CN115991950A - 遮光膜用组合物以及利用其的遮光膜 - Google Patents
遮光膜用组合物以及利用其的遮光膜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115991950A CN115991950A CN202211265843.5A CN202211265843A CN115991950A CN 115991950 A CN115991950 A CN 115991950A CN 202211265843 A CN202211265843 A CN 202211265843A CN 115991950 A CN115991950 A CN 115991950A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- shielding film
- composition
- particles
- graphene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 41
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 56
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002064 nanoplatelet Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002055 nanoplate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 claims description 3
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- RRURKIKMGJOPTH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hexanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCCCCC(O)=O RRURKIKMGJOPTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- -1 i.e. Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/04—Carbon
- C08K3/042—Graphene or derivatives, e.g. graphene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
遮光膜用组合物以及利用其的遮光膜。本发明的目的在于提供黑度和反射率较低的遮光膜用组合物以及由此制成的遮光膜。为了达到上述目的，在本发明中，可以提供一种遮光膜用组合物，其包括碳系颗粒、热固性粘合剂树脂、分散剂、聚合物珠和溶剂，上述碳系颗粒是rGO(还原氧化石墨烯，reduced graphene oxide)颗粒、GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒或其混合的颗粒，上述聚合物珠是选自由PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butyl methylacrylate))、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethyl silsesquioxane)组成的组中的一种以上。
Description
技术领域
本发明涉及可用作相机模块的垫片(spacer)或垫圈(washer)的遮光膜以及用于其的涂覆溶液组合物，更详细地，涉及通过包括石墨烯颗粒和聚合物珠而可降低黑度、光泽度和反射率的遮光膜及其组合物。
背景技术
最近，用于智能手机等中的相机模块中应用遮光膜作为相机用垫片或垫圈，以抑制内部的光引起的闪烁(flare)现象。这种遮光膜是将特殊的遮光用溶液涂布在PET膜上而制成的，作为这种相机镜头用遮光膜的必要要素，需要实现涂覆面的低光泽度、低反射率和用于遮光的黑色颜色，以及用于防止镜头和膜之间的静电的电特性。
对于目前上市的相机模块用遮光膜的结构，例如，如韩国注册专利第10-1145947中所说明，将包含诸如炭黑和二氧化硅等无机活性剂的组合物涂布在合成树脂膜上而构造成涂覆的结构，在黑度、光泽度、反射率、电特性等方面仍有待改善。
发明内容
要解决的课题
本发明的目的在于提供黑度和反射率较低的遮光膜用组合物以及由此制成的遮光膜。
课题的解决手段
为了达到上述目的，在本发明中，可以提供一种遮光膜用组合物，其包括碳系颗粒、热固性粘合剂树脂、分散剂、聚合物珠和溶剂，上述碳系颗粒是rGO(还原氧化石墨烯，reduced graphene oxide)颗粒、GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒或其混合的颗粒，上述聚合物珠是选自由PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butylmethylacrylate))、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethyl silsesquioxane)组成的组中的一种以上。
另外，在本发明中提供的遮光膜用组合物中，对于上述rGO(还原氧化石墨烯，reduced graphene oxide)或GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒，氧含量小于5重量％，作为板状的结构，长度/厚度比率可以为100以上。
另外，在本发明中提供的遮光膜用组合物中，上述rGO(还原氧化石墨烯，reducedgraphene oxide)或GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒的结晶度为0.4～1.0范围，并且上述结晶度可以是利用拉曼光谱的IG/ID比率(其中，IG是石墨烯成分的峰(peak)强度，ID是缺陷(defect)的峰强度)。
另外，在本发明中提供的遮光膜用组合物中，对于上述聚合物珠，折射率(refrctive index)为1.4～1.5，当用激光散射方式的粒度分析仪分析时D50可以为0.1～10μm范围。
另外，在本发明中提供的遮光膜用组合物中，在上述遮光膜用组合物中，上述碳系颗粒为0.5～3重量％，上述聚合物珠为0.1～20重量％，上述热固性粘合剂树脂为1～20重量％，分散剂为0.5～10重量％范围，其余可以由溶剂组成。
另外，在本发明中，可以提供一种遮光膜，作为将上述遮光膜用组合物涂布在膜上而制成的遮光膜，黑度(L*)为20以下，反射率为4.0以下。
发明的效果
通过能够由本发明获得的遮光膜用组合物，可以获得具有低黑度、光泽度和反射率的遮光膜，并且通过这种遮光膜，即使在相机模块中用低厚度的膜也不会出现闪烁(flare)现象。
具体实施方式
在说明本发明时，如果认为对相关公知功能或构成的具体说明有可能不必要地模糊本发明的要点，则将省略其详细说明。另外，当某个部分“包含”某个构成要素时，这意味着除非有特别相反的记载，否则可以进一步包含其他构成要素，而不是排除其他构成要素。
在本发明中，可以提供一种遮光膜用组合物，其包括碳系颗粒、热固性粘合剂树脂、分散剂、聚合物珠和溶剂，上述碳系颗粒是rGO(还原氧化石墨烯，reduced grapheneoxide)颗粒、GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒或其混合的颗粒，上述聚合物珠是选自由PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butyl methylacrylate))、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethylsilsesquioxane)组成的组中的一种以上。
如上所述，对于应用于相机镜头等的遮光膜，重要的是实现涂覆面的低光泽度、低反射率和用于遮光的黑色、用于防止静电的电特性。为此，在本发明中，为了黑度和电特性，包括碳系颗粒，同时包括聚合物珠作为用于低光泽度、反射率的添加剂。
特别是，碳系颗粒可以是rGO(还原氧化石墨烯，reduced graphene oxide)颗粒、GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒或其混合的颗粒，通过在膜组合物中使用这些rGO和/或GNP，可以在降低最终膜的黑度的同时赋予电特性。
对于碳系颗粒即rGO或GNP，氧含量小于5重量％，作为板状的结构，长度/厚度比率可以为100以上，如果氧含量为5重量％以上，则颗粒本身的电导率相应降低，并且如果作为板状，长度/厚度的比率小于100，则颗粒之间的接触面积减少，从而对最终膜的电特性产生不好的结果。
另外，碳系颗粒即rGO或GNP的结晶度(当用拉曼光谱测量时IG/ID比率)优选为0.4～1.0范围。
结晶度可以通过拉曼光谱表示，IG是石墨烯成分的峰强度，ID表示缺陷(defect)的峰强度。通过这种比率可以表示石墨烯颗粒的结晶度，在本发明中，优选使用这种结晶度为0.4～1.0范围的rGO或GNP。
用化学或物理工艺剥离石墨而制备的石墨烯材料即rGO或GNP可在石墨烯的C-C结合结构上出现缺陷的同时结晶度降低。当这种结晶度为0.4以下时，由于缺陷相应较多，因此可能难以实现石墨烯材料的电、光学特性。另外，当结晶度太高而为1.0以上时，石墨烯材料具有石墨的物性，由于石墨烯表面缺乏官能团，在组合物内难以分散，这可导致在最终膜中难以实现电、光学特性。
在根据本发明的遮光膜用组合物中，可以使用聚合物珠作为添加剂，聚合物珠可以是选自由PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butyl methylacrylate))、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethylsilsesquioxane)组成的组中的一种以上。发明人发现了，作为用于遮光的添加剂的这些聚合物珠与碳系颗粒即rGO或GNP一起使用时，最终膜中的遮光效果可增强，并且将这些添加剂与rGO或GNP一起包含在组合物中。
特别是，丙烯酸系树脂即PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯)，Ploy(methylmethacrylate))是球状的，同时非常多种粒度的产品已经商业化，易于获得，并且在许多领域已经得到验证，因此可以通过多种规格的产品制备膜组合物。PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butyl methylacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethylsilsesquioxane)也同样可以具有多种粒度的产品和稳定的耐化学性和所需范围的折射率，因此有利于膜组合物的应用。
对于上述聚合物珠，折射率(refrctive index)为1.4～1.5，当用激光散射方式的粒度分析仪分析时D50可以为0.1～10μm范围。
当折射率为1.5以上时，由于防止反射的性能不充分，因此光学特性可能降低，并且1.4以下的聚合物珠可能难以与组合物混和。
另外，对于聚合物珠，当用激光散射方式的粒度分析仪分析时，粒度以D50为基准为0.1～10μm，其中D50意味着颗粒的累计百分比达到50％时的相应粒度。如果以D50为基准聚合物颗粒的粒度小于0.1μm，则聚合物颗粒之间的聚集严重，难以处理，并且由于增加的比表面积在组合物内难以分散。另外，如果超过10μm，则最终膜的粗糙度会增加，从而可能无法获得所需的遮光效果。
另外，在本发明中，在遮光膜用组合物中，上述碳系颗粒可以为0.5～3重量％，上述聚合物珠为0.1～20重量％，上述热固性粘合剂树脂为1～20重量％，分散剂为0.5～10重量％范围。
碳系颗粒即rGO、GNP或其组合优选在组合物内包含0.5～3重量％，如果小于该范围，则无法将膜的电特性、黑度调整到所需的水平，如果大于该范围，则用于遮光的添加剂的量减少，从而无法调整到所需的光泽度。
作为添加剂的聚合物珠可以包含0.1～20重量％，如果添加小于该范围，则无法获得遮光效果，如果大于该范围，则其他固态物质即碳系颗粒的投入量可能会减少，因此在电导率、黑度方面，特性可能会不好。
热固性粘合剂树脂可以使用聚丙烯酸酯、聚氨酯、聚酯、聚烷氧基化物(polyalkoxylate)、聚醚、聚氯乙烯等，如果粘合剂树脂的添加小于1重量％，则无法赋予固态颗粒之间充分的结合力，如果过多而超过20重量％，则石墨系颗粒或作为添加剂的聚合物颗粒的量会相应减少，从而无法获得所需的物性。
分散剂可以使用包括酸值或胺值的聚氨酯系、脂肪酸系、CPT系、磷酸酯系树脂等，如果添加小于0.5重量％，则无法实现固态物质的顺利分散，如果超过10重量％，则分散效果反而会下降。
组合物的其余由溶剂组成，溶剂可以使用酮系(MEK、MIBK)、乙酸酯系(乙酸正丁酯(n-buthyl acetate)、乙基溶纤剂乙酸酯(ethyl cellosolve acetate)、丁基溶纤剂乙酸酯(butyl cellosolve acetate))、甲苯等。
将这种遮光膜用组合物涂布在聚合物膜上而制备遮光膜，由此制成的遮光膜的黑度(L*)为20以下，反射率可以为4.0以下。
这种遮光膜即使在较低的涂覆厚度下也可具有无闪烁现象的优异特性。
以下，为了充分理解本发明，说明本发明的优选实施例。
本发明的实施例是为了向该技术领域的普通技术人员更完整地说明本发明而提供的，并且以下实施例可以变形为各种不同的形式，本发明的范围不限于以下实施例。相反，这些实施例是为了使本公开更充分和完整并向本领域技术人员完整地传达本发明的思想而提供的。
[制备例]
将30重量％的聚丙烯酸粘合剂40％(爱敬化学)、49～62重量％的MEK和MIBK以8:2混合的溶剂、3～7重量％的比例为1:1的分散剂1(丙烯酸系)和分散剂2(聚氨酯(urethane)系)放入容器中，然后在混合器中混合30分钟，从而制备用于涂覆溶液的溶剂(vehicle)。
将多种尺寸的PMSQ或PMMA珠按不同含量放入制备好的溶剂(载剂，vehicle)中，在混合器中混合10分钟，然后按含量添加rGO粉末(Angstron公司)，在混合器中进一步混合30分钟，从而制备混合溶液。
将搅拌好的混合溶液与氧化锆(zirconia)珠混合，然后利用涂料搅拌器(paintshaker)分散处理60分钟，从而制备石墨烯分散涂覆液。
将制备好的涂覆溶液涂覆在黑色PET膜上，然后在100℃下烘箱干燥3分钟，然后用分光色差计(柯尼卡美能达公司CM-5)、微光泽计(BYK公司AG 4563)、表面电阻(Sinco公司ST4(思美高公司ST-4))测定仪分析了涂覆膜的物性。
[表1]
实施例1～10中的添加剂按不同尺寸、不同材料添加折射率(refractive index)为1.4～1.5范围的聚合物珠，碳系颗粒使用rGO(Angstron公司)。在比较例2和4中，使用无机二氧化硅颗粒作为添加剂，在比较例1和2中，使用炭黑作为碳系颗粒。
将具有与上表一样的组成的涂覆组合物涂覆在黑色PET膜上，然后在100℃下烘箱干燥3分钟以制备膜，并且对制备好的膜用分光色差计(柯尼卡美能达公司CM-5)、微光泽计(BYK公司AG 4563)、表面电阻(Sinco公司ST4)测定仪分析了涂覆膜的物性。结果示于下表2中。
[表2]
在实施例1～3中，在聚合物珠的不同种类相同尺寸和添加量中，黑度、反射率、光泽度表现相似，特别是，在PMMA中黑度表现最优异。在将PMMA尺寸改为1、5、10μm而进行评价的结果中，在5μm的情况下，黑度和反射率最优异。随着PMMA的添加量减少，黑度、反射率呈上升趋势，如果添加量增加，则黑度和反射率得到改善，但涂覆面的照度增加，电特性呈下降趋势。在添加rGO作为碳系颗粒的实施例中，随着添加量减少，黑度和表面电阻等增加，但如果添加量过多，则涂覆溶液的粘度升高，出现涂覆面不均匀的问题。
Claims (6)
1.一种遮光膜用组合物，其包括碳系颗粒、热固性粘合剂树脂、分散剂、聚合物珠和溶剂，
上述碳系颗粒是rGO(还原氧化石墨烯，reduced graphene oxide)颗粒、GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒或其混合的颗粒，
上述聚合物珠是选自由PBMA(聚(甲基丙烯酸丁酯)，Poly(butyl methylacrylate))、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate)和PMSQ(聚甲基倍半硅氧烷，Polymethyl silsesquioxane)组成的组中的一种以上。
2.如权利要求1所述的遮光膜用组合物，其中，对于上述rGO(还原氧化石墨烯，reducedgraphene oxide)或GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒，氧含量小于5重量％，作为板状的结构，长度/厚度比率为100以上。
3.如权利要求1所述的遮光膜用组合物，其中，上述rGO(还原氧化石墨烯，reducedgraphene oxide)或GNP(石墨烯纳米板，graphene nano platelet)颗粒的结晶度为0.4～1.0范围，并且上述结晶度是利用拉曼光谱的IG/ID比率，其中，IG是石墨烯成分的峰强度，ID是缺陷(defect)的峰强度。
4.如权利要求1所述的遮光膜用组合物，其中，对于上述聚合物珠，折射率(refrctiveindex)为1.4～1.5，当用激光散射方式的粒度分析仪分析时D50为0.1～10μm范围。
5.如权利要求1所述的遮光膜用组合物，其中，在上述遮光膜用组合物中，上述碳系颗粒为0.5～3重量％，上述聚合物珠为0.1～20重量％，上述热固性粘合剂树脂为1～20重量％，分散剂为0.5～10重量％范围，其余由溶剂组成。
6.一种遮光膜，作为将权利要求1至4中的任一项所述的遮光膜用组合物涂布在膜上而制成的遮光膜，黑度(L*)为20以下，反射率为4.0以下。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2021-0138535 | 2021-10-18 | ||
| KR1020210138535A KR102567450B1 (ko) | 2021-10-18 | 2021-10-18 | 차광필름용 조성물 및 이를 이용한 차광필름 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115991950A true CN115991950A (zh) | 2023-04-21 |
| CN115991950B CN115991950B (zh) | 2024-05-14 |
Family
ID=85993172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211265843.5A Active CN115991950B (zh) | 2021-10-18 | 2022-10-17 | 遮光膜用组合物以及利用其的遮光膜 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102567450B1 (zh) |
| CN (1) | CN115991950B (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103443666A (zh) * | 2011-03-28 | 2013-12-11 | 木本股份有限公司 | 光学设备用遮光材料及其制造方法 |
| CN104768872A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-07-08 | Ppg工业俄亥俄公司 | 含石墨烯碳颗粒的导电涂料 |
| KR102215411B1 (ko) * | 2019-11-13 | 2021-02-16 | 조광페인트주식회사 | 차광성 잉크 조성물 및 그를 이용한 차광성 필름 |
| WO2021132585A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | ソマール株式会社 | 黒色遮光部材 |
| WO2021176966A1 (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 株式会社きもと | 低反射材 |
| CN113498483A (zh) * | 2019-03-28 | 2021-10-12 | 株式会社木本 | 低反射膜、使用了该低反射膜的光学传感套件及低反射成形体 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140042561A (ko) * | 2012-09-28 | 2014-04-07 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 고굴절 폴리머 복합 분체 및 그의 제조방법 |
| KR102520585B1 (ko) * | 2018-12-04 | 2023-04-10 | 주식회사 엘지화학 | 광학 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
| KR102085243B1 (ko) * | 2019-11-22 | 2020-03-04 | 태양쓰리시 주식회사 | 우수한 차광 특성을 갖는 차광 필름 및 그 제조 방법 |
| KR20210121726A (ko) * | 2020-03-31 | 2021-10-08 | 티에스엠카본 주식회사 | 고분산 나노 카본 코팅 조성물 |
-
2021
- 2021-10-18 KR KR1020210138535A patent/KR102567450B1/ko active IP Right Grant
-
2022
- 2022-10-17 CN CN202211265843.5A patent/CN115991950B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103443666A (zh) * | 2011-03-28 | 2013-12-11 | 木本股份有限公司 | 光学设备用遮光材料及其制造方法 |
| CN104768872A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-07-08 | Ppg工业俄亥俄公司 | 含石墨烯碳颗粒的导电涂料 |
| CN113498483A (zh) * | 2019-03-28 | 2021-10-12 | 株式会社木本 | 低反射膜、使用了该低反射膜的光学传感套件及低反射成形体 |
| KR102215411B1 (ko) * | 2019-11-13 | 2021-02-16 | 조광페인트주식회사 | 차광성 잉크 조성물 및 그를 이용한 차광성 필름 |
| WO2021132585A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | ソマール株式会社 | 黒色遮光部材 |
| WO2021176966A1 (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 株式会社きもと | 低反射材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20230055156A (ko) | 2023-04-25 |
| CN115991950B (zh) | 2024-05-14 |
| KR102567450B1 (ko) | 2023-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107429099B (zh) | 近红外线吸收微粒分散液和其制造方法 | |
| CN106164140B (zh) | 聚四氟乙烯的油性溶剂系分散体 | |
| CN107406707B (zh) | 近红外线吸收微粒分散液和其制造方法 | |
| JP2010209325A (ja) | 白色微粒子並びに該微粒子の製造方法 | |
| WO2021213190A1 (zh) | 一种移印工艺用导电油墨其制备方法 | |
| CN1865367B (zh) | 一种水性浅色纳米导静电内墙涂料 | |
| JP5813949B2 (ja) | 分散体組成物 | |
| CN115991950B (zh) | 遮光膜用组合物以及利用其的遮光膜 | |
| JP4525583B2 (ja) | 酸化亜鉛分散ペーストの製造方法 | |
| CN1394927A (zh) | 高耐刮性纳米复合聚氨酯涂料的制备方法 | |
| CN104403543B (zh) | 水性高固含抗静电涂料及其制备方法 | |
| KR20210036651A (ko) | 초고굴절 무기 산화물의 분산 조성물 | |
| KR101661838B1 (ko) | 무기 화합물 미립자 분산 조성물 및 무기 화합물 미립자 분산 경화물 | |
| JP5240885B2 (ja) | 導電粉末の高分散性水分散液と水系透明導電性塗料、および塗膜と塗料の製造方法 | |
| CN115572504A (zh) | 基于液态金属的光学漆、其制备方法与用途 | |
| EP4005979A1 (en) | Infrared radiation-absorbing fine particle-containing composition, and method for producing same | |
| JP2004284117A (ja) | 防眩フィルム | |
| JP2007137917A (ja) | 常温硬化性ないし熱硬化性の水系透明導電性塗料とその製造方法および塗膜 | |
| KR102397564B1 (ko) | 티타니아 분산액 조성물 및 이의 제조방법 | |
| WO2021149781A1 (ja) | アニリンブラック粒子粉末並びに該アニリンブラック粒子粉末を用いた樹脂組成物及び水系分散体 | |
| CN112735629B (zh) | 一种低银含量的低温聚合物导电银浆及其制备方法 | |
| CN114656818A (zh) | 金属氧化物分散液 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |