CN116113258A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

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CN116113258A CN202310125981.1A CN202310125981A CN116113258A CN 116113258 A CN116113258 A CN 116113258A CN 202310125981 A CN202310125981 A CN 202310125981A CN 116113258 A CN116113258 A CN 116113258A
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陈静
李振
王云浩
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Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本公开实施例提供了一种显示面板和显示装置,属于显示技术领域。该显示面板包括依次层叠的驱动背板、连接层、发光功能层、封装层和彩膜层,其中所述发光功能层包括阴极层,所述彩膜层包括多个色阻块和黑矩阵。所述阴极层具有镂空结构,或者所述阴极层与所述封装层之间具有遮光结构,或者所述阴极层远离彩膜层的一侧具有支撑结构,镂空结构、遮光结构或者支撑结构在彩膜层上的正投影均与连接层的过孔在彩膜层上的正投影重叠。本公开实施例可以改善显示面板的暗态色分离的现象。

Description

显示面板和显示装置
技术领域
本公开实施例涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
显示装置在生活中具有广泛的应用场景,如手机、平板电脑等电子设备。显示面板为显示装置的重要组成部分。
相关技术中,显示面板包括依次层叠的驱动背板、连接层、发光功能层、封装层和彩膜层。其中,连接层中具有多个过孔,发光功能层中具有多个发光单元,多个发光单元中的第一发光单元与多个过孔中的第一过孔连接。
由于第一过孔的存在,位于第一过孔上方的阴极层处于不平坦状态,光线通过某一色阻块入射至阴极层的不平坦处并在该不平坦处发生漫反射,部分反射光通过与该色阻块相邻且颜色相同的另一色阻块出射,导致显示面板在暗态时出现色分离的现象。
发明内容
本公开实施例提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置,可以改善显示装置中存在的暗态色分离的现象。所述技术方案如下:
一方面,提供了一种显示面板,所述显示面板包括依次层叠的驱动背板、连接层、发光功能层、封装层和彩膜层;所述连接层中具有多个过孔,所述发光功能层包括多个发光单元,所述多个发光单元中的第一发光单元与所述多个过孔中的第一过孔连接;所述彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,所述黑矩阵位于任意相邻的两个所述色阻块之间,所述多个色阻块与所述多个发光单元一一对应,所述多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影位于所述第一色阻块和所述第二色阻块之间。所述发光功能层的阴极层具有镂空结构,所述多个镂空结构中的第一镂空结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠;或者,所述显示面板还包括支撑结构,所述支撑结构位于所述发光功能层的阴极层远离所述彩膜层的一侧,且所述支撑结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠;或者,所述显示面板还包括遮光结构,所述遮光结构位于所述发光功能层的阴极层和所述封装层之间,且所述遮光结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠。
在一种可能的实施方式中,所述第一过孔在所述彩膜层的正投影位于所述第一镂空结构在所述彩膜层的正投影内。
在一种可能的实施方式中,所述多个镂空结构中的任一镂空结构在所述彩膜层的正投影为多边形、圆形、椭圆形或者腰圆形。
在一种可能的实施方式中,所述驱动背板还包括在所述驱动背板上依次层叠的第一电极层和第一平坦化层;所述支撑结构位于所述第一平坦化层和所述第一电极层之间,并且所述支撑结构所述第一过孔中。
在一种可能的实施方式中,所述发光功能层还包括像素定义层和阴极层,所述像素定义层和所述阴极层依次层叠在所述连接层上;所述支撑结构位于所述像素定义层和所述阴极层之间。
可选地,所述遮光结构为黑色且与所述发光功能层中的像素定义层采用相同的材料,或者,所述遮光结构的材料为黑色油墨。
在一种可能的实施方式中,所述多个发光单元中的第二发光单元与所述多个过孔中的第二过孔连接;所述第一发光单元为所述第一色阻块或者所述第二色阻块对应的发光单元,所述第二发光单元为第三色阻块对应的发光单元,所述第三色阻块分别与所述第一色阻块和所述第二色阻块相邻。所述第二过孔在所述彩膜层上的正投影位于所述第一镂空结构在所述彩膜层的正投影内,或者,与所述支撑结构在所述彩膜层的正投影至少部分重合,或者,位于所述遮光结构在所述彩膜层的正投影内。
在一种可能的实施方式中,所述第一色阻块和所述第二色阻块均为绿色色阻块。
可选地,所述显示面板还包括触控层,所述触控层位于所述封装层和所述彩膜层之间。
另一方面,提供了一种显示装置,所述显示装置包括供电电路和前述任一种显示面板,所述供电电路用于为所述显示面板供电。
本公开提供的技术方案带来的有益效果至少包括:
通过在阴极层中设置镂空结构,使得光从第一色阻块入射至阴极层时,阴极层上与第一过孔对应的不平坦位置被去除,光线会到达阴极层下方的膜层,减小了被反射的光的强度,从而改善暗态色分离现象;
或者是,通过在阴极层远离彩膜层的一侧增设支撑结构以提高阴极层上与第一过孔对应的位置的平坦度,这样,当光线从外部经过第一色阻块入射至阴极层时,阴极层上与第一过孔对应的位置的漫反射光线减少,且反射的大部分光线被黑矩阵吸收,而不是透过第二色阻块射出至显示面板外,改善了暗态色分离现象;
或者是,通过在阴极层和封装层之间增设遮光结构,以使光线从外部经过第一色阻块入射至阴极层后,被遮光结构吸收,从而减少了由于阴极层反射的光线,改善暗态色分离现象。
也即是,本公开实施例通过使第一过孔处的阴极层镂空、或者变平坦、或者降低第一过孔处的阴极层的反光度,从而可以抑制第一过孔处的阴极层反射至第二色阻块出射的光线,从而改善暗态色分离现象。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本公开实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图;
图2是本公开实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图;
图3是本公开实施例提供的一种显示面板的发光功能层去除阴极层后的俯视结构示意图;
图4是本公开实施例提供的一种显示面板的阴极层的平面示意图;
图5是本公开实施例提供的又一种显示面板的膜层结构示意图;
图6是本公开实施例提供的又一种显示面板的膜层结构示意图;
图7是本公开实施例提供的又一种显示面板的膜层结构示意图;
图8是本公开实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图;
图9是本公开实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图;
图10是本公开实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图;
图11是本公开实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
除非另作定义,此处使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”、“第三”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同,并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则所述相对位置关系也可能相应地改变。
图1是本公开实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图。如图1所示,显示面板包括依次层叠的驱动背板10、连接层20、发光功能层30、封装层40和彩膜层50。本公开实施例中,这种将彩膜层50设置在封装层40上的方式可以称为COE(Color OnEncapsulation,将彩膜或彩色滤光片集成于封装层)。
图2是本公开实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图,且图1为图2中沿AA线的截面结构示意图。如图2所示,彩膜层50包括黑矩阵51和多个色阻块52,黑矩阵51位于任意相邻的两个色阻块52之间。
多个色阻块52被分为多个色阻块组,每个色阻块组属于显示面板的一个像素单元p。每个色阻块组包括多种颜色的色阻块,且每个色阻块组中至少两个色阻块的颜色相同。每个色阻块属于一个子像素单元。
例如,图2中,每个色阻块组包括四个色阻块,分别为第一色阻块52a、第二色阻块52b、第三色阻块52c和第四色阻块52d。第一色阻块52a和第二色阻块52b为绿色色阻块,第三色阻块52c为红色色阻块,第四色阻块52d为蓝色色阻块。
多个像素单元p阵列布置,行方向为图2中的x方向,列方向为图2中的y方向。每行像素单元p中,每个像素单元p中的四个色阻块分为两行,红色色阻块和一个绿色色阻块交替布置排成一行,蓝色色阻块和另一个绿色色阻块交替布置排成另一行。
每个像素单元p中的红色色阻块和蓝色色阻块沿着第一方向布置,每个像素单元p中的两个绿色色阻块沿着第二方向布置,第一方向和第二方向垂直,且第一方向和第二方向均与多个像素单元p的行方向相交。
在本公开实施例中,红色色阻块的尺寸与蓝色色阻块的尺寸相似,且均大于绿色色阻块的尺寸。这里,尺寸可以采用直径或者面积表示。
如图1所示,发光功能层30包括多个发光单元30a,多个色阻块52与多个发光单元30a一一对应,以使发光单元发出的光能够从对应的色阻块52出射。在本公开实施例中,显示面板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域。显示区域包括多个发光单元,通过驱动背板10中的驱动电路控制显示区域中的多个发光单元发光以显示图像。
如图1所示,发光功能层30还包括像素定义层33,像素定义层33包括多个间隔分布的开口330,开口330与发光单元30a一一对应,发光单元30a的至少部分位于对应的开口330内,例如发光单元30a的发光层位于开口330内,或者,发光单元30a的发光层和阳极均位于开口330内。每个开口330用于限定对应的发光单元的发光区域A1。
本公开实施例中,发光区域A1的外轮廓为开口330的外轮廓,位于开口330内的发光单元通过开口330(即发光区域A1)发光。
可选地,如图1所示,发光单元包括依次层叠的阳极层31、发光层32和阴极层34,阳极层31位于承载面,像素定义层33位于承载面和阳极层31的部分表面。像素定义层33的开口330露出阳极层31的部分表面,即阳极层31的边缘夹设于承载面和像素定义层33之间,阳极层31的中部位于开口330中。发光层32位于开口330内。
连接层20中设有多个过孔,每个发光单元30a与至少一个过孔连接,即每个发光单元与驱动背板10中的驱动电路通过至少一个过孔中的导电结构实现电性连接,且过孔在连接层20的承载面上的正投影位于对应的发光单元30a的发光区域A1在承载面的正投影外。示例性地,每个发光单元30a可以连接一个过孔。
每个过孔与对应的一个发光单元的阳极层31相连,即每个发光单元的阳极层31可以通过过孔与对应的驱动电路连接。且每个过孔在承载面的正投影位于像素定义层33在承载面的正投影内。
其中,承载面是连接层20朝向发光功能层30的表面,即承载面是连接层20承载发光功能层30的表面。
参见图1和图3,第一发光单元可以是与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元;第一发光单元也可以是第一和第二色阻块之外的色阻块对应的发光单元。下面以与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元是第一发光单元,与第三色阻块52c、第四色阻块52d对应的发光单元分别是第二发光单元、第三发光单元为例进行说明。图3是本公开实施例提供的一种显示面板的发光功能层去除阴极层后的俯视结构示意图,且图1为图3中沿BB线的截面结构示意图。参见图1和图3,第一发光单元的发光层32a与第一过孔21a连接,第二发光单元的发光层32b与第二过孔21b连接;第三发光单元的发光层32c与第三过孔21c连接。
如图3所示,对于沿第二方向排列的多个第一发光单元,任意相邻两个第一发光单元的发光层32a之间存在两个过孔。
在一种可能的实施方式中,如图3所示,第二发光单元和第三发光单元沿着第二方向交替布置,因此,连续相邻的三个第一发光单元中,两个第一发光单元之间的两个过孔分别为第一过孔21a和第二过孔21b,相邻的第一过孔21a和第二过孔21b形成第一组合;而另外两个第一发光单元之间的两个过孔分别为第一过孔21a和第三过孔21c,且相邻的第一过孔21a和第三过孔21c形成第二组合。第一组合和第二组合沿着第一方向交替布置。
因为第一发光单元的发光层32a到第一过孔21a的距离较短,且因为第一发光单元的发光层32a的尺寸较小,所以第一发光单元的发光层32a之间的空余位置较为充分。将第一过孔21a、第二过孔21b均设置在与第一发光单元连接的发光层32a之间,可以合理利用布局空间。
在另一种可能的实施方式中,对于沿第二方向排列的多个第一发光单元,任意相邻两个第一发光单元之间存在两个过孔,且两个过孔分别为第一过孔21a和第二过孔21b;或者,两个过孔分别为第一过孔21a和第三过孔21c。这种情况下,多个第二发光单元沿第二方向排列,且其中未穿插布置第三发光单元;同样地,多个第三发光单元沿第二方向排列,且其中未穿插布置第二发光单元。
在又一种可能的实施方式中,对于沿第二方向排列的多个第一发光单元,任意相邻两个第一发光单元的发光层32a之间存在一个第一过孔21a;或者,任意相邻两个第一发光单元的发光层32a之间,零个过孔与两个第一过孔21a的组合依次交替排列。
可选地,在其他实施例中,第一过孔也可以是与第三色阻块52c对应的发光单元所连接的过孔,或者,是与第四色阻块52d对应的发光单元所连接的过孔。而第一色阻块51a或者第二色阻块51b对应的发光单元连接的过孔位于相邻的两个非第一发光单元之间。
图4是本公开实施例提供的一种显示面板的阴极层的平面示意图。如图4所示,阴极层34为整层结构且具有阵列分布的多个镂空结构34a。结合图1,每个镂空结构34a在彩膜层50的正投影与过孔在彩膜层50的正投影至少部分重叠。在本公开实施例中,由于过孔在彩膜层50上的正投影位于黑矩阵51内,所以镂空结构34a在彩膜层50的正投影与黑矩阵51至少部分重叠。
若阴极层34是整层结构未做镂空处理,由于过孔的存在,连接层20上方的膜层在过孔处会呈凹陷状态,即不平坦。当呈凹陷状态且位于连接层20上方的膜层包括阴极层34时,如果有强光照射至显示面板的显示面,光线从外部经过一个色阻块射入至阴极层34,并在阴极层34的不平坦处发生漫反射,漫反射光线的至少部分没有被黑矩阵51吸收,而是通过与这个色阻块相邻且颜色相同的另一色阻块出射,就会导致显示面板在暗态时出现色分离的现象。由图2可知,只有绿色色阻块符合相邻且同色的条件。因此,当呈凹陷状态且位于连接层20上方的膜层包括阴极层34时,光线从第一色阻块52a入射至显示面板内部,并由第二色阻块52b出射时,会导致显示面板在暗态时出现色分离的现象。
通过在阴极层34上设置镂空结构34a,外界通过第一色阻块52a射入该镂空结构34a处的光线会直接照射至像素定义层33上。由于像素定义层的反射率较低,因此,可以大大减少通过另一相邻的第二色阻块52b反射出的光线,进而改善色分离问题。同时,也因为镂空结构34a可以较好的改善暗态色分离的现象,因此可以适当的将黑矩阵51在平行于驱动背板10方向上的面积缩小,从而增大黑矩阵的开口比,提高亮度,进而提升显示质量。
同时,也因为镂空结构34a可以较好的改善暗态色分离的现象,因此可以适当的将黑矩阵51在平行于驱动背板10方向上的面积缩小,从而增大黑矩阵的开口比,提高亮度,进而提升显示质量。
在一些示例中,为了保证不平坦的阴极层区域可以被充分去除,从而尽可能的改善色分离现象,相邻的两个相同颜色的色阻块对应的发光单元之间的过孔在彩膜层50的正投影均位于镂空结构34a在彩膜层50的正投影内;为了保证阴极层34不会因被镂空的区域过多而影响正常的显示功能,镂空结构34a在彩膜层50的正投影位于黑矩阵51在彩膜层50的正投影内。
示例性地,在图1所示实施例中,第一过孔21a和第二过孔21b在彩膜层50上的正投影位于对应的一个镂空结构34a在彩膜层50的正投影内。
如图4所示,镂空结构34a为六边形。但是本公开实施例并不以此为限,在其他实施例中,还可以是其他多边形(例如矩形、五边形等等)、圆形、椭圆形或者腰圆形。
可选地,过孔平行于驱动背板10的横截面形状可以根据实际需要设置,例如圆形、椭圆形、腰圆形、矩形等。
可选地,镂空结构34a的形状与过孔的形状可以相同或者不同。
示例性地,连接层20可以为氮化硅、氮氧化硅或环氧树脂绝缘层。
示例性地,发光层32包括可以包括空穴传输层(Hole Transport Layer,HTL)、空穴注入层(Hole Injection Layer,HIL)、电子传输层(Electron Transport Layer,ETL)、电子注入层(Electron Injection Layer,EIL)、空穴阻挡层(Hole Block Layer,HBL)、电子阻挡层(Electron Blocking Layer,EBL)和发光材料层。
示例性地,阳极层31可以包括依次层叠的Ti层、Al层和Ti层。
示例性地,像素定义层33可以为黑色。可选地,像素定义层33的材料可以是依次层叠的氧化硅层、氮化硅层和氧化硅层。
多个发光单元的阴极层34可以为一体结构,例如所有发光单元的阴极层34形成整面结构,且覆盖像素定义层33的表面。示例性地,阴极层34可以采用透明导电材料制成,例如氧化铟锡(Indium tin oxide,ITO)等。
图5是本公开实施例提供的另一种显示面板的膜层结构示意图,且图5为图3中沿BB线的截面结构示意图。如图5所示,与图1所示显示面板的区别在于,图5中的阴极层为不具有镂空结构的整层结构,并且,该显示面板还包括位于第一过孔内的支撑结构。
参见图3和图5,第一发光单元可以是与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元;第一发光单元也可以是第一色阻块52a和第二色阻块52b之外的色阻块对应的发光单元。下面以与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元是第一发光单元,与第三色阻块52c、第四色阻块52d对应的发光单元分别是第二发光单元、第三发光单元为例进行说明。
驱动背板包括在驱动背板10上依次层叠的第一平坦化层和第一电极层101,第一电极层101位于驱动背板10靠近发光功能层30的一侧。多个过孔中存在多个支撑结构,且过孔与过孔内的支撑结构一一对应。例如,如图5所示,支撑结构10a位于第一平坦化层与第一电极层101之间,且位于第一过孔21a中;支撑结构10b位于第一平坦化层与第一电极层101之间,且位于第二过孔21b中。驱动背板10通过支撑结构与发光单元连接。过孔处的支撑结构10a可以对阴极层34起到支撑作用,使得原本因过孔而不平坦的阴极层变得平坦,减少阴极层34位于过孔处的漫反射光,反射回的光尽可能多的被黑矩阵51吸收,从而改善暗态色分离的现象。
示例性地,过孔在彩膜层50上的正投影与该过孔内对应的支撑结构在彩膜层50的正投影至少部分重合。
需要说明的是,可以如图5所示,支撑结构10a或者10b与第一电极层101在彩膜层50的正投影位于过孔在驱动背板10的正投影内;也可以是,第一电极层101在彩膜层50的正投影与过孔在彩膜层50的正投影重合,即过孔内的支撑结构10a或者10b与第一电极层101也可以紧贴第一过孔21a的侧壁设置。
示例性地,支撑结构10a的材料为金属材料或者非金属材料。在一些示例中,支撑结构10a为第一平坦化层表面的凸起结构,且与第一平坦化层采用相同的材料形成。
示例性地,支撑结构10a和10b的厚度大于0且小于或者等于3微米。在一些示例中,支撑结构10a或者10b的厚度可以大于1微米且小于或者等于2微米。需要说明的是,这里的厚度是指支撑结构在从彩膜层到驱动背板方向上的尺寸。
图6是本公开实施例提供的又一种显示面板的膜层结构示意图,且图6为图3中沿BB线的截面结构示意图。如图6所示,与图1所示显示面板的区别在于,图6中的阴极层为不具有镂空结构的整层结构,并且,该显示面板的还包括位于像素定义层33和阴极层34之间的支撑结构,位于像素定义层33和阴极层34之间的支撑结构在彩膜层50的正投影与对应的过孔在彩膜层50的正投影至少部分重合。
参见图3和图6,第一发光单元可以是与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元;第一发光单元也可以是第一色阻块52a和第二色阻块52b之外的色阻块对应的发光单元。下面以与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元是第一发光单元,与第三色阻块52c、第四色阻块52d对应的发光单元分别是第二发光单元、第三发光单元为例进行说明。
可选地,在本公开实施例中,位于第一色阻块52a对应的发光单元和第二色阻块52b对应的发光单元之间的过孔均对应设置有支撑结构。例如图6中支撑结构33a在彩膜层50的正投影位于第一过孔21a在彩膜层50的正投影内,支撑结构33b在彩膜层50的正投影位于第二过孔21b在彩膜层50的正投影内。
支撑结构33a和33b可以对阴极层34起到支撑作用,使得原本因过孔而不平坦的阴极层变得平坦,从而当光线射入第一色阻块后,减少阴极层34位于第一过孔21a处的漫反射光,减少从第二色阻块出射的光线,从而改善暗态色分离的现象。
可选地,支撑结构33a和33b为黑色且与像素定义层采用相同的材料制成。
示例性地,支撑结构10a和10b、支撑结构33a和33b的厚度大于0且小于或者等于3微米。在一些示例中,支撑结构10a或者10b、支撑结构33a或33b的厚度可以大于1微米且小于或者等于2微米。需要说明的是,这里的厚度是指支撑结构在从彩膜层到驱动背板方向上的尺寸。
经过测试证明,位于过孔内的支撑结构或者位于像素定义层33和阴极层34之间的支撑结构可以有效提高阴极层34的平坦度,从而改善暗态色分离的现象。阴极层34的平坦度可以通过以下测试方法进行评估:在阴极层34的远离像素定义层33的表面选取多个测量点,多个测量点间隔分布在过孔所在的区域;测量每个测量点处的深度,这里,深度是指阴极层34远离像素定义层33的表面到驱动背板10的承载面的距离。多个测量点的深度值中的最大值与最小值的比值可以用于表征阴极层33的平坦度,比值越小,阴极层33越平坦。
图7是本公开实施例提供的又一种显示面板的膜层结构示意图,且图6为图3中沿BB线的截面结构示意图。参见图3和图7,第一发光单元可以是与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元;第一发光单元也可以是第一色阻块52a和第二色阻块52b之外的色阻块对应的发光单元。下面以与第一色阻块52a和第二色阻块52b对应的发光单元是第一发光单元,与第三色阻块52c、第四色阻块52d对应的发光单元分别是第二发光单元、第三发光单元为例进行说明。与图6所示显示面板相比,图7所示的显示面板的区别在于没有设置位于像素定义层33和阴极层34之间的支撑结构,而是包括遮光结构34b。遮光结构34b位于阴极层34和封装层40之间。位于第一色阻块52a对应的发光单元和第二色阻块52b对应的发光单元之间的过孔在彩膜层50上的正投影位于遮光结构34b在彩膜层50的正投影区域内。例如,图7中,第一过孔21a和第二过孔21b在彩膜层50上的正投影位于遮光结构34b在彩膜层50的正投影区域内。遮光结构34b在彩膜层50的正投影位于黑矩阵51在彩膜层50的正投影区域内。
遮光结构34b可以遮挡部分从外界射入至阴极层34的不平坦处的光线;同时,可以吸收经由不平坦处的阴极层34漫反射后的光线,从而改善暗态色分离的现象。示例性地,遮光结构为黑色且与像素定义层采用相同的材料;或者,遮光结构的材料为黑色油墨;或者,遮光结构的材料是黑色金属材料。
在一些示例中,如图1、图5至图7所示,显示面板还包括触控层60,触控层60位于封装层40和彩膜层50之间。
可选地,触控层60可以为自容式触控结构,或者互容式触控结构等。
示例性地,当触控层60为自容式触控结构时,触控层60可以包括多个触控单元和多根触控线。多个触控单元阵列排布于封装层上,且至少部分位于显示区域。在一些实施例中,所有的触控单元都位于显示区域。在另一些实施例中,一部分触控单元位于显示区域,另一部分触控单元位于非显示区域。例如,阵列排布的多个触控单元中,最外侧的触控单元位于非显示区域或者部分位于非显示区域。每根触控线与至少一个触控单元相连,且触控线用于将所连接的触控单元与触控集成电路电连接,以与触控集成电路连接。
在一种可能的实施方式中,触控层60可以采用FMLOC(Flexible Multi-Layer OnCell,柔性多层膜层触控面板)技术。
下面对图1、图5至图7中的驱动背板的结构进行示例性说明。可选地,驱动背板10包括依次层叠的衬底基板、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介电层和源漏极层。前述第一电极层可以为该源漏极层。
本公开实施例中,衬底基板可以为任意呈透明的基板,例如玻璃基板、石英基板、塑胶基板或其他透明的硬质或者可挠式基板,其可以是单层或多层结构。
以多层结构为例,衬底基板包括由下至上依次层叠设置的第一PI(聚酰亚胺)层、第一保护层、第二PI(聚酰亚胺)层、第二保护层,两个保护层用于保护PI层,防止后续工艺对PI层的破坏。第二保护层上还覆盖有缓冲层,可以阻挡水氧和阻隔碱性离子。
当然,衬底基板也可以为硅基板,例如为单晶硅或者高纯度硅。硅基板内集成有上述的像素驱动电路包括的各晶体管,例如,通过掺杂工艺在硅基板中形成晶体管的源极、漏极和栅极。
示例性地,有源层的制作材料可以是非晶硅、多晶硅或金属氧化物半导体等;栅极绝缘层的制作材料可以是硅氧化物或硅氮化物,硅氮氧化物等。
示例性地,栅极金属层的制作材料可以是钼、铜、钛等单层金属薄膜,也可以是依次层叠的钼层、铝层和钼层,或者是依次层叠的钛层、铝层和钛层等多层金属薄膜;层间介电层的制作材料可以是硅氧化物或硅氮化物等。
示例性地,源漏金属层的制作材料可以是铝、钼、铜、钛等单层金属薄膜,也可以是依次层叠的钼层、铝层和钼层,或者是依次层叠的钛层、铝层和钛层等多层金属薄膜。
示例性地,有源层的制作材料可以包括LTPS(Low Temperature Poly-Silicon,低温多晶硅)和LTPO(Low Temperature Polycrystalline Oxide,低温多晶氧化物)等。
需要说明的是,示例中仅举出了具有单层栅极金属层的TFT基板结构,TFT基板结构还可以是双层栅极金属层等多种结构,本公开实施例对此不做限制。
需要说明的是,为了便于示意,附图中部分相邻的层之间存在间隙,而实际应用中这些间隙是不存在的。例如图1中的镂空结构34a会被阴极层34上方的膜层填充,例如被封装层40填充;图5中像素定义层33和阴极层34之间的间隙实际上是不存在的,即像素定义层33和阴极层34是直接接触的;图6中支撑结构33a和33b周围的间隙,实际上被支撑结构33a和33b上方的膜层填充,例如阴极层34;图7中像素定义层33和阴极层34之间的间隙以及阴极层34和封装层40之间的间隙实际上也是不存在的。
本公开实施例还提供了一种显示面板的制作方法。
图8是本公开实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。该方法可以用于制作图1所示的显示面板。如图8所示,制作方法包括:
在步骤81中,在驱动背板上形成连接层,连接层中具有多个过孔。
可选地,驱动背板可以是预先制作完成,或者采购自第三方,而不需要在当前时刻才制作。
在该步骤81中,可以先形成连接层,然后对连接层进行图案化处理,从而在连接层中形成多个过孔。形成连接层的方式包括但不限于沉积等。对连接层进行图案化处理的方式包括但不限于光刻、或者刻蚀等。
在步骤82中,在连接层上形成发光功能层。
该发光功能层包括多个发光单元,多个发光单元中的第一发光单元与多个过孔中的第一过孔连接。
在步骤83中,在发光功能层上层叠形成封装层和彩膜层。
其中,彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,黑矩阵位于任意相邻的两个色阻块之间,多个色阻块与多个发光单元一一对应,多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,第一过孔在彩膜层上的正投影位于第一色阻块和第二色阻块之间。发光功能层的阴极层具有多个镂空结构,多个镂空结构中的第一镂空结构在彩膜层的正投影与第一过孔在彩膜层上的正投影至少部分重叠。
示例性地,该步骤82包括:第一步、在连接层上依次形成阳极层和像素定义层,像素定义层包括多个开口区域,开口区域露出阳极层的部分表面;第二步、在像素定义层的开口区域内形成发光层;第三步、在像素定义层和发光层上形成阴极材料层,并对阴极材料层做图案化处理,形成具有多个镂空结构的阴极层,多个镂空结构中的第一镂空结构在彩膜层上的正投影与多个过孔中的第一过孔在彩膜层上的正投影至少部分重叠。
可选地,第三步中,可以使用阴极材料图案化技术(CPM,Cathode PatterningMethod)形成阴极层。例如,先在镂空结构区域沉积CPM材料,然后在CPM材料上形成整层的阴极材料层,通过镂空结构区域的CPM材料与整层阴极发生反应,镂空结构对应的阴极材料被去除,得到具有镂空结构的阴极层;或者,在第三步中,可以使用激光工艺对阴极材料层进行图案化处理,得到具有镂空结构的阴极层。
图9是本公开实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。该方法可以用于制作图5所示的显示面板。如图9所示,制作方法包括:
在步骤91中,在驱动背板上形成连接层,连接层中具有多个过孔。
其中,驱动背板包括依次层叠设置的第一平坦化层、支撑结构和第一电极层,支撑结构至少位于第一过孔中。多个过孔中的一个或者多个为第一过孔。
该步骤91的实现过程参见前述步骤81,在此省略详细描述。
在步骤92中,在连接层上形成发光功能层。
发光功能层的相关内容参见前述步骤82,在此省略详细描述。
在步骤93中,在发光功能层上层叠形成封装层和彩膜层。
其中,彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,黑矩阵位于任意相邻的两个色阻块之间,多个色阻块与多个发光单元一一对应,多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,第一过孔在彩膜层上的正投影位于第一色阻块和第二色阻块之间。支撑结构在彩膜层上的正投影与第一过孔在彩膜层上的正投影至少部分重叠。
示例性地,步骤92包括在连接层上依次形成阳极层和像素定义层,像素定义层包括多个开口区域,开口区域露出阳极层的部分表面,后在像素定义层的开口区域内形成发光层,在像素定义层和发光层上形成阴极层,得到发光功能层。
图10是本公开实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。该方法可以用于制作图6所示的显示面板。如图10所示,制作方法包括:
在步骤101中,在驱动背板上形成连接层,连接层中具有多个过孔。
该步骤101的实现过程参见前述步骤81,在此省略详细描述。
在步骤102中,在连接层上形成发光功能层和支撑结构。
该发光功能层包括多个发光单元,多个发光单元中的第一发光单元与多个过孔中的第一过孔连接。
在步骤103中,在发光功能层上层叠形成封装层和彩膜层。
其中,彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,黑矩阵位于任意相邻的两个色阻块之间,多个色阻块与多个发光单元一一对应,多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,第一过孔在彩膜层上的正投影位于第一色阻块和第二色阻块之间。支撑结构在彩膜层上的正投影与第一过孔在彩膜层上的正投影至少部分重叠。
示例性地,步骤102包括:在连接层上依次形成阳极层和像素定义层,像素定义层包括多个开口区域,开口区域露出阳极层的部分表面;在像素定义层的开口区域内形成发光层,在像素定义层上与过孔相对应的位置形成支撑结构;在像素定义层、发光层、支撑结构上形成阴极层。
图11是本公开实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。该方法可以用于制作图7所示的显示面板。如图11所示,制作方法包括:
在步骤111中,在驱动背板上形成连接层,连接层中具有多个过孔。
该步骤111的实现过程参见前述步骤81,在此省略详细描述。
在步骤112中,在连接层上依次形成发光功能层和遮光结构。
该发光功能层包括多个发光单元,多个发光单元中的第一发光单元与多个过孔中的第一过孔连接。
在步骤113中,在发光功能层和遮光结构上层叠形成封装层和彩膜层。
其中,彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,黑矩阵位于任意相邻的两个色阻块之间,多个色阻块与多个发光单元一一对应,多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,第一过孔在彩膜层上的正投影位于第一色阻块和第二色阻块之间。
示例性地,步骤112包括,在连接层上依次形成阳极层和像素定义层,像素定义层包括多个开口区域,开口区域露出阳极层的部分表面,后在像素定义层的开口区域内形成发光层,在像素定义层和发光层上形成阴极层,得到发光功能层;在发光功能层上形成遮光结构,且遮光结构在彩膜层上的正投影与多个过孔中的第一过孔在彩膜层上的正投影至少部分重叠。
步骤112中形成遮光结构包括:在阴极层远离驱动背板的一侧且在过孔在阴极层上的正投影区域附近,使用3D打印、沉积等方法形成遮光结构。示例性地,当遮光结构为油墨材料时,可以使用3D打印技术制作遮光结构;当遮光结构为掺杂有吸光粒子的树脂材料时,可以使用沉积的方法制作遮光结构。
本公开提供了一种显示装置,显示装置包括前述任一种显示面板和供电电路,供电电路与显示面板连接,用于为显示面板供电。
示例性地,本公开实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
该显示装置具有前述显示面板相同的效果,在此不再赘述。
以上所述仅为本公开的可选实施例,并不用以限制本公开,凡在本公开的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括依次层叠的驱动背板、连接层、发光功能层、封装层和彩膜层;
所述连接层中具有多个过孔,所述发光功能层包括多个发光单元,所述多个发光单元中的第一发光单元与所述多个过孔中的第一过孔连接;
所述彩膜层包括黑矩阵和多个色阻块,所述黑矩阵位于任意相邻的两个所述色阻块之间,所述多个色阻块与所述多个发光单元一一对应,所述多个色阻块包括相邻且颜色相同的第一色阻块和第二色阻块,所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影位于所述第一色阻块和所述第二色阻块之间;
所述发光功能层的阴极层具有多个镂空结构,所述多个镂空结构中的第一镂空结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠;或者,
所述显示面板还包括支撑结构,所述支撑结构位于所述发光功能层的阴极层远离所述彩膜层的一侧,且所述支撑结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠;或者,
所述显示面板还包括遮光结构,所述遮光结构位于所述发光功能层的阴极层和所述封装层之间,且所述遮光结构在所述彩膜层的正投影与所述第一过孔在所述彩膜层上的正投影至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一过孔在所述彩膜层的正投影位于所述第一镂空结构在所述彩膜层的正投影内。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述多个镂空结构中的任一镂空结构在所述彩膜层的正投影为多边形、圆形、椭圆形或者腰圆形。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述驱动背板还包括在所述驱动背板上依次层叠的第一平坦化层和第一电极层;
所述支撑结构位于所述第一平坦化层和所述第一电极层之间,并且所述支撑结构位于所述第一过孔中。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光功能层还包括像素定义层,所述像素定义层和所述阴极层依次层叠在所述连接层上;
所述支撑结构位于所述像素定义层和所述阴极层之间。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述遮光结构为黑色且与所述发光功能层中的像素定义层采用相同的材料制成,或者,所述遮光结构的材料为黑色油墨。
7.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述多个发光单元中的第二发光单元与所述多个过孔中的第二过孔连接;所述第一发光单元为所述第一色阻块或者所述第二色阻块对应的发光单元,所述第二发光单元为第三色阻块对应的发光单元,所述第三色阻块分别与所述第一色阻块和所述第二色阻块相邻;
所述第二过孔在所述彩膜层上的正投影位于所述第一镂空结构在所述彩膜层的正投影内,或者,与所述支撑结构在所述彩膜层的正投影至少部分重合,或者,位于所述遮光结构在所述彩膜层的正投影内。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第一色阻块和所述第二色阻块均为绿色色阻块。
9.根据权利要求1至6和权利要求8中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括触控层,所述触控层位于所述封装层和所述彩膜层之间。
10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括供电电路和权利要求1至9任一项所述的显示面板,所述供电电路用于为所述显示面板供电。
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