CN115916267A - 人类身体放松装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于人类的身体放松的装置。所述装置包括至少一个接触表面(11)，其上所述人类的至少部分与所述装置进行身体接触。所述装置额外包括用于产生及/或抑制刺激以使所述人类放松的至少一个放松装置及经设计以发射在介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射，且用具有在介于207nm与222nm之间的范围中的峰值的光学辐射供应辐射区域的至少一个照明装置(13)。本发明还涉及用于上述目的的照明装置的使用以及用于对用于消毒人类的身体放松的装置的方法。

Description

人类身体放松装置

本发明涉及一种用于人类的身体放松的装置。

此外，本发明涉及光源在此类装置中针对消毒的用途，及一种消毒用于人类的身体放松的装置的方法，其皆根据独立权利要求的相应前言。

背景技术

在2019年及2020年SARS-CoV-2的大流行之后，公共生活经历许多限制。越来越明显的是，一些这些限制还将具有持久效应，尤其有关公共场所及社会生活中的行为。Covid19大流行的一个教训无疑是，在大都市地区中的高度流动的社会及高人口密度中，难以阻止疾病在全球的传播。许多社会措施用于减小公共场所中的感染风险。然而，最后但同样重要的是，人们对公众可取用设施的信任受影响，这是因为这些有时带有特定传播风险。

在短期内，可在人员方面采取措施，以始终保证公众可用设施中在卫生上无可挑剔的状况。然而，这最终导致此类设施的较高操作及维护成本。用于放松目的的公众可取用设施(例如公共场所中的按摩装置或放松躺椅)可能尤其受到影响。尤其在其中存在大量公共交通的地区，几乎不可能在不付出过多努力的情况下保证放松设备的永久卫生无瑕疵的用户表面。例如，在此背景内容中尤其受到影响且关键的是机场、等候区、内城区及购物中心。然而，在动荡的人群中，对小型放松绿洲的需求尤其高。

因此，需要一种用于人类放松的装置，所述装置在卫生上无可挑剔，且受到消费者的高度认可，这是因为其始终符合相同的卫生标准，而无论先前用户或清洁人员的勤勉度如何。

就本发明来说，用于人类的身体放松的装置可尤其被理解为意指可由几个人连续使用的装置。例如，放置在公共场所(例如机场的等候区)中的按摩椅可为本发明的目标物。然而，还可包含专门配备的放松及健康中心，其例如具有且提供多个此类装置。出于本发明的目的，此类装置可包含例如选自由以下组成的群组的装置：按摩椅、按摩床、固定或移动的自动致动按摩器、足浴盆、身体浴盆、手浴、放松舱(例如，具有噪音衰减环境)、光浴、蒸汽浴、干式按摩器与基于感觉剥夺的放松装置。

在通常的使用中，主要通过消毒剂使此类装置卫生以供另一用户随后使用。然而，此以一方面先前用户认真地执行消毒，且另一方面护理人员根据所需标准进行消毒为先决条件。此外，适当消毒剂的供应必须始终可用。许多消毒剂也是腐蚀性的，且在使用时可使皮肤变干或甚至损坏皮肤。此外，消毒剂的使用包含对另一对象的操纵，这又可导致可能的污染风险。

已知紫外线辐射可用于消毒。为此目的，待消毒的表面或流体经暴露于UV辐射，此破坏及灭活微生物。通常，使用254nm的波长的辐射。如果还将分解有机化合物，那么使用小于200nm的波长。已知此类波长对人类有害。为此原因，具有所提及波长范围的光源通常位于无法接达的区域中，例如，通风口中或过滤器中，以确保尽可能防止皮肤接触有害的UV辐射。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种开篇所提及的类型的装置，其克服现有技术的至少一个缺点。

特定来说，目的是提供一种在卫生清洁度方面具有高水平的用户接受度的装置。同时，优选地，所述装置在操作中应尽可能高效且不涉及任何进一步人力成本。

尤其优选地，根据本发明的解决方案适用于改造现有放松装置且使其适用于21世纪的卫生要求。

这些目的中的至少一者已通过根据独立权利要求的特性化部分的用于人类的身体放松的装置来实现。

本发明的一个方面涉及一种用于人类的身体放松的装置。所述装置包含至少一个接触表面，在所述至少一个接触表面处人类的至少部分与所述装置进行身体接触。

就本发明来说，接触表面例如可为平躺表面或支撑表面。在根据本发明的大多数装置中，寻求放松的人以坐姿或卧姿在装置上安定下来，且在那里经受放松治疗。还可提供用于人类的身体放松的特殊装置，例如，其中仅所述人的部分与装置进行身体接触；这些尤其可为足浴或手浴。

根据本发明的装置进一步包括用于产生及/或抑制用于使人类放松的刺激或若干刺激的至少一个放松构件。

就本发明来说，各种各样的放松构件适用于通过产生及/或抑制刺激/若干刺激来诱发人类的身体放松。在其最简单的形式中，放松构件可为简单的，例如经解剖结构调适的软垫沙发，其在公共场所可取用，且允许进行短暂的“小睡(power nap)”。例如，此类装置可额外配备有刺激抑制装置。例如，可提供遮光罩或隔音墙，以减少对寻求放松的人的听觉及视觉刺激。根据本发明的放松构件还可提供物理工作及驱动的按摩元件，例如旋转、脉动或振动元件，其适用于个别肌肉群或关节的标定放松治疗。在根据本发明的大多数装置中，放松构件额外具备对于用户来说尽可能舒适地与放松构件接触的衬垫或支撑件。此类放松构件是所属领域的技术人员已知且可根据需要选择及实施。适当干式按摩装置在例如DE 202019 105 636 U1中公开。

在特定实施例中，接触表面接着至少部分地通过放松构件形成。

根据本发明的装置进一步包括至少一个光源。此光源经配置以发射在介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射。在此方面，光源进一步经配置以使辐射区域暴露于具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射。

尤其优选地，辐射区域可经对准，使得接触表面可大体上完全暴露，尤其使得如果用户不在接触接触表面程序中，那么接触表面始终暴露于上述波长范围中的光学辐射。例如，如果接触表面当前由用户操作，那么光学辐射也可影响用户。

令人惊讶地发现，在所述波长范围中未发生另外从UVC辐射预期的对人体皮肤的损害(亚马诺(Yamano)、诺佐米(Nozomi)等人的《222nm紫外辐射C杀菌灯对易受紫外辐射影响的小鼠的长期作用(Longterm effects of 222nm ultraviolet radiation Csterilizing lamps on mice susceptible to ultraviolet radiation)，《光化学及光生物学》(Photochemistry and Photobiology)，doi：10.1111/php.13269)。

作为本发明的特定优点，不仅接触表面而且定位于辐射区域中的流体(例如空气或水)皆暴露于消毒辐射。由于在根据本发明的范围中的所述辐射未如从UVC辐射另外预期导致对人类的皮肤及眼睛的任何损害，因此可为公共场所中的用户确保尤其安全的环境，这满足尤其在升高的大流行警戒的时期对安全增加的需求。

因此，根据本发明的装置可设置于公共区域中而不导致对对人的任何伤害，且可以连续模式操作。无论清洁员工的勤勉度如何，用户始终可发现这些病原。在所述范围中的所述UV辐射还优选地经选择，使得在操作中使用的至少所有表面或接触表面可始终暴露于所述UV辐射。在操作期间，具有相应辐射的UV灯可关闭或继续运行。在后一种情况下，人类的相应表面还被消毒，这可为额外所要效应。此外，可被界定为人类与光源之间的气隙的辐射区域还暴露于所述辐射且对其进行消毒。根据本发明的解决方案能够获得有关在公共场所或健身中心中使用公众可取用设备的信心。

在特定实施例中，光源经配置以发射具有在介于207nm与222nm之间的范围中的波长峰值且具有在从至少0.5mJ/cm²到最多500mJ/cm²，尤其介于2mJ/cm²与50mJ/cm²之间，非常优选大约介于2mJ/cm²与20mJ/cm²之间的辐射范围中的能量的大体上单能量UV辐射。

例如，能量可被定义为辐射区域内的剂量，其中辐射区域界定体积，包含光源的光束角。尤其优选地，光源经设计使得辐射区域中的上述能量分布遍及具有介于0.1m与2m之间，尤其介于0.5m与2m之间的肢长的光束角。

在特定实施例中，光源经配置以发射具有在介于207nm与220nm之间的范围中的波长峰值的大体上单能量UV辐射的可调整能量。尤其优选地，光源经设计以经由控制系统用所述光学辐射提供辐射区域中的所述能量。例如，能量可由所属领域的技术人员基于装置的几何形状、接触区域及/或辐射区域来调整。能量还可基于待对抗的特定病菌特别调整，其中控制系统优选地经设计使得经调整的病菌或病原触发用于所述辐射区域的光源的能量的特定设置。

特定来说，所述光源经设计以用具有在介于207nm与220nm之间的波长范围中的峰值及在辐射范围中从至少0.5mJ/cm²到最多10mJ/cm²的能量的UV辐射灭活来自嗜血杆菌物种的细菌。

特定来说，所述光源经设计以用具有在介于207nm与220nm之间的波长范围中的峰值及在辐射区域中从至少0.3mJ/cm²到2mJ/cm²的能量的UV辐射灭活冠状病毒科的病毒。

尤其优选地，光源经配置以发射具有222nm的峰值波长的大体上单能量UVC辐射。

令人惊讶地发现，利用所提及的能量及相应波长范围，可实现暴露表面的消毒的高可靠性，且同时，可实现所提及的波长范围中的UVC辐射的相应无害性的优点。

与此理论无关，所提及的波长范围似乎是主要在皮肤表面、角质层中被吸收，且无法成功穿透人体细胞且在那里导致其它地方的其它UV辐射可导致的非所要细胞损伤的波长。

在特定实施例中，光源包括基于准分子的灯。尤其地，光源包括准单色光源。替代地及/或额外地，光源包括用于将光源的发射光谱减小到具有在所述范围中(尤其在约207nm或222nm处)的峰值的波长的至少一个带通过滤器。

尤其优选地，光源包括具有选自由以下组成的群组的准分子的灯：氪氯或氪溴(Kr-Cl、Kr-Br)。

在特定实施例中，光源包括经配置以移除在介于207nm与230nm之间的范围中的波长之外的波长的带通过滤器。换句话说，带通过滤器经设计以大体上允许短于226nm的波长通过。为本发明的目的，允许通过大体上被理解为对于所讨论的波长的光学辐射具有至少80％，优选至少90％的光学透射率。

在另一特定实施例中，光源包括对于短于230nm的波长具有至少80％的光学透射率的短通过滤器。尤其优选地，短通过滤器具有在介于226nm与232nm之间的范围中的边缘。在另一特定实施例中，短通过滤器具有干涉过滤器，所述干涉过滤器包括至少一个，优选地两个过滤器层。

在尤其优选实施例中，光源包括基于准分子的灯，所述基于准分子的灯大体上发射具有207nm的峰值的波长，尤其具有大体上207nm的峰值的波长的光，在所述波长下，在10％或更大的相对功率下，发射光谱大于200nm且小于214nm，更优选地大于204nm且小于210nm。

在替代特定实施例中，光源包括基于准分子的灯，所述基于准分子的灯大体上发射具有222nm的峰值的波长，尤其具有大体上222nm的峰值的波长的光，在所述波长下，在10％或更大的相对功率下，发射光谱大于215nm且小于229nm，更优选地大于219nm且小于225nm。

为实现所发射的波长范围，可使用合适二聚体对，例如氪氯或氪溴，且在特定实施例中，可额外提供适当带通过滤器。

在特定实施例中，根据本发明的光源包括冷却系统。尤其优选地，在所述光源处设置气流产生器以通过空气产生冷却。

在特定实施例中，可提供导热结构以促进灯与环境之间的热交换；尤其地，可提供表面膨胀的鳍片以消散废热。额外地或替代地，可安装例如风扇的气流产生器，其可消散由来自灯操作的废热产生的热量积累。

在特定实施例中，所述装置包括多个光源，每一光源具有辐射区域。

尤其在几何复杂的布置的情况下，例如扶手椅或座椅底板(seatpan)，如果提供多个光源，那么其可为有利的，所述光源中的每一者具有其自身的辐射区域，因此确保所有接触表面可被照射。如果不同辐射区域重叠，例如以向特别暴露的接触表面提供额外辐射，那么其也可能是期望的。然而，还可设想比如说，多个灯经并联安装，且作用在同一接触表面上，一方面以提高消毒性能，且另一方面是出于结构或设计原因，例如以避免用过大的灯填充现有空间。

在特定实施例中，辐射区域经配置使得至少一个接触区域在未使用状况下被大体上完全覆盖且可暴露于具有在介于207nm与222nm之间的范围中的峰值的光学辐射。额外地或替代地，辐射区域可经选择使得在使用中，除相邻接触表面之外，其还使使用它的人暴露。

在特定实施例中，光源经配置以发射具有在约207或约222nm的范围中的峰值、具有约4nm的半宽的光学辐射。

在另一特定实施例中，根据本发明的光源的布置可经设计使得一个状态可传送到另一个状态，即，光源经布置以作为整体可移动。

在特定实施例中，根据本发明的装置包括分别用于至少一个光源或用于多个光源的控制单元。例如，控制单元可在每一情况下依照相应条件调整辐射强度、时间间隔、辐射区域的几何对准。例如，控制单元可经设计以执行相应维护计划，其中可移动布置的光源执行相应序列，这导致对根据本发明的装置的所有接触表面的完全影响。同样地，例如，当装置在使用时，控制单元可经配置以执行光源的合适重新定向。尤其优选地，控制单元经设计使得在辐射范围中的能量mJ/cm²可由控制单元设置。

在特定实施例中，根据本发明的装置包括例如检测装置的使用的传感器。此外，可提供传感器来检测使用所述装置的人的体重。接着，控制单元可经设计以依照身体比例或人类的检测调整施加到接触表面的辐射。

在特定实施例中，根据本发明的光源包括接触保护，所述接触保护防止光源被使用其的人触碰。以此方式，可增加光源的整体使用寿命且可最小化燃烧的风险。在最简单的实施例中，例如可提供网格或玻璃板，其防止光源被触碰。由于人类无法感知所提及的光谱中的光，因此根据本发明的装置结合相应光源的使用不损及所展示装置的放松目的。

在特殊实施例中，光源经安装，使得使用装置的人几乎不会注意到所述光源。为此目的，例如可提供隐藏光源的适当金属网。

在特定实施例中，根据本发明的装置包括用于固持至少一个光源的载体。尤其优选地，载体经定位，使得光源具有界定接触表面大体上完全定位于其中的辐射区域的光束角。此外，辐射区域中的流体(例如水或空气)暴露于辐射。

在另一特定实施例中，载体经设计为旋转臂且经配置为具有用于对准辐射区域的至少一个接头，使得光源的对准可由用户或由控制单元自动执行，所述对准确保光源的光束角界定至少一个接触表面完全定位于其中的辐射区域。

尤其优选地，载体可经可拆卸地连接到根据本发明的装置。

在特定实施例中，支撑件经配置以使得光源定位成与接触表面对置。

因此，在例如干式按摩台的治疗沙发的特定实例中，光源将定位成与沙发表面对置，即在按摩表面上方。在操作中，光源具有大体上完全覆盖按摩表面的所有四个边缘的光束角，使得接触表面(即被治疗的人在接受按摩时所前往的平躺表面)完全定位于辐射区域的暴露区域内。

在特定实施例中，载体经设计为机械臂。尤其优选地，载体经设计为具有至少四个轴及四个自由度的SCARA机器人。在与控制单元交互时，此机械臂可例如执行特定维护及消毒程序，其中例如额外地照明原本在特殊装置几何形状的静态连续暴露中无法接达的角度及隅角。例如，控制单元可设计以在使用前运行此维护程序。如果这在未来用户在场的情况下完成，那么可进一步增加对放松装置的卫生无瑕疵的信心。额外地或替代地，控制单元可经配置以在完成放松装置的使用后执行此维护程序。

在特定实施例中，根据本发明的装置包括用于产生及/或抑制人类放松刺激的放松构件。放松构件可选自由以下组成的群组：按摩台、治疗椅、干式按摩器、浴缸、感觉剥夺及/或衰减舱及自动按摩器。

此类装置原则上是所属领域的技术人员所已知的。例如，干式按摩器是其中水射流通过在按摩射流与人之间放置挠性薄膜而将动能传送到人以产生按摩效应的装置。例如，干式按摩器可类似于水床配备，在使用合适喷嘴操作时，其沿着用户的身体比例移动，且因此产生类似于SPA中的按摩喷嘴的按摩效应。

出于本发明的目的，感觉剥夺及/或衰减舱可被理解为大体上隔音的舱。此外，舱内部可能是暗的。特殊感觉剥夺舱还包含盐水浴，所述盐水浴进一步形成失重感。这些舱通常是完全暗的。令人惊讶地发现，此类舱可理想地用根据本发明的系统消毒，这是因为用所提及的波长范围中的UV光消毒不干扰放松效应，这是因为其不对人类产生可见光。用于形成隔音舱的适当材料是多孔材料，例如三聚氰胺海绵，例如三聚氰胺树脂发泡体及/或发泡体材料。

在特定实施例中，根据本发明的装置进一步包括用于产生通风气流的通风口。在最简单的实施例中，例如可提供气流产生器，其向根据本发明的装置的用户供应新鲜空气。此外，可提供与通风气流流体连通的消毒腔室。所述消毒腔室可经配置以执行通风气流的物理消毒。

由于此消毒腔室可安装在用户无法进入的封闭系统中，且所述用户因此不暴露于潜在有害的紫外线辐射，所述消毒腔室可为基于例如具有大体上254nm的波长的简单UV消毒灯。

优选地，可围绕消毒腔室建构通风气流可通过的光阱，使得待消毒的空气可流入及流出消毒腔室。例如，风扇可被提供为气流产生器。

在特定实施例中，根据本发明的装置包括传感器，所述传感器经特别设计以检测光源相对于接触表面的位置。例如，适当传感器将是红外传感器。还可设想提供可检测光源在空间中的定向的加速度计或磁力计。例如，适于装置的维护程序可与控制单元交互来执行。在根据本发明的几何可移动装置的情况下，控制单元可确保由维护程序处理所有角度及隅角。例如，可变换成椅子的按摩床正是此情况。

在额外及/或替代实施例中，传感器经配置以检测使用且相应地界定经调整光束角及因此考虑由用户对接触表面的可能覆盖的辐射区域。

在特定实施例中，光源经布置于接触表面后方，使得接触表面从后方被照射，即通过表面材料。此实施例要求接触表面大体上可透过在200nm与230nm之间的波长范围中的指定辐射。

根据本发明的装置确保在升高的大流行警戒的时期，维持用户对用于放松的公众可取用装置或甚至私人装置的信心。相应装置可始终保持在卫生完美状况，且不需要额外的人员来清洁装置。

对于所属领域的技术人员不言而喻的是，所描述的所有优选及特殊实施例可在根据本发明的实施例中以任意组合实施，只要其不相互排斥。

本发明的另一方面涉及一种至少一个光源的用途，所述至少一个光源经配置以发射在介于200nm与300nm之间的波长范围中的光学辐射用于在放松装置中产生包括具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射的辐射区域，使得所述放松装置的至少一个接触表面定位于所述辐射区域中且可暴露于辐射。

根据所述用途，如果可考虑本文中公开的教示附接或安装合适光源，那么现有放松装置可升级为根据本发明的装置。

在特定实施例中，根据本发明的用途包括适用于功能性连接到放松装置，使得辐射区域可相对于接触表面对准的载体。

在特定实施例中，根据本发明的用途进一步包括连接接口，其中光源具有相应接口及控制功能，其确保待升级的装置的接触表面可被光源照射。因此，接口可允许例如由装置控制载体，所述载体可为机械臂。

本发明的另一方面涉及一种用于消毒用于人类的身体放松的装置的方法。

所述方法包括提供至少一个光源的步骤。所述光源经设计以发射具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光束。为此目的，光源具有界定辐射区域的光束角。在此辐射区域中，所有事物皆暴露具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光。根据本发明的方法进一步包括定位光源的步骤。为此目的，必须将待消毒的装置的接触表面定位在光源的辐射区域中。随后，辐射区域暴露于指定波长的辐射。

在特定实施例中，根据本发明的方法包括对介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射进行滤波，使得辐射区域可暴露于具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值(尤其地，207nm或222nm)的光学辐射。尤其优选地，滤波包括提供带通过滤器，尤其地，具有在介于226nm与232nm之间的波长范围中的边缘的短通过滤器。

在特定实施例中，定位经由控制系统发生。为此目的，例如可提供控制单元，其基于与装置相关的已知数据执行作为维护程序的照射。在此情况下，例如可依据装置的几何特征调整照射。为此目的，光源可经移动，使得辐射区域照射不同接触表面达不同长度的时间。

在特定实施例中，定位是通过经配置为旋转臂的载体来执行。这也可通过所提及的控制单元来完成。

在另一特定实施例中，基于光源相对于接触表面的经检测位置自动执行光源的定位，例如通过使用旋转臂的控制单元控制光源。

下文将参考具体的示范性实施例及图更详细地解释本发明，但不限于这些。对于所属领域的技术人员来说，进一步有利的实施例源自对这些特定示范性实施例的研究。为简单起见，在图中，相同部分被赋予相同元件符号。

附图说明

参考以下图描述本发明的示范性实施例。其中：

图1展示根据本发明的装置的实施例。

图2展示根据本发明的装置的替代实施例；

图3a展示用于升级现有实体放松装置的组件组；

图3b展示装置3a的光源的详细视图；

图4展示根据本发明的装置的另一替代实施例，及

图5展示根据本发明的装置的另一实施例；

图6展示适当带通过滤器的透射曲线，及

图7展示根据本发明的波长范围的实施例。

具体实施方式

图1展示根据本发明的装置的基本实施例。所述装置是用于人类的身体放松的装置，其中寻求放松的人可呈平躺姿势。为此目的提供接触表面11，所述接触表面11经设计为平躺表面。在本实例中，平躺表面经解剖结构塑形，使得头部区域具有颈部处的支撑功能。接触表面11可尤其被提供为按摩表面。尽管图1中未展示，然而接触表面11可例如经配置为能够将从沙发本体10传输到接触表面11的动力传送给用户的薄膜。因此，沙发本体10可与经配置为薄膜的接触表面11一起形成为干式按摩装置。

干式按摩装置包括一系列可枢转水射流喷嘴及在沙发颈部本体10与形成为薄膜的接触表面11之间充满水的共同空间。按摩射流可选择性地按摩平躺在装置上的人的身体的个别区域以用水射流进行身体放松。所述薄膜防止水射流在程序中弄湿用户。沙发本体10内部的合适泵可提供稳定的水流。此外，用于人的身体放松的此类装置可经设计为具有加热及/或冷却元件以分别加热、冷却相应水射流。经配置为薄膜的接触表面允许此温度效应作用于用户。

在使用中，接触表面11暴露于用户的直接身体接触。想要使用所展示装置进行身体放松的人平躺在接触表面11上。因此，发现此表面尽可能卫生无瑕疵是至关重要的。为此目的，图1中所展示的装置具有光源13，所述光源13具有界定辐射区域A的光束角。光束角通过灯的形状及灯体中的任何反射器选择及控制，使得接触表面定位于从头端到脚端的辐射区域中且遍及接触表面的整个宽度且可暴露于相应光学辐射。在本实例中，光源经由载体12连接到沙发本体10。沙发本体10可通过支脚9定位在表面上。

在特定实施例中，支脚9可进一步包括滚轮以使装置可移动。

在本实例中，光源经选择以发射222nm的波长的UV辐射。为确保波长在尽可能窄的光谱内，具有222nm的峰值，在此实例中使用窄光谱氪氯准分子灯。此外，所述灯经设计为具有带通过滤器，所述带通过滤器大体上吸收222nm之外的波长。例如，由具有单个或多个涂层的合成石英玻璃制成的短通过滤器是适当的。

在操作中，光源可连续起作用。可设置任何安全限制及最大剂量。作为规则，在任何情况下此类装置在其使用持续时间方面均受到限制。例如，在公共场所可取用以供人放松的装置通常配备有支付系统，相应用户使用所述支付系统购买特定时间单位以在装置上使用。优选地，非接触式支付系统用于根据本发明的装置。在根据本发明的按摩台上的典型治疗，例如开篇所描述的干式按摩台持续介于5与45分钟之间。归因于所提及的波长对人体以及对人眼的小影响，及其有关微生物的有效性，因此在使用期间不需要关闭相应光源。相反，如果除按摩效应之外，还发生对用户的衣服或身体的消毒效应，那么其甚至可为可期望的。

此外，在本实例中，可对具有222nm的峰值的氪氯气灯提供空气冷却。

在图2中展示根据本发明的装置的另一实施例。图2可用作例如吸入器及蒸汽罩，其中在用户就座时执行吸入治疗。图2中所展示的舱还可用作放松舱，例如通过使用感觉剥夺材料，例如隔离材料。

因此，图2中所展示的用于人的放松的装置具有呈座椅表面形式的接触表面11。此接触表面11基于椅身14，所述椅身14还可通过支脚9放置在地面上。在头部及肩部上方延伸到用户的躯干中部的罩16经设置在寻求放松的人可坐在其上的接触表面11的头部区域中。罩可经配置为可移动的，使得其可经由旋转机构从敞开状态(未展示)转变为闭合状态(经展示)。这使人更容易爬上装置。罩内部是经界定的罩体积。罩可经由枢转轴15敞开及闭合。所展示类型的一些装置在机械上能够敞开与闭合罩16。例如，在选定程序之后，罩可自动闭合，且相应放松程序可运行。所展示的装置可具有多种可能的放松程序。例如，罩16可加衬有或形成有噪音衰减材料，例如声学发泡体，使得在内部发生噪音衰减且可通过听觉剥夺放松。还可设想，在罩内设置额外扬声器以播放合适音乐或语音节目，例如引导式冥想。取决于所要的放松类型，罩16的材料可为透明、不透明或非透明的。又，可为蒸汽及有气味的物质提供出口喷嘴，所述出口喷嘴通过将此类物质供应到用户的呼吸来在罩16内部产生放松氛围。还可设想可促进放松的各种光节目。

在特定实施例中，例如，罩及罩内部可经配置以播放对应于森林光谱的光节目。同时，可播放放松的森林声音，例如树叶的沙沙声或鸟儿的鸣叫，且可经由出口将促进放松的气味及物质(例如树脂及松树气味)馈送到罩中。

在本实例中，接触表面11并非平坦表面，而是划分为不同区域。因此，已在罩上设置多个光源13，每一光源具有其自身的辐射区域A1、A2、A3。用于辐射区域的反射器及灯几何形状经选择，使得本质上整个接触表面11可暴露于相应辐射。在特别使用的区域中，例如在头枕(未展示)的区域中，两个光源可在辐射区域A1与A2之间形成重叠区域以甚至增加消毒效应。出于效率原因，在本实例中，一个光源13接着在较不关键区域(例如足部区域)中是足够的以形成消毒足部区域的辐射区域A3。如在上文根据图1所展示的装置中，在本实施例中，当光源被人类使用时也不需要关闭所述光源，这是因为光源13包括能够发射具有207nm的峰值的光谱的灯。

合适带通过滤器可进一步使波长范围变窄，使得峰值变得更特定，且避免UV辐射对身体的对应不利效应，而不削弱UV光的消毒效应。在本实例中，使用氪溴准分子灯来产生207nm UV光波长。

此类灯在其操作模式方面是已知的(博南诺M.(Buonanno M.)等人的《207nm UV光-安全、低成本地减少手术部位感染的理想工具》(207-nm UV Light-A Promising Toolfor Safe Low-Cost Reduction of Surgical Site Infections)；《体外研究》(In VitroStudies).PLoS One 8(10)，2013年)。

为进一步改进接触表面的消毒并升级用于身体放松的现有装置，图3a展示一种装置，所述装置包括相应光源且可连接到具有用于身体放松的装置的载体。消毒装置20包含头端处的相应光源13，所述光源13包括准分子灯，所述准分子灯能够产生具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射。标定辐射区域中大约2到20mJ/cm²的能量。

光源13经容置于光源插座中且具有额外反射金属网21，所述反射金属网21控制相应辐射锥。反射器21及光源13经容置于灯壳22中。优选地，灯壳22包括用于促进热消散的构件，例如，可提供允许“占位体(placeholder)”22与环境温度之间更容易的热交换的肋部或鳍片。光源13与相应灯插座形成枢转臂的远端。能够检测光学信号的传感器28也附接到“占位体”22的远端。例如，传感器可经配置以检测运动或检测障碍物或用户的存在。

光学传感器还可经配置以测量距离。此外，加速度计及磁力计(未展示)可经设置在灯头22中，其检测灯头在空间中的位置。梁可由各种接头模块23.1、23.2、23.3与23.4形成，所述接头模块通过各种接头24.1、24.2、24.3彼此连接。所述数个接头模块23.1、...、23.4及接头24.1、24.2、24.3可由所要数目个自由度及载体的对准几何形状形成。

载体搁置在足部元件25上，所述足部元件25耦合到连接板26。接口27允许所述装置连接到控制系统及用于人类的身体放松的装置的电源。如果所述装置具有相应控制单元，那么可由载体及消毒臂，例如，凭借含有装置识别及类型以及装置的配置的数据纪录执行相应维护程序，所述程序确保整个接触表面是可处理的。例如，可通过机器人达到用于放松的装置或通常可由公众使用的装置的难以达到区域，例如，内凹的握把或杠杆可通过机械臂专门解决，且用光源照射。

因此，本实施例不限于静态接触表面的静态消毒，而是可在使用放松装置后、使用放松装置期间或使用放松装置之前执行动态消毒。在此情况下，传感器系统可用于防止用户无意中受到维护程序影响，因为机械臂检测到此用户且保持合适安全距离。优选地，经由接触保护来保护光源13不被用户接触。

接口27可进一步经配置以连接到通风系统。相应通风气流因此还可被引导通过机械臂且例如经由远端，即机械臂的头部部分处的相应喷射喷嘴喷射。尤其优选地，此通风系统还经设计为具有消毒腔室。由于此通风系统可包含不与用户接触的消毒腔室，因此其可用常规消毒操作，例如用254nm的波长范围。因此，可产生一种用于人类放松的装置，所述装置操作安全且确保几乎无菌使用(即使在公共区域)。

图3b详细展示相应远端，即图3a的机械臂的头部部分。因此，灯壳22与相应地安装的反射器及光源(图3b中未展示)一起形成相应辐射区域A。此辐射区域A可作为参数馈送到控制单元中，使得所述控制单元能够使用此辐射区域来确保所有表面的适当消毒可发生。事实上，控制单元可保证在光源13与待消毒的接触表面11之间始终维持最大有效距离。作为支持，传感器28可动态地检测相应距离且将其转送到控制单元。

可枢转元件23.4允许许多自由度，使得可使用根据本发明的解决方案消毒对象而本质上无关于甚至复杂的几何形状。

图4中展示另一实施例。所展示装置是足浴装置30。所述足浴装置30还具有座椅靠背31及座体14，所述座体14搁置在已描述的所述支脚9上且因此可定位在表面上。足浴装置30的新特征是充满液体的足浴盆32。将液体的射流动力地施加到下腿部及小腿的多个按摩喷嘴33形成在面向座体14的侧上。足浴盆34还具有两个光源13。光源经定位使得盆34的大体上整个内部可暴露于光学辐射。

令人惊讶地发现，水绝不损及作为传输介质所提及的光谱中的相应UV光的操作模式。这还确保用于足浴装置30的水始终是无菌的。根据上文描述的实施例，光源13可发射具有在207nm到222nm范围中的峰值的波长，其中可选择一个波长或者可提供多个波长与相应带通过滤器的组合以保持窄峰值。

图5展示根据本发明的另一装置，在此情况下，其为具有颈部部分46的可穿戴背心。此颈部部分46具有机械操作的按摩滚轮43，所述按摩滚轮43动力地作用于颈部肌肉且抵消用户41的放松。在身体侧(出于阐释性目的，颈部元件46在本实例中被展示为透明的)上，设置照明构件13，所述照明构件13覆盖用户41与具有相应辐射区域A1、A2的滚动滚轮43之间的接触表面，使得颈部装置46与用户41之间的整个接触表面可被消毒。

图6展示用于光源的适当过滤器的透射曲线，例如如在根据图1的实施例中使用。所使用的过滤器是基于例如由SiCl₄(四氯化硅)制成的双涂层合成石英玻璃的过滤器。涂层用作干涉过滤器，且可通过物理或化学气相沉积工艺施覆。尤其优选地，所使用的过滤器在透射与反射之间具有急剧转变。

所展示的示范性短通过滤器在介于210nm与约230nm之间的范围中具有超过90％的光学透射率，具有229到232nm的边缘。

图7展示根据本发明的用途具有在222nm的范围中的峰值的所产生波长的实例。当使用氪氯准分子灯时可产生此波长，其中发射光谱在用如针对图7描述的过滤器滤波后具有222nm的峰值。

相对功率本质上在222nm的范围中，在本实例中具有约4nm的光谱的半宽。

本发明公开装置及光源的用途，以及操作所述装置的方法，其适用于提高公众对放松装置的信心，同时提供抵抗病菌传播的卫生装置。

不言而喻，基于所描述的示范性实施例，所属领域的技术人员可设想放松装置领域中的许多其它应用领域。

Claims (19)

1.一种用于人类的身体放松的装置，其包括：

a.至少一个接触表面(11)，所述人类的至少部分在其上与所述装置进行身体接触；

b.至少一个放松构件，其用于产生及/或抑制刺激/若干刺激以使所述人类放松；

c.至少一个光源(13)，其经调适以发射在介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射，且其中所述至少一个光源经调适以用具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射照射辐射区域(A、A1、A2、A3)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述光源经调适以将所述辐射区域(A、A1、A2、A3)暴露于具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射，使得在所述辐射区域内，存在介于至少0.5mJ/cm²到最多450mJ/cm²之间，尤其介于2mJ/cm²与20mJ/cm²之间的剂量。

3.根据权利要求1或2中任一权利要求所述的装置，其中所述光源包括基于准分子的灯，尤其Kr-Br准分子或Kr-Cl准分子灯。

4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的装置，其中所述光源包括带通过滤器，所述带通过滤器经调适以大体上允许在介于200nm与230nm之间的光谱范围内的波长通过。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述带通滤波器是具有小于230nm的透射范围的短通过滤器，尤其带有具有介于226nm与232nm之间的范围的边缘，尤其带有具有介于229nm与232nm之间的范围的边缘的短通过滤器。

6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的装置，其中所述光源包括冷却系统，尤其包括用于通过空气冷却的气流产生器。

7.根据权利要求1至6中任一权利要求所述的装置，其中所述装置包括多个光源(13)，每一光源具有辐射区域(A1、A2、A3)。

8.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的装置，其中所述辐射区域(A、A1、A2、A3)经调适以在未使用状态下大体上完全覆盖所述至少一个接触表面(11)。

9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的装置，其包括用于所述光源(13)的控制单元。

10.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的装置，其包括用于固持所述至少一个光源(13)的载体，尤其其中所述载体经配置为具有用于对准所述辐射区域(A、A1、A2、A3)的至少一个接头的旋转臂。

11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的装置，其中用于产生及/或抑制用于人类放松的刺激/若干刺激的所述放松装置是选自由以下组成的群组的放松装置：按摩台、治疗椅、干式按摩器、浴缸、感觉剥夺及/或衰减舱及自动按摩器。

12.根据权利要求1至11中任一权利要求所述的装置，其进一步包括用于产生通风气流的通风系统，及与所述通风气流流体连通且经调适以对所述通风气流执行物理消毒的至少一个消毒腔室。

13.根据权利要求1至12中任一权利要求所述的装置，其进一步包括经调适以检测所述光源相对于所述接触表面的位置的传感器。

14.一种至少一个光源(13)的用途，所述至少一个光源(13)经设计以发射在介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射，用于在放松装置中产生带有具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射的辐射区域(A、A1、A2、A3)，使得所述放松装置的接触表面在所述辐射区域(A、A1、A2、A3)的有效范围中被照射。

15.根据权利要求14所述的用途，其中提供载体用于功能连接到所述放松装置，使得所述辐射区域可相对于所述接触表面对准。

16.一种消毒用于人类的身体放松的装置的方法，其包括以下步骤：

a.提供至少一个光源(13)，其经调适以发射在介于200nm与230nm之间的波长范围中的光学辐射，用于将辐射区域(A、A1、A2、A3)暴露于具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的光学辐射；

b.定位所述光源，使得待消毒的所述装置的至少一个接触表面定位于辐射区域(A、A1、A2、A3)中；

c.将光束区域暴露于具有在介于207nm与222nm之间的波长范围中的峰值的辐射。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述定位经由控制器执行。

18.根据权利要求16或17中任一权利要求所述的方法，其中所述定位通过经设计为旋转臂的载体来执行。

19.根据权利要求16至18中任一权利要求所述的方法，其中所述定位由控制单元基于所述光源相对于所述接触表面的经检测位置而自动执行。

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