CN116390845A - 制造眼镜片的方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，其中，该方法包括：提供包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面的镜片基材；将至少一个涂层施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，该至少一个涂层的表面可在与能够使该至少一个涂层的表面改性的至少一种介质接触时被改性；使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与该至少一种介质接触；考虑到个体周边屈光，获得包括镜片基材和至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面是根据该个体周边屈光而被改性的。

Description

制造眼镜片的方法
本发明涉及一种制造眼镜片的方法。
根据Brien A.Holden等人,Global Vision Impairment Due to UncorrectedPresbyopia[未矫正老花眼引起的全球视力障碍],Arch Ophthalmol[眼科学文献].2008；126(12):1731-1739，未矫正的距离性屈光不正是视力障碍的最常见原因。在Universaleye health:a global action plan 2014-2019[全民眼健康：2014-2019年全球行动计划],World Health Organization[世界卫生组织]2013中，WHO估计在2010年2.85亿人有视力障碍。C.S.Y.Lam等人,Defocus Incorporated Multiple Segments(DIMS)spectaclelenses slow myopia progression:a 2-year randomised clinical trial[多区正向光学离焦(DIMS)眼镜片减缓近视进展：2年随机临床试验],Br J Ophthalmol[英国眼科学杂志]2019；0:1–6，在以儿童进行的研究中测试了多区正向光学离焦(DIMS)眼镜片(还例如披露于US 2017/0131567 A1、US 2019/0212580 A1或US 2020/0159044A1中，其应当是强制近视离焦)。显示DIMS眼镜片延缓近视儿童的近视进展和眼轴增长。
US 2017/0131567 A1披露了眼镜片，其包括具有基于用于矫正眼睛的异常屈光的处方的第一屈光力的第一屈光区域和具有将图像聚焦在除眼睛视网膜以外的位置的功能以抑制眼睛异常屈光进展的第二屈光区域。该第二屈光区域被形成为多个独立的岛状区域。
US 2019/0212580 A1披露了眼镜片，其包括如US 2017/013167 A1中所披露的第一屈光区域和第二屈光区域。根据US 2019/0212580 A1的第二屈光区域被分散地布置为多个相互分离的区域，这些第二屈光区域中的每一个均被第一屈光区域包围。
US 2020/0159044 A1披露了第一眼镜片，其包括具有基于用于矫正近视的处方的屈光力的第一屈光区域和具有不同于第一屈光力的屈光力的第二屈光区域。第二屈光区域中的每一个被形成为从眼镜片的物体侧表面延伸的凸形。第二屈光区域中的每一个均具有比该第一屈光区域的物体侧表面更大的曲率。第二屈光区域包括多个具有多个彼此不同的屈光力的屈光区域。US 2020/0159044 A1进一步披露了第二眼镜片，其包括基于用于矫正近视的处方的第一屈光区域和具有不同于第一屈光力的屈光力的第二屈光区域。该第二眼镜片的第二屈光区域被非同心地形成为多个岛状区域，第二屈光区域的屈光力比第一屈光区域的第一屈光力大2.00D至5.00D。US 2020/0159044 A1进一步披露了第三眼镜片，其包括具有基于用于矫正眼睛异常屈光的处方的第一屈光力的第一屈光区域和具有不同于第一屈光力的屈光力的第二屈光区域。该第三眼镜片的第二屈光区域被非同心地形成为多个岛状区域，这些岛状区域布置成形成内切于具有预定半径的圆的六边形。
US 2015/0160477 A1披露了用于控制离焦和眼屈光度的多元镜片，其将镜片分为对应于眼睛的中心视野区的镜片区域和对应于眼睛的赤道部视野区的凸面镜片区域。该多元镜片包括产生大离焦的大单元凸面镜片、通过在大单元凸面镜片上组合而产生小离焦或聚焦的小单元凹面镜片，或者，在该大单元凸面镜片上单独地提供产生小离焦的小单镜片。大单元凹面镜片与小单元凹面镜片或小单镜片之间的结合处是渐变焦结构或阶梯变焦结构。US 2015/0160477 A1还披露了在大单元凸面镜片上的次单元凹面镜片或中单镜片，每种组合通过与大单元凸面镜片的镜片组合而产生中离焦。该次单元凹面镜片或中单镜片布置在小单元凹面镜片或小单镜片的外环上并且是环状的。
WO 2018/026697 A1披露了用于治疗近视的眼科镜片。这些镜片包括分布在每个镜片上的点图案，该点图案包括以1mm或更小距离隔开的点阵列，每个点具有0.3mm或更小的最大尺寸。这些点可以布置在正方形网格、六边形网格、另一种网格上，或者以半随机或随机图案布置。这些点可以以规则的间隔隔开，或者点间距可以根据点距镜片中心的距离变化。该点图案可以包括具有大于1mm的最大尺寸的没有点的通光孔径，该通光孔径与这副眼镜配戴者的视轴对准。该通光孔径可以是基本上圆形的或类似的形状。这些点可以是对应镜片表面上的凸起或凹进。凸起可以由透明材料形成。为了制造这些凸起，在镜片表面上对应于点图案沉积材料的离散部分(例如通过使用喷墨印刷机)。离散部分在固化(例如使用辐射)后提供凸起。与通过通光孔径看到的物体的图像对比度相比，点图案可以将通过点图案看到的物体的图像对比度降低至少30％。根据WO 2018/026697 A1，为配戴者定制了一副眼镜，尤其是从而具有将配戴者的轴上视力矫正至20/20或更佳的光焦度的镜片，这些镜片包括分布在每个镜片上的点图案，该点图案包括这样布置的点阵列，即，使得对于配戴者的周边视觉的至少一部分，镜片将配戴者的视力矫正至20/25或更佳并且与轴上图像对比度相比将图像对比度降低至少30％。
WO 2006/034652 A1披露了用于治疗人眼屈光障碍(refractive disorder)进展的方法，特别是用于通过加强近视离焦来抵消近视发展的方法以及用于通过加强远视离焦来抵消远视发展的方法。该方法包括在人眼的视网膜上产生第一图像，以及产生第二图像以产生离焦。改变眼睛的离焦平衡应影响在朝向屈光正常方向上的轴向眼睛生长。这种人为移动可以通过眼镜片、优选与常规矫正一起引入，使得可以维持正常的视力。该眼镜片可以是菲涅耳(Fresnel)镜片或包括具有两个或更多个光焦度的同心光学区域的中心-周边式多焦镜片。
WO 2010/075319 A2披露了用于预防、改善、或逆转与眼睛长度有关的障碍的治疗性治疗方法。因此，为了将输入到眼睛视网膜的图像的平均空间频率降低至超过阈值空间频率以抑制眼睛进一步变长，引起患者视力的人为模糊。为了引起人为模糊，可以使用引起模糊的眼镜。引起模糊的眼镜通过以下来引起模糊：在镜片的一个或两个表面中的小凸块或凹陷、在镜片中包含不同于镜片材料的材料、在镜片中包括较高水平的像差(包括更大地影响周边视觉的较高水平的像差)、在一个或两个镜片中从镜片的顶部到镜片的底部提供渐进负矫正、施加至镜片的一个或两个表面的涂层或膜。使例如镜片中心区中的凸块或凹陷的密度降低有助于与眼睛轴线轴向对准的景物的部分的相对正常的图像获取，同时使不与光轴对准的景物的部分逐渐模糊。人为模糊的量可以通过改变例如凸块或凹陷的密度或尺寸来控制。
WO 2019/166653 A1披露了镜片元件，其包括具有基于人眼处方的屈光力的屈光区域和多个至少三个不连续光学元件，其中至少一个光学元件具有非球面光学功能。至少一个不连续光学元件可以是例如由双折射材料制成的多焦点屈光微镜片、衍射镜片，或者具有配置为在人眼的视网膜前方产生焦散(caustic)的形状。
WO 2019/16654A1披露了镜片元件，其包括具有基于用于矫正人眼异常屈光的处方的第一屈光力的屈光区域、不同于该第一屈光力的第二屈光力，以及多个至少三个光学元件，其中至少一个光学元件具有不将图像聚焦在眼睛的视网膜上的光学功能以便减缓眼睛异常屈光的进展。第一屈光力与第二屈光力之间的差可以是大于或等于0.5D。
WO 2019/166655 A1披露了镜片元件，其包括具有基于人眼处方的屈光力的屈光区域和多个至少三个光学元件。光学元件被配置成使得沿着镜片的至少一个区段，光学元件的平均球面从所述区段的点朝向所述区段的周边部分增大。光学元件可以被配置成使得沿着镜片的至少一个区段，光学元件的平均柱面从所述区段的点朝向所述区段的周边部分增大。
WO 2019/166657 A1披露了镜片元件，其包括配置成在标准配戴条件下并且针对中心凹视觉向配戴者提供基于配戴者的用于矫正配戴者眼睛的异常屈光的处方的第一光焦度的处方部分，以及多个至少三个光学元件，其中至少一个光学元件具有在标准配戴条件下并且针对周边视觉不将图像聚焦在眼睛的视网膜上的光学功能以便减缓眼睛异常屈光的进展。光学元件中的至少一个可以具有在标准配戴条件下并且针对周边视觉将图像聚焦在除视网膜以外的位置上的光学功能。
WO 2019/166659 A1披露了镜片元件，其包括具有基于配戴者眼睛的处方的屈光力的屈光区域，以及多个至少两个连续光学元件，其中至少一个光学元件具有不将图像聚焦在配戴者眼睛的视网膜上的光学功能以便减缓眼睛异常屈光的进展。根据WO 2019/166659 A1，具有连续光学元件改善了镜片元件的美观并且限制了镜片元件表面的不连续程度。至少两个连续光学元件可以是独立的。
WO 2019/206569 A1披露了镜片元件，其包括配置成在标准配戴条件下向配戴者提供基于配戴者的用于矫正配戴者眼睛的异常屈光的处方的第一光学功能的处方部分，以及多个连续光学元件。每个光学元件具有同时双焦点光学功能，该功能同时提供在标准配戴条件下的第二光学功能以及在所述标准配戴条件下不将图像聚焦在眼睛的视网膜上的第三光学功能以便减缓眼睛异常屈光的进展。根据WO 2019/206569A1，具有同时提供第二和第三光学功能的多个连续光学元件允许容易地配置镜片元件，该镜片元件通过使部分光聚焦在配戴者的视网膜上并且使部分光聚焦在配戴者的视网膜前方或后方来降低眼睛的异常屈光(如近视或远视)的进展。此外，镜片元件允许选择要聚焦在视网膜上的光的部分和不要聚焦在眼睛的视网膜上的光的部分。WO 2019/026569 A1还披露了用于提供镜片元件的方法，该方法包括提供配置成在标准配戴条件下向配戴者提供基于配戴者的用于矫正配戴者眼睛的异常屈光的处方的第一屈光力的镜片构件，提供包括多个连续光学元件的光学贴片(patch)以及通过将该光学贴片置于该镜片构件的前表面或后表面之一上形成镜片元件。可替代地，该方法包括铸造镜片元件以及在铸造期间提供包括多个连续光学元件的光学贴片。
EP 3 531 195 A1披露了眼镜片，其包括纳米结构化和/或微结构化的涂层。为了获得纳米结构化和/或微结构化的涂层，在第一步骤中将未涂覆或预涂覆的镜片基材的至少一个表面用纳米颗粒和/或微颗粒的层覆盖，从而掩蔽镜片基材相应未涂覆或预涂覆的表面。在第二步骤中将至少一个涂层施加至该纳米颗粒和/或微颗粒的层。由此该至少一个涂层覆盖了纳米颗粒和/或微颗粒以及镜片基材在纳米颗粒和/或微颗粒之间的中间空间的相应未涂覆或预涂覆的表面。在第三步骤中将纳米颗粒和/或微颗粒去除，并且纳米结构化和/或微结构化的涂层保留在镜片基材相应未涂覆或预涂覆的表面上。
EP 2 682 807 A1披露了用于通过以下方式在眼镜片的表面上形成标记的方法：在涂层的希望位置处施加额外的透明涂层、在希望的位置处包括具有开口的掩蔽层(掩蔽层和开口二者将仅被眼镜片涂层外涂覆)、或在希望的位置对镜片基材进行染色。假如应施加额外的透明涂层，则在第一步骤中向要标记的镜片基材的未涂覆或预涂覆的表面施加具有开口的掩蔽层。在第二步骤中将透明涂层施加至掩蔽层以及通过掩蔽层的开口施加至相应未涂覆或预涂覆的表面。在第三步骤中将掩蔽层和掩蔽层之上的透明涂层去除，从而该透明涂层保留在相应未涂覆或预涂覆的表面之上。此后用眼镜片的涂层，例如多层减反射涂层、多层反射涂层的部分和斥水层来外涂覆该透明涂层，从而产生可见的标记。该标记可以构成由于光反射的差异而可以看到的装饰性图案、标识、文字，从而在没有不适感的情况下确保配戴者的视野。
EP 3 339 940 A1披露了方法，该方法用于通过掩蔽层向镜片基材的未涂覆或预涂覆的表面上施加涂层，以确保例如标识由于在有和没有掩蔽层的情况下施加的涂层的折射率的差异而可见。
WO 2007/066006 A2披露了转印微尺寸图案至光学制品的表面上的方法。因此，将可转印材料的层沉积在具有构成微浮凸的凹进和隆起的印模的表面上，该微浮凸对应于将要被通过使印模与沉积在光学制品基材表面上尚未干燥的胶乳层接触转印的图案。根据施加至印模的压力，将仅施加至隆起的可转印材料的层或施加至凹进和隆起的可转印材料的层转印至胶乳层中。转印后，移除印模。
除了先前提到的方法之外(特别地，除了(注塑)模制和光刻法之外)，WO 2020/078964 A1建议了一种用于制造光学制品的方法，该光学制品包括镜片基础基材、耐磨涂层和至少一个光学元件，该至少一个光学元件从该耐磨涂层的前表面或后表面突出，从该耐磨涂层的前表面突出的至少一个光学元件增材制造而成。
EP 20182515.5披露了用于通过施加至少一个单电磁脉冲来干燥和固化、烧结和/或硬化至少一种涂层前体材料的方法。该至少一种涂层前体材料可以包含硬涂层中的硬涂层前体材料。当与例如在烘箱中施加直接热的常规热固化工艺相比时，干燥和固化、烧结和/或硬化至少一种涂层前体材料所需的总工艺持续时间减少。此外，当改变该至少一个单电磁脉冲的工艺参数时，光学特性和/或机械特性是可调的。
眼睛的视网膜可以在水平和竖直两个方向上生长。基于在视网膜前方或后方产生周边焦点以减少或停止使眼睛生长的对眼睛视网膜的刺激的理论，如前所述提出了几种眼镜片的设计。刺激源于对于周边视觉的近视或远视离焦，即焦点位于视网膜后方或视网膜前方。当用根据US 2017/013167 A1的图1的包括第一屈光区域和第二屈光区域的眼镜片来矫正例如近视眼的屈光时，在通过具有基于用于矫正眼睛异常屈光的处方的屈光力的六边形第一屈光区域进行查看的中心凹视觉中，来自无穷远的光束被该第一屈光区域、眼角膜和眼睛的其他光学部件屈折以汇聚到直接位于视网膜上、实际上位于眼睛的中心凹上的焦点。无穷远处的物点形成了对于眼镜片配戴者来说完美的图像。因此，在中心凹视觉中该眼睛应不变地生长，受限于不允许不变的生长的解剖学条件。在通过US 2017/013167 A1的图1中示出的第二屈光区域之一进行查看的周边视觉中，来自无穷远的光束被第二屈光区域、眼角膜和眼睛的其他光学部件屈折以汇聚到位于眼睛视网膜前方的焦点。因此，在焦点位于眼睛视网膜前方的周边视觉中，该眼睛应降低眼睛生长的速度或甚至完全使其停止。然而，眼睛视网膜并非如此均匀地弯曲以致于来自无穷远并被第二屈光区域、眼角膜和眼睛的其他光学部件中的任一者屈折的光束必然汇聚到位于眼睛视网膜前方的焦点。此外，眼睛视网膜和眼睛本身的解剖构造是单独地形成或弯曲的，并因此对于不同的人是不相同的。甚至一个人左眼的视网膜和右眼的视网膜也不是相同地形成或弯曲的。当用包括如例如US 2017/013167A1的图1中的相同限定的第一屈光区域和相同限定的第二屈光区域的眼镜片矫正每位眼镜片配戴者的屈光时，近视或远视的进展是不可抑制的。
因此，本发明的问题是提供一种最终光学表面得到改进而可个体化地调整的眼镜片。本发明的另一问题是提供一种个体化地调整眼镜片的最终光学表面的简单且高效的方式。眼镜片应将光束聚焦在眼睛的视网膜前方、或直接聚焦在眼睛的视网膜上、和/或聚焦在眼睛的视网膜后方。焦点的位置应能够根据眼睛进行调整。
该问题已经通过一种根据权利要求1、10、11、24和25所述的制造眼镜片的方法得到解决。该问题已经进一步通过一种根据权利要求12、13、26和27所述的使眼镜片的表面改性的方法得到解决。
根据ISO 13666:2019(E)的第3.10.13节，眼镜片的所开处方的焦度被定义为通过屈光检查确定的特定用于矫正/补偿配戴者的视力的屈光度。根据ISO 13666:2019(E)的第3.10.3节，屈光度是包括镜片的光焦度和棱镜度的统称。对配戴者的视力的屈光检查通常以客观屈光检查和/或主观屈光检查的方式进行。对于客观屈光检查，通常使用屈光仪或自动屈光仪。可用于客观屈光检查的可商购获得的系统可以包括以下中的至少一个：眼波前像差仪、自动屈光仪、角膜地形图仪、和角膜曲率计。主观屈光通常由眼睛护理专业人员来进行。取决于用于客观屈光检查的系统或仪器，例如通过装置所使用的固定视标来预先确定视轴或视线(根据ISO 13666:2019(E)，视轴或视线是从物体空间中的所关注点到眼睛的入射瞳孔的中心的光程以及该光程在图像空间中从出射瞳孔的中心到视网膜固定点的延续)。在主观屈光检查期间，视轴是例如通过向配戴者显示的视力表字型预先确定的。对矫正镜片(根据ISO 13666:2019(E)第3.5.3节，矫正镜片是具有用于矫正或补偿配戴者的视力的屈光度的镜片)的最终光学表面的计算至少基于所开处方的焦度，所开处方的焦度通常是仅考虑到一个视线方向确定的。WO 2008/049503 A2描述了将主观屈光检查和客观屈光检查用于计算所开处方的焦度考虑在内。将主观屈光检查和客观屈光检查考虑在内以用于计算所开处方的焦度是计算矫正镜片的最终光学表面的准确且个体化的基础。为了进一步提高矫正镜片的最终光学表面的准确度，特别是为了进一步提高矫正镜片的最终光学表面的个体适配性，不仅应将客观屈光检查和主观屈光检查中的至少一个考虑在内，而且应将周边屈光考虑在内。如K.G.Foote,C.Leahy,M.Everett,J.Straub,Ultra-widefieldperipheral refraction using a slit-scanning ophthalmoscope and imagemontaging[使用狭缝扫描检眼镜和图像拼接的超宽视野周边屈光],InvestigativeOphthalmology&Visual Science[眼科研究与视力学],2020年7月,第61卷,PB00151,ARVOImaging in the Eye Conference Abstract[ARVO眼睛成像会议摘要],2020年7月,于2020年12月10日最新检索到的https://iovs.arvojournals.org/article.aspx？articleid＝2770401&resultClick＝1中所披露的，可以使用宽视野狭缝扫描检眼镜来测量周边屈光。至少一个配戴者的眼睛的周边屈光是用于将至少一个配戴者的眼睛的解剖学条件考虑在内以用于计算矫正镜片的最终光学表面的间接手段。知晓了周边屈光使得对至少一个配戴者的眼睛的解剖学条件的精确知晓变得多余，因为周边屈光间接地已经考虑到了至少一个配戴者的眼睛的解剖学条件(诸如，每只眼睛内的个体距离和每只眼睛的个体折射率)。因为解剖学条件不仅因眼睛而异，而且同一只眼睛也可能会由于例如生长、年龄或疾病而发生变化，所以对周边屈光的测量是考虑到每只眼睛的个体解剖学条件而无需例如对眼睛内的每一个距离(例如，从角膜到晶状体的前表面的距离、或从晶状体的前表面或后表面到中心凹的距离)进行高度复杂的确定、无需对眼睛内或眼睛的一个光学部件内的不同折射率进行高度复杂的确定、和/或无需精确知晓视网膜的表面形貌的间接手段。
优选地，矫正镜片的最终光学表面针对中心凹视觉以及周边视觉进行个体化地调整。为了矫正或补偿配戴者的中心凹视觉，将客观屈光检查和/或主观屈光检查(优选地，至少主观屈光检查)考虑在内以用于计算成品镜片的最终光学表面。为了同时矫正或补偿配戴者的周边视觉，优选地将对周边屈光的测量考虑在内。
进一步优选地，矫正镜片的最终光学表面最佳地矫正或补偿配戴者的中心凹视觉而具有最小的成像像差，并且最佳地矫正或补偿配戴者的周边视觉。优选地，矫正镜片包括镜片基材和至少一个涂层。为了至少基于主观屈光检查来最佳地矫正或补偿配戴者的中心凹视觉，可以使用对镜片基材的既定的研磨和抛光工艺。假定矫正镜片的至少一个涂层在制造公差内具有与包括该至少一个涂层的镜片基材的表面相同的最终光学表面。至少一个涂层可以是涂层序列的一部分。为了优选地基于对周边屈光的测量进一步最佳地矫正或补偿配戴者的周边视觉，优选地对矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的最终光学表面进行改性。对矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的最终光学表面的改性优选地是可个体化地调整的、优选地对于至少一个配戴者的眼睛的测得的周边视觉是可个体化地调整的。优选地，中心凹视觉不会被对矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的优选地个体化改性所损害，因为个体化改性仅关于周边视觉。换句话说，对矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的最终光学表面的改性不仅确保了关于中心凹视觉的个体化调整、而且确保了关于周边视觉的个体化调整。
在EP 19204745.4中披露了一种非常可靠的用于制造任何期望的光学表面的方法。EP 19204745.4(作为EP 3 812 142 A1公布)中所披露的方法甚至允许制造通过常规的研磨和抛光工艺无法获得的最终光学表面。本文披露的方法与镜片基材将要使用的光学材料无关。该方法需要将至少一个涂层完全地或至少部分地覆盖未涂覆或预涂覆的镜片基材，该至少一个涂层可在与至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性。对该至少一个涂层的改性优选不可逆且具有长期稳定性。与例如EP 3 531 195 A1形成对比，不需要额外的涂层来进行改性或调整和/或产生任何期望的最终光学表面。然而，如EP19204745.4中所描述的，至少一个涂层(该至少一个涂层可在与至少一种介质接触时被改性)与该至少一种介质(该至少一种介质能够使该至少一个涂层改性)接触的时间段的范围优选地为25分钟至30小时、进一步优选地为30分钟至20小时、更优选地为35分钟至15小时、最优选地为40分钟至10小时。可以使该至少一个涂层在室温下，即，在22℃±2℃的温度下，或在包括优选25℃至80℃、进一步优选27℃至55℃、更优选30℃至50℃并且最优选35℃至45℃的温度范围的升高的温度下与该至少一种介质接触。可以在用优选地具有280nm至1200nm的波长范围的氙辐照时使该至少一个涂层与该至少一种介质接触。EP 19204745.4中披露的和前述的工艺条件可以以任何希望的方式组合。
虽然EP 19204745.4中所披露的方法是一种用于产生任何期望的最终光学表面的通用方法，但也因此避免了对不切实际或更复杂的制造方法的需求。例如，WO 2019/16653A1、WO 2019/166654 A1、WO 2019/166655A1、WO 2019/166657 A1和WO 2019/166659A1为制造其中所描述的眼镜片建议了不同的技术，如直接表面处理、模制、铸造或注射、压花、成膜、或光刻法。使用例如US 2017/013167 A1、WO 2019/16653A1、WO 2019/166654 A1、WO 2019/166655 A1、WO 2019/166657A1或WO 2019/166659 A1中描述的用于制造眼镜片的模制工艺要求每个主模具具有极高的稳健性和能够获得相应光学表面的高品质。由玻璃制成的模具将满足前述要求，但具有挑战性且加工昂贵。使用模制工艺将需要不同的主模具以用其实现每个光学表面，例如出于效率和成本的原因，这在高生产量制造工艺中是不适合的或者至少不是首选。EP 19204745.4中所披露的方法不仅结合了对配戴者的中心凹视觉需要何种矫正的知晓、而且还结合了对如先前所描述的周边屈光的知晓，这是对使EP19204745.4中所披露的方法个体化以满足配戴者的实际需求的进一步改进。在知晓了周边屈光的情况下，则不需要知晓视网膜的确切形状和曲线，也不需要如例如WO 2019/166657A1中所提到的对视网膜的确切形状和曲线的假定或估计的知晓。
进一步地，为了个体化地调整最终光学表面的表面形貌，优选地应考虑到配戴中位置(根据EN ISO 13666:2019(E)第3.2.36节，配戴中位置是配戴期间镜片(3.5.2)相对于眼睛和面部的位置(包括取向))。
对于对矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的个体化改性，该至少一个涂层优选地是不可逆地被改性的。能不可逆地且个体化地被改性的至少一个涂层是优选地本身就是能不可逆地被改性的、优选地在与可以引起不可逆改性的至少一种介质接触时能不可逆地被改性的至少一个涂层。不可逆改性是对至少一个涂层本身的不可逆改性，即，与例如EP 3531 195 A1形成对比，对至少一个涂层的不可逆改性不需要施加额外的或后续的涂层。进一步地，用于与至少一个涂层接触的至少一种介质不应与例如EP 3 531 195 A1中用于掩蔽要涂覆表面的纳米颗粒层和/或微颗粒层混淆。对至少一个涂层的不可逆改性优选地是通过使该至少一个涂层的要改性的每个特定位置和/或每个特定区域与能够引起不可逆改性的至少一种介质接触而诱发的。对至少一个涂层的不可逆改性优选地是该至少一个涂层的不可逆溶胀，该不可逆溶胀是通过使该至少一个涂层的表面与能够引起不可逆溶胀的至少一种介质接触而引起的。至少一个涂层的不可逆溶胀可以被观察到为凸起或为凹陷。假如不可逆溶胀被观察到为凸起，则优选地，大部分表面未被改性或溶胀。假如不可逆溶胀被观察到为凹陷，则优选地，大部分表面已被改性或溶胀。
为了使至少一个涂层在特定位置处和/或在特定区域处改性，可以将至少一个涂层施加到镜片基材的未涂覆或预涂覆的表面上，以完全地覆盖下方的相邻表面或部分地覆盖下方的相邻表面。未涂覆或预涂覆的表面可以部分地覆盖有至少一个涂层，其中，只有未涂覆或预涂覆的表面的部分覆盖有要改性的至少一个涂层，而未涂覆或预涂覆的表面的另外的部分没有被要改性的至少一个涂层覆盖。
对至少一个涂层的个体化改性可以是局部的或广泛的。个体化改性可以是任何任意形式或形状。个体化改性可以定义密集结构或非密集结构。这些结构可以是连续的或不连续的。个体化改性可以包括任何任意形状和形式的微米级结构。每个个体化改性的纵横比(即，高度或深度与最小侧向延伸的比率)可以是可调节的。个体化改性可以包括可以充当微透镜的至少一个结构，或者可以包括在光学上共同作用的至少两个结构。个体化改性的形状可以是高斯(Gaussian)形状，或者可以是复杂形状。个体化改性可以使得在特定位置处形成可个体化地调整的屈光度。
个体化改性被观察到为个体化溶胀，该个体化溶胀进而被假定是扩散受控制的溶胀。假定扩散受控制的溶胀至少取决于或受限于至少一种介质与至少一个涂层接触的时间以及至少一种介质与至少一个涂层之间的接触表面。
通过可在与至少一种介质接触时不可逆地溶胀的至少一个涂层的可个体化地调整的溶胀而实现的该至少一个涂层的可个体化的改性的实质性优点是，配戴者的(两只)眼睛的个体解剖学条件可容易且有效地得到考虑，并且可容易且有效地实行在最终光学表面上。通过至少一个涂层的可个体化地调整的溶胀而实现的该至少一个涂层的可个体化的改性的另一优点是，即使是常规磨蚀方法(诸如常规的研磨和/或抛光工艺)无法获得的表面形貌、结构和/或图案，也可容易获得。通过至少一个涂层的可个体化地调整的溶胀可容易获得的表面形貌、结构和/或图案也可在成型工艺中获得。然而，由于每个可个体化地调整的最终光学表面都是独一无二的，而且目前为止无法大量生产，因此成型工艺每次都需要制造新模具，这既昂贵又不切实际。因此，可个体化地调整的溶胀工艺是优选的。不言而喻，溶胀工艺不仅适用于引起至少一个涂层的可个体化地调整的溶胀，而且还适用于制造标准化的表面图案(例如，US 2017/0131567 A1或先前提到的任何其他引用中所披露的表面图案)。
假如表面形貌、结构和/或图案没有被无法在与至少一种介质接触时溶胀的至少一个另外的涂层涂覆，则可在与至少一种介质接触时溶胀的至少一个涂层的最终光学表面(如有必要，例如作为对配戴者的眼睛的解剖学条件发生变化的反应)可以在稍后阶段进一步被改性或重新调整。
为了使矫正镜片的涂层中的至少一个涂层的最终光学表面个体化地改性，该至少一个涂层优选地需要可在与至少一种介质接触时不可逆地被改性、进一步优选地需要可在与至少一种介质接触时不可逆地溶胀。为了使至少一个涂层在与至少一种介质接触时不可逆地溶胀，该至少一个涂层的表面可以被掩蔽而使得只有要改性的至少一个位置和/或至少一个区域暴露以与至少一种介质接触。在与至少一种介质接触之后，掩模优选地可被去除，用该掩模掩蔽的表面上不留任何残余物。优选地，掩模对基材具有优异的粘附性，是可图案化的，至少在接触时间内可以承受与至少一种介质的接触，并且可容易去除而不留任何残余物。可以使用压敏粘合剂、金属掩模、箔和/或光刻胶作为掩模。掩模的图案化取决于要使用的掩模。对于包括至少一种压敏粘合剂或至少一种箔的掩模，激光烧蚀优选用于图案化。对于金属掩模，剥离工艺优选用于图案化。在这种剥离工艺中，首先，优选地将掩模的底片(negative)施加到表面上，使用例如蜡经由喷墨印刷方法进行压印或印刷。然后，用例如经由物理气相沉积工艺获得的金属层覆盖整个表面(即，包括底片)。最后，将底片去除，例如可以通过有机溶剂将蜡去除，从而使表面的至少一个特定位置和/或至少一个特定区域暴露以与至少一种介质接触。对于包括至少一种光刻胶的掩模，优选地使用通过预定图案的UV照射。在使要改性表面或出于可行性原因而使整个表面(即，要改性表面和被掩蔽表面)与至少一种介质接触之后，以及可选地在暴露于加速表面改性所使用的源之后，将相应的掩模和至少一种介质去除。包括压敏粘合剂或光刻胶的掩模可以通过用有机溶剂(诸如乙醇、异丙醇或丙酮)清洁而被去除。包括箔的掩模可以被拉脱。包括金属的掩模可以通过用王水清洁而被去除。
替代于或优选于掩蔽要改性表面、然后使该要改性表面或优选地出于可行性原因而使整个表面(即，包括该表面的被掩蔽部分)与至少一种介质接触的是，将该至少一种介质选择性地施加到要改性的至少一个涂层的表面的至少一个特定位置和/或至少一个特定区域上。优选地，至少一种介质是通过印刷方法(优选地，喷墨印刷)施加的。
替代于掩蔽表面、然后选择性地施加至少一种介质的是，选择性地施加要改性的至少一个涂层、然后使要改性的该至少一个涂层与能够使该至少一个涂层改性的至少一种介质接触。优选地，将可通过与至少一种介质接触而被改性的至少一个涂层通过印刷方法(优选地，喷墨印刷)选择性地施加到至少一个特定位置和/或至少一个特定区域上。
优选地，可在与至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层是光致变色涂层或基于可用于光致变色涂层但没有任何光致变色染料的涂层组合物的涂层。矫正镜片可以在前表面上或在后表面上包括至少一个可改性的涂层。假如至少一个可改性的涂层是光致变色涂层、或者是基于可用于光致变色涂层的涂层组合物(但该涂层组合物不包括光致变色染料)的涂层，则只有矫正镜片的前表面包括相应的至少一个涂层。对最终光学表面的改性优选地是考虑到周边视觉并且不会损害中心凹视觉而对最终光学表面进行的改性或调整。考虑到周边视觉并且不会损害中心凹视觉而对最终光学表面进行的改性或调整优选地是对最终光学表面进行的后续改变。由此，最终光学表面的最终是对于中心凹视觉而言的。考虑到周边视觉而对最终光学表面进行的改性或调整优选地是对最终光学表面进行的使得形成至少一个微透镜的后续改性。该至少一个微透镜可以具有考虑到配戴者的(两只)眼睛的周边屈光而个体化地调整的任何任意形状或形式。假如对最终光学表面进行的后续改性使得形成具有任何任意形状或形式的至少两个微透镜，则将该至少两个微透镜考虑到个体周边屈光而分布在表面上。至少两个微透镜的任意形状或形式可以是彼此相同或不同的，各自考虑到个体周边屈光。优选地，至少一个微透镜或至少两个微透镜不会损害中心凹视觉。
至少一个光致变色涂层可以例如基于EP 1 433 814 A1、EP 1 602479A1或EP 1561 571 A1中描述的光致变色组合物。该至少一个基于通常产生光致变色组合物的涂层组合物的涂层可以包含EP 1 433814A1、EP 1 602 479 A1或EP 1 561 571 A1中描述的、但不含任何光致变色染料的组合物。
EP 1 433 814 A1，特别是EP 1 433 814 A1，权利要求1，披露了光致变色组合物，其包含(1)100重量份的可自由基聚合的单体；(2)0.01至20重量份的胺化合物；以及(3)0.01至20重量份的光致变色化合物，这些可自由基聚合的单体包括具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体，和/或具有异氰酸酯基的可自由基聚合的单体。根据EP 1 433 814 A1，为了增加由其中描述的光致变色组合物产生的光致变色涂层与眼镜片基材之间的粘附力，使用具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体或具有异氰酸酯基的可自由基聚合的单体。EP 1 433 814 A1，第3页，第[0025]段至第7页，第[0046]段中提到了可用的单体。此外，根据EP 1 433 814 A1，光致变色组合物可包含其他可自由基聚合的单体。作为其他可聚合的单体，具有至少60的均聚物L级洛氏硬度的可自由基聚合的单体(“高硬度单体”)和具有40或更小的均聚物L级洛氏硬度的可自由基聚合的单体(“低硬度单体”)的组合优选用于改善所得光致变色涂层的特性如耐溶剂性、硬度和耐热性或其光致变色特性如显色强度和褪色速度。在EP 1 433 814 A1，第7页，第[0052]段至第13页，第[0096]段中给出了关于高硬度单体和低硬度单体的实例和解释。为了改进所得光致变色涂层的特征性特性(诸如耐溶剂性、硬度和耐热性)或光致变色特性(诸如显色强度和渐退速度)的平衡，低硬度单体的量优选是5重量％至70重量％并且高硬度单体的量优选是5重量％至95重量％，基于除具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体和具有异氰酸酯基团的可自由基聚合的单体外的所有其他可自由基聚合的单体的总量。此外，根据EP 1 433 814 A1，特别优选的是，具有至少三个可自由基聚合的基团的单体应以基于所有其他可自由基聚合的单体的总量至少5重量％的量被作为高硬度单体包含在内。进一步优选地，根据EP 1 433814A1，除了所提及的按硬度分类的单体之外，可自由基聚合的单体还包括在分子中具有至少一个环氧基团和至少一个可自由基聚合的基团的可自由基聚合的单体。通过使用具有至少一个环氧基团的可自由基聚合的单体，可以改进光致变色化合物的耐久性和光致变色涂层的粘附力。在EP 1 433814 A1，第13页，第[0101]段至第14页，第[0105]段中披露了在分子中具有至少一个环氧基团和至少一个可自由基聚合的基团的可自由基聚合的单体。根据EP 1 433 814 A1，分子中具有至少一个环氧基团和至少一个可自由基聚合的基团的可自由基聚合的单体的量优选是0.01重量％至30重量％、特别优选是0.1重量％至20重量％，基于所有其他可自由基聚合的单体的总量。EP 1433 814A1中描述的光致变色组合物包含至少一种胺化合物，其量为0.01至20重量份，基于除上述可自由基聚合的单体之外的所有可自由基聚合的单体的总量的100重量份。EP 1 433 814 A1，第14页，第[0108]段至第15页，第[0112]段中给出了该至少一种胺化合物的实例。EP 1 433 814 A1中披露的光致变色组合物包含至少一种光致变色化合物，其量为0.01至20重量份、优选0.05至15重量份并且更优选0.1至10重量份，基于100重量份所有可自由基聚合的单体的总量。EP 1 433 814A1，第15页，第[0114]段至第20页第[0122]段中给出了光致变色化合物的实例。
EP 1 602 479 A1，特别是EP 1 602 479 A1，权利要求9，披露了光致变色组合物，其包含100重量份的可自由基聚合的单体、0.001至5重量份的硅酮系或氟系表面活性剂以及0.01至20重量份的光致变色化合物。根据EP 1 602 479 A1，光致变色组合物包含具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体、胺化合物和光致变色化合物。具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体的用量合适地是0.5重量％至20重量％，特别是1重量％至10重量％，基于全部涂覆剂的总重量。根据EP 1602 479 A1可以与具有硅醇基团或通过水解形成硅醇基团的基团的可自由基聚合的单体一起使用的其他可自由基聚合的单体，例如像三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三甲基丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甘醇三丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、尿烷低聚物四丙烯酸酯、尿烷低聚物六甲基丙烯酸酯、尿烷低聚物六丙烯酸酯、聚酯低聚物六丙烯酸酯、二甘醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二甲基丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、2,2-双(4-甲基丙烯酰氧基乙氧基二苯基)丙烷、甲基丙烯酸缩水甘油酯、具有776的平均分子量的2,2-双(4-丙烯酰氧基聚乙二醇苯基)丙烷或具有475的平均分子量的甲醚聚乙二醇甲基丙烯酸酯。其他可自由基聚合的单体的用量合适地是20重量％至90重量％、特别是40重量％至80重量％，基于全部涂覆剂的重量。胺化合物(诸如三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、三异丙醇胺、甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯或甲基丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯)的用量例如合适地是0.01重量％至15重量％、特别是0.1重量％至10重量％，基于全部涂覆剂的重量。光致变色化合物(诸如萘并吡喃衍生物、色烯衍生物、螺噁嗪衍生物、螺吡喃衍生物或俘精酰亚胺(flugimide)衍生物)的用量合适地是0.1重量％至30重量％、特别是1重量％至10重量％，基于全部涂覆剂的重量。
假如眼镜片包括至少一个光致变色涂层，优选地矫正镜片的前表面包括至少一个光致变色涂层，则矫正镜片可以可选地包括至少一种光致变色底漆。优选地，矫正镜片的前表面包括至少一个光致变色底漆和至少一个光致变色涂层，光致变色涂层是其最外面的涂层。该至少一个光致变色底漆可以包括在EP 1 602 479 A1中、特别是EP 1 602479A1的权利要求1中披露的聚氨酯树脂层，或在WO 03/058300A1、特别是WO 03/058300A1的第22页第3行至第23页第13行中披露的底漆层。
能够使至少一个涂层改性的至少一种介质优选地是至少一种有机酸。该至少一种介质优选地包含至少一种有机脂肪族饱和或不饱和、可选取代的一元羧酸。该至少一种介质优选地包含至少一种包含2至22个碳原子、优选3至18个碳原子的有机脂肪族饱和或不饱和一元羧酸。作为至少一种介质，可以使用例如乙酸、丙酸、丙烯酸、乳酸、丁酸、异丁酸、戊酸、庚酸、己酸、辛酸、壬酸、肉豆蔻酸、棕榈油酸、亚油酸、α-亚麻酸、γ-亚麻酸、油酸、蓖麻油酸、十八碳四烯酸、花生四烯酸、二十碳五烯酸、二十二碳五烯酸和/或二十二碳六烯酸。优选地，至少一种介质包含选自由以下组成的组的至少一种酸：乙酸、乳酸、丁酸、己酸、辛酸、壬酸、亚油酸、α-亚麻酸、γ-亚麻酸、和油酸。更优选地，该至少一种介质包含选自由以下组成的组的至少一种酸：乳酸、辛酸和油酸。可替代地或另外地，该至少一种介质可以包含三羧酸例如像柠檬酸或无机酸例如像盐酸。作为至少一种介质，可以使用前述的之一或其任何组合。该至少一种介质可以以商购级或商购品质使用或者该至少一种介质可以稀释使用。假如该至少一种介质通过喷墨印刷施加，则可能必须要将该至少一种介质的粘度调节为可印刷。
能够使至少一个涂层改性的至少一种介质优选地仅短暂地与至少一个涂层接触。至少一种介质(i)通过施加至少一个单电磁脉冲或通过施加多个单电磁脉冲而被去除、或(ii)在施加至少一个单电磁脉冲之后或通过施加多个单电磁脉冲例如通过简单地擦拭或冲洗而被去除。因此，至少一种介质不会作为额外的材料或涂层保留在至少一个涂层上。
为了加速使用先前所披露的方法形成可个体化地调整的最终光学表面，在使至少一个涂层的表面与至少一种介质接触之后，可以将至少一个单电磁脉冲施加到包括镜片基材、至少一个涂层和至少一种介质的眼镜片的至少一个表面上。该至少一个单电磁脉冲可以从选自由以下组成的组的至少一个电磁源施加：至少一个闪光灯(优选地至少一个氙闪光灯)、至少一个卤素灯、至少一个定向等离子体弧、至少一个激光器、至少一个微波发生器、至少一个感应加热器、至少一个电子束、至少一个频闪仪和至少一个汞灯。该至少一个单电磁脉冲优选地从至少一个闪光灯施加。优选地，该至少一个闪光灯是填充有选自氙、氪和/或氩的气体、优选地氙的闪光灯。该至少一个单电磁脉冲优选地具有在从100nm至1800nm范围内、更优选地在从150nm至1300nm范围内、最优选地在从200nm至1000nm范围内的波长。该至少一个单电磁脉冲还优选地具有在从350nm至1000nm范围内、更优选地在从400nm至800nm范围内、最优选地在从420nm至700nm范围内的波长。从前述电磁源中的至少一个施加的至少一个单电磁脉冲的波长优选地在这些波长范围内。该至少一个单电磁脉冲被施加至眼镜片表面中的至少一个，即(i)眼镜片的前表面，(i)眼镜片的后表面或(iii)眼镜片的前表面和后表面。假如(iii)当至少一个单电磁脉冲将要被施加至眼镜片的前表面和后表面时，则前述电磁源之一的位置可以交替，使得该至少一个单电磁脉冲被直接施加至眼镜片的前表面或直接施加至眼镜片的后表面。可替代地，在前述情况(iii)中，前述电磁源中的至少两个被定位使得同时地或交替地直接施加该至少一个单电磁脉冲至眼镜片的前表面和直接施加该至少一个单电磁脉冲至眼镜片的后表面。在使用至少两个电磁源的任何情况下，该至少两个电磁源可以具有相同的类型或不同的类型。
假如眼镜片的表面中只有一个表面包括可在与至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层，则可以将至少一个单电磁脉冲施加到眼镜片的包括所述至少一个涂层的表面上，或者可以将至少一个单电磁脉冲施加到眼镜片的不包括所述至少一个涂层的表面上。再次，参考下文的解释。假如眼镜片的前表面和后表面各自包括可在与至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层，则可以将至少一个单电磁脉冲施加到(i)眼镜片的前表面上、(ii)眼镜片的后表面上、或(iii)眼镜片的前表面和后表面上。在所述情况(iii)下，先前关于电磁源提到的可能性是适用的。
考虑到EP 19204745.4已经建议用优选地波长范围为280nm至1200nm的氙灯进行照射，更令人惊讶的是，例如施加至少一个单电磁脉冲并且优选地从至少一个填充有氙气的闪光灯发出(即，通过使用光子固化方法)显著减少了获得在与能够使至少一个涂层改性的至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层的最终光学表面的总工艺持续时间。进一步地，与EP 19204745.4中所描述的方法相比，为了减少总工艺持续时间，除了施加至少一个单电磁脉冲之外，无需额外的工作量。换言之，可在与能够使至少一个涂层改性的至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层的接触在施加至少一个单电磁脉冲之后(即，通过使用光子固化技术)得到至少一个涂层的任何期望或目标的最终光学表面，与EP 19204745.4中所描述的方法相比，总工艺持续时间显著减少。
“单电磁脉冲”意指由上文提到的电磁源中的至少一个电磁源递送并且被施加到眼镜片的包括至少一个可改性的涂层的至少一个表面上的光，该至少一个可改性的涂层由此完全地或至少部分地与至少一种介质接触、或完全地或至少部分地被至少一种介质覆盖。可以施加在以上定义的波长范围之一内的至少一个单电磁脉冲。该至少一个单电磁脉冲优选地具有限定的持续时间，即限定的包络。至少一个单电磁脉冲的包络被定义为其中该至少一个单电磁脉冲被施加到眼镜片的包括至少一个涂层(该至少一个涂层完全地或至少部分地被至少一种介质覆盖)的至少一个表面上的时间段。至少一个单电磁脉冲的包络进一步被定义为其中该至少一个单电磁脉冲被施加到眼镜片的不包括可在与至少一种介质(该至少一种介质能够使至少一个涂层改性)接触或被该至少一种介质覆盖时被改性的至少一个涂层的至少一个表面上的时间段。该包络可以在从50μs至200ms范围内，优选地在从100μs至150ms范围内。每个单电磁脉冲可以包括至少两个微脉冲，该至少两个微脉冲中的每个具有在每个单电磁脉冲的包络内的限定的持续时间。在单电磁脉冲的包络内的该至少两个微脉冲的持续时间可以彼此相同或不同。在单电磁脉冲的包络内的所有微脉冲的持续时间的百分比定义为单电磁脉冲的占空比。此外，该至少一个单电磁脉冲或至少一个微脉冲具有限定的峰值强度。峰值强度定义为通过一个单电磁脉冲或在单电磁脉冲内的一个微脉冲每单位时间向至少一个涂层的单位面积施加光能的速率，该至少一个涂层完全地或至少部分地被至少一种介质覆盖。峰值强度优选地在从0.01W/cm2至200W/cm2范围内、进一步优选地在从0.1W/cm2至150W/cm2范围内、更优选地在从0.5W/cm2至100W/cm2范围内并且最优选地从1W/cm2至60W/cm2范围内。在单电磁脉冲的包络内的至少两个微脉冲的峰值强度可以彼此相同或不同。优选地，在单电磁脉冲的包络内的至少两个微脉冲的峰值强度彼此相同。在单电磁脉冲的包络内的两个连续微脉冲之间的峰值强度不需要是零，或者不需要是恒定的，或者不需要是相等的。如果必要的话，可以重复每个单电磁脉冲以提供电磁脉冲序列。在该电磁脉冲序列内，每个单电磁脉冲可以重复至少两次且最高达1000次，优选地每个单电磁脉冲重复2次与100次之间。在电磁脉冲序列内，优选地重复相同的单电磁脉冲。在电磁脉冲序列内，每个单电磁脉冲的包络可以彼此相同或不同。优选地，在电磁脉冲序列内，每个单电磁脉冲的包络是相同的。在电磁脉冲序列内，每个单电磁脉冲可以包括至少两个微脉冲，该至少两个微脉冲可以关于它们的峰值强度、持续时间和/或占空比彼此相同或不同。优选地，在电磁脉冲序列内，每个单电磁脉冲可以包括至少两个微脉冲，该至少两个微脉冲关于它们的峰值强度、持续时间和/或占空比彼此相同。在包括至少两个单电磁脉冲的电磁脉冲序列内，该至少两个单电磁脉冲可以以在从0.1Hz至5Hz、优选地从0.2Hz至4Hz、进一步优选地从0.3Hz至3.5Hz并且最优选地从0.4Hz至2Hz的范围内的重复率重复。在至少一个单电磁脉冲的包络内的至少一个单电磁脉冲的峰值强度可以在该包络内和/或随着该至少一个单电磁脉冲内的每个微脉冲逐渐减小。例如，此减小可能是由于用于产生该至少一个单电磁脉冲的电磁源的充电电容器的限制。由至少一个单电磁脉冲施加到包括至少一个涂层(该至少一个涂层被至少一种介质完全地或至少部分地覆盖)的眼镜片的剂量是在包络的总持续时间内用每个单电磁脉冲递送的平均强度，其中每个单电磁脉冲可以包含或可以不包含各自递送离散量的强度的至少两个微脉冲。由至少一个单电磁脉冲施加的剂量可以优选地在从0.001J/cm2至50J/cm2、进一步优选地从0.1J/cm2至30J/cm2、更优选地从1J/cm2至20J/cm2并且最优选地从2.0J/cm2至15J/cm2的范围内。特别优选地，所施加的剂量在从3J/cm2至8J/cm2的范围内。
至少一个单电磁脉冲的先前提到的工艺参数中的任何一个工艺参数的任何变化都可能会影响在将至少一个单电磁脉冲施加到可用至少一种介质改性的至少一个涂层上时所获得的光学表面。进一步地，至少一个单电磁脉冲的先前提到的工艺参数中的任何一个工艺参数的任何变化都可能会影响在将至少一个单电磁脉冲施加到眼镜片的不包括可在与至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层的表面上时所获得的光学表面。不仅例如表面改性(该表面改性是例如至少一个微透镜)的例如至少宽度和高度方面的尺寸可通过施加适当的至少一个单电磁脉冲来调整，而且表面改性的形状也可取决于所施加的至少一个单电磁脉冲而调整。因此，与EP 19204745.4中所披露的接触时间相比，将至少一个单电磁脉冲施加到部分地或完全地被能够使至少一个涂层改性的至少一种介质覆盖的至少一个涂层上不仅显著减少了总工艺持续时间，而且同时提供了至少一个涂层的可获得的表面改性的扩展的可能性。将至少一个单电磁脉冲施加到眼镜片的包括可在与能够使至少一个涂层改性的至少一种介质接触时被改性的至少一个涂层的至少一个表面上使得形成与可通过EP 19204745.4中所披露的方法实现的目标光学表面相同的目标光学表面，但总工艺持续时间与EP 19204745.4中所需的接触时间相比短得多。总工艺持续时间(即，通过使用如上所述的至少一个单电磁脉冲使施加在未涂覆或预涂覆的镜片基材的至少一个表面上的至少一个涂层改性所需的总时间)在优选地从100μs至7min、进一步优选地从300μs至5min、更优选地从500μs至4min、最优选地从1ms至3min的范围内。
施加至少一个单电磁脉冲优选地包括施加恰好一个单电磁脉冲，该恰好一个单电磁脉冲可以如上所述的被细分为至少两个微脉冲。施加至少一个单电磁脉冲优选地也包括施加多个单电磁脉冲、优选地至少两个单电磁脉冲、进一步优选地多个单电磁脉冲，这些单电磁脉冲中的每个单电磁脉冲可以再次如先前所解释的被细分为至少两个微脉冲。与单电磁脉冲的确切数量无关，之前给出的关于至少一个单电磁脉冲的解释应适用。
总之，在本发明的范围内特别优选以下实施例：
实施例1：一种制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法按给定顺序包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-用至少一个涂层覆盖该镜片基材的至少一个表面，该至少一个涂层可通过与能够使该至少一个涂层改性的至少介质接触而被改性，
-考虑到配戴者的周边屈光，将该至少一个涂层的最外表面、即该至少一个涂层的不与该镜片基材的表面之一邻近的表面完全地或部分地与该至少一种介质接触，
-将至少一个单电磁脉冲施加到包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质的眼镜片的至少一个表面上，
-获得包括该镜片基材和该至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面完全地或部分地被改性。
实施例2：根据实施例1所述的方法，其中，该至少一个涂层的表面形貌完全地或部分地被改性。
实施例3：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的改性是该至少一个涂层的至少一处隆起。
实施例4：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的改性是对该至少一个涂层进行的扩散受控制的工艺、优选地对该至少一个涂层进行的扩散受控制的溶胀工艺。
实施例5：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，在该至少一个涂层与该至少一种介质接触之前以及在该至少一个电磁脉冲施加到包括该镜片基材、该至少一个涂层和与该至少一个涂层接触的该至少一种介质的眼镜片的表面中的至少一个表面上之前，该至少一个涂层被固化和/或被硬化。
实施例6：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的完全改性可按照该眼镜片的最终光学表面进行调整。
实施例7：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的完全改性是矫正或补偿配戴者的所开处方的屈光力，优选地针对中心凹视觉。
实施例8：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的部分改性使得该至少一个涂层形成至少一个局部溶胀，优选地不损害中心凹视觉。
实施例9：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，考虑到所开处方的屈光力对该至少一个涂层的表面形貌的完全改性之后是对该至少一个涂层的表面形貌的至少一个部分改性，该至少一个部分改性优选地按给定顺序包括以下步骤：
-考虑到该周边屈光，优选地在至少一个特定位置处和/或在至少一个特定区域处，用至少一种介质部分地覆盖该至少一个涂层的经改性的表面、或使该至少一个涂层的经改性的表面部分地与该至少一种介质接触，
-将至少一个单电磁脉冲施加到包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质的眼镜片的表面中的至少一个表面上，
-获得包括镜片基材和至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的表面形貌被部分地改性、优选地包括至少一个微透镜。
实施例10：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，该眼镜片进一步涂覆有选自由以下组成的组中的至少一者的至少一个涂层：至少一个硬质涂层、至少一个减反射涂层、和至少一个洁净涂层。
实施例11：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，在施加该至少一个单电磁脉冲之后，残余的至少一种介质从该至少一个涂层的经改性的表面上被除去。
实施例12：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的表面形貌的改性可至少根据所施加的该至少一个单电磁脉冲进行调整或调节。
实施例13：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，该眼镜片基材基于光学材料，该光学材料根据DIN EN ISO 13666:2019-12的第3.3.1节被定义为能够制造成光学部件的透明材料。眼镜片基材可以由以下制成：根据DIN EN ISO 13666:2019-12的第3.3.1节的矿物玻璃和/或根据DIN EN ISO 13666:2019-12的第3.3.3节的有机硬树脂(如热固性硬树脂)；根据DIN EN ISO 13666:2019-12的第3.3.4节的热塑性硬树脂；或根据DIN EN ISO13666:2019-12的第3.3.5节的光致变色材料。
优选地，眼镜片基材基于下表中提及的光学材料中的至少一种，特别优选地基于有机硬树脂中的至少一种。
表：光学材料的示例
Figure BDA0004190868500000271
*基于钠D线
实施例14：根据前述实施例中任一项所述的方法，其中，对该至少一个涂层的局部表面改性使得形成微透镜或小透镜，该微透镜或该小透镜的高度在优选地1nm至10μm、进一步优选地2nm至9μm、进一步优选地3nm至8μm的范围内、更优选地在4nm至7μm的范围内、最优选地在5nm至6μm的范围内。对于包括复杂形状的局部表面改性，先前提到的范围优选地适用于最大高度。关于侧向延伸，可以给定范围优选地为5μm至20mm、进一步优选地为10μm至10mm、进一步优选地为20μm至5mm、更优选地为50μm至4mm、最优选地为70μm至3mm的宽度。这些尺寸优选地通过白光干涉仪系统来确定。关于产生微透镜或小透镜的局部表面改性的可实现的表面屈光力(surface power)，大范围是可通过前述各种各样的改性可能性调节的。该表面屈光力可以在0.2屈光度至50屈光度的范围内，并且优选地在0.25屈光度至40屈光度的范围内、进一步优选在0.3屈光度至30屈光度的范围内、更优选在0.4屈光度至20屈光度的范围内并且最优选在0.5屈光度至10屈光度的范围内。表面屈光力可以如EP19204745.4中所解释的计算。
实施例15：一种产品，包括：
i)眼镜片，或
ii)眼镜片和使用眼镜片的说明，或
iii)该眼镜片的虚拟表示，该表示存储于非暂时性数据介质和/或数据信号上，或
iv)该眼镜片的虚拟表示和使用该眼镜片的虚拟说明，该表示和这些说明存储于非暂时性数据介质上，或
v)具有该眼镜片的虚拟表示和可选地使用该眼镜片的虚拟说明的非暂时性数据介质，或
vi)具有该眼镜片的虚拟表示和可选地使用该眼镜片的虚拟说明的数据信号，
该眼镜片包括镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
该镜片基材的表面中的至少一个表面涂覆有至少一个涂层，该至少一个涂层可在与该至少一种介质接触时被改性，以考虑到由以下组成的组中的至少一者获得任何目标的最终光学表面：为了矫正或补偿配戴者的视力的所开处方的屈光力、周边屈光、和该眼镜片的配戴中位置。

Claims (36)

1.一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
-获得包括镜片基材和至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面被改性，
其特征在于，
对该至少一个涂层的该表面的改性是使得该至少一个涂层形成溶胀的扩散受控制的表面改性，
对该至少一个涂层的该表面的改性考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对该至少一个涂层的该表面的改性是对该至少一个涂层的表面形貌的改性。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一种介质是考虑到该周边屈光经由喷墨印刷而施加的。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个涂层选自由以下组成的组中的至少一者：至少一个光致变色涂层、以及至少一个基于与该至少一个光致变色类似但没有至少一种光致变色染料的涂层组合物的涂层。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个涂层与该至少一种介质的完全接触考虑到所开处方的屈光力。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，考虑配戴中位置，然后使该至少一个涂层与该至少一种介质接触。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，将至少一个单电磁脉冲施加到该眼镜片的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该眼镜片进一步涂覆有选自由以下组成的组中的至少一者的至少一个涂层：至少一个硬质涂层、至少一个减反射涂层、和至少一个洁净涂层。
9.一种产品，包括：
i)眼镜片，或
ii)眼镜片和使用眼镜片的说明，或
iii)该眼镜片的虚拟表示，该表示存储于非暂时性数据介质和/或数据信号上，或
iv)该眼镜片的虚拟表示和使用该眼镜片的虚拟说明，该表示和这些说明存储于非暂时性数据介质上，或
v)具有该眼镜片的虚拟表示和可选地使用该眼镜片的虚拟说明的非暂时性数据介质，或
vi)具有该眼镜片的虚拟表示和可选地使用该眼镜片的虚拟说明的数据信号，
该眼镜片包括镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
该镜片基材的表面中的至少一个表面部分地或完全地涂覆有至少一个涂层，
使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该至少一个涂层的该表面在与该至少一种介质接触时被改性，从而使得该至少一个涂层的该表面形成扩散受控制的溶胀，以考虑到由以下组成的组中的至少一者获得任何目标的最终光学表面：为了矫正或补偿配戴者的视力的所开处方的屈光力、周边屈光、和该眼镜片的配戴中位置。
10.一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光。
11.一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-将该至少一种介质去除，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光。
12.一种用于使眼镜片的表面改性的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的该眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光。
13.一种用于使眼镜片的表面改性的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-将该至少一种介质去除，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光。
14.根据前述权利要求10和13中任一项所述的方法，其特征在于，对该至少一个涂层的该表面的改性是对该至少一个涂层的表面形貌的改性。
15.根据前述权利要求10至14中任一项所述的方法，其特征在于，对该至少一个涂层的该表面的改性是该至少一个涂层的扩散受控制的溶胀。
16.根据前述权利要求10至15中任一项所述的方法，其特征在于，使该至少一个涂层的该表面完全地或部分地与该至少一种介质接触是通过将该至少一种介质印刷在该至少一个涂层的该表面上进行的。
17.根据前述权利要求10至16中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲施加到包括包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质的该眼镜片的一个表面上。
18.根据前述权利要求10至17中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个涂层选自由以下组成的组中的至少一者：至少一个光致变色涂层、以及至少一个基于用于光致变色涂层但没有光致变色染料的涂层组合物的涂层。
19.根据前述权利要求10至18中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一种介质包含至少一种有机脂肪族饱和或不饱和、可选取代的一元羧酸。
20.根据前述权利要求10至19中任一项所述的方法，其特征在于，使该至少一个涂层改性所需的总工艺持续时间在从100μs至7min的范围内。
21.根据前述权利要求10至20中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲的包络在从50μs至200ms的范围内。
22.根据前述权利要求10至21中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲包括由选自由以下组成的组的至少一个电磁源递送的光：至少一个闪光灯、至少一个卤素灯、至少一个定向等离子体弧、至少一个激光器、至少一个微波发生器、至少一个感应加热器、至少一个电子束、至少一个频闪仪、和至少一个汞灯。
23.根据前述权利要求10至22中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲的波长在从100nm至1800nm的范围内。
24.一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性是考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光而使该至少一个涂层形成的扩散受控制的溶胀。
25.一种用于制造眼镜片的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-将该至少一种介质去除，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性是考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光而使该至少一个涂层形成的扩散受控制的溶胀。
26.一种用于眼镜片的表面的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性是考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光而使该至少一个涂层形成的扩散受控制的溶胀。
27.一种用于使眼镜片的表面改性的方法，该眼镜片包括镜片基材和至少一个涂层，该方法至少包括以下步骤：
-提供镜片基材，该镜片基材包括未涂覆或预涂覆的前表面和未涂覆或预涂覆的后表面，
-将至少一个涂层部分地或完全地施加到该镜片基材的表面中的至少一个表面上，
-使该至少一个涂层的表面部分地或完全地与至少一种介质接触，
该方法的特征进一步在于，
-将至少一个单电磁脉冲施加到、或将多个单电磁脉冲施加到该眼镜片的表面中的至少一个表面上，该眼镜片包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质，
-将该至少一种介质去除，
-获得包括表面完全地或部分地被改性的至少一个涂层的该眼镜片，该至少一个涂层的该表面可在与该至少一种介质接触或已经与该至少一种介质接触时被改性，该至少一种介质能够使该至少一个涂层的该表面改性，由此，对该至少一个涂层的该表面的改性是考虑到至少一个配戴者的眼睛的个体周边屈光而使该至少一个涂层形成的扩散受控制的溶胀。
28.根据前述权利要求24至27中任一项所述的方法，其特征在于，对该至少一个涂层的该表面的改性是对该至少一个涂层的表面形貌的改性。
29.根据前述权利要求24至28中任一项所述的方法，其特征在于，使该至少一个涂层的该表面完全地或部分地与该至少一种介质接触是通过将该至少一种介质印刷在该至少一个涂层的该表面上进行的。
30.根据前述权利要求24至29中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲施加到包括包括该镜片基材、该至少一个涂层和该至少一种介质的该眼镜片的一个表面上。
31.根据前述权利要求24至30中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个涂层选自由以下组成的组中的至少一者：至少一个光致变色涂层、以及至少一个基于用于光致变色涂层但没有光致变色染料的涂层组合物的涂层。
32.根据前述权利要求24至31中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一种介质包含至少一种有机脂肪族饱和或不饱和、可选取代的一元羧酸。
33.根据前述权利要求24至32中任一项所述的方法，其特征在于，使该至少一个涂层改性所需的总工艺持续时间在从100μs至7min的范围内。
34.根据前述权利要求24至33中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲的包络在从50μs至200ms的范围内。
35.根据前述权利要求24至34中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲包括由选自由以下组成的组的至少一个电磁源递送的光：至少一个闪光灯、至少一个卤素灯、至少一个定向等离子体弧、至少一个激光器、至少一个微波发生器、至少一个感应加热器、至少一个电子束、至少一个频闪仪、和至少一个汞灯。
36.根据前述权利要求24至35中任一项所述的方法，其特征在于，该至少一个单电磁脉冲的波长在从100nm至1800nm的范围内。
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