CN116026848A - 一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统 - Google Patents

Abstract

本申请实施例涉及微流控芯片质检技术领域，提供了一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统,该系统包括用于照明形成对微流控芯片照明的光斑的照明模块、用于移动微流控芯片的载物模块、成像模块和连接其他模块的主控模块，成像模块包括用于聚焦由所述光斑照明微流控芯片形成的第一光信号的成像单元、根据所述检测模式形成的处理光信号，对微流控芯片进行光斑成像以得到光斑图像信号的摄像单元，和设置于摄像单元与成像单元之间，并且用于切换检测模式以滤除第一光信号中的预设波长光信号的滤光单元。通过使用成像模块中的滤光模块进行检测模式变换，以获得多种不同模式的光斑图像信号，提高了微流控芯片的质检光斑成像效率以此提高质检效率。

Description

一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统

技术领域

本申请涉及微流控芯片质检技术领域，尤其涉及一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统。

背景技术

目前，微流控技术发展迅速，对于微流控芯片的需求逐渐增加，微流控芯片的产能也逐渐提升，微流控芯片被快速的生产。在快速生产的过程中，由于微流控芯片在制作过程中经过多道工序下来难免会使芯片表面受到污染，污染由多种物质形成，这些物质通过光学仪器进行质检，在质检过程中需要切换不同波长光源以得到不同物质形成的光信号，降低了质检效率。

发明内容

本申请实施例的主要目的在于提出一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统，旨在提高微流控芯片的质检效率。

为实现上述目的，本申请实施例的第一方面提出了一种微流控芯片质检系统，所述系统包括：

照明模块，用于形成照明所述微流控芯片的光斑；

载物模块，用于移动所述微流控芯片；

成像模块，包括摄像单元、滤光单元和成像单元；所述成像单元用于聚焦所述光斑照明所述微流控芯片形成的第一光信号；所述滤光单元设置于所述摄像单元和成像单元之间，用于切换检测模式以滤除所述第一光信号中的预设波长光信号；所述摄像单元根据所述检测模式形成的处理光信号对所述微流控芯片进行光斑成像以得到光斑图像信号；

主控模块，分别连接所述载物模块、所述照明模块和所述成像模块。

在本申请一些可能的实施例，所述照明模块包括：

激光发生单元，用于产生激光束；

光束整形单元，用于整形所述激光束以形成所述光斑；

激光传输单元，分别与所述激光发生单元和所述光束整形单元连接，用于将所述激光发生单元产生的所述激光束传输至所述光束整形单元。

在本申请一些可能的实施例，所述成像模块还包括调整单元，用于根据所述主控模块发送的调整信号调整以下任一参数：

所述摄像单元的第一焦距参数、所述摄像单元的第一位置参数、所述成像单元的第二焦距参数、所述成像单元的第二位置参数、所述滤光单元的第三位置参数。

在本申请一些可能的实施例，所述载物模块包括：

芯片承载单元，用于承载所述微流控芯片；

位移控制单元，用于根据所述主控模块发送的扫描信号控制所述芯片承载单元移动。

在本申请一些可能的实施例，所述激光束发生单元包括：

预激光束发生单元，用于产生预激光束，并调整所述预激光束的波长以得到所述激光束。

在本申请一些可能的实施例，所述系统还包括：

图像处理模块，与所述主控模块连接，用于对所述光斑图像信号进行图像处理以得到目标图像信号。

在本申请一些可能的实施例，所述滤光单元包括：

滤光元件，用于滤除所述第一光信号中的预设波长光信号；

模式切换单元，用于将所述滤光元件在所述摄像单元和成像单元之间进行移入或移出，以实现所述检测模式切换。

在本申请一些可能的实施例，所述光斑包括线光斑，所述摄像单元包括线阵摄像单元，所述线阵摄像单元对被所述线光斑照明的所述微流控芯片进行线扫描以成像。

为实现上述目的，本申请实施例的第二方面提出了一种微流控芯片质检方法，所述方法应用如上述第一方面所述的微流控芯片质检系统，所述方法包括以下步骤：

将微流控芯片移动至照明初始位置，并通过照明模块生成用于照明所述微流控芯片的光斑；

通过载物模块从所述照明初始位置移动所述微流控芯片，使所述微流控芯片经过所述光斑以形成第一光信号；

通过成像单元获取所述第一光信号以形成第一预图像信号；

当所述第一预图像信号形成，通过滤光单元切换检测模式并且将所述微流控芯片通过所述载物模块移动至所述照明初始位置；

通过载物模块从所述照明初始位置移动所述微流控芯片经过所述光斑以形成第二光信号；

通过所述成像单元获取所述第二光信号以形成第二预图像信号；

根据所述第一预图像信号和所述第二预图像信号进行图像处理得到目标图像信号。

为实现上述目的，本申请实施例的第三方面提出了一种检测台，应用如上述第一方面所述的一种微流控芯片质检系统对微流控芯片进行质检。

本申请提出的一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统,该系统包括用于形成对微流控芯片照明的光斑的照明模块照明、用于移动微流控芯片的载物模块、成像模块和连接其他所有模块的主控模块，成像模块包括用于聚焦由所述光斑照明微流控芯片形成的第一光信号的照明成像单元、根据所述检测模式形成的处理光信号对微流控芯片进行光斑成像以得到光斑图像信号的摄像单元，和设置于摄像单元与成像单元之间，并且用于切换检测模式以滤除第一光信号中的预设波长光信号的滤光单元。通过由成像单元、滤光单元和摄像单元形成的成像模块，使用滤光模块进行检测模式变换，以单波长的激发光获得多种不同模式的光斑图像信号，提高了微流控芯片的质检光斑成像效率以此提高质检效率。

附图说明

图1是本申请实施例提供的一种微流控芯片质检系统的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的一种微流控芯片质检系统的运作示意图；

图3是本申请实施例中照明模块11的内部结构示意图；

图4是本申请实施例成像模块13的内部结构示意图；

图5是本申请实施例包括图像模块的结构示意图；

图6是本申请实施例提供的一种微流控芯片质检方法的步骤示意图。

附图标记说明：

微流控芯片质检系统10；照明模块11、激光发生单元111、预激光束发生单元1111、激光传输单元112、光束整形单元113；载物模块12、芯片承载单元121、位移控制单元122；成像模块13、摄像单元131、滤光单元132、滤光元件1321、模式切换单元1322、成像单元133、调整单元134；主控模块14；图像处理模块15。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

需要说明的是，虽然在装置示意图中进行了功能模块划分，在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于装置中的模块划分，或流程图中的顺序执行所示出或描述的步骤。说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述本申请实施例的目的，不是旨在限制本申请。

首先，对本申请中涉及的若干名词进行解析：

微流控芯片(Microfluidics)：是一块可以实现生物、化学、医学分析过程的样品制备、反应、分离、检测等基本操作的微米尺度芯片上，它的目标是把整个化验室的功能,包括采样、稀释、加试剂、反应、分离、检测等集成在微芯片上，其具有液体流动可控、消耗试样和试剂极少、分析速度成十倍上百倍地提高等特点,可以在几分钟甚至更短的时间内进行上百个样品的同时分析,并且可以在线实现样品的预处理及分析全过程。

目前，微流控技术发展迅速，对于微流控芯片的需求逐渐增加，微流控芯片的产能也逐渐提升，微流控芯片被快速的生产。在快速生产的过程中，由于微流控芯片在制作过程中需要经过清洗、镀膜、贴胶、修饰等环节，多道工序下来难免会使芯片表面受到污染，污染有多种物质形成，这些物质通过光学仪器进行质检，在质检过程中需要切换不同波长光源以得到不同物质形成的光信号，降低了质检效率。

基于此，本申请实施例提供了一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统，旨在提高微流控芯片的质检效率。

本申请实施例提供的微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统，具体通过如下实施例进行说明，首先描述本申请实施例中的微流控芯片质检系统。

请参见图1和图2，图1为本申请实施例提供的一种微流控芯片质检系统的结构示意图，图2为本申请实施例提供的一种微流控芯片质检系统的运作示意图。微流控芯片质检系统10可以包括但不仅限于以下模块。

微流控芯片质检系统10包括照明模块11、载物模块12、成像模块13、主控模块14，主控模块14分别与照明模块11、载物模块12和成像模块13连接，用于控制照明模块11、载物模块12和成像模块13，照明模块11根据主控模块14的指令形成照明微流控芯片的光斑，载物模块12移动微流控芯片，使微流控芯片的整个表面都能被光斑照明形成第一光信号，成像模块13则是扫描第一光信号，并根据检测模式对形成的第一光信号进行相应的光学处理，根据光学处理后的光信号进行光斑成像，得到微流控芯片在对应的检测模式下的光斑图像信号。

应该理解的是，这里的第一光信号指的是光斑照明至微流控芯片形成的光信号，第一光信号内杂糅各种光信号，各种光信号的具体类型取决于微流控芯片表面或者在表面的物质，举例而言，光斑照明至微流控芯片表面时，会产生散射光信号，表面物质由于光斑照明激发出荧光信号，这里的散射光信号和荧光信号杂糅形成第一光信号。

应该理解的是，这里的处理光信号的具体类型取决于检测模式，当检测模式是检测所有光信号的模式，则处理光信号即为第一光信号；当检测模式是检测特定类型光信号的模式，则处理光信号为第一光信号中特定类型的光信号。

应该理解的是，这里的主控模块14的类型是多样的，示例性的，如主控芯片、上位机终端等，对照明模块11、载物模块12和成像模块13中的一个或多个发出控制指令以实现特定的功能，本领域技术人员可以根据实际需要采用特定类型的设备、装置或者芯片等作为主控模块14，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的照明微流控芯片的光斑的形态是多样的，示例性的，如圆形光斑、椭圆形光斑、矩形光斑等，本领域技术人员可以根据实际需要选择合适形态的光斑，本申请对此不作限定；这里的光斑的波长是多样的，本领域技术人员可以根据微流控芯片所需要检测污渍成分确定光斑波长，本申请对此不作限定。

在本申请一些可能的实施例，照明模块11形成的光斑为线光斑。由于成像模块13是扫描光信号的形式进行成像，线光斑成像相较于其他形态的光斑成像，线光斑照明的范围限定，照明形成的第一光信号近似于一条直线，第一光信号根据检测模式形成对应的处理光信号，成像模块13扫描处理光信号，形成处理光信号数据，根据这些处理光信号数据生成对应的光斑图像信号——根据这些处理光信号数据进行图像拼接，相当于将每次扫描近似直线的处理光信号沿着短边进行线拼接，即可得到光斑图像信号，而有具体形状的面光斑照明面积较大，形成的第一光信号是一个面，根据扫描第一光信号得到的数据需要消除重复部分才能进行拼接，相当于将所有扫描的面去除重复的部分后才可以进行拼接，因此利用线光斑成像会使微流控质检过程中的成像部分更具效率。

在本申请一些可能的实施例，载物模块12包括芯片承载单元121和位移控制单元122。芯片承载单元121用于承载微流控芯片，位移控制单元122用于根据主控模块14发送的控制指令控制芯片承载单元121移动，以配合成像模块13完成对微流控芯片表面形成的第一光信号的整体扫描。

应该理解的是，这里的位移控制单元122是多样的，示例性的，如位移台、传送带等，本领域技术人员可以根据实际需要选择具体的设备作为位移控制单元122，本申请对此不作限定。

请见图2(图2未示出图1中所有结构)，在本申请一些可能的实施例，这里的检测模式包括暗场检测模式和荧光检测模式，可以实现对暗场信号进行扫描或者对荧光信号进行扫描，以实现暗场成像和荧光成像。这里的成像模块13与照明模块11呈一定的角度设置才能进行暗场成像，这里的角度是多样的，示例性的，如45°、60°等，本领域技术人员可以根据实际情况设置成像模块13与照明模块11之间的角度，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的载物模块12具体形式可以是多样的，示例性的，如具有载物台的光学云台、具有微流控芯片装夹具的移动平台等，本领域技术人员可以根据实际情况选择具体设备作为载物模块12，本申请对此不作限定。

请参见图3，图3为本申请实施例中照明模块11的内部结构示意图，在本申请一些可能的实施例，照明模块11包括但不仅限于以下单元。

照明模块11包括激光发生单元111、激光传输单元112和光束整形单元113。激光发生单元111用于产生激光束，光束整形单元113用于整形激光发生单元111产生的激光束，将激光束整形为具有具体形态的光斑，激光传输单元112用于将整形激光发生单元111产生的激光束传输到光束整形单元113。

应该理解的是，这里的激光发生单元111产生特定波长激光束，其具体形式是多样的，示例性的，如特定波长可见光激光发生器、可调波长可见光激光发生器等，再如基于激光发生器的激光发生系统等，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的设备作为激光发生单元111产生激光束，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的激光传输单元112是多样的，示例性的，如光纤，再如由光纤、分光器、透镜等组成的光束传输系统，本领域技术人员可以根据激光束的性质、场地布置等因素选择合适的设备作为激光传输单元112，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的光束整形单元113是多样的，示例性的，如激光镜片、激光整形器等，本领域技术人员可以根据实际需要选择合适的设备作为光束整形单元113整形激光束，本申请对此不作限定。

在本申请一些可能的实施例，激光发生单元111包括预激光束发生单元1111。预激光束发生单元1111用于产生预激光束，并调整预激光束的波长，以使预激光束变为激光发生单元111产生的激光束，举例而言，预激光束发生单元1111可以调整波长产生紫外光，亦或者调整波长产生可见光等。在微流控芯片表面不同的物质因各自的特性不同使得产生第一光信号内的各光信号产生一定差异，预激光束发生单元1111调整预激光束发生单元1111产生预激光束，以使照明模块11形同不同波长的光斑，使这些光信号之间的差异增大，以此提高不同物质成像的差异性。

应该理解的是，这里的预激光束指的是未经任何光学调节的激光束，这里的预激光束的波长是多样的，本领域技术人员可以根据实际情况设置发生的预激光束波长，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的预激光束发生单元1111具体形式是多样的，示例性的，如预激光束发生单元1111由多台单波长激光发生设备组成和各单波长激光发生设备间切换开关，再如预激光束发生单元1111由单台单波长激光发生设备和光栅等光学器件组成的调节设备组成等，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的设备、装置等分别作为预激光束发生单元1111本申请对此不作限定。

请参见图4，图4为本申请实施例成像模块13的内部结构示意图。成像模块13包括但不仅限于以下单元。

成像模块13包括摄像单元131、滤光单元132和成像单元133。成像单元133用于聚焦光斑照射微流控芯片形成的第一光信号，滤光单元132设置在摄像单元131和成像单元133之间，可以具有一定的滤光能力，用于切换检测模式滤除经过成像单元133聚焦后的第一光信号中预设波长的光信号。

应该理解的是，这里的滤光单元132的数量是多样的，本领域技术人员可以根据实际情况设置具体数量的滤光单元132以形成多种检测模式以滤除多个波长范围的光信号，本申请对此不作限定，示例性的，设置一个滤光单元132，可以实现滤光和不滤光两种检测模式。

在本申请一些可能的实施例，滤光单元132包括滤光元件1321和模式切换单元1322。滤光元件1321用于滤除第一光信号中的预设波长光信号，模式切换单元1322用于将滤光元件1321在摄像单元131和成像单元133之间进行移入或移出，实现检测模式切换。通过检测模式的变换，在使用一种波长的光斑进行成像时，可以通过滤光单元对第一光信号进行滤光，快速获取特定波长的光信号，将这个特定波长的光信号作为处理光信号，然后进行光斑成像，减少了更换其他波长的光斑的形成、调整等初始检测流程，提高了质检的效率，减少了由于调整光斑带来的系统误差。

应该理解的是，这里的滤光元件1321的种类是多样的，示例性的，如滤光片等，再如由多种滤光片以及其他部件形成的组合部件，本领域技术人员可以根据实际需要选择合适的装置或部件等作为滤光元件1321，本申请对此不作限定。

应该理解的是，这里的模式切换单元1322的种类是多样的，示例性的，如可移动的桥座、支架，再如支撑臂等，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的装置或部件作为模式切换单元1322，本申请对此不作限定。

摄像单元131用于根据在对应的检测模式中得到处理光信号进行光斑成像——当摄像单元131不使用滤光单元132进行光信号滤除，则将第一光信号作为处理光信号直接进行光斑成像；当摄像单元131不使用滤光单元132进行光信号滤除，则根据滤光单元132切换后的检测模式对第一光信号进行滤除，根据滤除后得到的处理光信号进行光斑成像，举例而言，假设第一光信号包括散射光信号和荧光信号，检测模式有荧光检测模式和暗场检测模式，滤光单元132能滤除散射光信号，在暗场模式下不进行滤光，当处于荧光检测模式下，滤光单元132将第一光信号中的散射光信号滤除，只留下荧光信号，将荧光信号作为处理光信号进行光斑成像。

应该理解的是，这里的摄像单元131的具体形式是多样的，示例性的，如CMOS相机、CCD相机、面阵相机、线阵相机等等，本领域技术人员可以根据实际需求选择合适的设备作为摄像单元131，本申请对此不作限定。

在本申请一些可能的实施例，摄像单元131包括线阵摄像单元，与照明模块11形成的线光斑配套，使用线阵摄像单元对被线光斑照明的微流控芯片进行线性扫描，基于线扫描的方式进行光斑成像，在不同检测模式下得到不同的光斑图像信号，示例性的，如检测模式包括暗场检测模式和荧光检测模式，那么可以基于线扫描的方式进行暗场成像或者荧光成像，得到对应的光斑图像信号。线阵摄像单元具备高数据读出速度这一特性，通过线阵摄像单元对线光斑照射微流控芯片产生的光信号进行线扫描，可以减少摄像曝光时间，提高成像效率。

在本申请一些可能的实施例，成像模块13还包括调整单元134，由于成像模块13与主控模块14连接，因此调整单元134可以根据主控模块14的发送的调整信号调整摄像单元131、滤光单元132和成像单元133，其中，调整单元134调整包括以下任一参数：摄像单元131的第一焦距参数、摄像单元131的第一位置参数、成像单元133的第二焦距参数、成像单元133的第二位置参数、滤光单元132的第三位置参数。通过调整成像模块内部单元的焦距、位置等，提高光斑成像的质量以及质检过程中系统调整的效率。

应该理解的是，这里的参数除了上述提到的参数外，还可以包括其他参数，本领域技术人员可以根据实际情况使调整单元134对其他具体参数进行调整，本申请对此不作限定。

请参见图5，图5为本申请实施例包括图像模块的结构示意图。在本申请一些可能的实施例，微流控芯片质检系统10还包括图像处理模块15。

图像处理模块15与主控模块14连接，成像模块13的光斑图像信号通过主控模块14传输至图像处理模块15，由图像处理模块15对光斑图像信号进行图像处理得到目标图像信号。

应该理解的是，这里的目标图像信号中的内容为某一种特定类型的第一光信号的图像，并未杂糅其他类型形成的第一光信号，举例而言，假设第一光信号包括散射光信号和荧光信号，检测模式有荧光检测模式和暗场检测模式，滤光单元132能滤除散射光信号，在暗场模式下不进行滤光；要分别得到只含荧光信号和不含荧光信号的两种类型的单独图像，首先在暗场模式下，将第一光信号作为处理光信号，根据处理光信号获得散射光信号与荧光信号杂糅的混合图像，然后控制滤光单元132将检测模式从暗场模式切换至荧光模式，此时将荧光信号作为处理光信号，根据处理光信号获得只含荧光信号的单独图像，然后通过图像处理模块15对散射光信号与荧光信号杂糅的混合图像和只含荧光信号的单独图像进行图像处理，得到不含荧光信号的单独图像。

图像处理模块15根据多种第一光信号得到的不同图像进行图像处理，获得只含一种第一光信号的图像信号，适配多种污染物质的单独质检需求，以检测每种污染物质是否满足生产要求，提高了质检效率。

请参见图6，图6为本申请实施例提供的一种微流控芯片质检方法的步骤示意图。本申请实施例还提供一种微流控芯片质检方法，应用上述的微流控芯片质检系统10以对微流控芯片进行质检，该方法包括但不仅限于以下步骤。

步骤S601，将微流控芯片移动至照明初始位置，并通过照明模块生成用于照明微流控芯片的光斑。

步骤S602，通过载物模块从照明初始位置移动微流控芯片经过光斑以形成第一光信号。

应该理解的是，这里的第一光信号指的是光斑照明至微流控芯片形成的光信号，第一光信号内杂糅各种光信号，各种具体类型的光信号取决于微流控芯片表面或者在表面的物质，举例而言，光斑照明至微流控芯片表面时，会产生散射光信号，表面物质由于光斑照明激发出荧光信号，这里的散射光信号和荧光信号杂糅形成第一光信号。

步骤S603，通过成像单元获取第一光信号以形成第一预图像信号。

应该理解的是，这里成像单元以不滤光的检测模式进行光斑成像，将第一光信号作为处理光信号进行光斑成像，得到第一预图像信号。

步骤S604，当第一预图像信号形成，通过滤光单元切换检测模式并且将微流控芯片通过载物模块移动至照明初始位置。

应该理解的是，这里的切换检测模式指的是将不滤光的检测模式切换为滤除预设波长光信号的检测模式。

步骤S605，通过载物模块从照明初始位置移动微流控芯片经过光斑以形成第二光信号。

应该理解的是，这里的第二光信号是指第一光信号中一种具体类型，示例性的，如散射光信号、荧光信号等，再如散射光信号在第一光信号中，所有波长范围的散射光信号中特定波长范围的散射光信号等，本领域技术人员可以通过具体设置滤光单元进行对第一光信号进行滤光以得到具体的第二光信号。

步骤S606，通过成像单元获取第二光信号以形成第二预图像信号。

应该理解的是，这里成像单元以滤光的检测模式进行光斑成像，将第二光信号作为处理光信号进行光斑成像，得到第二预图像信号。

步骤S607，根据第一预图像信号和第二预图像信号进行图像处理得到目标图像信号。

应该理解的是，这里的图像处理方式是多样性的，示例性的，如使用第一方面所提出的图像处理模块等，再如使用终端中的相关软件进行处理，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的图像处理方式得到目标图像信号，本申请对此不作限定。

该微流控芯片质检方法的具体实施方式与上述微流控芯片质检系统的具体实施例基本相同，在此不再赘述。

本申请实施例还提供一种检测台，应用上述的微流控芯片质检系统10以对微流控芯片进行质检，该检测台的具体实施方式与上述微流控芯片质检系统10的具体实施例基本相同，在此不再赘述。

本申请提出的一种微流控芯片质检系统及质检方法、检测系统,该系统包括用于形成照明微流控芯片的照明模块、用于移动微流控芯片的载物模块、成像模块和连接其他所有模块的主控模块，成像模块包括用于聚焦光斑照明微流控芯片形成的第一光信号的成像单元、根据所述检测模式形成的处理光信号对微流控芯片进行光斑成像以得到光斑图像信号的摄像单元和设置于摄像单元与成像单元之间且用于切换检测模式以滤除第一光信号中的预设波长光信号的滤光单元。通过由成像单元、滤光单元和摄像单元形成的成像模块，使用滤光模块进行检测模式变换，以单波长的激发光获得多种不同模式的光斑图像信号，提高了微流控芯片的质检光斑成像效率以此提高质检效率。

本申请实施例描述的实施例是为了更加清楚的说明本申请实施例的技术方案，并不构成对于本申请实施例提供的技术方案的限定，本领域技术人员可知，随着技术的演变和新应用场景的出现，本申请实施例提供的技术方案对于类似的技术问题，同样适用。

本领域技术人员可以理解的是，图中示出的技术方案并不构成对本申请实施例的限定，可以包括比图示更多或更少的步骤，或者组合某些步骤，或者不同的步骤。

以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，其中作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。

本领域普通技术人员可以理解，上文中所公开方法中的全部或某些步骤、系统、设备中的功能模块/单元可以被实施为软件、固件、硬件及其适当的组合。

本申请的说明书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

应当理解，在本申请中，“至少一个(项)”是指一个或者多个，“多个”是指两个或两个以上。“和/或”，用于描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，“A和/或B”可以表示：只存在A，只存在B以及同时存在A和B三种情况，其中A，B可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。“以下至少一项(个)”或其类似表达，是指这些项中的任意组合，包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如，a，b或c中的至少一项(个)，可以表示：a，b，c，“a和b”，“a和c”，“b和c”，或“a和b和c”，其中a，b，c可以是单个，也可以是多个。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，上述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

上述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。

以上参照附图说明了本申请实施例的优选实施例，并非因此局限本申请实施例的权利范围。本领域技术人员不脱离本申请实施例的范围和实质内所作的任何修改、等同替换和改进，均应在本申请实施例的权利范围之内。

Claims (10)

1.一种微流控芯片质检系统，其特征在于，所述系统包括：

照明模块，用于形成照明所述微流控芯片的光斑；

载物模块，用于移动所述微流控芯片；

成像模块，包括摄像单元、滤光单元和成像单元；所述成像单元用于聚焦所述光斑照明所述微流控芯片形成的第一光信号；所述滤光单元设置于所述摄像单元和成像单元之间，用于切换检测模式以滤除所述第一光信号中的预设波长光信号；所述摄像单元根据所述检测模式形成的处理光信号对所述微流控芯片进行光斑成像以得到光斑图像信号；

主控模块，分别连接所述载物模块、所述照明模块和所述成像模块。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述照明模块包括：

激光发生单元，用于产生激光束；

光束整形单元，用于整形所述激光束以形成所述光斑；

激光传输单元，分别与所述激光发生单元和所述光束整形单元连接，用于将所述激光发生单元产生的所述激光束传输至所述光束整形单元。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述成像模块还包括调整单元，用于根据所述主控模块发送的调整信号调整以下任一参数：

所述摄像单元的第一焦距参数、所述摄像单元的第一位置参数、所述成像单元的第二焦距参数、所述成像单元的第二位置参数、所述滤光单元的第三位置参数。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述载物模块包括：

芯片承载单元，用于承载所述微流控芯片；

位移控制单元，用于根据所述主控模块发送的扫描信号控制所述芯片承载单元移动。

5.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述激光发生单元包括：

预激光束发生单元，用于产生预激光束，并调整所述预激光束的波长以得到所述激光束。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：

图像处理模块，与所述主控模块连接，用于对所述光斑图像信号进行图像处理以得到目标图像信号。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述滤光单元包括：

滤光元件，用于滤除所述第一光信号中的预设波长光信号；

模式切换单元，用于将所述滤光元件在所述摄像单元和成像单元之间进行移入或移出，以实现所述检测模式切换。

8.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述光斑包括线光斑，所述摄像单元包括线阵摄像单元，所述线阵摄像单元对被所述线光斑照明的所述微流控芯片进行线扫描以成像。

9.一种微流控芯片质检方法，其特征在于，所述方法应用于权利要求1至8中任一项所述的微流控芯片质检系统，所述方法包括以下步骤：

将微流控芯片移动至照明初始位置，并通过照明模块生成用于照明所述微流控芯片的光斑；

通过载物模块从所述照明初始位置移动所述微流控芯片，使所述微流控芯片经过所述光斑以形成第一光信号；

通过成像单元获取所述第一光信号以形成第一预图像信号；

当所述第一预图像信号形成，通过滤光单元切换检测模式并且将所述微流控芯片通过所述载物模块移动至所述照明初始位置；

通过载物模块从所述照明初始位置移动所述微流控芯片经过所述光斑以形成第二光信号；

通过所述成像单元获取所述第二光信号以形成第二预图像信号；

根据所述第一预图像信号和所述第二预图像信号进行图像处理得到目标图像信号。

10.一种检测系统，其特征在于，应用如权利要求1至8中任一项所述的微流控芯片质检系统对微流控芯片进行质检。

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