CN1163937C

CN1163937C - 涂料以及采用该涂料的电子管

Info

Publication number: CN1163937C
Application number: CNB991023390A
Authority: CN
Inventors: 堀川晃宏; 雄; 大畠積; 三舩達雄
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1998-02-16
Filing date: 1999-02-13
Publication date: 2004-08-25
Anticipated expiration: 2019-02-13
Also published as: EP0936654A2; EP0936654A3; US6579571B2; US20020031611A1; CN1226737A; US6333595B1

Abstract

一种电子管的制造方法，其特征在于，涂料的氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下，粒度分布形状在D40至D60间的粒子体积分布占整体的20%以上，用这种涂料进行涂敷，即使涂敷重量小也能形成被覆率高的电子束反射膜，采用压电元件振动的方法作为向喷雾器喷嘴提供涂料的手段，或保持喷嘴器中心与涂料贮藏部液面的高低差不变，同时仅改变喷嘴的角度使喷雾器喷嘴进行扫描，以此进行涂敷。

Description

涂料以及采用该涂料的电子管

技术领域

本发明涉及涂料以及采用该涂料的电子管，该电子管应用于电视机或计算机。

背景技术

已往，已知的电子管制造方法有特开平59-94325号公报所述的方法。图1示出电视机或计算机用电子管的结构。1为荫罩，1a为电子枪侧的荫罩面，2为电子枪，3为荧光面，4为电子束，5为电子管。金属材料制作的荫罩具有大量开孔，设计成与荧光层一一对应。一旦电子管工作时，电子枪发射的电子束就通过电子束通孔轰击荧光面，映出所需图像。

然而，大部分电子不能通过开孔而轰击荫罩，由此，电子动能以热能传递给荫罩，其结果将荫罩加热到70℃以上的温度。荫罩随所述温度的上升而热膨胀，设于荫罩的开孔部与荧光面的位置关系发生偏差，其弊端是产生色差和辉度下降。这种因电子束轰击使荫罩热膨胀而产生的弊端现象称为“拱起现象”。

为消除上述弊端，已往的方式是，采用含有原子序数大于等于70的元素的涂料，特别是反射电子效果(下面，称为“电子反射效应”)大的氧化铋粉末等最为合适，将其涂敷于荫罩的电子枪侧的表面1a，形成电子束反射膜。就电子反射效应而言，已经知道，原子序数越大的元素，其效果越好，通过将这种效果大的氧化铋粉末等涂料涂敷于电子枪侧的荫罩面1a，就能反射要轰击荫罩的电子束。作为这种电子束反射膜的形成方法，一般采用喷涂法，为了防止喷嘴和管道内产生淀积，采用输液能力强的磁泵将电子束反射膜用涂料供给喷嘴，一边使喷嘴扫描一边对荫罩进行涂敷。这样一来，由于在电子枪侧的荫罩面形成电子束反射膜，故能防止荫罩温度上升，从而能消除因“拱起”产生色差等弊端。

另外，关于表面涂层，涂敷含有SiO₂和ITO的表面涂敷用涂料，利用它们不同的折射率和导电性，能获得低反射功能和防止带电功能。涂敷方法有喷涂法和旋涂法，但喷涂法难以获得致密均匀的涂膜，故一般采用旋涂法。

但是，已往的电子束反射膜用涂料用球磨机等加以旋转分散进行制作，这种方法制作的涂料分散处理后易引起二次凝聚，其结果引起淀积或涂敷装置内的堵塞等，使喷嘴的喷出量不稳定，存在的问题是难以形成细密均匀的电子束反射膜。另外，作为其它分散法，可列举出混砂机等，但采用这种媒体的分散机的问题是，在分散中会削去媒体本身，从而混入材料之中，同时会破坏材料的形状，产生新的界面，从而使涂料的分散形状不稳定。

而且，已有技术的电子束一反射膜用涂料平均粒径大，粒度分布极不稳定，为了形成被覆率高的电子束反射膜，按照特开昭59-94325号公报的记载，需要涂敷大量的涂敷重量大于等于0.2mg/cm²的涂敷，其结果在电子管作成后产生的问题是，在电子管内会发生电子束反射膜从荫罩表面剥离，电子管内发生污染，从而使图像质量下降。

对于已往的利用喷涂法产生电子束反射膜的涂敷方法，可用输液能力高的磁泵等对电子束反射膜用涂料加以循环并供给喷嘴，但在该方法中，其问题是，泵喷出压力的变化会影响喷嘴的喷出状态，其结果喷出量的变化易引起涂敷不均匀等，从而难以形成致密均匀的电子束反射膜。而且，在涂敷电子束反射膜时，供给喷嘴的涂料供给压力会随喷嘴的喷出量也随之变化，与上述一样，出现的问题是，易引起涂敷不均匀等，难以形成致密均匀的电子束反射膜。

在利用喷涂法向玻璃面板表面涂敷表面涂层用涂料中，为了具有低反射功能和防止带电功能，必须要有更致密的涂敷，但已有技术喷涂法的方法易于发生涂敷不均匀等，故难以充分实现具有上述功能的表面涂层。而若用旋涂法涂敷表面涂层用涂料时，问题是涂敷效率低且费用高。

发明内容

本发明的目的在于通过形成致密均匀的电子束反射膜抑制“拱起”来提高图像质量，提供良好的电子管制造方法。本发明目的还在于利用涂敷效率高化费低的喷涂法形成致密均匀的表面涂覆膜，提供良好的电子管制造方法。

如第1方面所述的发明，是一种涂料，其特征在于，氧化铋为分散状态，设粒子的整体体积为100％，从粒径小的粒子起进行积累，占粒子整体的体积50％时的粒径为0.1μm以上0.6μm以下，并且具有占所述整体体积40％时的粒径到占所述整体体积60％时的粒径的粒子为，所述整体体积的20％-50％，同时，固体比率在5％-20％。由于铋粒子的粒径没有偏差，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜。由于固体比率在20％以下，不会发生孔眼堵塞或液体滴流，能形成致密被覆率高的电子束反射膜。

如第2方面所述的发明，是一种涂料，其特征在于，将水作为溶媒(溶剂)分散氧化铋，氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下，且粒度分布形状在D40至D60之间的粒子的体积分布占整个的20％以上，与上述一样，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜。

如第3方面所述的发明，是一种涂料，其特征在于，以水为溶媒并以水玻璃为粘合剂分散氧化铋，氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下，且粒度分布形状在D40至D60之间的粒子的体积分布占整个的20％以上，与上述一样，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜。

如第4方面所述的发明，是一种涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇为溶媒分散氧化铋，氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下，且粒度分布形状在D40至D60之间的粒子的体积分布占整个的20％以上，与上述一样，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜。

如第5方面所述的发明，是一种涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇为溶媒并取二氧化硅的醇化物为粘合剂分散氧化铋，氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下，且粒度分布形状在D40至D60之间的粒子的体积分布占整个的20％以上，与上述一样，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜。

如第6方面所述的发明，是一种电子管，其特征在于，在荫罩的电子束照射面涂敷有如第1方面所述的涂料，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜，对“拱起现象”具有足够的抑制效果，从而提供良好的图像质量(以下称为“画质”)。

如第7方面所述的发明，是在所述第6方面的电子管中，其特征在于，涂敷在荫罩的电子束照射面的所述的涂料的重量小于0.2mg/cm²，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜，对“拱起现象”具有足够的抑制效果，从而提供良好的图像质量。

如第8方面所述的发明，是在所述第6方面的电子管中，其特征在于，由所述涂料形成被覆率为40％以上的电子束反射膜，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜，对“拱起现象”具有足够的抑制效果，从而提供良好的图像质量。

如第9方面所述的发明，在所述第6方面的电子管中，其特征在于，利用线速度30m/s以上的搅拌机使得所述涂料为分散处理状态，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的电子束反射膜，对“拱起现象”具有足够的抑制效果，从而提供良好的图像质量。

附图说明

图1为已有技术例电子管结构的剖面图；

图2为本发明实施形态2中分散处理机的结构图；

图3为本发明实施形态2中涂敷离心力分散处理、混砂机分散处理、及未处理的涂料时不同处理法和被覆率的关系图；

图4为本发明实施形态4中压电泵的结构图；

图5为本发明实施形态4中喷雾涂敷装置的结构图；

图6为本发明实施形态4中涂敷状态相对于涂敷方向的关系图；

图7为本发明实施形态4中利用精密阀的涂料供给压力控制系统的结构图；

图8表示本发明实施形态5中保持涂料液面与喷嘴的高低差不变而使喷嘴角度变化的涂敷方法；

图9为本发明实施形态5中泵与喷嘴一体化后的涂敷系统的结构图。

具体实施方式

(实施形态1)

在本实施例中将含有氧化铋、水玻璃和水的涂料进行分散处理制成电子束反射膜用涂料。表1显示将铋粒子的平均粒径D50为0.4μm、D40～D60的体积分布不同的涂料涂敷于荫罩的电子束照射面时，“拱起”抑制效果的评价结果。

表1

	涂敷重量(mg/cm²)
	涂敷重量(mg/cm²)							D40～D60体积分布	0.5	0.4	0.3	0.2	0.15	0.1	0.05
50％	○	○	○	○	◎	◎	△	D40～D60体积分布	0.5	0.4	0.3	0.2	0.15	0.1	0.05
50％	○	○	○	○	◎	◎	△	30％	○	○	○	○	◎	○	△
20％	○	○	○	○	○	○	×	30％	○	○	○	○	◎	○	△
20％	○	○	○	○	○	○	×	15％	××	××	××	×	×	×	×

×：拱起不良；××孔堵塞不良

利用荫罩产生热膨胀前后的电子束移动量来评价拱起抑制效果。热膨胀越大电子束移动量越大，作为判别基准，若电子束移动量小于60μm，则认为对画质的不利影响很小，具有良好的拱起抑制效果。从表1可见，采用D40～D60的体积分布大于等于20％的涂料且涂敷重量大于等于0.1mg/cm²，荫罩孔不会堵塞，能获得良好的拱起抑制结果。与此相反，采用D40～D60的体积分布小于20％的涂料，由于涂料所含铋粒子的粒径不均匀，故不能形成致密被覆率高的涂膜，在0.2mg/cm²以下会产生不良的拱起。因此，若要获得更高的拱起抑制效果，则涂敷0.2mg/cm²以上的涂敷重量，但会产生不良的荫罩孔堵塞。

从上述可见，在涂敷D40～D60体积分布在20％以上的涂料情况下，由于能形成致密被覆率高的电子束反射膜，故能以小涂敷重量获得好的拱起抑制效果，其结果不会发生膜的自然剥离而能获得良好的画质。

在高清晰度和高分辨率大型电视机用高规格中，要求更高的拱起抑制效果，而且由于孔距缩短，更希望涂敷方法不产生孔堵塞。对于这种高规格，要求在小涂敷重量下形成致密被覆率高的电子束反射膜，故希望涂敷范围在表1中的涂敷重量在0.1mg/cm²以上0.2mg/cm²以下。

这里示出涂敷的涂料为平均粒径D50＝0.4μm、固体比率为10％的情况，但对于D50在0.1μm以上0.6μm以下、固体比率在5％以上20％以下的涂料，确认可获得同样的结果。对于D50未满0.1μm的涂料，由于铋粒子粒径过小，电子束易于通过铋粒子而减小电子束反射效果，另一方面剥落的铋粒子从荫罩孔落入玻屏侧，易于使画质下降。对于固体比率小于5％的涂料，由于水份过多，易于产生滴液。难以涂敷获得足够拱起抑制效果的涂敷重量。

(实施形态2)

在本实施例中，用线速度30m/s以上的搅拌机分散处理含有氧化铋、水玻璃和水的材料，制成电子束反射膜用涂料。水玻璃起粘合剂的作用粘接氧化铋和荫罩，作为举例，主要有硅酸钠，硅酸钾，硅酸锂等。这里采用其中粘接力最强的硅酸钠。

下面，参照附图说明电子束反射膜用材料的分散方法。图2为分散处理机的结构图。6为搅拌叶，7为容器，8为涂料。使搅拌叶6旋转，利用离心力使涂料8靠近容器侧面进行分散处理(下面，称为离心力分散)。该方法能以高线速度进行分散处理，由于不用媒体，故能量效率极高。

表2示出利用混砂机及上述离心力分散对含有氧化铋、水玻璃及水的电子束反射膜用材料加以处理情况下的平均粒径及pH值。这里示出的平均粒径是由激光衍射式测定装置测定的D50值。

表2

分散处理方法	经过时间	平均粒径	pH值
分散处理方法	经过时间	平均粒径	pH值	混砂机	刚分散后	0.4μm	向碱性侧偏移
1天后	0.7μm	向碱性侧偏移			刚分散后	0.4μm	向碱性侧偏移
1天后	0.7μm	向碱性侧偏移	2天后		0.9μm	向碱性侧偏移
离心力分散	刚分散后	0.4μm	2天后		0.9μm	向碱性侧偏移	无变化
	刚分散后	0.4μm	1年后	0.4μm	无变化		无变化

从表2可见，用混砂机分散，分散后会产生凝集，平均粒径增加，pH值增加，涂料状态不稳定。但用离心力分散，pH值无变化，而且平均粒径在静置一年后也无变化。

表3示出改变转速进行离心力分散的涂料在静止一年后的平均粒径及pH值的变化情况。

表3

线速度(m/s)	1年后的平均粒径	pH值
线速度(m/s)	1年后的平均粒径	pH值	20	0.5μm增加	无变化
30	无变化	无变化	20	0.5μm增加	无变化
30	无变化	无变化	40	无变化	无变化
50	无变化	无变化	40	无变化	无变化

从表3可见，在离心力分散情况下，线速度为20m/s进行处理时平均粒径增加，但线速度在30m/s以上，即使静置一年后，平均粒径也无变化，pH值也不改变。

根据上述结果，利用转速在30m/s以上的离心力进行分散，可制成材料性质不受破坏且不发生凝集的涂料，应用这些涂料在喷嘴及管道内不会发生堵塞，可平稳喷出。

下面，图3示出用喷涂法涂敷经离心力分散处理的涂料、涂敷经混砂机处理的涂料、及涂敷未加处理的涂料情况下的被覆率的曲线图。从图3可见，由于离心力分散处理能形成致密均匀的膜，故即便在相同涂敷重量情况下，也能比混砂机处理涂料或未处理涂料获得高的被覆率。

从上述可见，用离心力分散，涂敷重量小于0.2mg/cm²，能形成被覆率在80％以上的电子束反射膜，故能使膜不会自然剥离且能得到良好的画质。

下面，表4示出对涂敷经离心力分散处理的平均粒径不同的涂料情况下被覆率的统计结果。

表4

		涂敷重量 (mg/cm²)
		涂敷重量 (mg/cm²)					0.1	0.15	0.2	0.4	0.6
		粒径	0.2μm	80％	85％	90％	0.1	0.15	0.2	0.4	0.6	90％	90％
0.4μm	80％		0.2μm	80％	85％	90％	85％	90％	90％	90％		90％	90％
0.4μm	80％		0.6μm	80％	80％	85％	85％	90％	90％	90％	90％	90％
0.8μm	65％		0.6μm	80％	80％	85％	70％	70％	75％	孔堵塞	90％	90％
0.8μm	65％		1.0μm	65％	65％	70％	70％	70％	75％	孔堵塞	70％	孔堵塞

*固体比率为10％

从表4可见，平均粒径在0.8μm以上，为了获得高被覆率增加涂敷重量时，涂敷会堵塞荫罩的开孔。然而，平均粒径在0.6μm以下，不会发生荫罩孔的堵塞。而且，涂敷重量小于0.2mg/cm²，能获得被覆率在80％以上。这里，示出的结果是固体比率为10％的涂料的涂敷情况，但也能确认，固体比率在20％以下不同的固体比率情况下也能获得同样的结果。

从上述可见，平均粒径在0.6μm以下的涂料，用小涂敷重量能形成不会堵塞荫罩孔且被覆率高的电子束反射膜，其结果，因膜不会自然剥离而能获得良好画质。

下面，表5示出在涂敷固体比率不同经离心力分散处理的涂料情况下对被覆率统计的结果。

表5

		涂敷重量(mg/cm²)
		涂敷重量(mg/cm²)					0.1	0.15	0.2	0.4	0.6
		固体比率	10％	80％	85％	90％	0.1	0.15	0.2	0.4	0.6	90％	90％
20％	80％		10％	80％	85％	90％	80％	85％	85％	90％		90％	90％
20％	80％		30％	堵塞	堵塞	堵塞	80％	85％	85％	90％	孔堵塞	孔堵塞
40％	堵塞		30％	堵塞	堵塞	堵塞	堵塞	堵塞	孔堵塞	孔堵塞	孔堵塞	孔堵塞

*平均粒径为0.4μm

从表5可见，固体比率在30％以上，喷嘴及管道内发生涂料堵塞，在表5中表示为“堵塞”，此时，喷嘴的喷出量不稳定。若增加涂敷重量，会堵塞荫罩孔。但是，固体比率在20％以下，不会堵塞孔，在涂敷重量小于0.2mg/cm²可获得80％以上的被覆率。这里的结果虽显示平均粒径为0.4μm涂料的涂敷情况，但能确认对于平均粒径在0.6μm以下的不同平均粒径情况也能获得同样的结果。

从上述可见，固体比率在20％以下，能以小的涂敷重量形成致密被覆率高的电子束反射膜，不会发生荫罩孔堵塞，另外，由外膜不会自然剥离，因此能获得良好的图像。

下面，表6示出离心力分散处理的涂料相对于涂敷重量产生剥离的研究结果。

表6

涂敷重量(mg/cm²)	0.1	0.15	0.2	0.4	0.6
涂敷重量(mg/cm²)	0.1	0.15	0.2	0.4	0.6	剥离引起图像质量下降	良好	良好	×	×	×

*平径粒径0.4μm、固体比率10％

从表6可见，涂敷重量在0.2mg/cm²以上为过剩涂敷，会发生自然剥离，使画质下降。但是，对于涂敷重量小于0.2mg/cm²的情况，不发生自然剥离，未见画质下降。这里，虽示出平均粒径为0.4μm、固体比率为10％的涂料的涂敷情况的结果，但也能确认平均粒径在0.6μm以下的涂料及固体比率在20％以下的涂料，也能获得同样结果。

从上述可见，对荫罩的涂敷重量在0.2mg/cm²以上为过剩涂敷，会发生自然剥离，但涂敷重量小于0.2mg/cm²为合适的涂敷重量，不发生剥离，不影响画质。因此，用小于0.2mg/cm²的涂敷重量将经离心力分散处理的涂料涂敷荫罩，能形成致密均匀被覆率高的电子束反射膜，从而获得无膜剥离的良好画质。

(实施形态3)

取代所述氧化铋、水玻璃和水，而用含有氧化铋、二氧化硅的醇化物、和乙醇或甲醇的涂料加以涂敷时，也能获得同样结果。

(实施形态4)

涂敷电子束反射膜用涂料，该涂料由对含有氧化铋、水玻璃和水的材料加以分散处理后获得，从而在荫罩的电子束照射面上形成电子束反射膜。

下面，参照附图说明喷涂涂敷装置及电子束反射膜的涂敷方法。图4为压电泵的结构图。12为压电元件，13为单向阀，14为涂料入口，15为涂料出口。使压电元件12在箭头方向高频振动，可从涂料入口14吸入涂料，并从涂料出口15喷出，此时波动很小。

图5为喷雾器涂敷装置的结构图。16为喷雾器喷嘴，10为泵，17为涂料贮藏部，18为涂料，19为循环系统，20为被涂敷物。相对于被涂敷物20在水平方向上平行扫描的方向为X轴，作为喷嘴16的扫描方向，而在平行于被涂敷物的垂直方向上扫描的方向为Y轴。

利用图4所示压电泵将贮藏在涂料贮藏部17的涂料18供给喷雾器喷嘴16向荫罩20进行涂敷。对喷雾器喷嘴16的涂料供给压力的变化反映到喷雾器喷嘴16喷出的涂料。

表7示出采用压电泵(振动频率为120Hz)和采用至今的已有技术中所用泵情况下涂料供给压力变化的大小，及产生各压力变化时喷嘴喷出量的变化幅度。

表7

从表7可见，对于采用至今的已往的管泵或电磁泵的情况，涂料供给压力变化大，喷雾器喷嘴的喷出量随这种变化也有大的变化。但是，采用压电泵时能抑制涂料供给压力变化，可见，从喷雾器喷嘴喷出的喷出量是稳定的。

为防止电子束轰击荫罩产生的荫罩热膨胀而形成的电子束反射膜，荫罩表面覆盖面积越大，效果越好。但是，若涂敷荫罩的电子束反射膜用涂料的涂敷重量大，则电子管作成后，在电子管内会发生电子束反射膜剥离，污染管内，使画质下降。因此，取涂敷重量的基准为0.3mg/cm²，进行被覆率测定及拱起抑制效果的测定并进行了比较。拱起抑制结果，利用荫罩产生热膨胀前后的电子束移动量加以评价。热膨胀越大电子束移动量也越大，作为基准，若电子束移动量在60μm以下，则对画质影响小，拱起抑制效果也好。

表8示出利用已往方式(管泵，电磁泵)和压电泵(振动频率为120Hz)涂敷方式将固体比率为20％的电子束反射膜用涂料涂敷于荫罩时相对于涂敷重量的拱起评价结果。

表8

表9示出利用已往方式(管泵，电磁泵)和压电泵(振动频率为120Hz)涂敷方式将固体比率为20％的电子束反射膜用涂料按照涂敷重量0.3mg/cm²涂敷于荫罩时对被覆率及拱起的评价结果。

表9

从表8和表9可见，即使是采用已往方式被覆率低、拱起抑制效果不佳的涂敷重量，利用压电泵因喷出状态稳定而能形成致密均匀的电子束反射膜，故也能获得良好的画质。

表10示出使压电泵振动频率变化向喷嘴16供给涂料对荫罩20进行涂敷时喷嘴喷出量变化幅度、拱起抑制效果及被覆率的结果。

表10

振动频率(Hz)	喷雾器喷嘴喷出量变动幅度(ml/min)	拱起抑制效果	被覆率
振动频率(Hz)	喷雾器喷嘴喷出量变动幅度(ml/min)	拱起抑制效果	被覆率	120	1	○	60
80	1	○	55	120	1	○	60
80	1	○	55	60	2	○	50
20	3	○	40	60	2	○	50
20	3	○	40	10	5	×	20

从表10可见，压电泵振动频率在20Hz以上，与已有方法相比能抑制喷嘴喷出量变化，即便相同的涂敷重量也能提高被覆率，具有良好的拱起抑制效果。

下面，用120Hz驱动压电泵向喷嘴16提供涂料，用图6所示的水平方向、垂直向上方向及垂直向下方向三种方法，按涂敷重量为0.3mg/cm²进行了涂敷。

用喷雾器喷嘴16使涂料18利用雾化气形成微粒子化，微粒子粒径不均匀会产生大大小小的微粒。在水平方向涂敷中，粒径大不足以雾化的粒子在到达被涂敷物20之前会下落，只有那些细小微粒子化的粒子被涂敷。结果能完成均匀致密的涂敷。与此相比，垂直向上涂敷，不能到达被涂敷物20的粒径大的粒子及由被涂敷物20弹回来的外层部分落向喷嘴16的喷出部，构成污染或堵塞喷嘴前端部的原因，使喷出量不稳定。而垂直向下的涂敷，粒径不同的粒子全部降落在被涂敷物，故被未充分雾化的粒径大的粒子涂敷的部分涂得厚，而被粒径小的粒子涂敷的部分涂得薄，从而存在涂敷不均匀的缺点。

表11示出按照上述3种方法对涂敷重量为0.3mg/cm²的涂敷样品测定电子束移动量及被覆率的结果。表12示出按电子束移动量评价的拱起抑制效果的评价基准。

表11

	电子束移动量(μm)	被覆率(％)
	电子束移动量(μm)	被覆率(％)	水平方向	52	60
垂直向上涂敷	59	52	水平方向	52	60
垂直向上涂敷	59	52	垂直向下涂敷	57	57

涂敷重量0.3mg/cm²

表12

	电子束移动量(μm)
	电子束移动量(μm)	标准型用基准	60
高清晰度用基准	55	标准型用基准	60
高清晰度用基准	55	大型(大于32英寸)用基准	50

从表11和表12可见，不管3种涂敷方法的哪一种，能满足标准型评价基准，能获得拱起抑制效果良好的结果。但是，垂直向上及垂直向下的涂敷不满足高清晰度用基准，作为更严格基准的高清晰度用规格(技术规范)，希望采用水平方向涂敷，能完成更致密被覆率高的涂敷。而且最好在涂料循环路径19内进一步设置精密阀21，利用其开度控制喷嘴16的涂料供给压力(参见图7)。

按照已往不采用阀的方式，涂料供给压力由泵的能力确定，在利用泵输出控制涂料供给压力情况下，易受其流量特性的影响，缺乏稳定性，故难以任意地进行涂料供给压力的精密控制。然而，在循环路径19内设置阀21，泵10输出保持不变，故不受其流量特性等的影响，能够精密地控制涂料供给压力，实现稳定地喷出。

从上述可见，利用压电泵可精密地向喷雾器喷嘴16提供涂料18，再在从涂料贮藏部17经喷雾器喷嘴16再循环到涂料贮藏部17的循环路径19内设置阀21，控制对喷嘴16的涂料供给压力，能精密控制涂料供给压力实现稳定的喷出状态，从而能形成致密被覆率高的电子束反射膜，获得良好的画质。

(实施形态5)

与所述实施形态4一样，用含有氧化铋、水玻璃和水的材料加以分散处理后的电子束反射膜用涂料进行涂敷，在荫罩表面形成电子束反射膜。

下面，参照附图说明喷雾器涂敷装置及电子束反射膜的涂敷方法。用图5所示涂敷装置仅在X轴方向使喷嘴16进行扫描，如图8所示，保持涂料贮藏部17中液面与喷嘴中心o的高低差h不变，改变喷雾器喷嘴16的倾斜涂敷电子束反射膜用涂料，在荫罩表面形成电子束反射膜。

图7的涂敷方法1是一种已有技术的方法，使喷雾器喷嘴16上升下降对大范围荫罩20进行涂敷。用该方法，喷嘴16在X、Y两轴的方向扫描，随喷嘴上升下降，涂料贮藏部液面与喷嘴中心的高低差在变化，因而喷嘴的涂料供给压力也随之变化，结果荫罩上部涂得薄，而荫罩下部涂得厚。

图8的涂敷方法2是一种保持喷嘴中心高度不变的(即喷嘴仅作X轴向扫描)一边上下摆动角度一边进行涂敷的方法，按照该方法，涂料贮藏部液面与喷嘴中心o的高低差h保持不变，故不会发生上述涂料供给压力的变化。

表13示出按照上述2种涂敷法涂敷后的荫罩上部(图7、8中A)中部(图7、8中B)和下部(图7、8中C)的涂敷重量偏差和被覆率。

表13

涂敷方法	喷雾器喷嘴高度	喷雾器喷嘴角度	涂敷重量偏差(A部，B部，C部)	被覆率
涂敷方法	喷雾器喷嘴高度	喷雾器喷嘴角度	涂敷重量偏差(A部，B部，C部)	被覆率	涂敷法1	上下变化	一定	0.3mg/cm²±15％	15％
涂敷法2	一定	上下变化	0.3mg/cm²±4％	60％	涂敷法1	上下变化	一定	0.3mg/cm²±15％	15％

如上所述，通过喷嘴中心o与涂料贮藏部液面的高低差h不变化，而改变喷雾器喷嘴的倾斜仅在X轴方向扫描，能够使喷嘴16的涂料供给压力不变，涂敷重量偏差小，能稳定喷出，形成致密被覆率高的电子反射膜，从而获得良好的画质。

在实施形态4中，说明了按照高清晰度用技术规范(规格)最好采用水平方向的涂敷方法，但是当采用大画面超过32英寸时，其荫罩面积也大，要求比高清晰度用有更严格的基准。对于这种最严格基准的规范，合适的方法是，保持喷雾器喷嘴中心o与涂料贮藏部液面的高低差h不变，改变喷雾器喷嘴16的倾斜仅在X轴方向扫描。最好是，进一步将泵10与喷嘴16的各个中心部处于同一高度并一体化，使两位置关系始终保持相同进行扫描，通过这样能抑制因两者距离或高低差变化产生的喷嘴16的涂料供给压力的变化，而且在循环路径19内设置精密阀21，利用其开度控制喷嘴16的涂料供给压力，能精密控制涂敷重量，能实现致密均匀的涂敷以满足最严格的基准(参看图9)。表14示出对用图9涂敷方法按照0.3mg/cm²涂敷重量涂敷后的样品测定电子束移动量及被覆率的结果。

表14

·高度一定·喷嘴角度变化·喷嘴、泵一体化产生的涂敷	电子束移动量(μm)	被覆率(％)
	电子束移动量(μm)	被覆率(％)	48	83

如上所述，按照图9所示方法进行涂敷，能形成满足表12所示大型用最严格的基准的致密均匀的电子束反射膜，从而能获得良好画质。

(实施形态6)

代替所述氧化铋、水玻璃和水，用含有SiO₂或ITO的涂料进行涂敷时，同样能稳定地喷出，利用均匀致密的涂敷能实现具有强的低反射功能或防止带电功能的表面涂层涂敷。

按照实施形态1～6所记载的本发明电子管的制造方法，用氧化铋粒子的平均粒径D50在0.6μm以下、且粒度分布形状为D40至D60间的粒子体积分布占整体20％以上的涂料进行涂敷，即使涂敷重量小也能形成被覆率高的电子束反射膜，能获得拱起抑制效果好、无自然剥离、良好的电子管。

另外，采用一种涂敷方法，利用压电元件的高频振动向喷嘴精密提供涂料并保持喷嘴与涂料贮藏部液面的高低差不变，同时仅改变喷嘴的角度，按照该方法，能抑制喷嘴的涂料供给压力的变化，实现稳定的喷出，从而能形成细密均匀的电子束反射膜。其结果是，能以小的涂敷重量形成高被覆率的电子束反射膜，拱起抑制效果好，不会产生自然剥离，能获得良好的电子管。

对于表面涂层涂覆，也用同样的涂敷方法对玻屏表面进行涂敷，能形成均匀细密的涂敷，从而能在表面涂层膜实现具有强的低反射功能或防止带电功能的表面涂层涂敷。

Claims

1.一种涂料，其特征在于，氧化铋为分散状态，设粒子整体的体积为100％，从粒径小的粒子起进行积累，占粒子整体体积50％时的粒径为0.1μm以上0.6μm以下，并且，具有占所述整体体积40％时的粒径到占所述整体体积60％时的粒径的粒子为所述整体体积的20％-50％，同时，固体比率在5％-20％。

2.如权利要求1所述的涂料，其特征在于，取水为溶媒。

3.如权利要求2所述的涂料，其特征在于，取水玻璃为粘合剂。

4.如权利要求1所述的涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇为溶媒。

5.如权利要求4所述的涂料，其特征在于，取二氧化硅的醇化物作为粘合剂。

6.一种电子管，其特征在于，在荫罩的电子束照射面涂敷有权利要求1所述的涂料。

7.如权利要求6所述的电子管，其特征在于，涂敷于荫罩的电子束照射面的所述涂料的重量为小于0.2mg/cm²。

8.如权利要求6所述的电子管，其特征在于，由所述涂料形成被覆率在40％以上的电子束反射膜。

9.如权利要求6所述的电子管，其特征在于，利用线速度在30m/s以上的搅拌机使得所述涂料为分散处理状态。