的光学薄膜(第一覆盖薄膜/第一粘合剂层/光学薄膜/第二粘合剂层/PI薄膜)，如下那样地调查自光学薄膜的端部边缘起的第一粘合剂层的后退长度和第二粘合剂层的后退长度。
首先，从第一粘合剂层上剥离第一覆盖薄膜。接着，利用光学显微镜来观察从PI薄膜上的两面带粘合剂层的光学薄膜的外周端选择的规定部位。具体而言，对于两面带粘合剂层的光学薄膜，利用光学显微镜，从与PI薄膜相反的一侧沿着两面带粘合剂层的光学薄膜的厚度方向进行观察并拍摄。并且，在所拍摄的图像中，测定自光学薄膜的端部边缘起的面方向上的第一粘合剂层的端部边缘的后退长度d1和自光学薄膜的该端部边缘起的面方向上的第二粘合剂层的端部边缘的后退长度d2。将测定结果示于表1、2。
[表1]
Figure BDA0004013829540000361
[表2]
Figure BDA0004013829540000371
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Claims (8)

1.一种带覆盖薄膜的光学薄膜，其沿着厚度方向依次具备第一覆盖薄膜、第一粘合剂层、光学薄膜、第二粘合剂层和第二覆盖薄膜，
所述第一覆盖薄膜和所述光学薄膜中的至少一者在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率，
选自由所述第一覆盖薄膜、所述第一粘合剂层、所述光学薄膜和所述第二粘合剂层组成的组中的至少一者是波长355nm处的透光率为80％以上的高透过层，所述至少一个高透过层的厚度相对于所述第一覆盖薄膜、所述第一粘合剂层、所述光学薄膜和所述第二粘合剂层的总厚度的比例小于88％。
2.根据权利要求1所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，所述第一覆盖薄膜在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
3.根据权利要求2所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，所述第一覆盖薄膜的所述杨氏模量(MPa)与所述透光率(％)的乘积为1×105以下。
4.根据权利要求1所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，所述第一覆盖薄膜和所述光学薄膜在23℃下具有2000MPa以上的杨氏模量，并且在波长355nm处具有10％以下的透光率。
5.根据权利要求4所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，所述第一覆盖薄膜和所述光学薄膜各自的所述杨氏模量(MPa)与所述透光率(％)的乘积为1×105以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其光透射比Y为60％以下。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，在将所述第二覆盖薄膜转贴至厚度25μm的聚酰亚胺薄膜后，在通过来自该聚酰亚胺薄膜侧的所述厚度方向的激光切割而产生的切割部位，与所述厚度方向正交的面方向上的、所述第一粘合剂层和所述第二粘合剂层自所述光学薄膜的端部边缘的后退长度为10μm以下。
8.根据权利要求1～5中任一项所述的带覆盖薄膜的光学薄膜，其中，所述光学薄膜为偏光薄膜。
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