CN116159836A - 一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法 - Google Patents

一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了应用于清洗领域的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,该方法通过限位夹板的设置,可有效限制多个陶瓷管,使在清洗时,陶瓷管相互之间不易相互接触,不易出现相互磕碰的情况,同时配合限管孔和护管圈的设置,一方面,可将多个陶瓷管位于相对独立的空间,在浸泡和清洗过程中,均可控制陶瓷管处于动态,相较于现有技术中的静态清洗,可大幅度提高清洗效率,另一方面,在动态清洗时,陶瓷管不断在限管孔内移动,同时在限管孔拐角处进行停留并改变移动方向,而该处在与陶瓷管发生撞击时,内鼓气囊内气体位置改变,同时自扩散球分布范围扩大,可大幅度降低撞击力度,扩大减震范围,有效保护陶瓷管不易被磕伤。

Description

一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法
技术领域
本申请涉及清洗领域,特别涉及一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法。
背景技术
化学镀是一种新型的金属表面处理技术,该技术以其工艺简便、节能、环保日益受到人们的关注。化学镀使用范围很广,镀金层均匀、装饰性好。在防护性能方面,能提高产品的耐蚀性和使用寿命;在功能性方面,能提高加工件的耐磨导电性、润滑性能等特殊功能,因而成为全世界表面处理技术的一个发展。化学镀也称无电解镀或者自催化镀,是在无外加电流的情况下借助合适的还原剂,使镀液中金属离子还原成金属,并沉积到零件表面的一种镀覆方法。
在化学镀处理前后,均需要对陶瓷件进行清洗处理,然而陶瓷类管壳在化镀清洗过程中,产品之间相互磕碰,容易出现各种磕伤,而对于一些贵重陶瓷件来说,磕伤造成的损失较大,现有技术中,为降低磕伤率,通常清洗时,陶瓷管处于相对静止的状态,这种方式导致清洗效率较低。
发明内容
本申请目的在于降低清洗时的磕碰率,同时提高清洗效率,相比现有技术提供一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,包括以下步骤:
S1、首先将多个待清洗的陶瓷管放置到限位夹板上,然后将限位夹板放置到清洗液中浸泡;
S2、机械带动限位夹板在水平向移动,进而使陶瓷管在清洗液内处于微动态状态;
S3、浸泡一段时间后,将放置有限位夹板从清洗液中取出,并使用清水冲洗,在冲洗时,不断改变冲洗方向,使陶瓷管在限位夹板内不断因冲洗方向的改变受到不同方向的力,实现低磕伤率的动态冲洗。
通过限位夹板的设置,可有效限制多个陶瓷管,使在清洗时,陶瓷管相互之间不易相互接触,不易出现相互磕碰的情况,同时配合限管孔和护管圈的设置,一方面,可将多个陶瓷管位于相对独立的空间,在浸泡和清洗过程中,均可控制陶瓷管处于动态,相较于现有技术中的静态清洗,可大幅度提高清洗效率,另一方面,在动态清洗时,陶瓷管不断在限管孔内移动,同时在限管孔拐角处进行停留并改变移动方向,而该处在与陶瓷管发生撞击时,内鼓气囊内气体位置改变,同时自扩散球分布范围扩大,可大幅度降低撞击力度,扩大减震范围,有效保护陶瓷管不易被磕伤。
进一步的,限位夹板包括两个限位板,两个限位板上均开凿有多个相互对应的安装孔,两个限位板上相对的安装孔处安装有紧固螺丝和螺母,且二者螺纹连接,下方的限位板底部固定铺设有纱网,限位板上还开凿有多个均匀分布的限管孔,限管孔内壁固定镶嵌有护管圈,限管孔朝向上方的口部开固定连接有两个外凸弹块,两个外凸弹块分别位于限管孔的拐角处,且外凸弹块与护管圈上端相互固定,护管圈的设置有效保护陶瓷管不易因清洗移动时而磕伤,而当陶瓷管倾斜靠近限管孔拐角处时,外凸弹块可对其在接触限管孔内壁之间先进行一定的缓冲,使对陶瓷管的保护效果更好。
进一步的,两个限位板之间的间隔可调,便于适应不同长度的陶瓷管的清洗,且陶瓷管的长度不小于相对两个护管圈相互远离一端之间连接的长度,有效保证陶瓷管在倾斜时,不易从两个限位板之间漏出。
进一步的,护管圈包括贴合限管孔内壁的空心橡胶圈,橡胶圈的两个转折端部内壁均固定连接有内鼓气囊,内鼓气囊固定贯穿橡胶圈并延伸至橡胶圈的内壁,内鼓气囊位于橡胶圈腔体内的两端均固定连接有控囊半球,控囊半球外吸附有多个相互吸附的自扩散球,橡胶圈内部还镶嵌有两个关于内鼓气囊对称的变护段。
进一步的,内鼓气囊为弹性密封结构,内鼓气囊位于橡胶圈腔体内的部分内壁相互贴附,且内鼓气囊内填充有压缩的惰性气体,控囊半球位于内鼓气囊内壁相互贴附处,冲洗时,当陶瓷管快速朝向限管孔拐角处移动时,先与内鼓气囊产生柔性接触,此时内鼓气囊内气体在陶瓷管的冲击力下快速转移,并逐渐使内鼓气囊内相互贴附的部分被撑开,可有效消耗部分冲击力,同时被撑开的内鼓气囊向两侧推动多个自扩散球,扩大自扩散球的分布范围,使对陶瓷管的在限管孔拐角处的防护效果更好。
进一步的,自扩散球均为弹性结构,且自扩散球和控囊半球内均固定镶嵌有磁芯,使相邻两个自扩散球之间可相互吸附,进而便于多个自扩散球能聚集在控囊半球外,使对陶瓷管的保护缓冲效果更好,自扩散球橡胶圈的转折端部处腔体的径向截面尺寸不大于自扩散球直径的2倍,使两个自扩散球相互之间不易出现并列的情况,使对陶瓷管产生的保护力更加均匀。
可选的,变护段为高弹性结构,且变护段端部与最边缘的自扩散球之间间隔不超过自扩散球的直径,该空间可使多个自扩散球具有一定的活动空间,当陶瓷管与限管孔拐角处产生冲击时,便于多个自扩散球向外扩散移动,实现一定的散力作用。
可选的,变护段为空心结构,且自扩散球内放置有自聚拢球链,自聚拢球链包括多个自聚力球以及多对分别连接在相邻两个自聚力球之间的连球弹杆,通过自聚拢球链的设置,当陶瓷管与变护段处产生撞击时,撞击处会发生多个自聚力球聚集的情况,进而在陶瓷管和限管孔内壁之间形成一层更加均匀严密的弹性防护层,进而使陶瓷管在于变护段处冲击时,受到的保护更好,不易被磕伤,进而在冲洗时,可适当增大冲洗水柱的速度以及方向的变化速度,进而使对陶瓷管的清洗效率得到大幅度提高。
进一步的,自聚力球包括两个弹性半球、连接在两个弹性半球相互靠近一端的压电陶瓷片以及分别固定连接在弹性半球左右两端的电磁片和铁片,电磁片与压电陶瓷片端面之间连接有导线,在陶瓷管与该处撞击时,撞击处的两个压电陶瓷片处快速产生电流,使对应的电磁片通电,其可对相邻的自聚力球上铁片产生吸附力,使相邻的自聚力球朝向该处移动,实现撞击后自聚集的效果,进而加大对陶瓷管的防护效果。
进一步的,同一个自聚力球中,两个弹性半球上的电磁片和铁片位置交错,使相邻两个自聚力球上的电磁片和铁片位置相互对应,当电磁片通电时,能吸附相邻自聚力球上的铁片,进而带动自聚力球整体聚集。
相比于现有技术,本申请的优点在于:
(1)通过限位夹板的设置,可有效限制多个陶瓷管,使在清洗时,陶瓷管相互之间不易相互接触,不易出现相互磕碰的情况,同时配合限管孔和护管圈的设置,一方面,可将多个陶瓷管位于相对独立的空间,在浸泡和清洗过程中,均可控制陶瓷管处于动态,相较于现有技术中的静态清洗,可大幅度提高清洗效率,另一方面,在动态清洗时,陶瓷管不断在限管孔内移动,同时在限管孔拐角处进行停留并改变移动方向,而该处在与陶瓷管发生撞击时,内鼓气囊内气体位置改变,同时自扩散球分布范围扩大,可大幅度降低撞击力度,扩大减震范围,有效保护陶瓷管不易被磕伤。
附图说明
图1为本申请的主要的流程图;
图2为本申请限位夹板的立体结构示意图;
图3为本申请限位夹板的侧面图;
图4为本申请限位夹板的俯视图;
图5为本申请护管圈的截面图;
图6为本申请护管圈拐角处的截面图;
图7为本申请限管孔部分的截面图;
图8为本申请实施例2中自聚拢球链的示意图;
图9为本申请自聚力球的截面图。
图中标号说明:
1限位板、2紧固螺丝、3螺母、4纱网、5限管孔、6护管圈、61内鼓气囊、62自扩散球、63变护段、64控囊半球、7自聚力球、71弹性半球、72压电陶瓷片、73电磁片、74铁片、8连球弹杆、9外凸弹块。
具体实施方式
实施例将结合说明书附图,对本申请技术方案进行清楚、完整地描述,基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
实施例1:
本发明提供了一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,请参阅图1,图中a表示陶瓷管,包括以下步骤:
S1、首先将多个待清洗的陶瓷管放置到限位夹板上,然后将限位夹板放置到清洗液中浸泡;
S2、机械带动限位夹板在水平向移动,进而使陶瓷管在清洗液内处于微动态状态;
S3、浸泡一段时间后,将放置有限位夹板从清洗液中取出,并使用清水冲洗,在冲洗时,不断改变冲洗方向,使陶瓷管在限位夹板内不断因冲洗方向的改变受到不同方向的力,实现低磕伤率的动态冲洗。
请参阅图2-3,限位夹板包括两个限位板1,两个限位板1上均开凿有多个相互对应的安装孔,两个限位板1上相对的安装孔处安装有紧固螺丝2和螺母3,且二者螺纹连接,使两个限位板1之间的间隔可调,便于适应不同长度的陶瓷管的清洗,且陶瓷管的长度不小于相对两个护管圈6相互远离一端之间连接的长度,有效保证陶瓷管在倾斜时,不易从两个限位板1之间漏出。下方的限位板1底部固定铺设有纱网4,限位板1上还开凿有多个均匀分布的限管孔5,限管孔5内壁固定镶嵌有护管圈6,限管孔5朝向上方的口部开固定连接有两个外凸弹块9,两个外凸弹块9分别位于限管孔5的拐角处,且外凸弹块9与护管圈6上端相互固定,护管圈6的设置有效保护陶瓷管不易因清洗移动时而磕伤,而当陶瓷管倾斜靠近限管孔5拐角处时,外凸弹块9可对其在接触限管孔5内壁之间先进行一定的缓冲,使对陶瓷管的保护效果更好。
请参阅图5,护管圈6包括贴合限管孔5内壁的空心橡胶圈,橡胶圈的两个转折端部内壁均固定连接有内鼓气囊61,内鼓气囊61固定贯穿橡胶圈并延伸至橡胶圈的内壁,内鼓气囊61位于橡胶圈腔体内的两端均固定连接有控囊半球64,控囊半球64外吸附有多个相互吸附的自扩散球62,橡胶圈内部还镶嵌有两个关于内鼓气囊61对称的变护段63,内鼓气囊61为弹性密封结构,内鼓气囊61位于橡胶圈腔体内的部分内壁相互贴附,且内鼓气囊61内填充有压缩的惰性气体,控囊半球64位于内鼓气囊61内壁相互贴附处,冲洗时,当陶瓷管快速朝向限管孔5拐角处移动时,先与内鼓气囊61产生柔性接触,如图6,此时内鼓气囊61内气体在陶瓷管的冲击力下快速转移,并逐渐使内鼓气囊61内相互贴附的部分被撑开,可有效消耗部分冲击力,同时被撑开的内鼓气囊61向两侧推动多个自扩散球62,扩大自扩散球62的分布范围,使对陶瓷管的在限管孔5拐角处的防护效果更好。
自扩散球62均为弹性结构,且自扩散球62和控囊半球64内均固定镶嵌有磁芯,使相邻两个自扩散球62之间可相互吸附,进而便于多个自扩散球62能聚集在控囊半球64外,使对陶瓷管的保护缓冲效果更好,自扩散球62橡胶圈的转折端部处腔体的径向截面尺寸不大于自扩散球62直径的2倍,使两个自扩散球62相互之间不易出现并列的情况,使对陶瓷管产生的保护力更加均匀;变护段63为高弹性结构,且变护段63端部与最边缘的自扩散球62之间间隔不超过自扩散球62的直径,该空间可使多个自扩散球62具有一定的活动空间,当陶瓷管与限管孔5拐角处产生冲击时,便于多个自扩散球62向外扩散移动,实现一定的散力作用。
通过限位夹板的设置,可有效限制多个陶瓷管,使在清洗时,陶瓷管相互之间不易相互接触,不易出现相互磕碰的情况,同时配合限管孔5和护管圈6的设置,一方面,可将多个陶瓷管位于相对独立的空间,在浸泡和清洗过程中,均可控制陶瓷管处于动态,相较于现有技术中的静态清洗,可大幅度提高清洗效率,另一方面,在动态清洗时,陶瓷管不断在限管孔5内移动,同时在限管孔5拐角处进行停留并改变移动方向,而该处在与陶瓷管发生撞击时,内鼓气囊61内气体位置改变,同时自扩散球62分布范围扩大,可大幅度降低撞击力度,扩大减震范围,有效保护陶瓷管不易被磕伤。
实施例2:
请参阅图8-9,变护段63为空心结构,且自扩散球62内放置有自聚拢球链,自聚拢球链包括多个自聚力球7以及多对分别连接在相邻两个自聚力球7之间的连球弹杆8,通过自聚拢球链的设置,当陶瓷管与变护段63处产生撞击时,撞击处会发生多个自聚力球7聚集的情况,进而在陶瓷管和限管孔5内壁之间形成一层更加均匀严密的弹性防护层,进而使陶瓷管在于变护段63处冲击时,受到的保护更好,不易被磕伤,进而在冲洗时,可适当增大冲洗水柱的速度以及方向的变化速度,进而使对陶瓷管的清洗效率得到大幅度提高。
自聚力球7包括两个弹性半球71、连接在两个弹性半球71相互靠近一端的压电陶瓷片72以及分别固定连接在弹性半球71左右两端的电磁片73和铁片74,电磁片73与压电陶瓷片72端面之间连接有导线,在陶瓷管与该处撞击时,撞击处的两个压电陶瓷片72处快速产生电流,使对应的电磁片73通电,其可对相邻的自聚力球7上铁片74产生吸附力,使相邻的自聚力球7朝向该处移动,实现撞击后自聚集的效果,进而加大对陶瓷管的防护效果,同一个自聚力球7中,两个弹性半球71上的电磁片73和铁片74位置交错,使相邻两个自聚力球7上的电磁片73和铁片74位置相互对应,当电磁片73通电时,能吸附相邻自聚力球7上的铁片74,进而带动自聚力球7整体聚集。
以上所述,仅为本申请结合当前实际需求采用的最佳实施方式,但本申请的保护范围并不局限于此。

Claims (10)

1.一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、首先将多个待清洗的陶瓷管放置到限位夹板上,然后将限位夹板放置到清洗液中浸泡;
S2、机械带动限位夹板在水平向移动,进而使陶瓷管在清洗液内处于微动态状态;
S3、浸泡一段时间后,将放置有限位夹板从清洗液中取出,并使用清水冲洗,在冲洗时,不断改变冲洗方向,使陶瓷管在限位夹板内不断因冲洗方向的改变受到不同方向的力,实现低磕伤率的动态冲洗。
2.根据权利要求1所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述限位夹板包括两个限位板(1),两个所述限位板(1)上均开凿有多个相互对应的安装孔,两个所述限位板(1)上相对的安装孔处安装有紧固螺丝(2)和螺母(3),且二者螺纹连接,下方的所述限位板(1)底部固定铺设有纱网(4),所述限位板(1)上还开凿有多个均匀分布的限管孔(5),所述限管孔(5)内壁固定镶嵌有护管圈(6),所述限管孔(5)朝向上方的口部开固定连接有两个外凸弹块(9),两个所述外凸弹块(9)分别位于限管孔(5)的拐角处,且外凸弹块(9)与护管圈(6)上端相互固定。
3.根据权利要求2所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,两个所述限位板(1)之间的间隔可调,且陶瓷管的长度不小于相对两个护管圈(6)相互远离一端之间连接的长度。
4.根据权利要求2所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述护管圈(6)包括贴合限管孔(5)内壁的空心橡胶圈,所述橡胶圈的两个转折端部内壁均固定连接有内鼓气囊(61),所述内鼓气囊(61)固定贯穿橡胶圈并延伸至橡胶圈的内壁,所述内鼓气囊(61)位于橡胶圈腔体内的两端均固定连接有控囊半球(64),所述控囊半球(64)外吸附有多个相互吸附的自扩散球(62),所述橡胶圈内部还镶嵌有两个关于内鼓气囊(61)对称的变护段(63)。
5.根据权利要求4所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述内鼓气囊(61)为弹性密封结构,所述内鼓气囊(61)位于橡胶圈腔体内的部分内壁相互贴附,且内鼓气囊(61)内填充有压缩的惰性气体,所述控囊半球(64)位于内鼓气囊(61)内壁相互贴附处。
6.根据权利要求5所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述自扩散球(62)均为弹性结构,且自扩散球(62)和控囊半球(64)内均固定镶嵌有磁芯,所述自扩散球(62)橡胶圈的转折端部处腔体的径向截面尺寸不大于自扩散球(62)直径的2倍。
7.根据权利要求6所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述变护段(63)为高弹性结构,且变护段(63)端部与最边缘的自扩散球(62)之间间隔不超过自扩散球(62)的直径。
8.根据权利要求6所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述变护段(63)为空心结构,且自扩散球(62)内放置有自聚拢球链,所述自聚拢球链包括多个自聚力球(7)以及多对分别连接在相邻两个自聚力球(7)之间的连球弹杆(8)。
9.根据权利要求8所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,所述自聚力球(7)包括两个弹性半球(71)、连接在两个弹性半球(71)相互靠近一端的压电陶瓷片(72)以及分别固定连接在弹性半球(71)左右两端的电磁片(73)和铁片(74),所述电磁片(73)与压电陶瓷片(72)端面之间连接有导线。
10.根据权利要求9所述的一种低磕伤率的陶瓷化镀清洗方法,其特征在于,同一个所述自聚力球(7)中,两个弹性半球(71)上的电磁片(73)和铁片(74)位置交错。
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