CN116150949B - 表计选型方法、装置和机巡仪表 - Google Patents

表计选型方法、装置和机巡仪表 Download PDF

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Abstract

本申请涉及一种表计选型方法、装置和机巡仪表。所述方法包括:分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料;基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟;根据仿真测试数据,确定出表计选型结果。本申请可以确认机巡仪表的目标表盘玻璃所包括的光学材料层中镀膜层、玻璃层所使用的材料,降低表计在各种光照条件下整体的反光率,提高可巡视性,进而解决复杂光照条件下表计不易巡视的问题,降低表计玻璃反光率。

Description

表计选型方法、装置和机巡仪表
技术领域
本申请涉及电力巡检技术领域,特别是涉及一种表计选型方法、装置和机巡仪表。
背景技术
在电力行业全面应用可见光、红外光技术,代替人工获取设备外部状态,挺高巡检效率,是电力行业下一步发展必然趋势。目前,多数换流站、变电站配置了机器人或摄像头等智能装备开展表计巡视。表计受光照影响可能产生反光、眩光、阴影等现象,严重影响机巡准确性。
发明内容
基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够提高机巡准确性的表计选型方法、装置和机巡仪表。
第一方面,本申请提供了一种表计选型方法,应用于机巡仪表;机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;方法包括:
分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料;
基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟;
根据仿真测试数据,确定出表计选型结果。
在其中一个实施例中,镀膜层包括依次层叠设置的第一材料层和第二材料层;
分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合的步骤,包括:
基于镀膜材料库,获取镀膜材料组合库;镀膜材料组合库中的镀膜材料组合用于表征第一材料层和第二材料层所选用的材料;
分别遍历透镜材料库和镀膜材料组合库,得到透镜镀膜材料组合。
在其中一个实施例中,第一材料层所选用的材料为H4镀膜;第二材料层所选用的材料为MGF2镀膜。
在其中一个实施例中,透镜镀膜材料组合用于使玻璃层具有不同于表盘原始玻璃的折射率。
在其中一个实施例中,镀膜层所选用的材料为MGF2镀膜;玻璃层所选用的材料为BK7玻璃。
在其中一个实施例中,仿真测试数据包括目标仿真结果;表计选型结果包括目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合;
基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据的步骤,包括:
根据暴力搜索策略,采用透镜镀膜材料组合对目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果。
在其中一个实施例中,根据暴力搜索策略,采用透镜镀膜材料组合对目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果的步骤,包括:
获取预定义的外部光线在目标表盘玻璃上的不同入射角;
采用本组透镜镀膜材料组合,获取不同入射角下的目标表盘玻璃的反射率模拟结果,将反射率模拟结果作为本次仿真结果;
若本次仿真结果差于当前的最优仿真结果,则抛弃本次仿真结果;
若本次仿真结果优于当前的最优仿真结果,则将本次仿真结果作为最优仿真结果进行保留。
第二方面,本申请还提供了一种表计选型装置,应用于机巡仪表;机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;装置包括:
遍历模块,用于分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料;
仿真模块,用于基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟;
结果确认模块,用于根据仿真测试数据,确定出表计选型结果。
第三方面,本申请还提供了一种计算机设备,包括存储器和处理器,存储器存储有计算机程序,处理器执行计算机程序时实现上述的方法的步骤。
第四方面,本申请还提供了一种机巡仪表,机巡仪表应用于智能装备巡检的变电站、换流站;
机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;
其中,玻璃层、镀膜层所选用的材料通过上述的方法确定。
上述表计选型方法、装置和机巡仪表,应用于机巡仪表,本申请实施例通过分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料;进而基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟;根据仿真测试数据,确定出表计选型结果,从而可以确认机巡仪表的目标表盘玻璃所包括的光学材料层中镀膜层、玻璃层所使用的材料,降低表计在各种光照条件下整体的反光率,提高可巡视性。本申请可以解决复杂光照条件下表计不易巡视的问题,降低表计玻璃反光率。
附图说明
图1为一个实施例中表计选型方法的应用环境图;
图2为一个实施例中表计选型方法的流程示意图;
图3为一个实施例中机巡仪表的结构示意图;
图4为一个实施例中获取透镜镀膜材料组合的流程示意图;
图5为一个实施例中模拟仿真的结果示意图;
图6为另一个实施例中表计选型方法的流程示意图;
图7为一个实施例中表计选型装置的结构框图;
图8为另一个实施例中机巡仪表的结构示意图;
图9为一个实施例中计算机设备的内部结构图;
图10为另一个实施例中计算机设备的内部结构图。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
可以理解,本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件,但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。在此使用时,单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式,除非上下文清楚指出另外的方式。还应当理解的是,术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在,但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。同时,在本说明书中使用的术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
为便于理解,以下先介绍本申请实施例所涉及的技术术语。
反光率:反光率是表示物体反射光线的能力。
可见光反射率:在可见光谱(380纳米至780纳米)范围内,玻璃反射的光强度入射光强度的百分比。在可见光谱(380纳米至780纳米)范围内,玻璃反射的光强度入射光强度的百分比。
镀膜:一种将特定材料披覆于另一材料的方法,以达到特定的目的,属于表面处理的一种。例如提高硬度、耐酸碱、化学盾性、光穿透性等。
传统方案中,表计加装挡雨板对不利光线进行遮挡,或根据表计可视情况,针对性设置智能装备巡视策略,在反光、眩光情况较弱时开展巡视,以获取合适的表计照片。本申请实施例则提出一种适用于复杂光照条件的高可见度表计的选型方法,有效降低复杂光照条件下表计反光、眩光等现象,提升表计巡视的准确性。
本申请实施例提供的表计选型方法,应用于机巡仪表(表计),该机巡仪表可以应用于智能装备巡检的变电站、换流站,其中,智能装备可以指机器人或摄像头等可用于巡检的装备。示例性地,当前换流站、变电站的表计一般为单层玻璃结构,如图1所示,机巡仪表(表计)的仪表本体包括表盘以及覆盖在表盘上的原始玻璃,在一些示例中,表盘与原始玻璃之间具有一定的间距,可选地,该间距可以为1cm;需要说明的是,本申请实施例对表盘与原始玻璃之间的间距并无限定;进一步的,机巡仪表(表计)受光照影响可能产生反光、眩光、阴影等现象,严重影响机巡准确性。
在一个实施例中,如图2所示,提供了一种表计选型方法,应用于机巡仪表;方法包括以下步骤:
步骤202,分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料。
具体而言,本申请实施例提出机巡仪表可以具有目标表盘玻璃,该目标表盘玻璃可以通过针对不同原始玻璃的叠加玻璃与镀膜的设计选型方式获得。
如图3所示,该目标表盘玻璃可以包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;示例性地,光学材料层可以包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种。本申请实施例提出在表计原始玻璃前,叠加一层光学材料层,能够降低表计在各种光照条件下整体的反光率,进而提高可巡视性。需要说明的是,图3中光学材料层本申请实施例中新添加,原始玻璃和表盘为表计原本的部件。
在一些实例中,光学材料层可以为镀膜层或玻璃层,也可以为镀膜层和玻璃层。进而,目标表盘玻璃的构成方式可以包括沿外部光线射入方向依次层叠的:原始玻璃+单玻璃、原始玻璃+单层镀膜、原始玻璃+单玻璃+单层镀膜、以及原始玻璃+单玻璃+双层镀膜中的一种或多种。目标表盘玻璃能够降低表计整体反光率提高表计的可巡视性。
进一步地,为了提高表计巡视性能,本申请实施例分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;该透镜镀膜材料组合可以用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料。
其中,透镜材料库包含玻璃层可以选用的材料,例如不同参数的玻璃;镀膜材料库包含镀膜层可以选用的材料,例如不同参数的镀膜;不同材料、不同参数的玻璃与镀膜对反射率降低程度不同。本申请实施例可以预置好常见的玻璃和镀膜材料,通过遍历及仿真方式,寻找最合适的参数配合,实现最佳性能。
示例性地,透镜材料库可以包含BK7玻璃(硼硅酸盐冕玻璃);镀膜材料库可以包含抗反射(AR,Anti-Reflective)镀膜,例如,MGF2镀膜、H4镀膜等。本申请实施例对此并无限定。
在其中一个实施例中,镀膜层可以包括依次层叠设置的第一材料层和第二材料层;如图4所示,分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合的步骤,可以包括:
步骤402,基于镀膜材料库,获取镀膜材料组合库;镀膜材料组合库中的镀膜材料组合用于表征第一材料层和第二材料层所选用的材料;
步骤404,分别遍历透镜材料库和镀膜材料组合库,得到透镜镀膜材料组合。
具体而言,本申请实施例中镀膜层可以为双层镀膜,分别为第一材料层和第二材料层。进而可以基于镀膜材料库,组合形成不同的镀膜组合库,即镀膜材料组合库,从而通过分别遍历透镜材料库和镀膜材料组合库,得到透镜镀膜材料组合。
在其中一个实施例中,第一材料层所选用的材料为H4镀膜;第二材料层所选用的材料为MGF2镀膜。
可选地,通过分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取到的透镜镀膜材料组合可以包括原始玻璃(GLASS),单玻璃+原始玻璃(BK7-GLASS),单层镀膜+原始玻璃(MgF2-GLASS)、单层镀膜+单玻璃+原始玻璃(MgF2-BK7-GLASS)、以及双层镀膜+单玻璃+原始玻璃(H4-MgF2-BK7-GLASS)中的一种或多种。本申请对此并无限定。
步骤204,基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟。
具体而言,在通过遍历获取到镜镀膜材料组合后,可以基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,进而得到仿真测试数据,本申请实施例中的巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟。本申请实施例通过仿真确定表计选型结果(预置玻璃镀膜材料)的方式,可以有效降低表计在各种光照条件下的反射率。其中,反射率可以指可见光反射率。
在其中一个实施例中,仿真测试数据包括目标仿真结果;表计选型结果包括目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合;
基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据的步骤,包括:
根据暴力搜索策略,采用透镜镀膜材料组合对目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果。
具体而言,在预置好常见的玻璃和镀膜材料后,本申请实施例通过软件暴力搜索的方式,寻找最合适的参数配合,实现最佳性能。例如,得到的目标仿真结果为将镀膜+玻璃应用于普通表计中,进而通过降低表计整体反光率提高表计的可巡视性,本申请实施例通过针对性的选型设计将不同原始表计的性能提升到最大值。
在其中一个实施例中,根据暴力搜索策略,采用透镜镀膜材料组合对目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果的步骤,包括:
获取预定义的外部光线在目标表盘玻璃上的不同入射角;
采用本组透镜镀膜材料组合,获取不同入射角下的目标表盘玻璃的反射率模拟结果,将反射率模拟结果作为本次仿真结果;
若本次仿真结果差于当前的最优仿真结果,则抛弃本次仿真结果;
若本次仿真结果优于当前的最优仿真结果,则将本次仿真结果作为最优仿真结果进行保留。
具体而言,本申请中的反射率模拟可以指采用预定义的外部光线在目标表盘玻璃上的不同入射角,获取到的不同入射角下的目标表盘玻璃的反射率模拟结果。
如图5所示,图中线条从上到下依次分别为(1)原始玻璃(GLASS);(2)单玻璃+原始玻璃(BK7-GLASS);(3)单层镀膜+原始玻璃(MgF2-GLASS);(4)单层镀膜+单玻璃+原始玻璃(MgF2-BK7-GLASS);(5)双层镀膜+单玻璃+原始玻璃(H4-MgF2-BK7-GLASS)。相同角度(横坐标)下,纵坐标越低性能越好。不同材料、不同参数的玻璃与镀膜对反射率降低程度不同,基于本申请实施例提出一种针对不同原始玻璃的叠加玻璃与镀膜的设计选型方法,首先预置好常见的玻璃和镀膜材料,通过软件暴力搜索的方式,寻找最合适的参数配合,实现最佳性能。
步骤206,根据仿真测试数据,确定出表计选型结果。
具体而言,表计选型结果可以指镜镀膜材料的最优组合;进一步的,仿真测试数据可以包括目标仿真结果,表计选型结果可以包括目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合。
可选地,透镜镀膜材料组合用于使玻璃层具有不同于表盘原始玻璃的折射率。以镀膜层为AR镀膜为例,本申请实施例在表计原始玻璃前,叠加AR镀膜和一层折射率不同的玻璃,降低表计在各种光照条件下整体的反光率,提高可巡视性。在其中一个实施例中,镀膜层所选用的材料可以为MGF2镀膜;玻璃层所选用的材料可以为BK7玻璃。
为了进一步阐释本申请实施例的方案,下面结合一个具体示例予以说明,本申请实施例提出了针对不同原始玻璃的叠加玻璃与镀膜的设计选型方法,首先可以预置好常见的玻璃和镀膜材料,通过软件暴力搜索的方式,寻找最合适的参数配合,实现最佳性能。如图6所示,对常用镀膜材料库组合形成不同的镀膜组合库,进而分别遍历镀膜组合库以及常用透镜材料库,组合形成不同的透镜+镀膜组合;用当前的透镜+镀膜组合,与目标原始玻璃(即目标表盘玻璃)进行仿真,获得本次仿真结果(本次组合);进而比较本次仿真结果是否优于当前的最优组合,若本次仿真结果优于当前的最优组合,则确定本次组合为目前最优,保留本次组合;若本次仿真结果差于当前的最优组合,则抛弃本次组合。
同时,本申请实施例针对不同参数、不用材质的表计原始玻璃,提出了一套设计选型方式,选取最合适的玻璃,与原始玻璃组合后达到最佳性能,避免盲目选型。基于本申请实施例的表计选型方法,进而得到可以降低表计玻璃反光率的玻璃,通过在表计原始玻璃上叠加一层新玻璃与AR镀膜,将表计玻璃整体的反光率降低,从而提升各种光照条件下表计的可见度。
需要说明的是,本实施例以该方法应用于终端进行举例说明,可以理解的是,该方法也可以应用于服务器,还可以应用于包括终端和服务器的系统,并通过终端和服务器的交互实现。
应该理解的是,虽然如上所述的各实施例所涉及的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,这些步骤可以以其它的顺序执行。而且,如上所述的各实施例所涉及的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段,这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
基于同样的发明构思,本申请实施例还提供了一种用于实现上述所涉及的表计选型方法的表计选型装置。该装置所提供的解决问题的实现方案与上述方法中所记载的实现方案相似,故下面所提供的一个或多个表计选型装置实施例中的具体限定可以参见上文中对于表计选型方法的限定,在此不再赘述。
在一个实施例中,如图7所示,提供了一种表计选型装置,应用于机巡仪表;机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;装置包括:
遍历模块710,用于分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;透镜镀膜材料组合用于表征玻璃层、镀膜层所选用的材料;
仿真模块720,用于基于透镜镀膜材料组合,对目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;巡检仿真包括对不同光照条件下目标表盘玻璃的反光率的模拟;
结果确认模块730,用于根据仿真测试数据,确定出表计选型结果。
在其中一个实施例中,镀膜层包括依次层叠设置的第一材料层和第二材料层;遍历模块包括:
组合模块,用于基于镀膜材料库,获取镀膜材料组合库;镀膜材料组合库中的镀膜材料组合用于表征第一材料层和第二材料层所选用的材料;
遍历组合模块,用于分别遍历透镜材料库和镀膜材料组合库,得到透镜镀膜材料组合。
在其中一个实施例中,第一材料层所选用的材料为H4镀膜;第二材料层所选用的材料为MGF2镀膜。
在其中一个实施例中,透镜镀膜材料组合用于使玻璃层具有不同于表盘原始玻璃的折射率。
在其中一个实施例中,镀膜层所选用的材料为MGF2镀膜;玻璃层所选用的材料为BK7玻璃。
在其中一个实施例中,仿真测试数据包括目标仿真结果;表计选型结果包括目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合;
仿真模块,用于根据暴力搜索策略,采用透镜镀膜材料组合对目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果。
在其中一个实施例中,仿真模块,用于获取预定义的外部光线在目标表盘玻璃上的不同入射角;采用本组透镜镀膜材料组合,获取不同入射角下的目标表盘玻璃的反射率模拟结果,将反射率模拟结果作为本次仿真结果;若本次仿真结果差于当前的最优仿真结果,则抛弃本次仿真结果;若本次仿真结果优于当前的最优仿真结果,则将本次仿真结果作为最优仿真结果进行保留。
上述表计选型装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中,也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中,以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。
在一个实施例中,提供了一种机巡仪表,机巡仪表应用于智能装备巡检的变电站、换流站;
机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;
其中,玻璃层、镀膜层所选用的材料通过上述的方法确定。
具体而言,通过仿真确定玻璃层、镀膜层所选用的材料可有效降低表计在各种光照条件下的反射率。如图8所示,本申请在表计原始玻璃前,叠加AR镀膜和一层折射率不同的玻璃,降低表计在各种光照条件下整体的反光率,提高可巡视性。需要说明的是,图8中AR膜、玻璃(单玻璃)为本申请实施例中新添加,原始玻璃和表盘为表计原本的部件。
以上,本申请实施例提供一种降低表计玻璃反光率的机巡仪表,通过在表计原始玻璃上叠加一层新玻璃与AR镀膜,将表计玻璃整体的反光率降低,从而提升各种光照条件下表计的可见度。
在一个实施例中,提供了一种计算机设备,该计算机设备可以是服务器,其内部结构图可以如图9所示。该计算机设备包括处理器、存储器、输入/输出接口(Input/Output,简称I/O)和通信接口。其中,处理器、存储器和输入/输出接口通过系统总线连接,通信接口通过输入/输出接口连接到系统总线。其中,该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质和内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统、计算机程序和数据库。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的数据库用于存储仿真测试数据。该计算机设备的输入/输出接口用于处理器与外部设备之间交换信息。该计算机设备的通信接口用于与外部的终端通过网络连接通信。该计算机程序被处理器执行时以实现一种表计选型方法。
在一个实施例中,提供了一种计算机设备,该计算机设备可以是终端,其内部结构图可以如图10所示。该计算机设备包括处理器、存储器、输入/输出接口、通信接口、显示单元和输入装置。其中,处理器、存储器和输入/输出接口通过系统总线连接,通信接口、显示单元和输入装置通过输入/输出接口连接到系统总线。其中,该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质和内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统和计算机程序。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的输入/输出接口用于处理器与外部设备之间交换信息。该计算机设备的通信接口用于与外部的终端进行有线或无线方式的通信,无线方式可通过WIFI、移动蜂窝网络、NFC(近场通信)或其他技术实现。该计算机程序被处理器执行时以实现一种表计选型方法。该计算机设备的显示单元用于形成视觉可见的画面,可以是显示屏、投影装置或虚拟现实成像装置。显示屏可以是液晶显示屏或者电子墨水显示屏,该计算机设备的输入装置可以是显示屏上覆盖的触摸层,也可以是计算机设备外壳上设置的按键、轨迹球或触控板,还可以是外接的键盘、触控板或鼠标等。
本领域技术人员可以理解,图9、图10中示出的结构,仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图,并不构成对本申请方案所应用于其上的计算机设备的限定,具体的计算机设备可以包括比图中所示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者具有不同的部件布置。
在一个实施例中,提供了一种计算机设备,包括存储器和处理器,存储器中存储有计算机程序,该处理器执行计算机程序时实现上述表计选型方法的步骤。
在一个实施例中,提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,计算机程序被处理器执行时实现上述表计选型方法的步骤。
在一个实施例中,提供了一种计算机程序产品,包括计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现上述表计选型方法的步骤。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程,是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成,所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中,该计算机程序在执行时,可包括如上述各方法的实施例的流程。其中,本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、数据库或其它介质的任何引用,均可包括非易失性和易失性存储器中的一种或两种。非易失性存储器可包括只读存储器(Read-OnlyMemory,ROM)、磁带、软盘、闪存、光存储器、高密度嵌入式非易失性存储器、阻变存储器(ReRAM)、磁变存储器(Magnetoresistive Random Access Memory,MRAM)、铁电存储器(Ferroelectric Random Access Memory,FRAM)、相变存储器(Phase Change Memory,PCM)、石墨烯存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器(Random Access Memory,RAM)或外部高速缓冲存储器等。作为说明而非局限,RAM可以是多种形式,比如静态随机存取存储器(Static Random Access Memory,SRAM)或动态随机存取存储器(Dynamic RandomAccess Memory,DRAM)等。本申请所提供的各实施例中所涉及的数据库可包括关系型数据库和非关系型数据库中至少一种。非关系型数据库可包括基于区块链的分布式数据库等,不限于此。本申请所提供的各实施例中所涉及的处理器可为通用处理器、中央处理器、图形处理器、数字信号处理器、可编程逻辑器、基于量子计算的数据处理逻辑器等,不限于此。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本申请专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种表计选型方法,其特征在于,应用于机巡仪表;所述机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;所述光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;所述方法包括:
分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;所述透镜镀膜材料组合用于表征所述玻璃层、所述镀膜层所选用的材料;
基于所述透镜镀膜材料组合,对所述目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;所述巡检仿真包括对不同光照条件下所述目标表盘玻璃的反光率的模拟;
根据所述仿真测试数据,确定出所述表计选型的结果;
所述镀膜层包括依次层叠设置的第一材料层和第二材料层;所述分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合的步骤,包括:
基于所述镀膜材料库,获取镀膜材料组合库;所述镀膜材料组合库中的镀膜材料组合用于表征所述第一材料层和所述第二材料层所选用的材料;
分别遍历所述透镜材料库和所述镀膜材料组合库,得到所述透镜镀膜材料组合;
所述仿真测试数据包括目标仿真结果;所述表计选型结果包括所述目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合;所述基于所述透镜镀膜材料组合,对所述目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据的步骤,包括:
根据暴力搜索策略,采用所述透镜镀膜材料组合对所述目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一材料层所选用的材料为H4镀膜;所述第二材料层所选用的材料为MGF2镀膜。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述透镜镀膜材料组合用于使所述玻璃层具有不同于所述表盘原始玻璃的折射率。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述镀膜层所选用的材料为MGF2镀膜;所述玻璃层所选用的材料为BK7玻璃。
5.根据权利要求1至4任一项所述的方法,其特征在于,所述根据所述暴力搜索策略,采用所述透镜镀膜材料组合对所述目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果的步骤,包括:
获取预定义的所述外部光线在所述目标表盘玻璃上的不同入射角;
采用本组透镜镀膜材料组合,获取不同入射角下的所述目标表盘玻璃的反射率模拟结果,将所述反射率模拟结果作为本次仿真结果;
若所述本次仿真结果差于当前的最优仿真结果,则抛弃所述本次仿真结果;
若所述本次仿真结果优于当前的最优仿真结果,则将所述本次仿真结果作为最优仿真结果进行保留。
6.一种表计选型装置,其特征在于,应用于机巡仪表;所述机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;所述光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;所述装置包括:
遍历模块,用于分别遍历透镜材料库和镀膜材料库,获取透镜镀膜材料组合;所述透镜镀膜材料组合用于表征所述玻璃层、所述镀膜层所选用的材料;
仿真模块,用于基于所述透镜镀膜材料组合,对所述目标表盘玻璃进行巡检仿真,得到仿真测试数据;所述巡检仿真包括对不同光照条件下所述目标表盘玻璃的反光率的模拟;
结果确认模块,用于根据所述仿真测试数据,确定出所述表计选型的结果;
所述镀膜层包括依次层叠设置的第一材料层和第二材料层;所述遍历模块包括:
组合模块,用于基于所述镀膜材料库,获取镀膜材料组合库;所述镀膜材料组合库中的镀膜材料组合用于表征所述第一材料层和所述第二材料层所选用的材料;
遍历组合模块,用于分别遍历所述透镜材料库和所述镀膜材料组合库,得到所述透镜镀膜材料组合;
所述仿真测试数据包括目标仿真结果;所述表计选型结果包括所述目标仿真结果所对应的透镜镀膜材料组合;
仿真模块,用于根据暴力搜索策略,采用所述透镜镀膜材料组合对所述目标表盘玻璃进行反射率模拟,得到目标仿真结果。
7.一种计算机设备,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至5中任一项所述的方法的步骤。
8.一种机巡仪表,其特征在于,所述机巡仪表应用于智能装备巡检的变电站、换流站;所述机巡仪表的目标表盘玻璃包括沿外部光线射入方向依次层叠的光学材料层以及表盘原始玻璃;所述光学材料层包括镀膜层与玻璃层中的一种或两种;其中,所述玻璃层、所述镀膜层所选用的材料通过权利要求1至5中任一项所述的方法确定。
9.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至5中任一项所述的方法的步骤。
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231505A (ja) * 2003-01-09 2004-08-19 Hoya Corp ガラス光学素子の製造方法
JP2004247379A (ja) * 2003-02-12 2004-09-02 Sony Corp 半導体装置及びその製造方法、並びに疑似ウェーハ及びその製造方法
CN108197385A (zh) * 2017-12-30 2018-06-22 华南理工大学 Pcb可靠性的预测方法、装置及计算机设备
WO2019229911A1 (ja) * 2018-05-30 2019-12-05 三菱電機ビルテクノサービス株式会社 計装設計支援装置
CN112668154A (zh) * 2020-12-11 2021-04-16 国网浙江省电力有限公司电力科学研究院 一种评估电缆周期性负荷载流能力的仿真试验计算方法
CN114252133A (zh) * 2021-12-30 2022-03-29 绍兴柯桥滨海供水有限公司 一种用于水表比对的运行工况模拟装置
CN114418427A (zh) * 2022-01-26 2022-04-29 深圳友讯达科技股份有限公司 一种燃气表选配方法及系统
CN114529803A (zh) * 2022-01-27 2022-05-24 上海利淘豪斯机器人有限公司 一种指针仪表识别增强检测方法
GB202205803D0 (en) * 2021-11-29 2022-06-08 Corning Inc Automatic quality categorization method and system for pharmaceutical glass containers

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003099645A (ja) * 2001-09-21 2003-04-04 Yazaki Corp カスタマイズメータ作成システム
US20220357490A1 (en) * 2021-05-07 2022-11-10 Flightsafety International Inc. Lightweight rigid mirror and a method of producing a lightweight rigid mirror

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231505A (ja) * 2003-01-09 2004-08-19 Hoya Corp ガラス光学素子の製造方法
JP2004247379A (ja) * 2003-02-12 2004-09-02 Sony Corp 半導体装置及びその製造方法、並びに疑似ウェーハ及びその製造方法
CN108197385A (zh) * 2017-12-30 2018-06-22 华南理工大学 Pcb可靠性的预测方法、装置及计算机设备
WO2019229911A1 (ja) * 2018-05-30 2019-12-05 三菱電機ビルテクノサービス株式会社 計装設計支援装置
CN112668154A (zh) * 2020-12-11 2021-04-16 国网浙江省电力有限公司电力科学研究院 一种评估电缆周期性负荷载流能力的仿真试验计算方法
GB202205803D0 (en) * 2021-11-29 2022-06-08 Corning Inc Automatic quality categorization method and system for pharmaceutical glass containers
CN114252133A (zh) * 2021-12-30 2022-03-29 绍兴柯桥滨海供水有限公司 一种用于水表比对的运行工况模拟装置
CN114418427A (zh) * 2022-01-26 2022-04-29 深圳友讯达科技股份有限公司 一种燃气表选配方法及系统
CN114529803A (zh) * 2022-01-27 2022-05-24 上海利淘豪斯机器人有限公司 一种指针仪表识别增强检测方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Residential water meter selection using the analytical hierarchy process;Mutikanga, HE;《AMERICAN WATER WORKS ASSOCIATION》;第106卷(第5期);E233-E241 *
适用于复杂光照条件的高可见度表计的设计方法;张博等;《光源与照明》(第175期);151-153 *
面向案例教学的选矿全流程虚拟仪表和执行机构仿真平台的设计与开发;陈明;《CNKI中国优秀硕士毕业论文全文库(工程科技Ⅰ辑)》(第05期);B021-1 *

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