CN116282971B - 一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 - Google Patents
一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116282971B CN116282971B CN202310262577.9A CN202310262577A CN116282971B CN 116282971 B CN116282971 B CN 116282971B CN 202310262577 A CN202310262577 A CN 202310262577A CN 116282971 B CN116282971 B CN 116282971B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical fiber
- processed
- laser
- crystal
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 76
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 9
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910019655 synthetic inorganic crystalline material Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 abstract description 4
- 230000006698 induction Effects 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 238000004943 liquid phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002918 waste heat Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/62—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags by application of electric or wave energy; by particle radiation or ion implantation
- C03C25/6206—Electromagnetic waves
- C03C25/6208—Laser
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
本发明公开了一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，包括以下步骤布置飞秒激光器和烧蚀探头‑打开飞秒激光器，使得飞秒激光器发出的激光经烧蚀探头后，形成的光斑位于待加工样品光纤的内部，且激光传播方向与待加工样品光纤垂直，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间存在设定距离‑在高NA物镜下，利用光斑在待加工样品光纤的表面诱导改性，形成损伤轨迹，未被激光扫描的纤芯区域被折射率降低的改性晶体材料区包围，构成包层，从而得到Ⅱ类应力诱导形成的凹陷包层波导。本发明采用上述单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，制备出高光学质量的单模单晶光纤，具有结构均匀、稳定性高、散热良好、无污染、无需额外引入其他材料的包层结构等优点。
Description
技术领域
本发明涉及光纤技术领域，尤其涉及一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法。
背景技术
一维晶体，又称为单晶光纤，同时兼具单晶以及纤维的特性，属于传统固态激光和光纤激光的前沿交叉领域。其材质多为高增益、高热导率、高稳定性、光学性能优越的单晶材料，综合光纤材料高长径比的尺寸及光波导转换效率优势。
与传统玻璃光纤相比，晶体光纤具有的高热导率、高激光损伤阈值、较小的非线性效应等优点，使得单晶光纤有望产生更高功率的输出及传输更高能量的激光，这些优点使其在光纤激光器方面具有巨大的应用潜力，从而使其在光纤探测、传感及光纤激光领域受到了国内外越来越多研究者的重视。
对于激光单晶光纤而言，上述单晶光纤一般作为光纤纤芯，为进一步提高激光输出质量和效率，在单晶光纤还设置有包层结构。利用纤芯与包层之间的折射率差实现激光在纤芯内的全反射。
目前，主流的实施方法为利用低熔点的玻璃材料制备单晶光纤的包层，形成非晶包层/单晶纤芯结构。然而，由于单晶光纤晶格参数与热学性能与石英玻璃相差较大，易导致激光增益介质在高功率激光输出过程中，包层与纤芯接触界面发生剥离甚至炸裂；同时石英玻璃热传导率较低，极大地约束了单晶光纤热管理优势的发挥；此外，石英玻璃包层与单晶纤芯之间存在较大的折射率差，易引起多模传输。
为此，近年来，磁控溅射技术、气相沉积法、液相外延法和高温高压水热法等技术相继被用于在单晶光纤表面沉积一层单晶或多晶包层，以此提高单晶光纤的散热能力和热稳定性。但上述方法制备的光纤存在涂层较薄或厚度不均匀、引入多孔结构、晶体生长难以控制、偏心生长甚至纤芯回溶等问题；且生长单晶包层时通常选用的铅基助溶剂会造成污染，高温环境下氧化铅的挥发也会导致设备腐蚀。
同时，飞秒激光直写是一种高效灵活的三维精密材料加工技术，在许多领域得到了广泛的应用。用经过显微物镜会聚后的飞秒激光加工晶体材料时，激光在聚焦区域会对晶格结构造成破坏，这一现象称为飞秒激光对晶体材料的改性。根据飞秒激光对晶格结构损伤程度的大小，可将材料改性分为Ⅰ类改性和Ⅱ类改性，其中Ⅰ类改性区域块体材料折射率略微增大，而Ⅱ类改性区域块体原有晶格结构被严重破坏，故激光辐照区域折射率减小。
目前，已有一些由一系列Ⅱ类改性区域围城的包层光波导的报道，其对光束有很好的约束能力，但是还存在：包层厚度不均匀、扫描次数较多、制备时间较长等问题。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，制备出高光学质量的单模单晶光纤，具有结构均匀、稳定性高、散热良好、无污染、无需额外引入其他材料的包层结构等优点。
为实现上述目的，本发明提供了一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，包括以下步骤：
S1、布置飞秒激光器和烧蚀探头；
S2、打开飞秒激光器，使得飞秒激光器发出的激光经烧蚀探头后，形成的光斑位于待加工样品光纤的内部，且激光传播方向与待加工样品光纤垂直，此时，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间存在设定距离；
S3、在高NA物镜下，利用光斑在待加工样品光纤的表面诱导改性，形成损伤轨迹，未被激光扫描的纤芯区域被折射率降低的改性晶体材料区包围，构成包层，从而得到Ⅱ类应力诱导形成的凹陷包层波导。
优选的，在步骤S2中，待加工样品光纤材料包括激光晶体和闪烁晶体。
优选的，激光晶体包括Nd:YAG，Yb:YAG，Ho:YAG；
闪烁晶体包括Ce:LuAG，Ce:YAG，Ce:LYSO。
优选的，在步骤S1中，飞秒激光器发出激光的波长为1.03μm，得到的光斑为椭球型光斑，椭球型光斑的长轴60μm、短轴4μm；
在步骤S2中，待加工样品光纤为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间的距离为39μm。
优选的，步骤S3具体包括以下步骤：
S31、横向匀速移动待加工样品光纤，使得椭球形光斑由待加工样品光纤的一端相对移动至待加工样品光纤的另一端，形成一条横截面为半椭圆形的改性晶体材料区；
S32、转动待加工样品光纤设定角度，重复步骤S31，形成另一条横截面为半椭圆形的改性晶体材料区；
S33、重复步骤S31和步骤S32，直至形成围绕纤芯区域的圆心均匀分布的多个横截面为半椭圆形的改性晶体材料区，即凹陷包层。
优选的，在步骤S1中，飞秒激光器和烧蚀探头之间还依次布置有由反射光栅组和聚光透镜组成的焦场整形透镜组，用于对发射激光进行正啁啾补偿后整形成球形的光斑；
反射光栅组包括两个呈45°相对布置的反射光栅。
优选的，在步骤S1中，飞秒激光器发出激光的波长为1.03μm，整形得到的半径为21μm的球形光斑；
在步骤S2中，待加工样品光纤为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间的距离为25μm。
优选的，步骤S3具体包括以下步骤：
S31、横向匀速移动待加工样品光纤，使得球形光斑由待加工样品光纤的一端相对移动至待加工样品光纤的另一端，形成一条横截面为半圆形的改性晶体材料区；
S32、转动待加工样品光纤设定角度，重复步骤S31，形成另一条横截面为半圆形的改性晶体材料区；
S33、重复步骤S31和步骤S32，直至形成围绕纤芯区域的圆心均匀分布的多个横截面为半圆形的改性晶体材料区，即凹陷包层。
优选的，步骤S3具体包括以下步骤：
横向匀速移动待加工样品光纤，同时，绕待加工样品光纤的圆心转动待加工样品光纤，使得球形光斑由待加工样品光纤的一端相对移动至待加工样品光纤的另一端，形成一条螺旋前进的改性晶体材料区，即凹陷包层。
优选的，凹陷包层相比于纤芯区域折射率降低0.003。
本发明具有以下有益效果：
1、热稳定性好，能够充分发挥晶体光纤热管理的优势，有效传导光纤中产生的废热；
2、包层厚度均匀，纤芯直径与包层厚度大小均可灵活调控，支持从可见光到近红外甚至中红外波段光的传输，导模也可从单模变化至多模；
3、包层形成过程发生在透明、开放的空气中，能够精确、及时地控制包层的制备过程，且不损伤纤芯；
4、单晶包层制备过程中无需引入其他材料，也无需使用助溶剂，避免了使用铅基助溶剂导致的氧化铅挥发，及其引起的晶体不均匀生长、环境污染及设备腐蚀的问题。
下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本发明的实施例一的加工示意图；
图2为本发明的实施例一的波导光纤结构示意图；
图3为本发明的实施例二的加工示意图；
图4为本发明的实施例二的波导光纤结构示意图；
图5为本发明的实施例三的加工示意图；
图6为本发明的实施例三的损波导光纤结构示意图；
图7为本发明的焦场整形透镜组的结构示意图。
其中：1、飞秒激光器；2、焦场整形透镜组；21、反射光栅组；22、聚光透镜；3、烧蚀探头；4、光斑；5、损伤轨迹；6、待加工样品光纤；7、纤芯区域；8、改性晶体材料区。
具体实施方式
以下将结合附图对本发明作进一步的描述，需要说明的是，本实施例以本技术方案为前提，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围并不限于本实施例。
一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，包括以下步骤：
S1、布置飞秒激光器1和烧蚀探头3；
S2、打开飞秒激光器1，使得飞秒激光器1发出的激光经烧蚀探头3后，形成的光斑4位于待加工样品光纤6的内部，且激光传播方向与待加工样品光纤6垂直，此时，光斑4中心与待加工样品光纤6的圆心之间存在设定距离；
优选的，在步骤S2中，待加工样品光纤6材料包括激光晶体和闪烁晶体。优选的，激光晶体包括Nd:YAG，Yb:YAG，Ho:YAG；闪烁晶体包括Ce:LuAG，Ce:YAG，Ce:LYSO。
S3、在高NA物镜下，利用光斑4在待加工样品光纤6的表面诱导改性，形成损伤轨迹5，未被激光扫描的纤芯区域7被折射率降低的改性晶体材料区8包围，构成包层，从而得到Ⅱ类应力诱导形成的凹陷包层波导。优选的，凹陷包层相比于纤芯区域7折射率降低0.003。
如图1和图2所示，实施例一，在步骤S1中，飞秒激光器1发出激光的波长为1.03μm，得到的光斑4为椭球型光斑4，椭球型光斑4的长轴60μm、短轴4μm；
在步骤S2中，待加工样品光纤6为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑4中心与待加工样品光纤6的圆心之间的距离为39μm。
步骤S3具体包括以下步骤：
S31、横向匀速移动待加工样品光纤6，使得椭球形光斑4由待加工样品光纤6的一端相对移动至待加工样品光纤6的另一端，形成一条横截面为半椭圆形的改性晶体材料区8；
S32、转动待加工样品光纤6设定角度，重复步骤S31，形成另一条横截面为半椭圆形的改性晶体材料区8；
S33、重复步骤S31和步骤S32，直至形成围绕纤芯区域7的圆心均匀分布的多个横截面为半椭圆形的改性晶体材料区8，即凹陷包层。
如图3和图4所示，实施例二，在步骤S1中，飞秒激光器1和烧蚀探头3之间还依次布置有由反射光栅组21和聚光透镜22组成的焦场整形透镜组2，用于对发射激光进行正啁啾补偿后整形成球形的光斑4；相比传统聚焦技术形成的狭长焦斑，椭球型或者球形的焦斑形成的损伤轨迹5对光场的束缚能力更好，从而能够在较少次数的扫描下达到单模传输的效果。
反射光栅组21包括两个呈45°相对布置的反射光栅。
优选的，在步骤S1中，飞秒激光器1发出激光的波长为1.03μm，整形得到的半径为21μm的球形光斑4；
在步骤S2中，待加工样品光纤6为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑4中心与待加工样品光纤6的圆心之间的距离为25μm。
步骤S3具体包括以下步骤：
S31、横向匀速移动待加工样品光纤6，使得球形光斑4由待加工样品光纤6的一端相对移动至待加工样品光纤6的另一端，形成一条横截面为半圆形的改性晶体材料区8；
S32、转动待加工样品光纤6设定角度，重复步骤S31，形成另一条横截面为半圆形的改性晶体材料区8；
S33、重复步骤S31和步骤S32，直至形成围绕纤芯区域7的圆心均匀分布的多个横截面为半圆形的改性晶体材料区8，即凹陷包层。
如图5和图6所示，实施例三，在步骤S1中，飞秒激光器1和烧蚀探头3之间还依次布置有反射光栅组21和聚光透镜22，用于对发射激光进行正啁啾补偿后整形成球形的光斑4；
反射光栅组21包括两个呈45°相对布置的反射光栅。
优选的，在步骤S1中，飞秒激光器1发出激光的波长为1.03μm，整形得到的半径为21μm的球形光斑4；相比传统聚焦技术形成的狭长焦斑，椭球型或者球形的焦斑形成的损伤轨迹5对光场的束缚能力更好，从而能够在较少次数的扫描下达到单模传输的效果。
在步骤S2中，待加工样品光纤6为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑4中心与待加工样品光纤6的圆心之间的距离为25μm。
步骤S3具体包括以下步骤：
横向匀速移动待加工样品光纤6，同时，绕待加工样品光纤6的圆心转动待加工样品光纤6，使得球形光斑4由待加工样品光纤6的一端相对移动至待加工样品光纤6的另一端，形成一条螺旋前进的改性晶体材料区8，即凹陷包层。
在实施例三种，能够在单次扫描的情况下实现低损耗的单模传输，缩短制备所需时间；同时连续的螺旋损伤轨迹5，避免了在离散损伤轨迹5中，光场从相邻损伤轨迹5之间的缝隙泄露，且弥补了纵向扫描机制受限于物镜工作距离且需要能量补偿的缺陷。
在实施例二和实施例三中，飞秒激光器1的发出激光为水平方向，飞秒激光脉冲通过光栅后形成具有空间色散的光束，并带来副啁啾，为此经由两个呈45°相对布置的反射光栅组21成的反射光栅组21后，对入射的飞秒激光进行正啁啾补偿，再经会聚透镜聚焦，得到水平传播的激光。此外，焦场整形技术能够操控焦点附近的脉冲宽度和峰值功率变化，大幅度提升了纵向分辨率，降低了非线性效应，避免了球差引起的包层形变。同时，球形光斑4可实现3D各向同性，提升纵向分辨率，降低非线性效应和球差。
因此，本发明采用上述单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，制备出高光学质量的单模单晶光纤，具有结构均匀、稳定性高、散热良好、无污染、无需额外引入其他材料的包层结构等优点。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。
Claims (4)
1.一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、布置飞秒激光器和烧蚀探头；
在步骤S1中，飞秒激光器和烧蚀探头之间还依次布置有由反射光栅组和聚光透镜组成的焦场整形透镜组，用于对发射激光进行正啁啾补偿后整形成球形的光斑；
反射光栅组包括两个呈45°相对布置的反射光栅；
在步骤S1中，飞秒激光器发出激光的波长为1.03μm，整形得到的半径为21μm的球形光斑；
在步骤S2中，待加工样品光纤为直径为80μm的钇铝石榴石光纤，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间的距离为25μm；
S2、打开飞秒激光器，使得飞秒激光器发出的激光经烧蚀探头后，形成的光斑位于待加工样品光纤的内部，且激光传播方向与待加工样品光纤垂直，此时，光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间存在设定距离；
S3、在高NA物镜下，利用光斑在待加工样品光纤的表面诱导改性，形成损伤轨迹，未被激光扫描的纤芯区域被折射率降低的改性晶体材料区包围，构成包层，从而得到Ⅱ类应力诱导形成的凹陷包层波导；
步骤S3具体包括以下步骤：
横向匀速移动待加工样品光纤，同时，绕待加工样品光纤的圆心转动待加工样品光纤，使得球形光斑由待加工样品光纤的一端相对移动至待加工样品光纤的另一端，形成一条螺旋前进的改性晶体材料区，即凹陷包层。
2.根据权利要求1所述的一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，其特征在于：在步骤S2中，待加工样品光纤材料包括激光晶体和闪烁晶体。
3.根据权利要求2所述的一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，其特征在于：激光晶体包括Nd:YAG，Yb:YAG，Ho:YAG；
闪烁晶体包括Ce:LuAG，Ce:YAG，Ce:LYSO。
4.根据权利要求1任一项所述的一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法，其特征在于：凹陷包层相比于纤芯区域折射率降低0.003。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310262577.9A CN116282971B (zh) | 2023-03-17 | 2023-03-17 | 一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310262577.9A CN116282971B (zh) | 2023-03-17 | 2023-03-17 | 一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116282971A CN116282971A (zh) | 2023-06-23 |
| CN116282971B true CN116282971B (zh) | 2024-05-28 |
Family
ID=86818225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310262577.9A Active CN116282971B (zh) | 2023-03-17 | 2023-03-17 | 一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116282971B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117111216B (zh) * | 2023-08-07 | 2024-06-04 | 华中科技大学 | 光纤纤芯非圆加工方法、设备及非圆纤芯熔接方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2396831A1 (en) * | 2002-08-02 | 2004-02-02 | Femtonics Corporation | Microstructuring optical wave guide devices with femtosecond optical pulses |
| GB0410821D0 (en) * | 2004-05-14 | 2004-06-16 | Univ Aston | Laser inscribed structures |
| CN103412366A (zh) * | 2013-08-23 | 2013-11-27 | 西安电子科技大学 | 蓝宝石光子晶体光纤及其制备方法 |
| CN110244401A (zh) * | 2018-03-09 | 2019-09-17 | 深圳大学 | 单模蓝宝石光纤光栅及其制备方法 |
| CN110320591A (zh) * | 2019-07-04 | 2019-10-11 | 山东大学 | 一种基于表面微结构的单晶激光光纤及其制作方法与应用 |
| CN113126201A (zh) * | 2021-03-26 | 2021-07-16 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 基于空间整形的单晶光纤及其加工方法、系统 |
| CN114952018A (zh) * | 2022-06-06 | 2022-08-30 | 北京理工大学 | 一种制作蓝宝石光纤纤芯的飞秒激光刻蚀方法 |
| CN115182045A (zh) * | 2022-07-27 | 2022-10-14 | 山东铂锐激光科技有限公司 | 一种倍半氧化物单晶光纤包层的制备方法 |
-
2023
- 2023-03-17 CN CN202310262577.9A patent/CN116282971B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2396831A1 (en) * | 2002-08-02 | 2004-02-02 | Femtonics Corporation | Microstructuring optical wave guide devices with femtosecond optical pulses |
| GB0410821D0 (en) * | 2004-05-14 | 2004-06-16 | Univ Aston | Laser inscribed structures |
| CN103412366A (zh) * | 2013-08-23 | 2013-11-27 | 西安电子科技大学 | 蓝宝石光子晶体光纤及其制备方法 |
| CN110244401A (zh) * | 2018-03-09 | 2019-09-17 | 深圳大学 | 单模蓝宝石光纤光栅及其制备方法 |
| CN110320591A (zh) * | 2019-07-04 | 2019-10-11 | 山东大学 | 一种基于表面微结构的单晶激光光纤及其制作方法与应用 |
| CN113126201A (zh) * | 2021-03-26 | 2021-07-16 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 基于空间整形的单晶光纤及其加工方法、系统 |
| CN114952018A (zh) * | 2022-06-06 | 2022-08-30 | 北京理工大学 | 一种制作蓝宝石光纤纤芯的飞秒激光刻蚀方法 |
| CN115182045A (zh) * | 2022-07-27 | 2022-10-14 | 山东铂锐激光科技有限公司 | 一种倍半氧化物单晶光纤包层的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN116282971A (zh) | 2023-06-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Gui et al. | Microstructure in lithium niobate by use of focused femtosecond laser pulses | |
| CN101576711A (zh) | 利用飞秒激光在透明固体材料中制作光波导的装置及方法 | |
| CN116282971B (zh) | 一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法 | |
| CN206153760U (zh) | 一种对射式多焦点激光分离脆性透射材料的装置 | |
| CN1672073A (zh) | 毫微微秒光脉冲光波导装置的微型构造 | |
| Zhang et al. | Optical planar and ridge waveguides in terbium scandium aluminum garnet crystal fabricated by ion implantation and precise diamond blade dicing | |
| CN113126201B (zh) | 基于空间整形的单晶光纤及其加工方法、系统 | |
| CN110171801A (zh) | 玻璃与晶体交替排列的自组织周期性微纳结构的制备方法 | |
| CN112496530B (zh) | 一种v型槽光纤包层激光微纳加工方法 | |
| CN115182046B (zh) | 一种制备倍半氧化物单晶光纤包层的方法 | |
| CN112421360A (zh) | 一种一体化光纤谐振腔及其制作方法和应用 | |
| CN116937312A (zh) | 一种基于结构介电常数近零薄膜的可饱和吸收体器件、制备方法及应用 | |
| CN1979979A (zh) | 一种光纤激光器的侧面泵浦方法 | |
| US6208781B1 (en) | Fiber optic transmission system for high power laser | |
| Shen et al. | Proton-implanted waveguides in neodymium-doped calcium lithium niobium gallium garnet crystals | |
| CN114361930A (zh) | 一种基于空芯光纤柔性传输的宽调谐中红外激光器 | |
| CHANG | Guided-wave two-dimensional acousto-optic scanner using proton-exchanged lithium niobate waveguide | |
| Streltsov | Femtosecond-laser writing of tracks with depressed refractive index in crystals | |
| CN110824615B (zh) | 一种基于光热敏折变玻璃的波导光栅耦合器及其制备方法 | |
| Ohfuchi et al. | The characteristic of birefringence and optical loss in femtosecond-laser-induced region in terms of nanogratings distribution | |
| CN110749954B (zh) | 一种基于类狄拉克点的负折射率波导快光器件及设计方法 | |
| CN116224493A (zh) | 一种基于飞秒直写氟铟基玻璃低损耗波导的制备方法 | |
| CN118011550A (zh) | 一种基于飞秒直写氟锌铝基玻璃低损耗波导的制备方法 | |
| CN115718395A (zh) | 一种飞秒激光高效率诱导铁电体畴工程的方法 | |
| Pan et al. | Er 3+/Yb 3+ co-doped phosphate glass waveguides formed by the H+ ion implantation |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |