CN116034253A - 涂层特征的无接触确定 - Google Patents

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Abstract

提供了无接触确定分层涂层的特征的系统。这样的系统包括确定器单元和测量单元，该测量单元包括涂层扫描器、振动探测器和光学布置结构。涂层扫描器包括：用于发射扫描辐射的防护级发送器；和用于感测由扫描辐射与涂层的层的相互作用而形成的相互作用辐射的防护级接收器。振动探测器包括：用于发射探测辐射的防护级发射器；和用于感测由探测辐射在涂层上的反射而形成的反射辐射以根据该反射辐射来检测涂层的振动的防护级传感器。光学布置结构将扫描辐射和/或探测辐射朝着公共辐射方向引导，并将相互作用辐射朝着防护级接收器引导和/或将反射辐射朝着防护级传感器引导。确定器单元根据由涂层扫描器感测到的相互作用辐射和由振动探测器检测到的振动来确定涂层特征。还提供了可在所述系统中执行的方法和计算机程序。

Description

涂层特征的无接触确定
技术领域
本公开涉及对具有不同层的涂层(coating)的一个或更多个特征进行无接触确定的系统。本公开还涉及能够在这样的系统中执行的方法或者能够由这样的系统执行的方法，并且涉及适于执行所述方法的计算机程序。
本申请要求2020年8月12日提交的欧洲专利申请EP20382744的权益。
背景技术
在现有技术中，已知用于对具有一个或更多个层的涂层的特征进行无接触确定的不同方法和系统。通过所述已知方法和系统提取的典型涂层特征是涂层的厚度或者涂层的各个层的厚度。
所述已知方法和系统中的一些方法和系统不适合于具有干扰元素的环境，举例来说，如通常存在于例如生产线中的灰尘、水、涂料颗粒或者其它外部处理剂(agent)。所述方法和系统是基于非常敏感的组件的，因此，可能因由灰尘、水、涂料颗粒或者其它干扰处理剂所形成的干扰而产生畸变的结果。
用于对涂层的特征进行无接触确定的一些其它已知方法和系统因振动而不能产生良好的结果。已知在生产线中，振动是确实存在的并且是不可避免的。因此，所述其它方法和系统不适合于所述种类的具有振动的环境。
本公开的目的是，提供旨在解决前述问题中的至少一些问题的新的方法、系统以及计算机程序。
发明内容
在一方面，提供了一种无接触确定具有一个或更多个层的涂层的一个或更多个特征的系统。该系统包括多个单元，所述多个单元具有确定器单元和测量单元。该测量单元包括涂层扫描器、振动探测器以及光学布置结构。该涂层扫描器包括防护级(ingress-protected)发送器和防护级接收器，该防护级发送器被配置成在使用中发射扫描辐射，该防护级接收器被配置成，在使用中感测由扫描辐射与涂层的所述一个或更多个层的相互作用而形成的相互作用辐射。该振动探测器包括防护级发射器和防护级传感器，该防护级发射器被配置成在使用中发射探测辐射，该防护级传感器被配置成，在使用中感测由探测辐射在涂层上的反射而形成的反射辐射，以根据该反射辐射来检测涂层的振动。该光学布置结构被配置成，在使用中将扫描辐射和/或探测辐射朝着公共辐射方向引导，和/或在使用中将相互作用辐射朝着防护级接收器引导和/或将反射辐射朝着防护级传感器引导。该确定器单元被配置成，根据由涂层扫描器感测到的相互作用辐射以及由振动探测器检测到的振动来确定涂层的所述一个或更多个特征。
所提出的系统允许在具有振动和干扰颗粒(举例来说，如灰尘、水、涂料颗粒等)的环境中获得非常有效的结果。这种类型的典型环境例如是生产线。与现有技术的系统相比，所提出的系统允许防护级涂层扫描器和防护级振动探测器以更可靠的方式在同一系统中共存和协作。该光学布置结构允许由涂层扫描器和振动探测器发射的相应辐射在最终路径上会聚，以撞击(impinge)到涂层的基本上相同的点或区域。因此，利用所提出的系统同时获得双重效果：防护级涂层扫描器和防护级振动探测器在同一系统中协同共存，并且具有可靠的振动补偿，这是因为由涂层扫描器和振动探测器两者发射的辐射都被引导接触到涂层的基本上相同的点或区域。撞击点或区域的这种重合意味着在其中涂层正被检查的同一点处检测到振动，因此可以应用更可靠的振动补偿。
在根据本公开的系统中使用的防护级(Ingress protection)可以满足对应的标准，包括由机械壳体和电气外罩提供的防侵入(intrusion)、防尘、防意外接触以及防水的防护程度的分类和等级。这种标准的示例例如是欧洲标准EN 60529、IEC标准60529等。所述IEC标准60529有时被看作国际防护码(International Protection Code)，并且是由国际电子技术委员会(IEC)公布的。
根据一些实现，该光学布置结构可以包括：被配置成在使用中将扫描辐射和/或探测辐射朝着公共辐射方向反射的至少一个反射镜，以及被配置成在使用中将相互作用辐射朝着防护级接收器反射和/或将反射辐射朝着防护级传感器反射的至少一个反射镜。所述反射镜中的各个反射镜皆可以是可移动的，以使可以调整该反射镜的斜度，从而优化扫描辐射和/或探测辐射在对应反射镜上的反射以及相互作用辐射和/或反射辐射在对应反射镜上的反射。在一些配置中，用于反射扫描辐射和/或探测辐射的至少一个反射镜以及用于反射相互作用辐射和/或反射辐射的至少一个反射镜可以是相同的至少一个反射镜。在一些示例中，仅单个反射镜就足以引起所有反射。
在配置中，该光学布置结构可以包括：被配置成在使用中将扫描辐射和/或探测辐射朝着公共辐射方向引导的至少一个透镜，以及被配置成在使用中将相互作用辐射朝着防护级接收器引导和/或将反射辐射朝着防护级传感器引导的至少一个透镜。在一些配置中，用于引导扫描辐射和/或探测辐射的至少一个透镜以及用于引导相互作用辐射和/或反射辐射的至少一个透镜可以是相同的至少一个透镜。在一些示例中，仅单个透镜就足以引起所有期望的引导。可以通过适合的聚焦特征和/或适当的准直特征和/或透明特征和/或一个或多个透镜的任何其它方便的光学特征来实现一个或多个透镜对对应辐射的引导。
在一些示例中，所述多个单元可以包括定位器单元，该定位器单元被配置成，在使用中将测量单元朝着与待检查涂层有关的目标位置移动。目标位置可以使得在使用中公共辐射方向基本上垂直于涂层。目标位置可以使得在使用中涂层扫描器的防护级发送器和/或振动探测器的防护级发射器在距离涂层目标距离处。
该定位器单元可以包括位置检测器，该位置检测器被配置成，检测测量单元何时到达目标位置。该位置检测器可以基于例如一组三角测量传感器，该组三角测量传感器可以由振动探测器来进行辅助或者不进行辅助。这种三角测量系统可以使用来自振动探测器的信息来检测测量单元何时到达目标位置。这样，可以更可靠地检测目标位置。该定位器单元可以包括致动器，该致动器被配置成，将测量单元朝着目标位置移动。该致动器例如可以包括机器人臂等。
在一些配置中，涂层扫描器可以是太赫兹(Terahertz)或THz扫描器。
在另一方面，提供了一种无接触确定具有一个或更多个层的涂层的一个或更多个特征的方法。所述方法包括：操作涂层扫描器(在测量单元中)、操作振动探测器(在测量单元中)、以及操作确定器单元。操作涂层扫描器，以使涂层扫描器的防护级发送器发射扫描辐射，并且使涂层扫描器的防护级接收器感测由扫描辐射与涂层的所述一个或更多个层的相互作用而形成的相互作用辐射。操作振动探测器，以使振动探测器的防护级发射器发射探测辐射，并且使振动探测器的防护级传感器感测由探测辐射在涂层上的反射而形成的反射辐射，以根据该反射辐射来检测涂层的振动。光学布置结构(在测量单元中)将扫描辐射和/或探测辐射朝着公共辐射方向引导，以及将相互作用辐射朝着防护级接收器引导和/或将反射辐射朝着防护级传感器引导。操作确定器单元，以使根据由涂层扫描器感测到的相互作用辐射以及由振动探测器检测到的振动来确定涂层的所述一个或更多个特征。
在一些示例中，操作确定器单元的步骤可以包括：基于物理模型来生成模拟信号；以及执行优化过程以优化物理模型的一个或更多个参数，从而修改模拟信号，直到模拟信号拟合(fit)由涂层扫描器的防护级接收器感测到的相互作用辐射。该优化过程可以基于以下技术中的至少一种技术：离散差分演化、地形全局优化、流域跳跃(Basin-hopping)、SHG或双重退火(Dual Annealing)。该优化过程可以是具有基于误差函数的停止准则的自适应和迭代优化过程。该优化过程是在时域和/或频域中执行的。
当模拟信号与所感测到的相互作用辐射之间的偏差处于可接受性(acceptability)阈值内时，可以将模拟信号确定为拟合所感测到的相互作用辐射。
可以根据物理模型的经优化的一个或更多个参数来确定涂层的所述一个或更多个特征，由于所述经优化的参数已经使模拟信号拟合到所感测到的相互作用辐射中，因此，所述经优化的参数表征扫描辐射与涂层的所述一个或更多个层的相互作用。特别地，可以根据物理模型的经优化的一个或更多个参数并且根据基于由振动探测器检测到的振动的振动补偿来确定涂层的所述一个或更多个特征。
在一些实现中，所述方法还可以包括以下步骤：在知识库中存储在所述方法的执行期间获得的知识，所述知识可以包括一个或更多个知识项，举例来说，如经优化的物理模型、物理模型的经优化的一个或更多个参数、在优化过程期间所述一个或更多个参数的演化、涂层的经确定的一个或更多个特征、所述经确定的一个或更多个特征与其它知识项中的一个或更多个其它知识项的相关性/关系等。
该优化过程可以包括从知识库检索经优化的物理模型，所述经优化的物理模型要被用作用于生成模拟信号的物理模型。
操作涂层扫描器以使感测相互作用辐射的步骤可以包括：向所感测到的相互作用辐射应用一种或更多种用于降噪的滤波技术。用于降噪的滤波技术例如可以包括：递归最小二乘滤波器、Wiener-Kolmogorov滤波器、最小均方误差、Kalman滤波器、Bishrink滤波器、所感测到的相互作用辐射的理论无噪声表示、结合自适应阈值处理(thresholding)的遗传算法、匹配滤波器和阈值处理函数连同诸如傅立叶、小波(Wavelet)以及经验模式分解EMD的变换技术等。
可通过根据本公开的方法确定的所述一个或更多个涂层特征可以包括以下特征中的一个或更多个特征：层数、每层厚度、层混合水平、每层折射率、每层电参数、每层磁参数、每层电磁参数、Fresnel系数、传播常数、传播角度、粗糙度。
在又一方面，提供了一种包括程序指令的计算机程序，该程序指令用于使计算系统执行无接触确定涂层特征的方法，诸如本公开的其它部分中描述的那些。可以将该计算机程序具体实施在存储介质上和/或承载于载体信号上。
在又一方面，提供了一种用于无接触确定涂层特征的计算系统，该计算系统包括存储器和处理器，从而具体实施被存储在存储器中并且可通过处理器执行的指令，并且该指令包括用于执行无接触确定涂层特征的方法的一个或多个功能，诸如本公开的其它部分中描述的那些。
附图说明
下面将参照附图对本公开的非限制性示例进行描述，其中：
图1是示意性地例示根据示例的用于无接触确定涂层特征的系统的框图。
图2是示意性地例示根据另一示例的用于无接触确定涂层特征的系统的框图。
图3a和图3b是示意性地例示根据本公开的用于无接触确定涂层特征的系统的不同示例的框图。
图4是示意性地例示根据示例的无接触确定涂层特征的方法的流程图。
具体实施方式
图1是示意性地例示根据示例的用于无接触确定涂层100的特征的系统的框图。涂层100可以包括具有最外层101和最内层116的层102。如该图总体上所例示的，这种用于对分层涂层100的特征进行无接触确定的系统可以包括多个单元或模块，这些单元或模块具有确定器单元或模块(未示出)以及测量单元或模块103，该测量单元或模块包括涂层扫描器模块104、振动探测器模块105以及光学布置结构模块106。涂层扫描器104可以包括防护级(ingress-protected)发送器107和防护级接收器109，该防护级发送器107是以这样的方式配置的，即，在使用中发射扫描辐射108，而该防护级接收器109是以这样的方式配置的，即，在使用中感测由扫描辐射108与涂层100的层102的相互作用而形成的相互作用辐射110。振动探测器105可以包括防护级发射器111和防护级传感器113，该防护级发射器111是以这样的方式配置的，即在使用中发送或发射探测辐射112，而该防护级传感器113是以这样的方式配置的，即，在使用中接收由探测辐射112在涂层100上的反射而形成的反射辐射114，以根据该反射辐射114来检测涂层100的振动。
根据图1，扫描辐射108可以基本上垂直于涂层100发射，并且探测辐射112可以以其纵向轴线基本上垂直于扫描辐射108的纵向轴线来发射。相互作用辐射110可以遵循由扫描辐射108与涂层100的层102的相互作用而形成的预期的“反向”路径(从涂层100到涂层扫描器104)。类似地，反射辐射114也可以遵循由探测辐射112在涂层100上的反射而形成的预期的“反向”路径(从涂层100到振动探测器105)。在另选设置中，涂层扫描器104和振动探测器105的布置结构可以彼此互换，并且总体设置可以产生与参照图1所描述的效果相同或相似的效果。
可以将光学布置结构106以这样的方式进行配置，即，在使用时，将扫描辐射108和/或探测辐射112朝着公共辐射点/方向115引导，并将相互作用辐射110朝着防护级接收器109引导和/或将反射辐射114朝着防护级传感器113引导。特别地，如图1总体上所示，光学布置结构106可以包括反射镜106c，该反射镜106c被配置成，将探测辐射112(来自防护级发射器111)朝着公共辐射点/方向115反射，并将反射辐射114(来自涂层100)朝着防护级传感器113反射。在另选实现中，可以将探测辐射112“直接”(即，没有任何重定向或反射)垂直地朝着涂层100发射，而对应的反射镜可以将扫描辐射108垂直地朝着涂层100反射，并且将相互作用辐射110朝着防护级接收器109反射。
根据图1的特定示例，在所有情况下，反射镜106c可以将探测辐射112和反射辐射114的方向改变大致90°。这与以下事实一致：在所述特定示例中，扫描辐射108被“直接”发射，即，没有任何重定向/反射，并且基本上垂直地朝着涂层100，而探测辐射112被基本上垂直于扫描辐射108来发射。相同或相似的原理可以适用于相互作用辐射110和反射辐射114，但是分别在相对于扫描辐射108和探测辐射112的相反方向上。
反射镜106c可以是可移动的，以调整该反射镜106c的斜度，以便优化扫描辐射108和/或探测辐射112的反射以及相互作用辐射110和/或反射辐射114的反射。
如图1所示，光学布置结构106可以包括透镜106a，该透镜106a具有面向测量单元103的壳体117内部的一侧118以及面向壳体117外部的另一侧119。该透镜106a可以具有例如将扫描辐射108朝着公共辐射点/方向115准直和/或聚焦的功能，以及在“反向”方向上用于将相互作用辐射110从涂层100朝着防护级接收器109引导的类似功能。光学布置结构106还可以包括光学硬件或调节器106b，该光学硬件或调节器用于在扫描辐射108到达透镜106a之前适当调节(conditioning)该扫描辐射。因此，光学硬件106b和透镜106a可以光学地协作以优化扫描辐射108朝着公共辐射点/方向115的会聚。光学硬件或调节器106b可以是可移动的和可调整的，以在扫描辐射108到达透镜106a之前适当地优化对该扫描辐射的调节，以及在相互作用辐射110到达防护级接收器109之前适当地优化对该相互作用辐射的调节。
图1包括上部主图解(schema)和下部图解，下部图解对应于涂层扫描器104的特定实现和/或布置结构的更详细视图。下部图解在涂层扫描器104的横向侧从视点120示出了涂层扫描器104，清楚地示出了防护级接收器109和防护级发送器107。可以将防护级接收器109相对于公共辐射方向/点115以斜度或角度122进行布置。防护级发送器107可以相对于公共辐射方向/点115以斜度或角度121进行布置。
下部图解还概略地示出了透镜106a(即，准直和/或聚焦特性或参数)和发射角度121使扫描辐射108朝着公共辐射点/方向115会聚的影响。下部图解还概略地示出了透镜106a(即，准直和/或聚焦特性或参数)和接收角度122使相互作用辐射110的路径朝着防护级接收器109的影响。防护级发送器107和接收器109的所述布置结构、透镜106a对扫描辐射108和相互作用辐射110的影响、以及随之发生的斜度/角度121、122允许避免扫描辐射108和相互作用辐射110与反射镜106c的任何干涉。可以将各个防护级发送器107配置成，导致扫描辐射108的特定入射角和/或特定偏振，并且其相应的防护级接收器109可以根据所述特定入射角和/或特定偏振来进行布置。关于涂层扫描器104描述的这些布置结构、透镜相关以及基于角度的原理可以以相同或相似的效果同等或相似地应用于振动探测器105。
可以将确定器单元(未示出)配置成，根据由涂层扫描器104感测到的相互作用辐射110(例如，表征该相互作用辐射的信号和/或数据)以及由振动探测器105检测到的振动(例如，表征该振动的信号和/或数据)来确定涂层100的所述一个或更多个特征。因此，可以将确定器单元与涂层扫描器104和振动探测器105相连接，使得确定器单元(在该图中未示出)可以接收表征相互作用辐射110(来自涂层扫描器104)和涂层100的振动(来自振动探测器105)的信号和/或数据。确定器单元(未示出)可以相对于测量单元103进行远程布置。
涂层扫描器104是太赫兹或THz扫描器。防护级接收器109和防护级发送器107可以是基于天线的，举例来说，如一个或更多个光电导LT-InGaAs天线。涂层扫描器104可以包括一个或更多个光发生器(未示出)。光发生器可以是激光发生器。涂层扫描器104可以包括一个或更多个延迟线(未示出)，所述一个或更多个延迟线包括：用于涂层扫描器104以不同扫描窗口进行操作的可移动延迟线，和/或可由硬件调整的延迟线，以用于涂层扫描器104以能够通过该延迟线的位移来调整的一个扫描窗口进行操作。
图2是示意性地例示根据另一示例的用于无接触确定涂层200的特征的系统的框图。涂层200可以包括若干层202，包括最外层201和最内层216。测量单元203中的一些组件可以等同于或类似于图1的测量单元103中的对应组件。例如，具有防护级发送器207和防护级接收器209的涂层扫描器204可以类似于图1的具有防护级发送器107和防护级接收器109的涂层扫描器104。关于扫描辐射208和相互作用辐射210的细节因此可以类似于关于图1的扫描辐射108和相互作用辐射110所说明的那些。确定器单元或模块(未示出)也可以类似于关于图1所说明的确定器单元。
相对于图1的区别可以在于光学布置结构206，在图2的情况下，该光学布置结构206可以不包括图1的反射镜106c。光学布置结构206可以包括类似于图1的透镜106a但具有特定光学特征的透镜206a。透镜206a可以相对于测量单元203的壳体217布置，其中，透镜206a的一侧218面向壳体217的内部，而透镜206a的另一侧219面向壳体217的外部。透镜206a对于扫描辐射208和相互作用辐射210以及对于探测辐射212和反射辐射214可以是透明的。光学布置结构206还可以包括类似于图1的光学硬件或调节器106b的光学硬件或调节器206b，该光学硬件或调节器206b被布置在涂层扫描器204和振动探测器205与透镜206a之间的位置220处，如同图1的设置中那样。具有防护级发射器211和防护级传感器213的振动探测器205可以类似于图1的具有防护级发射器111和防护级传感器113的振动探测器105，但是与图1的配置相比是不同地布置的。这种不同的布置结构允许避免图1的反射镜106c的必需性，这是因为不需要重定向/反射探测辐射212和反射辐射214。如图2所示，可以将振动探测器205布置在涂层扫描器204的防护级发送器207与防护级接收器209之间。扫描辐射208和探测辐射212可以类似于参照图1所解释的朝着公共辐射点/方向215会聚，但是不需要探测辐射212的反射。关于图1中的斜度或角度121、122的类似考虑可适用于斜度或角度221、222。在另选设置中，涂层扫描器204和振动探测器205的布置结构可以彼此互换，并且总体设置可以产生与参照图2所描述的效果相同或相似的效果。
图3a是示意性地例示根据又一示例的用于无接触确定涂层特征的系统的框图。如该图总体上所示出的，可以将用于无接触确定涂层特征的系统用于在对应的生产线内或生产线外检查车辆(诸如汽车301)上的涂料涂层302。根据本公开的系统可以适用于在生产线内或生产线外检查具有涂层的任何产品或物体上的任何分层涂层。
用于无接触确定涂层特征的系统可以包括定位器单元300，该定位器单元300被配置成将测量单元303a朝着与涂层302有关的目标位置移动。测量单元303a可以等同于或类似于本文所描述的测量单元103、203中的任一者。因此，可以在以下对图3的描述中重新使用图1和图2的标号。
测量单元303a的目标位置可以对应于使公共辐射点/方向115、215基本上垂直于涂层302的位置。另外或者另选地，目标位置可以对应于涂层扫描器104、204的防护级发送器107、207和/或振动探测器105、205的防护级发射器111、211在距离涂层302目标距离310处的位置。涂层扫描器104、204及其组件(防护级发送器107、207、防护级接收器109、209等)和振动探测器105、205及其组件(防护级发射器111、211、防护级传感器113、213等)以及光学布置结构106、206可以是可调整的，以限定不同的可能目标距离310。
定位器单元300可以包括位置检测器(未示出)，该位置检测器被配置成，检测测量单元303a何时到达目标位置。位置检测器可以基于例如一组三角测量传感器。定位器单元300可以包括致动器，该致动器被配置成，将测量单元303a朝着目标位置移动。该致动器例如可以包括机器人臂304，该机器人臂304可以包括具有对应自由度的不同铰接接头305、306。定位器单元300可以包括碰撞检测器，该碰撞检测器被配置成，在使用中检测定位器单元300和/或测量单元303a何时变得太靠近外部部件。定位器单元300还可以包括碰撞保护器，该碰撞保护器被配置成，在使用中保护定位器单元300和/或测量单元303a免受因与某一(些)外部部件碰撞而形成的损坏。
如图3a总体上所例示的，根据本公开的系统可以包括控制器单元309，该控制器单元309被配置成，控制系统中的所有或部分其它单元。可以将控制单元309布置在(例如，经适当保护的)壳体308内部，该壳体还可以包含确定器单元311或测量单元303a的互补组件303b，举例来说，如光发生器、延迟线等。例如，可以将控制单元309配置成，向机器人臂304、测量单元303a、303b等发送控制信号，以适当地控制所述单元中的各个单元，以使它们同步地协作并且可靠地从涂层302提取特征。
测量单元组件303a可以包括涂层扫描器104、204和振动探测器105、205的一些部件，举例来说，如防护级发送器107、207、防护级接收器109、209、防护级发射器111、211、防护级传感器113、213等。测量单元组件303b可以包括涂层扫描器104、204和振动探测器105、205的一些其它部件，举例来说，如光发生器、延迟线等。测量单元组件303a和303b通过不同长度的有线连接307彼此连接。这些连接中的一些可以是电连接，以传输例如控制信号、操作信号、数据信号、功率信号等，并且一些其它连接可以用于传输光信号。光信号的关键特性可以通过诸如色散预补偿、具有色散补偿的线缆、Bragg色散补偿、或者可以适当地补偿距离效应的任何其它已知技术的技术来保存，而不管距离线缆307如何。
图3b是示意性地例示根据又一示例的用于无接触确定涂层特征的系统的框图。根据该图，用于无接触确定涂层特征的系统可以包括根据例如图3a的不同系统300、303a，所述系统通过连接307连接至公共硬件303b、309、311，所述公共硬件可以被包含在例如壳体308中。因此，单个控制单元309、单个确定器单元311以及单个测量单元部分303b可以根据一对多方法(一个公共硬件303b、309、311与多个系统300、303a相组合)来由不同的系统300、303a共享。该一对多配置的功能可以类似于相对于其它图描述的一对一设置，但是具有同时专用于若干系统300、303a的公共硬件303b、309、311。这样，可以在有涂层产品/物体301的不同点或区域同时分析涂层302，从而可以获得更加可靠、有效、完整的结果。
图4是示意性地例示根据示例的无接触确定涂层特征的方法的流程图。如该图总体上所示出的，当检测到启动条件时(举例来说，如用于启动该方法的请求或者从操作员界面调用该方法等)，可以开始无接触确定方法(例如，在框400处)。由于根据图4的无接触确定方法能够由根据先前附图的系统执行，因此，可以在以下图4的描述中重复使用来自图1、图2以及图3的标号。
无接触确定方法还可以包括(例如，在框401处)操作401涂层扫描器104、204(在测量单元103、203中)，以使涂层扫描器104、204的防护级发送器107、207发射扫描辐射108、208，并且使涂层扫描器104、204的防护级接收器109、209感测由扫描辐射108、208与涂层100、200的一个或更多个层102、202的相互作用而形成的相互作用辐射110、210。在框401处实现的该功能可以由例如涂层扫描器模块(诸如先前参照图1和图2描述的模块104、204)来执行。关于所述模块104、204解释的功能细节和考虑因此可以类似地归于方法框401。
无接触确定方法还可以包括(例如，在框402处)操作振动探测器105、205(在测量单元103、203中)，以使振动探测器105、205的防护级发射器111、211发射探测辐射112、212，并且使振动探测器105、205的防护级传感器113、213感测由探测辐射112、212在涂层100、200上的反射而形成的反射辐射114、214，以根据该反射辐射114、214来检测涂层100、200的振动。在框402处实现的该功能可以由例如振动探测器模块(诸如先前参照图1和图2描述的模块105、205)来执行。关于所述模块105、205解释的功能细节和考虑因此可以类似地归于方法框402。
如总体上参照图1和图2所解释的，光学布置结构106、206(在测量单元103、203中)可以将扫描辐射108、208和/或探测辐射112、212朝着公共辐射点/方向115、215引导，并且可以将相互作用辐射110、210朝着防护级接收器109、209引导和/或将反射辐射114、214朝着防护级传感器113、213引导。
无接触确定方法又可以包括(例如，在框403处)操作确定器单元311，以使根据由涂层扫描器104、204感测到的相互作用辐射110、210以及由振动探测器105、205检测到的振动来确定涂层100、200的一个或更多个特征。在框403处实现的该功能可以由例如先前参照其它附图描述的确定器单元或模块311来执行。关于所述确定器模块311解释的功能细节和考虑因此可以类似地归于方法框403。
无接触确定方法还可以包括：从知识库405中获得数据，该知识库405包含在先前执行中学习到的知识，以更加丰富在例如框403处执行的特征确定。类似地，可以将输出数据或者在当前执行时学习到的知识存储在知识库405中，以更加丰富所累积的知识从而用于该方法的未来执行。被存储或者能够存储在知识库中的知识例如可以包括优化参数、经优化的模型、可接受性阈值等。
当检测到结束条件时(举例来说，如一旦已经确定涂层100、200的一个或更多个特征)，无接触确定方法就可以终止(例如，在框404处)。
无接触确定方法还可以包括：基于物理模型生成模拟信号，以及执行优化过程以优化该物理模型的参数，从而修改模拟信号，直到模拟信号拟合由涂层扫描器104、204的防护级接收器109、209感测到的相互作用辐射110、210。在一些配置中，所述基于模拟信号以及优化过程的处理可以由确定器单元311来执行。因此，可以存在确定器单元311与涂层扫描器104、204和振动探测器105、205之间的适当连接，以供确定器单元311从涂层扫描器104、204和振动探测器105、205接收对应的数据和/或信号。
优化过程可以基于以下项中的至少一项：离散差分演化、地形全局优化、流域跳跃、SHG或双重退火等。另外或者另选地，优化过程可以是具有基于误差函数的停止准则的自适应和迭代优化过程。另外或者另选地，可以将优化过程定义为在时域和/或频域中执行。当模拟信号与所感测到的相互作用辐射110、210之间的偏差处于可接受性阈值内时，可以将模拟信号假定为拟合所感测到的相互作用辐射110、210。该可接受性阈值可以是已经根据先前的实验和/或根据在无接触确定方法的先前执行期间累积的知识所定义的。
涂层100、200的特征可以根据物理模型的优化参数来确定，考虑到所述优化参数已经使模拟信号拟合到所感测到的相互作用辐射110、210中，并因此，所述优化参数表征扫描辐射108、208与涂层100、200的一个或更多个层的相互作用。特别地，可以根据物理模型的优化参数并且还根据基于由振动探测器105、205检测到的振动的振动补偿来确定涂层100、200的特征。
无接触确定方法还可以包括：将来自该方法的执行的知识存储在知识库中。该知识可以包括知识项，举例来说，如经优化的物理模型、和/或物理模型的经优化的参数、和/或在优化过程期间参数的演化、和/或涂层100、200的经确定的特征、和/或经确定的特征与其它知识项中的一个或更多个其它知识项之间的相关性/关系等。
该优化过程可以包括从知识库中检索来自该方法的先前执行的经优化的物理模型，并且使用所述检索的经优化的物理模型作为用于在该方法的当前执行中生成模拟信号的物理模型。
可以操作涂层扫描器104、204，以通过向所感测到的相互作用辐射110、210应用一种或更多种用于降噪的滤波技术以使得感测相互作用辐射110、210，所述用于降噪的滤波技术举例来说，如递归最小二乘滤波器、和/或Wiener-Kolmogorov滤波器、和/或最小均方误差、和/或Kalman滤波器、和/或Bishrink滤波器、和/或所感测到的相互作用辐射110、210的理论无噪声表示、和/或结合自适应阈值处理的遗传算法、和/或匹配滤波器和阈值处理函数连同诸如傅立叶、小波以及经验模式分解EMD之类的变换技术等。
可以通过根据本公开的方法确定的涂层100、200的特征例如可以包括：层数；和/或每层厚度；和/或层混合水平；和/或每层折射率；和/或每层电参数；和/或每层磁参数；和/或每层电磁参数；和/或Fresnel系数；和/或传播常数；和/或传播角度；和/或粗糙度等。
因此，根据本公开的无接触确定涂层特征的方法在它们连续地生成知识并从中学习的意义上可以被认为是自适应和/或自学习方法。特别地，这种提出的方法可以自适应于生产，并且每次提取或确定新的涂层特征时，该方法可以学习例如已经使用的物理模型，并且可以(在例如知识库中)存储该知识，使得所述存储的知识可以被用于该方法的未来执行。根据本公开的方法关于物理模型的模型参数也是自适应的，这意味着物理参数(举例来说，如折射率和吸收指数)可以在被用于检查涂层的层的扫描辐射的频率带宽上是固定的、可变的或者预先预定的。
在根据本公开的方法和系统中可能需要也可能不需要在确定整个涂层的一个或更多个特征之前测量最内层。其上可以沉积涂层的最内层也是不同的，举例来说，如黑色金属和有色金属、纤维复合材料、聚合物材料(例如，热塑性材料)等。
如本文所使用的，术语“模块”可以被理解成指的是软件、固件、硬件和/或其各种组合。应注意，模块是示例性的。可以将模块进行组合、集成、分离和/或复制以支持各种应用。而且，作为由特定模块执行的本文所描述的功能可以由一个或更多个其它模块和/或由一个或更多个其它设备来执行，以代替由所描述的特定模块执行该功能或者除了由所描述的特征模块执行该功能以外。
这些模块可以跨多个设备来实现，这些设备与本文所提出的无接触确定涂层特征的对应方法相关联或链接，和/或与可以在本地或者彼此远离的其它组件相关联或链接。另外，这些模块可以从一个设备移动并添加到另一设备，和/或可以被包括在与本文所提出的无接触确定涂层特征的对应方法相关联的两个设备中。任何软件实现均可以被有形地具体实施在一个或更多个存储介质中，举例来说，如存储器设备、软盘、光盘(CD)、数字通用盘(DVD)、或者可以存储计算机代码的其它设备。
根据本公开的无接触确定涂层特征的方法可以通过计算方式(means)、电子方式或其组合来实现。计算方式可以是一组指令(例如，计算机程序)，然后无接触确定涂层特征的方法可以包括存储器和处理器，从而具体实施被存储在存储器中并且能够由处理器执行的所述一组指令。这些指令可以包括执行无接触确定涂层特征的对应方法的一个或多个功能，举例来说，如参照其它附图描述的那些。
在无接触确定涂层特征的方法仅由电子方式实现的情况下，该系统的控制器例如可以是CPLD(复杂可编程逻辑器件)、FPGA(现场可编程门阵列)或ASIC(专用集成电路)。
在无接触确定涂层特征的方法是电子方式和计算方式的组合的情况下，计算方式可以是一组指令(例如，计算机程序)，并且电子方式可以是能够实现本文所提出的无接触确定涂层特征的方法的对应步骤的任何电子电路，诸如参照其它图所描述的那些。
该计算机程序可以被具体实施在存储介质(例如，CD-ROM、DVD、USB驱动器、计算机存储器或只读存储器)上，或者被承载在载波信号(例如，电气或光载波信号)上。
该计算机程序可以采用源代码、目标代码、代码中间源以及诸如采用部分编译形式的目标代码的形式，或者采用适于供在实现根据本公开的无接触确定涂层特征的方法中使用的任何其它形式。该载体可以是能够承载计算机程序的任何实体或设备。
例如，该载体可以包括存储介质，例如ROM(例如，CD ROM或半导体ROM)或者磁记录介质(例如，硬盘)。而且，该载体可以是诸如电或光信号之类的可传输载体，其可以经由电缆或光缆或通过无线电或通过其它方式来输送。
当该计算机程序采用可以直接通过线缆或其它设备或方式输送的信号来具体实施时，该载体可以由这种线缆或其它设备或方式来构成。另选地，该载体可以是其中嵌入该计算机程序的集成电路，该集成电路适于执行本文所提出的无接触确定涂层特征的方法或者供在执行本文所提出的无接触确定涂层特征的方法中使用。
尽管本文仅公开了许多示例，但是其它另选例、修改例、用途/或其等同物也是可能的。而且，还覆盖了所述示例的所有可能组合。因此，本公开的范围不应受限于特定示例，而是应当仅通过正确解读所附的权利要求来确定。

Claims (25)

1.一种无接触确定具有一个或更多个层的涂层的一个或更多个特征的系统，所述系统包括多个单元，所述多个单元具有确定器单元和测量单元，所述测量单元包括涂层扫描器、振动探测器以及光学布置结构；其中，
所述涂层扫描器包括防护级发送器和防护级接收器，所述防护级发送器被配置成在使用中发射扫描辐射，所述防护级接收器被配置成在使用中感测由所述扫描辐射与所述涂层的所述一个或更多个层的相互作用而形成的相互作用辐射；其中，
所述振动探测器包括防护级发射器和防护级传感器，所述防护级发射器被配置成在使用中发射探测辐射，所述防护级传感器被配置成在使用中感测由所述探测辐射在所述涂层上的反射而形成的反射辐射，以根据所感测到的反射辐射来检测所述涂层的振动；其中，
所述光学布置结构被配置成在使用中将所述扫描辐射和/或所述探测辐射朝着公共辐射方向引导，并且在使用中将所述相互作用辐射朝着所述防护级接收器引导和/或将所述反射辐射朝着所述防护级传感器引导；并且其中，
所述确定器单元被配置成根据由所述涂层扫描器感测到的所述相互作用辐射以及由所述振动探测器检测到的所述振动来确定所述涂层的所述一个或更多个特征。
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光学布置结构包括：被配置成在使用中将所述扫描辐射和/或所述探测辐射朝着所述公共辐射方向反射的至少一个反射镜，以及被配置成在使用中将所述相互作用辐射朝着所述防护级接收器反射和/或将所述反射辐射朝着所述防护级传感器反射的至少一个反射镜。
3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述反射镜中的各个反射镜是能够移动的，以调整所述反射镜的斜度，从而优化所述扫描辐射和/或所述探测辐射的所述反射以及所述相互作用辐射和/或所述反射辐射的所述反射。
4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光学布置结构包括：被配置成在使用中将所述扫描辐射和/或所述探测辐射朝着所述公共辐射方向引导的至少一个透镜，以及被配置成在使用中将所述相互作用辐射朝着所述防护级接收器引导和/或将所述反射辐射朝着所述防护级传感器引导的至少一个透镜。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的系统，其中，所述多个单元包括定位器单元，所述定位器单元被配置成将所述测量单元朝着与所述涂层有关的目标位置移动。
6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述目标位置使得在使用中所述公共辐射方向基本上垂直于所述涂层。
7.根据权利要求5或6中任一项所述的系统，其中，所述目标位置使得在使用中所述涂层扫描器的所述防护级发送器和/或所述振动探测器的所述防护级发射器在距离所述涂层目标距离处。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的系统，其中，所述定位器单元包括位置检测器，所述位置检测器被配置成检测所述测量单元何时到达所述目标位置。
9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述位置检测器是基于一组三角测量传感器的，所述一组三角测量传感器利用或者不利用由所述振动探测器提供的辅助。
10.根据权利要求5至9中任一项所述的系统，其中，所述定位器单元包括致动器，所述致动器被配置成将所述测量单元朝着所述目标位置移动。
11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述致动器包括机器人臂。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的系统，其中，所述涂层扫描器是太赫兹或THz扫描器。
13.一种无接触确定具有一个或更多个层的涂层的一个或更多个特征的方法，所述方法包括：
操作测量单元中的涂层扫描器，以使所述涂层扫描器的防护级发送器发射扫描辐射，并且使所述涂层扫描器的防护级接收器感测由所述扫描辐射与所述涂层的所述一个或更多个层的相互作用而形成的相互作用辐射；
操作所述测量单元中的振动探测器，以使所述振动探测器的防护级发射器发射探测辐射，并且使所述振动探测器的防护级传感器感测由所述探测辐射在所述涂层上的反射而形成的反射辐射，以便根据所感测到的反射辐射来检测所述涂层的振动；
操作确定器单元，以使根据由所述涂层扫描器感测到的所述相互作用辐射以及由所述振动探测器检测到的所述振动来确定所述涂层的所述一个或更多个特征；其中，
所述测量单元中的光学布置结构将所述扫描辐射和/或所述探测辐射朝着公共辐射方向引导，并且将所述相互作用辐射朝着所述防护级接收器引导和/或将所述反射辐射朝着所述防护级传感器引导。
14.根据权利要求13所述的方法，所述方法还包括：
基于物理模型来生成模拟信号；
执行优化过程以优化所述物理模型的一个或更多个参数，从而修改所述模拟信号，直到所述模拟信号拟合由所述涂层扫描器的防护级接收器感测到的所述相互作用辐射。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述优化过程基于以下技术中的至少一种技术：离散差分演化、地形全局优化、流域跳跃、SHG或双重退火。
16.根据权利要求14或15中任一项所述的方法，其中，所述优化过程是具有停止准则的自适应和迭代优化过程，所述停止准则是基于具有可接受性阈值的误差函数的。
17.根据权利要求14至16中任一项所述的方法，其中，所述优化过程是在时域和/或频域中执行的。
18.根据权利要求14至17中任一项所述的方法，其中，确定所述涂层的所述一个或更多个特征包括：
根据所述物理模型的经优化的一个或更多个参数来确定所述涂层的所述一个或更多个特征，考虑到所述经优化的参数已经使所述模拟信号拟合到所感测到的相互作用辐射中，并因此所述经优化的参数表征所述扫描辐射与所述涂层的所述一个或更多个层的相互作用。
19.根据权利要求18所述的方法，其中，确定所述涂层的所述一个或更多个特征包括：根据所述物理模型的所述经优化的一个或更多个参数并且根据基于由所述振动探测器检测到的所述振动的振动补偿来确定所述涂层的所述一个或更多个特征。
20.根据权利要求14至19中任一项所述的方法，所述方法还包括：在知识库中存储根据执行所述方法得到的知识，所述知识包括以下知识项中的至少一个：经优化的物理模型、所述物理模型的经优化的一个或更多个参数、在优化过程期间所述一个或更多个参数的演化、所述涂层的经确定的一个或更多个特征、所述经确定的一个或更多个特征与其它知识项中的一个或更多个其它知识项的相关性/关系、所述可接受性阈值的演化。
21.根据权利要求20所述的方法，其中，所述优化过程包括从所述知识库检索经优化的物理模型，所述经优化的物理模型要被用作生成所述模拟信号的所述物理模型。
22.一种计算机程序，所述计算机程序包括程序指令，所述程序指令用于使计算系统执行根据权利要求13至21中任一项所述的无接触确定涂层的一个或更多个特征的方法。
23.根据权利要求22所述的计算机程序，所述计算机程序是在存储介质上实施的。
24.根据权利要求22所述的计算机程序，所述计算机程序被承载在载波信号上。
25.一种无接触确定涂层的一个或更多个特征的计算系统，所述计算系统包括存储器和处理器，从而实施被存储在所述存储器中并且能够由所述处理器执行的指令，所述指令包括用于执行根据权利要求13至21中任一项所述的无接触确定涂层的一个或更多个特征的方法的功能。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117288782A (zh) * 2023-11-23 2023-12-26 北京锐达仪表有限公司 基于振动及辐射原理的高精密复合型检测系统

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2617330A (en) * 2022-03-31 2023-10-11 Teraview Ltd Method, system and sensor for analysing a sample, and process for manufacturing an electrode
WO2023193933A1 (en) * 2022-04-08 2023-10-12 Das-Nano Tech, S.L. Contactless determining a physical feature of a target item

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5472675B2 (ja) * 2009-02-03 2014-04-16 アイシン精機株式会社 非接触膜厚測定装置
WO2019073074A1 (en) * 2017-10-13 2019-04-18 Abb Schweiz Ag METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING A PULSED THZ BEAM USING TIME FLIGHT CORRECTION

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117288782A (zh) * 2023-11-23 2023-12-26 北京锐达仪表有限公司 基于振动及辐射原理的高精密复合型检测系统
CN117288782B (zh) * 2023-11-23 2024-02-23 北京锐达仪表有限公司 基于振动及辐射原理的高精密复合型检测系统

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