CN115924607A - 涂布基材平面吸附展平方法及装置 - Google Patents

Abstract

一种涂布基材平面吸附展平方法及装置，其中装置包括平台本体，所述平台本体具有一个基准平面，在所述基准平面设有至少一个与负压腔相通的吸附区域，所述吸附区域被设置成由小到大排布的若干个吸附槽或吸附孔，所述吸附槽或吸附孔构成至少一个梯形或三角形吸附区域。本发明具有在无包角或包角角度不够时，也能很好地展开电极基材或电池隔膜的优点。

Description

涂布基材平面吸附展平方法及装置

技术领域

本发明涉及锂电池生产过程中所用的展平装置，尤其是适合于在电极基材或电池隔膜涂布过程中使用的涂布基材平面吸附展平方法及装置。

背景技术

电极材料或电池隔膜的生产，一般包括放卷、涂布、烘烤和收卷等几个步骤。在这个过程中，电极基材（铜箔或铝箔）或电池隔膜（塑料薄膜）在拉伸应力的作用下，两个部件或两个辊之间就会出现一些纵向皱纹。两个部件或两个辊之间的空间距离愈大，皱纹也愈严重。如果不及时消除这些皱纹，就会导致产品出现电极材料的涂布不均匀的问题。

现有技术中，对于需要展平的纵向皱纹的相对应位置，都是通过安装展平辊来实现的，例如安装弓形展平辊或左右螺纹展平辊等，具体使用哪种展平辊根据实际需要来选择。但无论是使用哪种展平辊，在使用时都需要将被展平的材料，如电极基材或电池隔膜，在展平辊上包覆一定长度，即要有一定的包角，其包角一般在15度-30度之间选择，这种方式属于曲面展平方式。但在实际使用中，由于各种因素的影响，如空间限制，无法用支撑辊形成包角等，这种情况下，就无法使用展平辊来展平电极基材或电池隔膜。如何在无包角或包角角度不够时，也能很好地展开电极基材或电池隔膜是本行业的技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种在无包角或包角角度不够时，也能很好地展开电极基材或电池隔膜的涂布基材平面吸附展平方法及装置。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

提供一种涂布基材平面吸附展平方法，利用具有基准平面，以及在所述基准平面上设有与涂布基材的行进方向基本垂直的若干吸附槽或吸附孔所构成的由小到大吸附区域的附展平装置，以涂布基材的行进方向为准，从涂布基材的一处开始，向后逐渐向涂布基材的两侧扩展吸附，将涂布基材贴紧附展平装置的基准平面，达到使经过所述附展平装置的涂布基材被展平的目的。

本发明还提供一种涂布基材平面吸附展平装置，包括平台本体，所述平台本体具有一个基准平面，在所述基准平面设有至少一个与负压腔相通的吸附区域，所述吸附区域被设置成由小到大排布的若干个吸附槽或吸附孔，所述吸附槽或吸附孔构成至少一个梯形或三角形吸附区域。

作为对本发明的改进，所述若干个吸附槽或吸附孔是沿基准平面的纵向中轴线对称设置的逐渐向所述基准平面的横向两边扩展的。

作为对本发明的改进，在所述三角形吸附区域之后还设有矩形吸附区域。

作为对本发明的改进，至少一个与负压腔相通的吸附区域为1至5个。

作为对本发明的改进，所述三角形吸附区域中的吸附槽或吸附孔可用丝网结构代替。

作为对本发明的改进，所述矩形吸附区域中的吸附槽或吸附孔可用丝网结构代替。

作为对本发明的改进，所述基准平面为镜面平面。

作为对本发明的改进，所述基准平面上设有耐摩擦层。

作为对本发明的改进，所述耐摩擦层是PTFE涂层、TAC涂层、DLC涂层或TiN涂层。

作为对本发明的改进，在所述基准平面的一侧设有若干个滚轮，所述滚轮的外圈平面与所述基准平面在同一平面内。

作为对本发明的改进，所述平台本体为矩形。

本发明由于采用了在所述基准平面设有至少一个与负压腔相通的吸附区域，所述吸附区域被设置成由小到大排布的若干个吸附槽或吸附孔，所述吸附槽或吸附孔构成至少一个梯形或三角形吸附区域的结构，这样，当被展平基材通过平台本体的基准平面时，会从梯形或三角形吸附区域的中间点开始吸附，使基材逐渐从中间向两边缘逐渐吸附，就可以达到展平基材的目的，具有在无包角或包角角度不够时，也能很好地展开电极基材或电池隔膜的优点。

附图说明

图1是本发明第一种实施例的平面结构示意图。

图2是图1中A-A剖视结构示意图。

图3是本发明第二种实施例的平面结构示意图。

图4是图2中B-B剖视结构示意图。

图5是本发明第三种实施例的平面结构示意图。

图6是本发明第四种实施例的平面结构示意图。

图7是本发明第五种实施例的平面结构示意图。

图8是本发明的一种使用状态示意图。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

本发明提供一种涂布基材平面吸附展平方法，利用具有基准平面，以及在所述基准平面上设有与涂布基材的行进方向基本垂直的若干吸附槽或吸附孔所构成的由小到大吸附区域的附展平装置，以涂布基材的行进方向为准，从涂布基材的一处开始，向后逐渐向涂布基材的两侧扩展吸附，将涂布基材贴紧附展平装置的基准平面，达到使经过所述附展平装置的涂布基材被展平的目的。

请参见图1和图2，图1和图2揭示的是一种涂布基材平面吸附展平装置600的第一种实施例，包括平台本体1，所述平台本体1可以用金属材料制作，尤其是用耐磨的金属材料制作，如模具钢等，所述平台本体1具有一个基准平面11，所述基准平面11可以为镜面平面，以减小摩擦力，或者，所述基准平面11上设有耐摩擦层，所述耐摩擦层是PTFE涂层、TAC涂层、DLC涂层或TiN涂层，用来提高基准平面11的耐磨性能；在所述基准平面11设有至少一个与负压腔112相通的吸附区域，所述吸附区域的数量可以根据基材各项性能，以及基材的褶皱情况而定；所述吸附区域被设置成沿基准平面11的纵向中轴线111对称设置的逐渐向所述基准平面11的横向两边扩展的由小到大的若干个吸附孔113，所述吸附孔113构成至少一个三角形吸附区域12。当然，所述吸附区域也可以设计成非对称的，或者是对称时，也不一定与纵向中轴线111对称的结构，它可以设计成与纵向中轴线111平行的母线对称的结构等等。本实施例中，所述至少一个与负压腔相通的吸附区域为1至5个。

当然，根据需要，所述三角形吸附区域12中的吸附孔113可以用丝网结构代替，这样制作起来更加方便，可节省成本。

图中的箭头方向表示基材100的行进方向（下同）。

请参见图3和图4，图3和图4揭示的是一种涂布基材平面吸附展平装置的第二种实施例，包括平台本体1，所述平台本体1可以用金属材料制作，尤其是用耐磨的金属材料制作，如模具钢等，所述平台本体1具有一个基准平面11，所述基准平面11可以为镜面平面，以减小摩擦力，或者，所述基准平面11上设有耐摩擦层，所述耐摩擦层是PTFE涂层、TAC涂层、DLC涂层或TiN涂层，用来提高基准平面11的耐磨性能；在所述基准平面11设有至少一个与负压腔112相通的吸附区域，所述吸附区域的数量可以根据基材各项性能，以及基材的褶皱情况而定；所述吸附区域被设置成沿基准平面11的纵向中轴线111对称设置的逐渐向所述基准平面11的横向两边扩展的由小到大的若干个吸附孔113，所述吸附孔113构成至少一个三角形吸附区域12。本实施例中，至少一个与负压腔相通的吸附区域为1至5个。

当然，根据需要，所述三角形吸附区域12中的吸附孔可用丝网结构代替，这样制作起来更加方便，可节省成本。

为了使所述基准平面11与基材之间实现滚动摩擦，本实施例中，在所述基准平面11的一侧设有若干个滚轮14，所述滚轮14的外圈平面与所述基准平面11在同一平面内，或者所述滚轮14的外圈平面略凸出于所述基准平面11。

请参见图5，图5揭示的是一种涂布基材平面吸附展平装置的第三种实施例，包括平台本体1，所述平台本体1可以用金属材料制作，尤其是用耐磨的金属材料制作，如模具钢等，所述平台本体1具有一个基准平面11，所述基准平面11可以为镜面平面，以减小摩擦力，或者，所述基准平面11上设有耐摩擦层，所述耐摩擦层是PTFE涂层、TAC涂层、DLC涂层或TiN涂层，用来提高基准平面11的耐磨性能；在所述基准平面11设有至少一个与负压腔相通的吸附区域，所述吸附区域的数量可以根据基材各项性能，以及基材的褶皱情况而定；所述吸附区域被设置成沿基准平面11的纵向中轴线111对称设置的逐渐向所述基准平面11的横向两边扩展的由小到大的若干个吸附槽114，所述吸附槽114构成至少一个三角形吸附区域12。本实施例中，至少一个与负压腔相通的吸附区域为1至5个。本实施例中，在所述三角形吸附区域12之后还设有矩形吸附区域13，以利进一步稳固已展平的涂布基材。

当然，根据需要，所述三角形吸附区域12和所述矩形吸附区域13中的吸附槽114可用丝网结构代替，这样制作起来更加方便，可节省成本。

为了使所述基准平面11与基材之间实现滚动摩擦，本实施例中，在所述基准平面11的一侧设有若干个滚轮14，所述滚轮14的外圈平面与所述基准平面11在同一平面内，或者所述滚轮14的外圈平面略凸出于所述基准平面11。

请参见图6，图6揭示的是一种涂布基材平面吸附展平装置的第四种实施例，图6所示实施例与图5所示实施例相比，其大体结构相同，所不同的是图5中的吸附槽114为多个间隔预定距离的小跑道形槽构成，而图6中的吸附槽为多个间隔预定距离的大跑道形槽构成。当然，所述吸附槽的截面形状也可以矩形、棱形或三角形等其它规则几何形状。

请参见图7，图7揭示的是一种涂布基材平面吸附展平装置的第五种实施例，图7所示实施例与图1所示实施例相比，其大体结构相同，所不同的是图7中的吸附区域为从小到大的梯形结构。

上述各实施例中，所述平台本体1可以为矩形。

请参见图8，图8是本发明的一种使用状态示意图。从图可以看出，本发明可以在单向双面涂布系统中使用，当基材100经过第一涂布辊200时，第一涂布头300对所述基材100的第一面涂布第一电极材料，这时，如果用于涂布基材的第二面的第二涂布头400的安装位置受安装空间的限制，不能在第一涂布辊200与第二涂布头400安装传统的展平辊（即包角不够或根本就无包角，也无法用其它过辊形成包角，因为，第一面已被涂上了电极材料，此时，电极材料还是湿料），这时只能采用过辊500，这种情况下，就可以在过辊500与第二涂布头400之间采用本发明所述的涂布基材平面吸附展平装置600。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种涂布基材平面吸附展平方法，其特征在于，利用具有基准平面，以及在所述基准平面上设有与涂布基材的行进方向基本垂直的若干吸附槽或吸附孔所构成的由小到大吸附区域的附展平装置，以涂布基材的行进方向为准，从涂布基材的一处开始，向后逐渐向涂布基材的两侧扩展吸附，将涂布基材贴紧附展平装置的基准平面，达到使经过所述附展平装置的涂布基材被展平的目的。

2.一种涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，包括平台本体（1），所述平台本体（1）具有一个基准平面（11），在所述基准平面（11）设有至少一个与负压腔相通的吸附区域，所述吸附区域被设置成由小到大排布的若干个吸附槽或吸附孔，所述吸附槽或吸附孔构成至少一个梯形或三角形吸附区域（12）。

3.根据权利要求1所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，所述若干个吸附槽或吸附孔是沿基准平面（11）的纵向中轴线（111）对称设置的逐渐向所述基准平面（11）的横向两边扩展的。

4.根据权利要求2或3所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，在所述三角形吸附区域（12）之后还设有矩形吸附区域（13）。

5.根据权利要求2或3所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，至少一个与负压腔相通的吸附区域为1至5个。

6.根据权利要求2所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，所述三角形吸附区域（12）中的吸附槽或吸附孔可用丝网结构代替。

7.根据权利要求4所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，所述矩形吸附区域（13）中的吸附槽或吸附孔可用丝网结构代替。

8.根据权利要求2或3所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，所述基准平面（11）为镜面平面，或者所述滚轮（14）的外圈平面略凸出于所述基准平面（11）。

9.根据权利要求2或3所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，所述基准平面（11）上设有耐摩擦层。

10.根据权利要求2或3所述的涂布基材平面吸附展平装置，其特征在于，在所述基准平面（11）的一侧设有若干个滚轮（14），所述滚轮（14）的外圈平面与所述基准平面（11）在同一平面内。

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