CN115769682A - 用于激光到液滴对准的系统和方法 - Google Patents

Abstract

提供了用于转向对准激光束和燃料目标的系统、设备和方法。一种示例方法可以包括：以第一速率生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。该示例方法还可以包括：以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。该方法还可以包括：以第三速率并且基于第一感测数据和第二感测数据来生成转向控制信号，转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率，并且第三速率可以大约等于第一速率。在其他方面中，第一速率和第二速率可以大约等于第三速率。

Description

用于激光到液滴对准的系统和方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年7月6日提交的名称为SYSTEMS AND METHODS FOR LASER-TO-DROPLET ALIGNMENT的美国申请号63/048,544的优先权，该申请通过引用全部并入本文。

技术领域

本公开涉及用于在辐射源处使用多个控制或量测装置的系统和方法。

背景技术

光刻设备是将期望图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(IC)的制造中。在该实例中，图案形成装置(可互换地被称为掩模或掩模版)可以被用于生成要被形成在形成的IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转印通常经由成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(例如抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓的步进器(其中每个目标部分通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照)以及所谓的扫描仪(其中每个目标部分通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来辐照，同时平行或反平行(例如相反)于该扫描方向同步扫描目标部分)。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。

随着半导体制造过程的不断发展，遵循一般称为摩尔定律的趋势，电路元件的尺寸被不断减小，而几十年来每个装置的功能元件(诸如晶体管)的数量却稳定增加。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在寻求能够创建越来越小的特征的技术。为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长确定了在衬底上图案化的特征的最小大小。当前使用的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。

极紫外(EUV)辐射(波长约为50纳米(nm)或更小的电磁辐射(有时也称为软x射线)，并且包括波长约为13nm的光)可以被用于光刻设备或者与光刻设备一起使用，以在例如硅晶片等衬底中或上产生极小的特征。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4nm至20nm范围内(例如6.7nm或13.5nm)的EUV辐射的光刻设备可以被用于在衬底上形成更小的特征。

产生EUV光的方法包括但不必限于将具有发射谱线在EUV范围内的元素(例如氙(Xe)、锂(Li)或锡(Sn))的材料转换为等离子体状态。例如，在一种被称为激光产生等离子体(LPP)的这种方法中，等离子体可以通过用放大的光束(可以被称为驱动激光)辐照目标材料来产生，该目标材料在LPP源的上下文中可互换地被称为燃料，例如呈材料的液滴、板、带、流或簇的形式。针对该过程，等离子体通常在密封容器中产生，例如真空室，并且使用各种类型的量测设备监测。

发明内容

本公开描述了系统、设备和方法的各个方面，用于在一些方面中使用两个光学感测装置提供基于模型的激光到液滴(L2D)对准估计。在一些方面中，两个光学感测装置可以包括被配置为以第一速率(例如50kHz)生成第一感测数据的光接收器(例如象限单元光接收器(四单元))和被配置为以第二速率(例如5Hz)生成第二感测数据的成像装置(例如光电检测器、光电二极管、相机或其他合适的装置)，在一些方面中，第二速率可以小于第一速率。在其他方面中，两个光学感测装置可以包括两个同步成像装置，诸如两个液滴形成相机(DFC)，它被配置为提供立体视觉。

在一些方面中，本公开描述了一种辐射源。辐射源可以包括第一光学感测装置，被配置为以第一速率生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。在一些方面中，第一光学感测装置可以被配置为从第一角度获得第一感测数据。辐射源还可以包括第二成像装置，被配置为以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。在一些方面中，第二光学感测装置可以被配置为从不同于第一角度的第二角度获得第二感测数据。辐射源还可以包括控制器，被配置为：接收第一感测数据和第二感测数据。控制器还可以被配置为基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据。燃料目标数据可以指示燃料目标的性质集合(例如与燃料目标或修改后的燃料目标相关联的检测、测量、捕获、获得的性质或实际性质)。在一些方面中，燃料目标数据可以包括激光到液滴(L2D)数据。在一些方面中，控制器还可以被配置为：基于第一感测数据和第二感测数据生成立体感测数据；并且基于立体感测数据生成燃料目标数据。控制器还可以被配置为：基于燃料目标数据，以第三速率生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

在一些方面中，第一光学感测装置可以包括光接收器(例如四单元)，并且第二光学感测装置可以包括成像装置(例如相机)。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率。例如，第一速率可以是大约50kHz，并且第二速率可以是大约5Hz。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第三速率可以是大约50kHz。

在一些方面中，第一光学感测装置可以包括第一液滴形成相机(DFC)。在一些方面中，第二光学感测装置可以包括被配置为与第一DFC同步的第二DFC。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率、第二速率和第三速率中的每个速率可以大约等于5Hz。在一些方面中，辐射源还可以包括双DFC系统，包括第一DFC、第二DFC、第一照射装置和第二照射装置。在一些方面中，第一感测数据可以指示燃料目标与激光束之间的第一重叠，该第一重叠是大约在激光束被生成的时间从第一角度获得的。在一些方面中，第二感测数据可以指示燃料目标与激光束之间的第二重叠，该第二重叠是大约在激光束被生成的时间从第二角度获得的。在一些方面中，第一照射装置可以被配置为大约在激光束被生成的时间从第一照射角度照射燃料目标。在一些方面中，第二照射装置可以被配置为大约在激光束被生成的时间从不同于第一照射角度的第二照射角度照射燃料目标。在一些方面中，激光束可以包括预脉冲激光束。

在一些方面中，控制器还可以被配置为生成第一估计燃料目标数据。第一估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第一估计性质集合。在一些方面中，控制器还可以被配置为生成燃料目标数据和第一估计燃料目标数据的比较。在一些方面中，控制器还可以被配置为基于比较生成燃料目标估计误差数据。在一些方面中，控制器还可以被配置为基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。第二估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第二估计性质集合。

在一些方面中，在转向控制信号是第一转向控制信号的情况下，控制器还可以被配置为：在第一时间基于燃料目标数据生成第一转向控制信号；并且在与第一时间不同的第二时间基于第二估计燃料目标数据生成第二转向控制信号。

在一些方面中，在比较是第一比较并且燃料目标估计误差数据是第一燃料目标估计误差数据的情况下，控制器还可以被配置为：生成燃料目标数据和第二估计燃料目标数据的第二比较；并且基于第二比较来生成第二燃料目标估计误差数据。第二燃料目标估计误差数据可以指示燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。例如，控制器可以被配置为确定燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间的误差低于误差容限值(例如+/-2％、+/-5％或任何其他合适的值或范围)，并且响应于该确定，确定第二燃料目标估计误差数据指示燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。

在一些方面中，辐射源还可以包括激光转向系统。在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，控制器还可以被配置为将激光转向控制信号发送给激光转向系统。在一些方面中，激光转向系统可以包括激光转向致动器，被配置为：接收激光转向控制信号；并且基于激光转向控制信号将激光束向等离子体生成区域转向。

在一些方面中，辐射源还可以包括燃料目标转向系统。在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，控制器可以被配置为将燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。在一些方面中，燃料目标转向系统可以包括燃料目标转向致动器，被配置为：接收燃料目标转向控制信号；并且基于燃料目标转向控制信号将燃料目标向等离子体生成区域转向。

在一些方面中，转向控制信号可以包括指示使激光束转向的第一电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，控制器还可以被配置为将激光转向控制信号发送给激光转向系统。在一些方面中，转向控制信号还可以包括指示使激光束转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，控制器还可以被配置为将燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。

在一些方面中，本公开描述了一种设备。该设备可以包括控制器。控制器可以被配置为接收以第一速率被捕获并且指示从第一角度获得的燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。控制器还可以被配置为接收以第二速率被捕获并且指示从不同于第一角度的第二角度获得的燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。控制器还可以被配置为基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据。控制器还可以被配置为生成估计燃料目标数据。控制器还可以被配置为生成燃料目标数据和估计燃料目标数据的比较。控制器还可以被配置为基于比较生成燃料目标估计误差数据。控制器还可以被配置为基于燃料目标数据、估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成修改后的估计燃料目标数据。控制器还可以被配置为：基于修改后的估计目标数据，以第三速率生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

在一些方面中，控制器还可以被配置为从包括光接收器(例如四单元)的第一光学感测装置接收第一感测数据。在一些方面中，控制器还可以被配置为从包括成像装置(例如相机)的第二光学感测装置接收第二感测数据。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率。例如，第一速率可以是大约50kHz，并且第二速率可以是大约5Hz。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第三速率可以是大约50kHz。

在一些方面中，控制器还可以被配置为从包括第一液滴形成相机的第一光学感测装置接收第一感测数据。在一些方面中，控制器还可以被配置为从包括第二液滴形成相机的第二光学感测装置接收第二感测数据，该第二液滴形成相机被配置为与第一液滴形成相机同步。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率、第二速率和第三速率中的每个速率可以大约等于5Hz。

在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，控制器还可以被配置为将激光转向控制信号发送给激光转向系统。

在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，控制器还可以被配置为将燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。

在一些方面中，本公开描述了一种用于对准激光束和燃料目标并且在一些实例中使激光束、燃料目标或两者转向的方法。该方法可以包括：由第一光学感测装置生成指示从第一角度获得的燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。该方法还可以包括：由第二光学感测装置生成指示从不同于第一角度的第二角度获得的燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。该方法还可以包括：由控制器基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据。燃料目标数据可以指示燃料目标的性质集合。

该方法还可以包括：由控制器，生成第一估计燃料目标数据。第一估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第一估计性质集合。该方法还可以包括：由控制器，生成燃料目标数据和第一估计燃料目标数据的比较。该方法还可以包括：由控制器，基于比较来生成燃料目标估计误差数据。该方法还可以包括：由控制器，基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。第二估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第二估计性质集合。该方法还可以包括：由控制器，基于第二估计目标数据来生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

在一些方面中，该方法可以包括：由第一光学感测装置，以第一速率生成第一感测数据；由第二光学感测装置，以第二速率生成第二感测数据；以及由控制器，以第三速率生成转向控制信号。

在一些方面中，第一光学感测装置可以包括光接收器(例如四单元)，并且第二光学感测装置可以包括成像装置(例如相机)。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率。例如，第一速率可以是大约50kHz，并且第二速率可以是大约5Hz。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第三速率可以是大约50kHz。

在一些方面中，第一光学感测装置可以包括第一DFC。在一些方面中，第二光学感测装置可以包括被配置为与第一DFC同步的第二DFC。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率、第二速率和第三速率中的每个速率可以大约等于5Hz。

在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，该方法还可以包括：由激光转向系统的激光转向致动器，基于激光转向控制信号来将激光束向等离子体生成区域转向。

在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，该方法还可以包括：由燃料目标转向系统的燃料目标转向致动器，基于燃料目标转向控制信号来将燃料目标向等离子体生成区域转向。

其他特征和优点以及各个方面的结构和操作在下面参照附图详细描述。要注意的是，本公开不被限于本文描述的具体方面。这种方面是仅出于说明性目的而在本文中呈现的。基于本文包含的教导，附加方面对于(多个)相关领域的技术人员将是显而易见的。

附图说明

被并入到本文中并且形成本说明书的一部分的附图图示了本公开，并且连同本描述，进一步用于解释本公开的各个方面的原理并且使(多个)相关领域的技术人员能够制作和使用本公开的各个方面。

图1A是根据本公开的一些方面的示例反射光刻设备的示意性图示。

图1B是根据本公开的一些方面的示例透射光刻设备的示意性图示。

图2是根据本公开的一些方面的图1A所示的反射光刻设备的更详细的示意性图示。

图3是根据本公开的一些方面的示例光刻单元的示意性图示。

图4是根据本公开的一些方面的示例反射光刻设备的示例辐射源的示意性图示。

图5是根据本公开的一些方面的示例L2D对准系统的示意性图示。

图6是根据本公开的一些方面的示例燃料目标感测系统的示意性图示。

图7是根据本公开的一些方面的示例L2D对准过程的示意性图示。

图8是根据本公开的一些方面的与示例L2D对准过程相关联的示例曲线图集合。

图9是根据本公开的一些方面或其(多个)部分的用于对准激光束和燃料目标的示例方法。

图10是用于实施本公开的一些方面或其(多个)部分的示例计算机系统。

当结合附图时，通过下面陈述的详细描述，本公开的特征和优点将变得更加明显，其中相同的附图标记始终标识对应的元件。在附图中，除非另有指示，否则相同的附图标记通常指示相同的、功能类似和/或结构类似的元件。附加地，通常，附图标记的最左边的(多个)数字标识附图标记首次出现的附图。除非另有指示，否则本公开中提供的附图不应被解释为按比例绘制的附图。

具体实施方式

本说明书公开了并入本公开的特征的一个或多个实施例。所公开的(多个)实施例仅描述了本公开。本公开的范围不被限于所公开的(多个)实施例。本公开的广度和范围由所附权利要求及其等效物限定。

所描述的(多个)实施例以及说明书中对“一个实施例”、“实施例”、“示例性实施例”、“示例实施例”等的引用指示所描述的(多个)实施例可以包括特定特征、结构或特性，但是每个实施例可能不一定包括该特定特征、结构或特性。而且，这种短语不一定指的是相同实施例。进一步地，当特定特征、结构或特性结合实施例描述时，要理解的是，无论是否被明确描述，它都在本领域技术人员的知识范围内，以结合其他实施例实现这种特征、结构或特性。

空间相关术语(诸如“之下”、“下方”、“下部”、“上方”、“之上”、“上部”等)可以在本文中为了方便描述而使用，以描述一个元件或特征与附图中图示的(多个)另一元件或(多个)特征的关系。除了附图中描绘的定向之外，空间相对术语旨在涵盖设备在使用或操作中的不同定向。该设备可以以其他方式定向(旋转90度或在其他定向上)，并且本文使用的空间相对描述符同样可以被相应地解释。

如本文使用的，术语“大约”指示可以基于特定技术变化的给定量的值。基于特定技术，术语“大约”可以指示给定量的值，它在该值的例如10％至30％(例如值的±10％、±20％或±30％)内变化。

概述

在一个示例中，EUV源可以经由称为激光到液滴(L2D)的特性测量激光束撞击液滴的准确性。L2D可以是预脉冲激光束的质心中液滴的质心位置的相对指示符。L2D测量的准确性在EUV光源的性能中至关重要，因此L2D量测的任何改进都可以提高EUV光源效率。

在一个示例中，两种不同的方法可以被用于L2D量测：(i)最终聚焦量测(FFM)相机；以及(ii)FFM四单元。这两种方法都基于相同的原理。当预脉冲激光束在其前向路径中行进(例如前向束)时，预脉冲激光束通过称为“菱形窗口”的区域，其中激光的一部分被引导向包括FFM相机或FFM四单元的前向束诊断(FBD)成像传感器。随后，激光中心的地点被计算。

一旦激光撞击到液滴，光从液滴反射回来，并且穿过它来自的相同路径，在其返回的路上撞击菱形窗口，其中部分反射激光被引导向反向束诊断(RBD)成像传感器，该RBD成像传感器包括FFM相机或FFM四单元。随后，该反射激光的中心地点被计算，表示液滴的地点。FBD成像传感器与RBD成像传感器的测量值之间的差异提供了液滴在激光中的位置的相对度量，也称为L2D。FFM四单元测量以50kHz提供(例如针对激光撞击液滴的每个实例，“镜头到镜头”)，而FFM相机测量以低得多的频率提供。

然而，FFM量测(例如FFM相机、FFM四单元)与高功率激光束的直接交互可能有几个主要缺点。取决于激光功率或占空比，图像传感器上的光强度会发生变化。这需要使用从亮到暗的几个滤光器来考虑光强度的变化。当强度过大时(例如这转化为失去维修机器的时间)，滤光器的使用不当可能会导致传感器损坏，或者当滤光器太暗时，没有传感器数据(例如导致不良剂量性能和批次中止)。另外，与高功率激光的直接接触可能会产生显著的热瞬变，这可能会随着时间的推移使光学器件失准，并且在测量中产生漂移。由于这种漂移，生产必须被周期性地停止以校准EUV源。例如，L2D测量中的逐渐漂移最终可能导致EUV源性能不足，并且需要昂贵且耗时的维修动作来补救该性能。在另一示例中，L2D漂移对EUV源的影响使EUV辐射测量值在所有EUV侧传感器上下降0.2至0.5毫焦耳(mJ)。

另外，即使激光的实际位置相同，具有FFM相机的FBD或RBD成像传感器产生的结果也不同于具有FFM四单元的FBD和RBD图像传感器。换言之，基于FFM相机的L2D测量值与基于FFM四单元的L2D测量值不同，当它们应该相等时。例如，在FFM相机L2D测量值被观察到漂移的同一时间段内，FFM四单元示出了L2D的恒定值。进一步地，这些测量值的绝对值不匹配。FFM相机和FFM四单元都通过相同的技术测量L2D，并且应该是一致的，但它们不是。

更进一步地，在不执行扫描的情况下，可能无法基于FFM传感器数据知道束腰的位置，这需要停止批次生产。附加地，由于其复杂的设计，FFM传感器上的维修动作昂贵且耗时。

相比之下，本公开的一些方面可以提供用于估计L2D的系统、设备、方法和计算机程序产品，其价格低廉(例如硬件和修复成本低)且不易出现上述热漂移。例如，L2D测量硬件被安装在容器外部，因此量测不会遭受激光引起的热瞬变(例如意味着无漂移)。而且，修复动作由于外部安装而被简化。在一些方面中，本公开提供了使用用于立体视觉的两个相机的L2D对准的基于模型的估计。

在一些方面中，本公开提供了由光接收器(例如四单元)获取的第一感测数据(例如四单元数据)结合由成像装置(例如相机)获取的第二感测数据(例如图像数据)的使用。在一些方面中，本公开提供了可以被用于L2D对准的反馈控制过程中的各种类型的输入和输出。输入可以包括例如(a)四单元数据(例如以更快的速率更新，诸如50kHz)，(b)图像数据(例如以更低的速率更新，诸如5Hz)，以及(c)转向数据(例如以更快的速率更新，诸如50kHz)。输出可以包括例如(d)使激光束转向的控制信号、使燃料目标转向的控制信号或使激光束和燃料目标两者转向的一个或多个控制信号。在一些方面中，本公开提供了被配置为将目标角度测量值(例如角度Rx和Ry)驱动到目标角度设定点的反馈环路。在一些方面中，本公开提供了被配置为将估计的L2D值驱动到L2D设定点的反馈环路(例如在框710中使用卡尔曼滤波器，如参照图7描述的)。

在一些方面中，本公开提供了使用两个背光激光模块(BLM)，当燃料目标从燃料目标发生器(例如液滴发生器DG)行进到燃料目标捕获器(例如锡捕获器TC)时，该背光激光模块以两个不同的角度照耀燃料目标。接下来，两个同步的DFC同时拍摄燃料目标的照片。使用两个DFC而不是一个DFC提供了对目标的三维感知的生成，也称为立体成像。该硬件(例如两个BLM和两个DFC)被安装在加压容器外部，因此易于更换以进行修复。而且，与基于FFM的硬件不同，该硬件不直接接触高功率激光，因此不会遭受热瞬变和漂移。

在一些方面中，来自两个DFC的感测数据(例如包括但不限于捕获的图像)被传送到本地控制器，以进行本文描述的进一步处理。一旦感测数据被传送到本地控制器，本地控制器处理感测数据以从捕获的感测数据中提取L2D。例如，本地控制器可以包括L2D估计器，它使用EUV源的数学模型来将L2D值映射为几何目标性质，诸如目标形状、大小和定向。在一些方面中，L2D估计器通过确定初始L2D值并且使用数学方程计算估计的目标性质来开始。L2D估计器然后将估计的目标性质与上面描述的由两个DFC获得的目标性质的实际测量值进行比较。该比较提供了L2D估计中的误差度量。然后误差被递归地反馈给L2D估计器，直到L2D估计器确定使估计误差为零的估计目标性质的值。在一个说明性示例中，这可以经由在每个步骤中更新卡尔曼增益来完成，这确保了L2D估计器的快速收敛，并且具有补偿来自硬件的噪声测量值的附加优点。图8示出了与噪声较大的L2D测量值相比，估计的L2D值如何收敛到真实L2D值。

在一些方面中，本公开提供了一种用于估计L2D的方法，包括：使用两个BLM以两个不同的角度照射燃料目标；使用两个DFC以两个不同的角度捕获燃料目标图像；从由两个DFC捕获的两个二维图像重构燃料目标的三维立体图像；使用使L2D与燃料目标的几何性质相关的数学模型；以及使用卡尔曼滤波器估计器，它根据从燃料目标的立体图像获得的测量值反计算L2D。

在一些方面中，本公开描述了一种用于使激光束、燃料目标或两者转向的方法。该方法可以包括：生成指示从第一角度获得的燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。该方法还可以包括：生成指示从不同于第一角度的第二角度获得的燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。该方法还可以包括：基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据。燃料目标数据可以指示燃料目标的性质集合。在一些方面中，该方法还可以包括：生成第一估计燃料目标数据。第一估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第一估计性质集合。该方法还可以包括：生成燃料目标数据和第一估计燃料目标数据的比较。该方法还可以包括：基于比较来生成燃料目标估计误差数据。该方法还可以包括：基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。第二估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第二估计性质集合。该方法还可以包括：基于第二估计目标数据来生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

本文公开的系统、设备、方法和计算机程序产品有许多益处。例如，本公开提供了绝对L2D测量，其中X和Y方向上的零L2D对准对应于所有结构上的目标角度零，并且Z方向上的零L2D对准定义了束腰(例如结构到结构匹配)。在另一示例中，本公开提供了一种L2D测量，该L2D测量不易发生热漂移，因此可以被用于校正上述FFM量测技术中的偏置和误差，这可以导致更高的EUV源生产率。在再一示例中，本公开提供了通过放松对FFM控制环路的要求来实现FFM系统中的成本降低。在再一示例中，本公开提供了平均修复时间(MTTR)和平均间隔时间(MTBI)的减少。

然而，在更详细地描述这种方面之前，呈现本公开的各个方面可以被实施的示例环境是有益的。

示例光刻系统

图1A和1B分别是本公开的各个方面可以被实施的光刻设备100和光刻设备100’的示意性图示。如图1A和1B所示，光刻设备100和100’从法向于XZ平面的视角(例如侧视图)图示(例如X轴指向右侧，Z轴指向上方，并且Y轴指向远离查看者的页面中)，而图案形成装置MA和衬底W从法向于XY平面的附加视角(例如顶视图)呈现(例如X轴指向右侧，Y轴指向上方，并且Z轴指向朝着查看者的页面外)。

在一些方面中，光刻设备100和/或光刻设备100’可以包括以下结构中的一个或多个：照射系统IL(照射器)，被配置为调节辐射束B(例如深紫外(DUV)或极紫外(EUV)辐射束)；支撑结构MT(例如掩模台)，被配置为支撑图案形成装置MA(例如掩模、掩模版或动态图案形成装置)并且被连接至第一定位器PM，该第一定位器PM被配置为准确地定位图案形成装置MA；以及衬底保持器，诸如衬底台WT(例如晶片台)，被配置为保持衬底W(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)并且被连接至第二定位器PW，该第二定位器PW被配置为准确地定位衬底W。光刻设备100和100'还具有投影系统PS(例如折射投影透镜系统)，它被配置为将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个管芯的部分)上。在光刻设备100’中，图案形成装置MA和投影系统PS是反射的。在光刻设备100’中，图案形成装置MA和投影系统PS是透射的。

在一些方面中，在操作中，照射系统IL可以接收来自辐射源SO的辐射束(例如经由图1B所示的束递送系统BD)。照射系统IL可以包括各种类型的光学结构，诸如折射、反射、反射折射、磁性、电磁、静电或其他类型的光学组件或其任何组合，以用于引导、成形或控制辐射。在一些方面中，照射系统IL可以被配置为调节辐射束B，以使在其横截面中在图案形成装置MA的平面处具有期望的空间和角强度分布。

在一些方面中，通过取决于图案形成装置MA相对于参考系的定向、光刻设备100和100'中的至少一个的设计以及其他条件(诸如图案形成装置MA是否被保持在真空环境中)的方式，支撑结构MT可以保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以使用机械、真空、静电或其他夹持技术来保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以是框架或台，例如这可以根据需要固定或可移动。例如，通过使用传感器，支撑结构MT可以确保图案形成装置MA相对于投影系统PS位于期望位置处。

术语“图案形成装置”MA应该被广义地解释为指代任何装置，它可以被用于在其横截面中向辐射束B赋予图案，诸如在衬底W的目标部分C中创建图案。赋予辐射束B的图案可以对应于在目标部分C中创建以形成集成电路的装置中的特定功能层。

在一些方面中，图案形成装置MA可以是透射的(如在图1B的光刻设备100'中)或反射的(如在图1A的光刻设备100中)。图案形成装置MA可以包括各种结构，诸如掩模版、掩模、可编程反射镜阵列、可编程LCD面板、其他合适的结构或其组合。掩模可以包括诸如二进制掩模类型、交替相移掩模类型或衰减相移掩模类型以及各种混合掩模类型等掩模类型。在一个示例中，可编程反射镜阵列可以包括小反射镜的矩阵布置，每个小反射镜都可以被单独地倾斜，以便在不同方向上反射传入辐射束。倾斜的反射镜在由小反射镜的阵列反射的辐射束B中赋予图案。

术语“投影系统”PS应该被广泛地解释，并且可以涵盖任何类型的投影系统，包括折射、反射、反射折射、磁性、电磁和静电光学系统或其任何组合，如对于所使用的曝光辐射和/或诸如(例如在衬底W上)使用浸液或使用真空等其他因素来说所适合的。真空环境可以被用于EUV或电子束辐射，因为其他气体可能会吸收过多的辐射或电子。因此，借助于真空壁和真空泵，真空环境可以被提供给整个束路径。另外，在一些方面中，本文中对术语“投影透镜”的任何使用可以被认为与更通用的术语“投影系统”PS同义。

在一些方面中，光刻设备100和/或光刻设备100'可以是具有两个(例如“双工作台”)或多个衬底台WT和/或两个或多个掩模台的类型。在这种“多工作台”机器中，附加的衬底台WT可以被并行使用，或者预备步骤可以在一个或多个台上执行，同时一个或多个其他衬底台WT正被用于曝光。在一个示例中，衬底W的后续曝光的准备步骤可以对位于衬底台WT中的一个衬底台WT上的衬底W执行，而位于衬底台WT中的另一衬底台WT的另一衬底W正被用于在另一衬底W上曝光图案。在一些方面中，附加台可以不是衬底台WT。

在一些方面中，除了衬底台WT之外，光刻设备100和/或光刻设备100’可以包括测量工作台。测量工作台可以被布置为保持传感器。传感器可以被布置为测量投影系统PS的性质、辐射束B的性质或两者。在一些方面中，测量工作台可以保持多个传感器。在一些方面中，当衬底台WT远离投影系统PS时，测量工作台可以在投影系统PS下方移动。

在一些方面中，光刻设备100和/或光刻设备100’还可以是其中衬底的至少一部分可以被具有相对较高的折射率的液体(例如水)覆盖的类型，以填充投影系统PS与衬底W之间的空间。浸液也可以被施加到光刻设备中的其他空间，例如在图案形成装置MA与投影系统PS之间。浸没技术提供了增大投影系统的数值孔径。本文使用的术语“浸没”并不意味着诸如衬底等结构必须被淹没在液体中，相反，仅意味着在曝光期间液体位于投影系统与衬底之间。各种浸没技术在于2005年10月4日发布的标题为“LITHOGRAPHIC APPARATUS ANDDEVICE MANUFACTURING METHOD(光刻设备和装置制造方法)”的美国专利号6,952,253中进行描述，其通过引用全部并入本文。

参照图1A和1B，照射系统IL从辐射源SO接收辐射束B。辐射源SO和光刻设备100或100'可以是单独的物理实体，例如当辐射源SO是准分子激光器时。在这种情况下，辐射源SO未被视为形成光刻设备100或100'的一部分，并且借助于包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束递送系统BD(例如图1B所示)，辐射束B从辐射源SO传递到照射系统IL。在其他情况下，辐射源SO可以是光刻设备100或100'的集成部分，例如当辐射源SO是汞灯时。辐射源SO和照射器IL以及(如果需要的话)束递送系统BD可以被称为辐射系统。

在一些方面中，照射系统IL可以包括调整器AD，以用于调整辐射束的角强度分布。通常，照射器的光瞳平面中的强度分布的至少外部和/或内部径向范围(一般分别被称为“外部σ”和“σ内部”)可以被调整。另外，照射系统IL可以包括各种其他组件，诸如积分器IN和辐射收集器CO(例如冷凝器或收集器光学器件)。在一些方面中，照射系统IL可以被用于调节辐射束B，以在其截面中具有期望的均匀性和强度分布。

参照图1A，在操作中，辐射束B可以被入射到图案形成装置MA(例如掩模、掩模版、可编程反射镜阵列、可编程LCD面板、任何其他合适的结构或其组合)上，它可以被保持在支撑结构MT(例如掩模台)上，并且可以通过图案形成装置MA上存在的图案(例如设计布局)来图案化。在光刻设备100中，辐射束B可以从图案形成装置MA反射。在穿过(例如在从图案形成装置MA反射之后)图案形成装置MA后，辐射束B可以通过投影系统PS，该投影系统PS可以将辐射束B聚焦到衬底W的目标部分C上或布置在工作台处的传感器上。

在一些方面中，借助于第二定位器PW和位置传感器IFD2(例如干涉测量装置、线性编码器或电容传感器)，衬底台WT可以被准确地移动，例如以便在辐射束B的路径中定位不同的目标部分C。类似地，第一定位器PM和另一位置传感器IFD1(例如干涉测量装置、线性编码器或电容传感器)可以被用于相对于辐射束B的路径准确地定位图案形成装置MA。

在一些方面中，图案形成装置MA和衬底W可以使用掩模对准标记M1和M2以及衬底对准标记P1和P2来对准。尽管图1A和1B将衬底对准标记P1和P2图示为占据专用目标部分，但是衬底对准标记P2和P1可以位于目标部分之间的空间中。当衬底对准标记P1和P2位于目标部分C之间时，它们被称为划线对准标记。这些管芯内标记也可以被用作量测标记，例如用于叠加测量。

在一些方面中，出于图示而非限制的目的，本文中的一个或多个附图可以使用笛卡尔坐标系。笛卡尔坐标系包括三个轴：X轴；Y轴；以及Z轴。三个轴中的每个轴都与其他两个轴正交(例如X轴与Y轴和Z轴正交，Y轴与X轴和Z轴正交，Z轴与X轴和Y轴正交)。围绕X轴的旋转被称为Rx旋转。围绕Y轴的旋转被称为Ry旋转。围绕Z轴的旋转被称为Rz旋转。在一些方面中，X轴和Y轴限定了水平平面，而Z轴在竖直方向上。在一些方面中，笛卡尔坐标系的定向可以不同，例如使得Z轴具有沿着水平平面的分量。在一些方面中，另一坐标系可以被使用，诸如圆柱形坐标系。

参照图1B，辐射束B被入射到被保持在支撑结构MT上的图案形成装置MA上，并且由图案形成装置MA图案化。在穿过图案形成装置MA后，辐射束B通过投影系统PS，它将束聚焦到衬底W的目标部分C上。在一些方面中，投影系统PS可以具有与照射系统光瞳共轭的光瞳。在一些方面中，部分辐射可以从照射系统光瞳处的强度分布发出，并且穿过掩模图案，而不受掩模图案MP处的衍射影响，并且在照射系统光瞳处创建强度分布的图像。

投影系统PS将掩模图案MP的图像MP'投影到涂覆在衬底W上的抗蚀剂层上，其中图像MP'由通过来自强度分布的辐射从标记图案MP产生的衍射束形成。例如，掩模图案MP可以包括线和空间的阵列。位于阵列处并且与零阶衍射不同的辐射衍射生成偏转的衍射束，其方向在垂直于线的方向上发生变化。非衍射束(即，所谓的零阶衍射束)在传播方向没有任何变化的情况下穿过图案。零阶衍射束穿过投影系统PS的上透镜或上透镜组，在投影系统PS的光瞳共轭的上游，到达光瞳共轭。在光瞳共轭平面中并且与零阶衍射束相关联的强度分布部分是照射系统IL的照射系统光瞳中的强度分布的图像。在一些方面中，孔径装置可以被设置在包括投影系统PS的光瞳共轭的平面处或基本上设置在该平面处。

投影系统PS被布置为借助于透镜或透镜组不仅捕获零阶衍射束，而且捕获一阶或者一阶和更高阶衍射束(未示出)。在一些方面中，用于对在垂直于线的方向上延伸的线图案进行成像的偶极照射可以被用于利用偶极照射的分辨率增强效果。例如，一阶衍射束与晶片W水平处的对应零阶衍射束发生干涉，以尽可能高的分辨率和过程窗口(即，可用焦深与可容忍的曝光剂量偏差组合)创建掩模图案MP的图像。在一些方面中，像散像差可以通过在照射系统光瞳的相对象限中提供辐射极(未示出)来减少。进一步地，在一些方面中，像散像差可以通过阻挡与相对象限中的辐射极相关联的投影系统PS的光瞳共轭中的零阶束来减少。这在于2009年3月31日发布的标题为“LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND ADEVICE MANUFACTURING METHOD(光刻投影设备和装置制造方法)”的美国专利号7,511,799中更详细地描述，其通过引用全部并入本文。

在一些方面中，借助于第二定位器PW和位置测量系统PMS(例如包括位置传感器，诸如干涉测量装置、线性编码器或电容传感器)，衬底台WT可以被准确地移动，例如以便将辐射束B的路径中的不同目标部分C定位在聚焦和对准位置处。类似地，第一定位器PM和另一位置传感器(例如干涉测量装置、线性编码器或电容传感器)(图1B未示出)可以被用于相对于辐射束B的路径准确地定位图案形成装置MA(例如在从掩模库机械取回之后，或在扫描期间)。图案形成装置MA和衬底W可以使用掩模对准标记M1和M2以及衬底对准标记P1和P2来对准。

通常，支撑结构MT的移动可以借助于形成第一定位器PM的一部分的长冲程定位器(粗略定位)和短冲程定位器(精细定位)来实现。类似地，使用形成第二定位器PW的一部分的长冲程定位器和短冲程定位器，衬底台WT的移动可以被实现。在步进器(与扫描仪相对)的情况下，支撑结构MT可以仅被连接至短冲程致动器，或者可以是固定的。图案形成装置MA和衬底W可以使用掩模对准标记M1和M2以及衬底对准标记P1和P2来对准。尽管衬底对准标记(如所图示的)占据了专用目标部分，但它们可以位于目标部分之间的空间中(称为划线对准标记)。类似地，在多于一个管芯被提供在图案形成装置MA上的情况下，掩模对准标记M1和M2可以位于管芯之间。

支撑结构MT和图案形成装置MA可以在真空室V中，其中真空内机器人可以被用于将诸如掩模等图案形成装置移入和移出真空室。备选地，当支撑结构MT和图案形成装置MA在真空室外部时，真空外机器人可以被用于各种运输操作，类似于真空内机器人。在一些实例中，真空内和真空外机器人都需要被校准，以便将任何有效载荷(例如掩模)平稳转移到转移站的固定运动底座。

在一些方面中，光刻设备100和100'可以在以下模式中的至少一种下使用：

1.在步进模式下，在将赋予辐射束B的整个图案被一次投影到目标部分C上(即，单次静态曝光)时，支撑结构MT和衬底台WT保持大致静止。然后，衬底台WT在X和/或Y方向上移位，使得不同的目标部分C可以被曝光。

2.在扫描模式下，在赋予辐射束B的图案被投影到目标部分C上(即，单次动态曝光)时，支撑结构MT和衬底台WT被同步地扫描。衬底台WT相对于支撑结构MT(例如掩模台)的速度和方向可以通过投影系统PS的放大率(缩小率)和图像反转特性来确定。

3.在另一模式下，支撑结构MT基本上保持静止，从而保持可编程图案形成装置MA，并且在赋予辐射束B的图案被投影到目标部分C上时，衬底台WT被移动或扫描。脉冲式辐射源SO可以被采用，并且在衬底台WT的每次移动之后或者在扫描期间的连续辐射脉冲之间，可编程图案形成装置根据需要来更新。这种操作模式可以被容易地应用于无掩模光刻，它利用可编程图案形成装置(诸如可编程反射镜阵列)。

在一些方面中，光刻设备100和100’可以采用上述使用模式或完全不同的使用模式的组合和/或变化。

在一些方面中，如图1A所示，光刻设备100可以包括EUV源，该EUV源被配置为生成用于EUV光刻的EUV辐射束B。通常，EUV源可以被配置在辐射源SO中，并且对应的照射系统IL可以被配置为调节EUV源的EUV辐射束B。

图2更详细地示出了光刻设备100，包括辐射源SO(例如源收集器设备)、照射系统IL和投影系统PS。如图2所示，光刻设备100从法向于XZ平面的视角(例如侧视图)图示(例如X轴指向右侧，并且Z轴指向上方)。

辐射源SO被构造和布置为使得真空环境可以被维持在封闭结构220中。辐射源SO包括源室211和收集器室212，并且被配置为产生和发送EUV辐射。EUV辐射可以由气体或蒸汽产生，例如氙(Xe)气、锂(Li)蒸汽或锡(Sn)蒸汽，其中EUV辐射发射等离子体210被创建，以发射电磁谱的EUV范围内的辐射。至少部分电离的EUV辐射发射等离子体210可以通过例如放电或激光束产生。为了有效地生成辐射，例如大约10.0帕斯卡(Pa)的Xe气、Li蒸汽、Sn蒸汽或任何其他合适的气体或蒸汽的分压可以被使用。在一些方面中，激发锡的等离子体被提供，以产生EUV辐射。

经由被定位在源室211中的开口中或后面的可选气体阻挡部或污染物陷阱230(例如在一些情况下也被称为污染物阻挡部或翼片阱)，由EUV辐射发射等离子体210发射的辐射从源室211传递到收集器室212中。污染物陷阱230可以包括通道结构。污染物陷阱230还可以包括气体阻挡部或者气体阻挡部和通道结构的组合。本文进一步指示的污染物陷阱230至少包括通道结构。

收集器室212可以包括辐射收集器CO(例如冷凝器或收集器光学器件)，它可以是所谓的掠入射收集器。辐射收集器CO具有上游辐射收集器侧251和下游辐射收集器侧252。穿过辐射收集器CO的辐射可以从光栅光谱滤光器240反射出来，以在虚拟源点IF中聚焦。虚拟源点IF一般被称为中间焦点，并且源收集器设备被布置为使得中间焦点IF位于封闭结构220中的开口219处或附近。虚拟源点IF是EUV辐射发射等离子体210的图像。光栅光谱滤光器240被具体用于抑制红外(IR)辐射。

随后，辐射穿过照射系统IL，该照射系统IL可以包括琢面场反射镜装置222和琢面光瞳反射镜装置224，它被布置为在图案形成装置MA处提供辐射束221的期望角分布以及在图案形成装置MA处提供辐射强度的期望均匀性。在由支撑结构MT保持的图案形成装置MA处反射辐射束221时，图案化束226被形成，并且图案化束226由投影系统PS经由反射元件228、229成像到衬底W上，该衬底W由晶片工作台或衬底台WT保持。

比所示更多的元件通常可以存在于照射系统IL和投影系统PS中。取决于光刻设备的类型，光栅光谱滤光器240可以可选地存在。进一步地，可能存在比图2所示的更多的反射镜。例如，与图2所示的相比，投影系统PS中可能存在1至6个附加反射元件。

如图2所图示的，辐射收集器CO被描绘为具有掠入射反射器253、254和255的嵌套收集器，仅作为收集器(或收集器反射镜)的示例。掠入射反射器253、254和255围绕光轴O轴向对称地设置，并且优选地，这种类型的辐射收集器CO可以与放电产生的等离子体(DPP)辐射组合使用。

示例光刻单元

图3示出了光刻单元300，有时也称为光刻单元或簇。如图3所示，光刻单元300从法向于XY平面的视角(例如顶视图)图示(例如X轴指向右侧，并且Y轴指向上方)。

光刻设备100或100'可以形成光刻单元300的一部分。光刻单元300还可以包括对衬底执行曝光前和曝光后过程的一个或多个设备。例如，这些设备可以包括用于沉积抗蚀剂层的旋涂机SC、用于显影曝光后的抗蚀剂的显影剂DE、激冷板CH和烘烤板BK。衬底处置器RO(例如机器人)从输入/输出端口I/O1和I/O2拾取衬底，使它们在不同的过程设备之间移动，然后将它们递送给光刻设备100或100'的装载机架LB。通常被统称为轨道的这些装置受轨道控制单元TCU的控制，该轨道控制单元TCU本身由监控系统SCS控制，该监控系统SCS也经由光刻控制单元LACU控制光刻设备。因此，不同的设备可以被操作，以最大化吞吐量和处理效率。

示例辐射源

用于示例反射光刻设备(例如图1A的光刻设备100)的辐射源SO的示例在图4中示出。如图4所示，辐射源SO从法向于XY平面的视角(例如顶视图)图示，如下面描述的。

图4所示的辐射源SO是可以被称为激光产生等离子体(LPP)源的类型。激光系统401(例如可以包括二氧化碳(CO₂)激光器)被布置为经由一个或多个激光束402将能量沉积到燃料目标403’中，诸如从燃料目标发生器403(例如燃料发射器、液滴发生器)提供的一个或多个离散锡(Sn)液滴。根据一些方面，激光系统401可以是脉冲、连续波或准连续波激光器，或者可以以这些方式操作。从燃料目标发生器403发射的燃料目标403’(例如液滴)的轨迹可以平行于X轴。根据一些方面，一个或多个激光束402在平行于Y轴的方向上传播，Y轴垂直于X轴。Z轴垂直于X轴和Y轴，并且通常延伸到页面的平面中(或延伸到页面平面外)，但在其他方面中，其他配置被使用。在一些实施例中，激光束402可以在不同于平行于Y轴的方向上传播(例如在不同于正交于燃料目标403’的轨迹的X轴方向的方向上)。

虽然锡在以下描述中被引用，但任何合适的目标材料可以被使用。目标材料可以例如是液体形式，并且可以例如是金属或合金。燃料目标发生器403可以包括喷嘴，该喷嘴被配置为沿着轨迹将锡(例如燃料目标403’的形式(例如离散的液滴))引导向等离子体形成区域404。在描述的其余部分中，对“燃料”、“燃料目标”或“燃料液滴”的引用应被理解为指由燃料目标发生器403发射的目标材料(例如液滴)。燃料目标发生器403可以包括燃料发射器。一个或多个激光束402在等离子体形成区域404处被入射到目标材料(例如锡)上。激光能量沉积到目标材料中在等离子体形成区域404处产生等离子体407。在等离子体的离子和电子的去激发和重组期间，包括EUV辐射的辐射从等离子体407发射。

EUV辐射由辐射收集器405(例如辐射收集器CO)收集和聚焦。在一些方面中，辐射收集器405可以包括近法向入射的辐射收集器(有时更一般地称为法向入射辐射收集器)。辐射收集器405可以是被布置为反射EUV辐射(例如具有诸如大约13.5nm等期望波长的EUV辐射)的多层结构。根据一些方面，辐射收集器405可以具有椭圆形配置，具有两个焦点。如本文讨论的，第一焦点可以在等离子体形成区域404处，并且第二焦点可以在中间焦点406处。

在一些方面中，激光系统401可以位于距离辐射源SO相对较远的位置。在这种情况下，一个或多个激光束402可以借助于束递送系统(未示出)从激光系统401传递到辐射源SO，该束递送系统包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器和/或其他光学器件。激光系统401和辐射源SO可以一起被认为是辐射系统。

由辐射收集器405反射的辐射形成辐射束B。辐射束B被聚焦在点(例如中间焦点406)处，以形成等离子体形成区域404的图像，它充当照射系统IL的虚拟辐射源。辐射束B被聚焦的点可以被称为中间焦点(IF)(例如中间焦点406)。辐射源SO被布置为使得中间焦点406位于辐射源SO的封闭结构409中的开口408处或附近。

辐射束B从辐射源SO传递到照射系统IL中，该照射系统IL被配置为调节辐射束B。辐射束B通过照射系统IL，并且被入射到由支撑结构MT保持的图案形成装置MA上。图案形成装置MA反射和图案化辐射束B。在来自图案形成装置MA的反射之后，图案化辐射束B进入投影系统PS。投影系统包括多个反射镜，它被配置为将辐射束B投影到由衬底台WT保持的衬底W上。投影系统PS可以对辐射束应用缩减因子，从而形成特征比图案形成装置MA上的对应特征小的图像。例如，缩减因子4可以被应用。尽管投影系统PS被示出为在图2中具有两个反射镜，但是投影系统可以包括任何数量的反射镜(例如六个反射镜)。

辐射源SO还可以包括图4中未图示的组件。例如，光谱滤光器可以在辐射源SO中提供。光谱滤光器对于EUV辐射可以基本上是透射的，但是对于诸如红外辐射等其他波长的辐射基本上是阻挡的。

辐射源SO(或辐射系统)还可以包括燃料目标感测系统，以获得与等离子体形成区域404中的燃料目标(例如液滴)相关联的感测数据(例如图像、其他数据或电子信号或其组合)，或更具体地，获得与燃料目标的阴影相关联的感测数据。燃料目标感测系统可以检测从燃料目标的边缘衍射的辐射(例如光)。下文中对与燃料目标相关联的感测数据的引用也应被理解为指与燃料目标的阴影或由燃料目标引起的衍射图案相关联的感测数据。

燃料目标感测系统可以包括一个或多个光学感测装置，包括但不限于一个或多个光接收器(例如四单元)、成像装置(例如光电传感器、光电检测器、光电二极管、相机、DFC、电荷耦合装置(CCD)阵列、互补金属氧化物半导体(CMOS)传感器或其他合适的装置)、位置传感器(例如激光束位置和功率感测检测器、热电堆位置和功率传感器)、光学组件(例如透镜、反射镜、分束器、滤光器、波片、波导、光纤或其他合适的组件)或其组合。

在一些方面中，燃料目标感测系统可以包括：第一光学感测装置，包括被配置为以第一速率生成第一感测数据的光接收器；以及第二光学感测装置，包括被配置为以第二速率生成第二感测数据的成像装置。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率。例如，第一速率可以是大约50kHz，并且第二速率可以是大约5Hz。

在一些方面中，燃料目标感测系统可以包括：第一光学感测装置，包括被配置为以第一速率生成第一感测数据的第一DFC；以及第二光学感测装置，包括被配置为与第一DFC同步并且以第二速率生成第二感测数据的第二DFC。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率和第二速率中的每个速率可以大约等于5Hz。

在一个说明性示例中，燃料目标感测系统可以包括相机410，例如成像装置和一个或多个光学组件的组合。光学组件可以被选择，使得光电传感器或相机410获得近场图像、远场图像或两者。相机410可以被定位在辐射源SO内的任何适当地点处，从该地点，相机具有到等离子体形成区域404的视线以及被提供在辐射收集器405上的一个或多个标识(图4中未示出)。然而，在一些方面中，可能需要将相机410定位为远离一个或多个激光束402的传播路径以及远离从燃料目标发生器403发射的燃料目标的轨迹，以避免对相机410的损坏。根据一些方面，相机410被配置为经由连接412向控制器411提供燃料目标的图像。连接412被示出为有线连接，但是要了解的是，连接412(以及本文引用的其他连接)可以被实施为有线连接或无线连接或其组合。

如图4所示，辐射源SO可以包括燃料目标发生器403，该燃料目标发生器403被配置为向等离子体形成区域404生成和发射燃料目标403’(例如离散的锡液滴)。辐射源SO还可以包括激光系统401，该激光系统401被配置为用一个或多个激光束402撞击一个或多个燃料目标403’，以在等离子体形成区域404处生成等离子体407。辐射源SO还可以包括辐射收集器405(例如辐射收集器CO)，它被配置为收集由等离子体407发射的辐射。

示例L2D对准系统

图5是根据本公开的一些方面的示例L2D对准系统500的示意性图示，该示例L2D对准系统500包括示例结构和组件，该示例结构或组件可以被机械连接(例如通过一个或多个紧固件、夹具、粘合剂或其组合锚固或以其他方式附接)至示例辐射源SO的示例封闭结构512(例如封闭结构220、封闭结构409)。如图5所示，示例L2D对准系统500可以包括第一光学感测装置502A、第二光学感测装置502B、第一照射装置504A、第二照射装置504B、激光到液滴(L2D)对准控制器510、激光转向系统506、燃料目标转向系统508、任何其他合适的组件或其任何组合。

在一些方面中，示例L2D对准系统500可以包括第一光学感测装置502A，它被配置为以第一速率生成指示燃料目标(例如燃料目标403’中的一个燃料目标)与激光束(例如一个或多个激光束402中的一个激光束，诸如预脉冲激光束)之间的第一重叠的第一感测数据，该第一重叠是大约在激光束被生成的时间从第一角度获得的。在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括第二光学感测装置502B，它被配置为以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据，该第二重叠是大约在激光束被生成的时间从与第一角度不同的第二角度获得的。

在一些方面中，第一光学感测装置502A可以包括光接收器(例如四单元)，它被配置为以第一速率(例如更快的刷新速率，诸如50kHz)生成第一感测数据(例如四单元数据)。在一些方面中，第二光学感测装置502B可以包括成像装置(例如相机)，它被配置为以第二速率(例如更慢的刷新速率，诸如5Hz)生成第二感测数据(例如图像数据)。在一些方面中，第二速率可以小于第一速率。

在一些方面中，第一光学感测装置502A可以包括第一DFC。在一些方面中，第二光学感测装置502B可以包括被配置为与第一DFC同步的第二DFC。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率和第二速率中的每个速率可以大约等于5Hz。

在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括第一照射装置504A，它被配置为大约在激光束被生成的时间从第一照射角度照射燃料目标。在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括第二照射装置504B，它被配置为大约在激光束被生成的时间从不同于第一照射角度的第二照射角度照射燃料目标。在一些方面中，第一照射装置504A可以包括第一背光激光模块(BLM)。在一些方面中，第二照射装置504B可以包括被配置为与第一BLM同步的第二BLM。

在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括燃料目标感测系统。在一些方面中，燃料目标感测系统可以包括第一光学感测装置502A(例如实施为光接收器)和第二光学感测装置502B(例如实施为成像装置)，并且可以被配置为检测一个或多个激光束402与燃料目标403’之间的重叠。在其他方面中，燃料目标感测系统可以包括双DFC系统，它被配置为检测一个或多个激光束402与燃料目标403’之间的重叠。双DFC系统可以包括第一光学感测装置502A(例如实施为第一DFC)、第二光学感测装置502B(例如实施为第二DFC)、第一照射装置504A(例如第一BLM)、第二照射装置504B(例如第二BLM)、任何其他合适的组件或其任何组合。

在一些方面中，一个或多个激光束402可以包括预脉冲激光束和主脉冲激光束。在一些方面中，激光系统401可以被配置为用预脉冲激光束撞击燃料目标403’中的每个燃料目标403’，以生成修改后的燃料目标。在一些方面中，双DFC系统可以被配置为基于预脉冲激光束被产生的大约时间来触发第一光学感测装置502A、第二光学感测装置502B、第一照射装置504A和第二照射装置504B中的每一个。在一些方面中，激光系统401还可以被配置为用主脉冲激光束撞击修改后的燃料目标中的每个燃料目标，以生成等离子体407。

在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括激光转向系统506，该激光转向系统506被配置为监测一个或多个激光束402并且将一个或多个激光束402向等离子体形成区域404转向。在一些方面中，激光转向系统506可以包括激光转向致动器，该激光转向致动器被配置为将一个或多个激光束402向等离子体形成区域404转向。在一些方面中，激光转向系统506还可以包括激光转向量测系统，它被配置为监测一个或多个激光束402。在一些方面中，激光转向致动器可以被配置为接收(例如从L2D对准控制器510或激光转向量测系统)指示将一个或多个激光束402向等离子体生成区域404转向的电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，激光转向致动器还可以被配置为基于激光转向控制信号将一个或多个激光束402向等离子体生成区域404转向。

在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括燃料目标控制系统508，该燃料目标控制系统508被配置为监测燃料目标403’和并且将燃料目标403’向等离子体形成区域404转向。在一些方面中，燃料目标转向系统508可以包括燃料目标转向致动器，它被配置为将燃料目标403’向等离子体形成区域404转向。在一些方面中，燃料目标转向系统508还可以包括燃料目标转向量测系统，它被配置为监测燃料目标403’。在一些方面中，燃料目标转向致动器可以被配置为接收(例如从L2D对准控制器510或燃料目标转向量测系统)指示将燃料目标403’向等离子体生成区域404转向的电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，燃料目标转向致动器还可以被配置为基于燃料目标转向控制信号将燃料目标403’向等离子体生成区域404转向。

在一些方面中，示例L2D对准系统500还可以包括L2D对准控制器510。在一些方面中，控制器可以包括参照图4所示的控制器411描述的结构和特征中的一个或多个、参照图4描述的燃料目标转向系统、图10所示的示例计算系统1000、任何其他合适的控制器或计算系统或其任何组合。在一些方面中，L2D对准控制器510可以被配置为以第一速率从第一光学感测装置502A接收(例如直接或间接；原始、预处理或处理的)第一感测数据。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为以第二速率从第二光学感测装置502B接收第二感测数据。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于第一感测数据和第二感测数据以第三速率生成立体感测数据。在一些方面中(例如在包括具有较快刷新速率的光接收器和具有较慢刷新速率的成像装置的配置中)，第二速率可以不同于第一速率，并且第三速率可以大约等于第一速率。在其他方面中(例如在包括具有大约相同的刷新速率的两个成像装置的配置中)，第一速率和第二速率可以大约等于第三速率。

在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于第一感测数据和第二感测数据生成燃料目标数据。燃料目标数据可以指示燃料目标的性质集合(例如与燃料目标403’中的一个或多个相关联的检测、测量、捕获、获得的性质或实际性质)。在一些方面中，燃料目标数据可以包括激光到液滴(L2D)数据。L2D数据可以包括例如一个或多个值或指示燃料目标与预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)的其他数据。例如，L2D数据可以包括：指示燃料目标与沿着X轴的预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)的L2D_X数据；指示燃料目标与沿着Y轴的预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)的L2D_Y数据；指示燃料目标与沿着Z轴的预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)的L2D_Z数据；任何其他合适的值或数据；及其任何组合。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于立体感测数据(基于第一感测数据和第二感测数据生成)生成燃料目标数据。

在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于燃料目标数据生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束、燃料目标或两者转向。在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号。在一些方面中，转向控制信号可以包括指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，转向控制信号可以包括：指示使激光束转向的第一电子指令的激光转向控制信号；以及指示使燃料目标转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为向激光转向系统506发送激光转向控制信号。在一些方面中，激光转向系统506的激光转向致动器可以被配置为接收激光转向控制信号，并且基于激光转向控制信号将激光束向等离子体生成区域转向。在一些方面中，L2D对准控制器510可以被配置为向燃料目标转向系统508发送燃料目标转向控制信号。在一些方面中，燃料目标转向系统508的燃料目标转向致动器可以被配置为接收燃料目标转向控制信号，并且基于燃料目标转向控制信号将燃料目标向等离子体生成区域转向。

在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于估计燃料目标数据而不是直接从燃料目标数据生成转向控制信号。例如，L2D对准控制器510还可以被配置为生成估计燃料目标数据，基于由双DFC系统测量的燃料目标数据(例如使用反馈控制器、状态观察器、比例积分微分(PID)控制器、卡尔曼滤波器)细化估计燃料目标数据，然后基于细化的估计燃料目标数据生成转向控制信号。

在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为生成第一估计燃料目标数据。第一估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第一估计性质集合。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为生成燃料目标数据和第一估计燃料目标数据的比较。在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于比较生成燃料目标估计误差数据。

在一些方面中，L2D对准控制器510还可以被配置为基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。第二估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第二估计性质集合。

在一些方面中，在转向控制信号是第一转向控制信号的情况下，L2D对准控制器510还可以被配置为：在第一时间基于燃料目标数据生成第一转向控制信号；并且在与第一时间不同的第二时间基于第二估计燃料目标数据生成第二转向控制信号。在一些方面中，在比较是第一比较并且燃料目标估计误差数据是第一燃料目标估计误差数据的情况下，L2D对准控制器510还可以被配置为：生成燃料目标数据和第二估计燃料目标数据的第二比较；并且基于第二比较来生成第二燃料目标估计误差数据。第二燃料目标估计误差数据可以指示燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。例如，L2D对准控制器510可以被配置为确定燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间的误差低于误差容限值(例如+/-0.1％、+/-2％或任何其他合适的值或范围)，并且响应于该确定，确定第二燃料目标估计误差数据指示燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。

在一些方面中，L2D对准控制器510可以被配置为校准燃料目标转向系统508的参考点，使得由燃料目标发生器403生成的燃料目标403’中的每个燃料目标403’位于燃料目标感测系统(例如双DFC系统)的视场中心附近。

在一个示例中，燃料目标转向系统508可以包括粗略燃料目标转向系统、精细燃料目标转向系统和喷嘴转向系统。在该示例中，为了校准燃料目标转向系统508的参考点，L2D对准控制器510可以被配置为控制喷嘴转向系统，以将燃料目标403’转向到粗略燃料目标转向系统的视场中心和精细燃料目标转向系统的视场中心附近。在另一示例中，燃料目标转向系统的参考点可以是第一参考点，激光转向系统506可以包括预脉冲激光转向系统，并且L2D对准控制器510还可以被配置为使用燃料目标转向系统508的第一参考点来校准预脉冲激光转向系统的第二参考点。在该示例中，激光转向系统506可以包括主脉冲激光转向系统，并且L2D对准控制器510还可以被配置为使用主脉冲激光转向系统来测量相对于预脉冲位置的主脉冲位置，以估计相对于燃料目标403’中的每个燃料目标403’的主脉冲地点。

图6是根据本公开的一些方面的示例燃料目标感测系统600的示意性图示。如图6所示，示例燃料目标感测系统600可以包括第一光学感测装置602A、第二光学感测装置602B、第一照射装置604A和第二照射装置604B。在一些方面中，第一光学感测装置602A、第二光学感测装置602B、第一照射装置604A和第二照射装置604B可以包括分别参照第一光学感测装置502A、第二光学感测装置502B、第一照射装置504A和第二照射装置504B描述的任何特征和结构，如参照图5描述的。在一些方面中，示例燃料目标感测系统600还可以包括L2D对准控制器(例如L2D对准控制510)、激光转向系统(例如激光转向系统506)、燃料目标转向系统(例如燃料目标转向系统508)、任何其他合适的组件或其任何组合。

在一些方面中，燃料目标感测系统600可以包括第一光学感测装置602A(例如实施为光接收器)、第二光学感测装置602B(例如实施为成像装置)、任何其他合适的组件或其任何组合。在其他方面中，燃料目标感测系统600可以包括双DFC系统，它包括第一光学感测装置602A(例如实施为第一DFC)、第二光学感测装置602B(例如实施为第二DFC)、第一照射装置604A(例如第一BLM)、第二照射装置604B(例如第二BLM)、任何其他合适的组件或其任何组合。

在一些方面中，第一光学感测装置602A可以被配置为生成指示燃料目标603’(例如由燃料目标发生器403生成并且沿着箭头694所指示的方向行进)与激光束(例如由激光系统401生成的预脉冲激光束)之间的第一重叠的第一感测数据，该第一重叠是大约在激光束被生成的时间(例如大约在激光系统401用预脉冲激光束撞击燃料目标603′以生成修改后的燃料目标的时间)从第一角度(例如沿着第一轴622A)获得的。

在一些方面中，第二光学感测装置602B可以被配置为生成指示燃料目标603’与激光束之间的第二重叠的第二感测数据，该第二重叠是大约在激光束被生成时从与第一角度623A不同的第二角度623B(例如沿着第二轴622B)获得的(例如在定向、幅度或两者上)。例如，第二光学感测装置602B可以被设置在由正交轴690和692限定的平面的第一象限(例如右上象限，也称为“象限I”)中，并且第二光学感测角度623B可以被设置为与轴690顺时针45度。在另一示例中，第一光学感测装置602A可以被设置在由正交轴690和692限定的平面的第二象限(例如左上象限，也称为“象限II”)中，并且第一角度623A可以被设置为与轴690逆时针45度。

在一些方面中，第一光学感测装置602A可以包括第一DFC。在一些方面中，第二光学感测装置602B可以包括被配置为与第一DFC同步的第二DFC。

在一些方面中，第一光学感测装置602A可以包括光接收器(例如四单元)，它被配置为以第一速率(例如更快的刷新速率，诸如50kHz)生成第一感测数据(例如四单元数据)。在一些方面中，第二光学感测装置602B可以包括成像装置(例如相机)，它被配置为以第二速率(例如更慢的刷新速率，诸如5Hz)生成第二感测数据(例如图像数据)。在一些方面中，第二速率可以小于第一速率。

在一些方面中，第一光学感测装置602A可以包括第一DFC。在一些方面中，第二光学感测装置602B可以包括被配置为与第一DFC同步的第二DFC。在一些方面中，第二速率可以大约等于第一速率。在一些方面中，第三速率可以大约等于第一速率。例如，第一速率和第二速率中的每个速率可以大约等于5Hz。

在一些方面中，第一照射装置604A可以被配置为生成第一辐射束624A，该第一辐射束624A被配置为大约在激光束被生成的时间从第一照射角度625A照射燃料目标603’。在一些方面中，第二照射装置604B可以被配置为生成第二辐射束624B，该第二辐射束624B被配置为大约在激光束被生成的时间从不同(例如在定向、幅度或两者上)于第一照射角度的第二照射角度625B照射燃料目标603’。例如，第一照射装置604A可以被设置在由正交轴690和692限定的平面的第三象限(例如左下象限，也称为“象限III”)中，并且第一照射角度625A可以被设置为与轴690顺时针45度。在另一示例中，第二照射装置604B可以被设置在由正交轴690和692限定的平面的第四象限(例如右下象限，也称为“象限IV”)中，并且第二照射角度625B可以被设置为与轴690逆时针45度。在一些方面中，第一照射装置604A可以包括第一BLM。在一些方面中，第二照射装置604B可以包括被配置为与第一BLM同步的第二BLM。

在一些方面中，示例燃料目标感测系统600可以被配置为基于预脉冲激光束被产生(例如由激光系统401)的大约时间来触发第一光学感测装置602A、第二光学感测装置602B、第一照射装置604A和第二照射装置604B中的每一个。

图7是根据本公开的一些方面的示例L2D对准过程700的示意性图示。参照示例L2D对准过程700描述的操作可以由本文描述的系统、设备、组件、结构、特征、技术或其组合中的任何一个来执行，或者根据本文描述的系统、设备、组件、结构、特征、技术或其组合中的任何一个来执行，诸如参照上面的图1至6和下面的图8至10描述的那些。

在框702中，燃料目标感测系统(例如燃料目标感测系统600；参照示例L2D对准系统500描述的燃料目标感测系统)生成第一感测数据和第二感测数据。在框704中，控制器(例如控制器411、L2D对准控制器510；示例计算系统1000)沿着通信路径703接收第一感测数据和第二感测数据，并且基于第一感测数据和第二感测数据生成立体感测数据。控制器然后基于立体感测数据生成指示测量的燃料目标性质集合的测量的燃料目标数据。控制器沿着通信路径705发送测量的燃料目标数据。

在框706中，控制器生成指示燃料目标的第一估计性质集合的第一估计燃料目标数据。控制器沿着通信路径707发送第一估计燃料目标数据。在框708中，控制器生成测量的燃料目标和第一估计燃料目标数据的第一比较。控制器沿着通信路径709发送第一比较。在框710中，控制器基于第一比较并且在一些实例中通过更新卡尔曼增益来生成第一燃料目标估计误差数据。控制器沿着通信路径711发送第一燃料目标估计误差数据。

返回到框706，控制器基于第一燃料目标估计误差数据生成第二估计燃料目标数据。第二估计燃料目标数据可以指示燃料目标的第二估计性质集合。在框708中，控制器生成测量的燃料目标数据和第二估计燃料目标数据的第二比较。在框710中，控制器基于第二比较生成第二燃料目标估计误差数据。

再次返回到框706，响应于由控制器确定策略的燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间的误差低于误差容限值(例如+/-0.1％、+/-2％或任何其他合适的值或范围)，控制器确定第二燃料目标估计误差数据指示测量的燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。因此，控制器沿着通信路径713输出第二估计燃料目标数据，以用于由控制器生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束、燃料目标或两者转向。

图8示出了与参照图7描述的示例L2D对准过程700相关联的示例曲线图集合800。如图8所示，示例曲线图集合800包括第一曲线图810，它示出了随时间变化的L2D_X数据，其中L2D_X数据指示燃料目标与沿着X轴的预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)。L2D_X数据针对测量的L2D_X数据812(例如“测量的”；测量的燃料目标数据)、估计的L2D_X数据814(例如“估计的”；第二估计燃料目标数据)和预期L2D_X数据816(例如“真实的”；设计的或预期的燃料目标数据)示出。

如图8进一步所示，示例曲线图集合800包括第二曲线图820，它示出了随时间变化的L2D_Y数据，其中L2D_Y数据指示燃料目标与沿着Y轴的预脉冲激光束的质心之间的差异(例如幅度、方向)。L2D_Y数据针对测量的L2D_Y数据822(例如“测量的”；测量的燃料目标数据)、估计的L2D_Y数据824(例如“估计的”；第二估计燃料目标数据)和预期L2D_Y数据826(例如“真实的”；设计的或预期的燃料目标数据)示出。

如第一曲线图810和第二曲线图820所示，估计燃料目标数据(例如估计的L2D_X数据814、估计的L2D_Y数据824)包括比测量的燃料目标数据小得多的噪声(例如测量的L2D_X数据812、测量的L2D_Y数据822)。因此，通过基于估计的燃料目标数据而不是仅基于测量的燃料目标信息来生成本文描述的转向控制信号，控制器可以提高本文公开的L2D对准系统的准确性、速度和性能。

用于对准激光束和燃料目标的示例过程

图9是根据本公开的一些方面或其(多个)部分的用于对准激光束和燃料目标的示例方法900。参照示例方法900描述的操作可以由本文描述的系统、设备、组件、技术或其组合中的任何一个来执行，或者根据本文描述的系统、设备、组件、技术或其组合中的任何一个来执行，诸如参照上面的图1至8和下面的图10描述的那些。

在操作902中，该方法可以包括：由第一光学感测装置(例如第一光学感测装置502A、第一光学感测装置602A)，以第一速率生成指示燃料目标(例如燃料目标403’、燃料目标603’中的一个燃料目标)与激光束(例如一个或多个激光束402中的一个激光束，诸如预脉冲激光束)之间的第一重叠的第一感测数据。在一些方面中，第一感测数据的生成可以使用合适的机械或其他方法来实现，并且包括根据上面参照图1至8和下面参照图10描述的任何方面或方面的组合来生成第一感测数据。

在操作904中，该方法可以包括：由第二光学感测装置(例如第二光学感测装置502B、第二光学感测装置602B)，以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。在一些方面中，第二感测数据的生成可以使用合适的机械或其他方法来实现，并且包括根据上面参照图1至8和下面参照图10描述的任何方面或方面的组合来生成第二感测数据。

在操作906中，该方法可以包括：由控制器(例如参照图4描述的控制器411；图5所示的L2D对准控制器510、图10所示的示例计算系统1000)，基于第一感测数据和第二感测数据生成燃料目标数据。在一些方面中，燃料目标数据的生成可以使用合适的机械或其他方法来实现，并且包括根据上面参照图1至8和下面参照图10描述的任何方面或方面的组合来生成燃料目标数据。

可选地，在操作907中，该方法可以包括：由控制器，生成估计燃料目标数据。在一些方面中，估计燃料目标数据的生成可以使用合适的机械或其他方法来实现，并且包括根据上面参照图1至8和下面参照图10描述的任何方面或方面的组合来生成估计燃料目标数据。

在操作908中，该方法可以包括：由控制器，以第三速率生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。在一些方面中，生成转向控制信号可以包括：由控制器，基于燃料目标数据、估计目标数据或两者生成转向控制信号。在一些方面中，转向控制信号的生成可以使用合适的机械或其他方法来实现，并且包括根据上面参照图1至8和下面参照图10描述的任何方面或方面的组合来生成转向控制信号。

示例计算系统

本公开的各个方面可以被实施在硬件、固件、软件或其任何组合中。本公开的各个方面还可以被实施为存储在机器可读介质上的指令，该指令可以由一个或多个处理器读取和执行。机器可读介质可以包括用于以由机器(例如计算装置)可读的形式存储或发送信息的任何机构。例如，机器可读介质可以包括只读存储器(ROM)；随机存取存储器(RAM)；磁盘存储介质；光学存储介质；闪存装置；电气、光学、声学或其他形式的传播信号(例如载波、红外信号、数字信号等)和其他。进一步地，固件、软件、例程、指令及其组合在本文中可以被描述为执行某些动作。然而，应该了解的是，这种描述仅仅是为了方便，并且这种动作事实上是由执行固件、软件、例程、指令及其组合的计算装置、处理器、控制器或其他装置导致的，并且这样做导致致动器或其他装置(例如伺服马达、机器人装置)与物理世界交互。

例如，各个方面可以使用一个或多个计算系统(诸如图10所示的示例计算系统1000)来实施。示例计算系统1000可以是能够执行本文描述的功能的专用计算机，诸如：参照图4描述的控制器411；参照图4描述的燃料目标转向系统、示例L2D对准系统500、第一光学感测装置502A、第二光学感测装置502B、第一照射装置504A、第二照射装置504B、激光转向系统506(包括但不限于预脉冲激光转向系统、主脉冲激光转向系统、激光转向致动器和激光转向量测系统)、燃料目标转向系统508(包括但不限于粗略燃料目标转向系统、精细燃料目标转向系统、喷嘴转向系统、燃料目标转向致动器和燃料目标转向量测系统)或参照图5描述的L2D对准控制器510；参照图6描述的示例燃料目标感测系统600、第一光学感测装置602A、第二光学感测装置602B、第一照射装置604A或第二照射装置604B；参照图7所示的示例L2D对准过程700描述的组件；参照图4至7中的任何一个描述的燃料目标感测系统(包括但不限于包括光接收器和成像装置的系统；或包括两个成像装置(诸如双DFC系统)的系统)；任何其他合适的系统、子系统或组件；或其任何组合。示例计算系统1000可以包括一个或多个处理器(也称为中央处理单元或CPU)，诸如处理器1004。处理器1004被连接至通信基础设施1006(例如总线)。示例计算系统1000还可以包括通过(多个)用户输入/输出接口1002与通信基础设施1006通信的(多个)用户输入/输出装置1003，诸如监测器、键盘、指向装置等。示例计算系统1000还可以包括主存储器1008(例如一个或多个初级存储装置)，诸如随机存取存储器(RAM)。主存储器1008可以包括一个或多个级别的缓存。主存储器1008在其中存储有控制逻辑(例如计算机软件)和/或数据。

示例计算系统1000还可以包括辅助存储器1010(例如一个或多个辅助存储装置)。辅助存储器1010可以包括例如硬盘驱动器1012和/或可移除存储驱动器1014。可移除存储驱动器1014可以是软盘驱动器、磁带驱动器、光盘驱动器、光学存储装置、磁带备份装置和/或任何其他存储装置/驱动器。

可移除存储驱动器1014可以与可移除存储单元1018交互。可移除存储单元1018包括在其上存储有计算机软件(控制逻辑)和/或数据的计算机可用或可读存储装置。可移除存储单元1018可以是软盘、磁带、压缩盘、DVD、光盘存储装置和/或任何其他计算机数据存储装置。可移除存储驱动器1014读取和/或写入可移除存储单元1018。

根据一些方面，辅助存储器1010可以包括允许计算机程序和/或其他指令和/或数据被示例计算系统1000访问的其他部件、工具或其他方法。这种部件、工具或其他方法可以包括例如可移除存储单元1022和接口1020。可移除存储单元1022和接口1020的示例可以包括程序盒和盒接口(诸如在视频游戏装置中找到的)、可移除存储器芯片(诸如EPROM或PROM)和关联的插座、记忆棒和USB端口、存储卡和关联的存储卡插槽和/或任何其他可移除存储单元和关联的接口。

示例计算系统1000还可以包括通信接口1024(例如一个或多个网络接口)。通信接口1024使得示例计算系统1000能够与远程装置、远程网络、远程实体等(单独地和统称为远程装置1028)的任何组合进行通信和交互。例如，通信接口1024可以允许示例计算系统1000通过通信路径1026与远程装置1028通信，该通信路径1026可以是有线和/或无线的，并且可以包括LAN、WAN、互联网等的任何组合。控制逻辑、数据或两者可以经由通信路径1026被发送给示例计算系统1000并且从示例计算系统1000发送。

本公开的前述方面中的操作可以被实施在多种配置和架构中。因此，前述方面中的一些或全部操作可以以硬件、软件或两者来执行。在一些方面中，有形的、非瞬态设备或制品包括在其上存储有控制逻辑(软件)的有形的、非瞬态计算机可用或可读介质，控制逻辑(软件)在本文中也被称为计算机程序产品或程序存储装置。这包括但不限于示例计算系统1000、主存储器1008、辅助存储器1010和可移除存储单元1018和1022以及实施前述任何组合的有形制品。当由一个或多个数据处理装置(诸如示例计算系统1000)执行时，这种控制逻辑使得这种数据处理装置如本文描述地那样操作。

基于本公开中所包含的教导，(多个)相关领域中的技术人员将清楚如何使用数据处理装置、计算机系统和/或计算机架构(不同于图10所示的)进行和使用本公开的各个方面。具体地，本公开的各个方面可以用软件、硬件和/或操作系统实施方式(不同于本文描述的)进行操作。

尽管在本文中可以具体引用光刻设备在IC的制造中的使用，但应该理解的是，本文描述的光刻设备可以具有其他应用，诸如集成光学系统的制造、磁畴存储器、平板显示器、LCD、薄膜磁头等的引导和检测图案。技术人员将了解到，在这种替代应用的上下文中，本文的术语“晶片”或“管芯”的任何使用都可以被认为分别与更通用的术语“衬底”或“目标部分”同义。本文引用的衬底可以在曝光之前或之后被处理，例如在轨道单元(通常将抗蚀剂层施加到衬底并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测单元和/或检查工具中。在适用情况下，本文的本公开可以被应用于这种和其他衬底处理工具。进一步地，衬底可以被处理一次以上，例如以创建多层IC，使得本文使用的术语衬底也可以指已经包含多个已处理层的衬底。

要理解的是，本文的措辞或术语是为了描述起见而非限制，使得本说明书的术语或措辞是由(多个)相关领域的技术人员鉴于本文的教导而解释的。

如本文使用的，术语“衬底”描述了材料层被添加的材料。在一些方面中，衬底本身可以被图案化，并且在其顶部添加的材料也可以被图案化，或者可以保持没有图案化。

本文公开的示例是本公开的实施例的说明性但非限制性的。对本领域中通常遇到的(并且对于(多个)相关领域的技术人员来说是显而易见的)各种条件和参数的其他合适的修改和适应都在本公开的精神和范围内。

尽管本公开的具体方面已经在上面描述，但是要了解的是，各个方面可以以不同于所描述的方式来实践。本描述并不旨在限制本公开的实施例。

要了解的是，具体实施方式章节而非背景、发明内容和摘要章节旨在被用于解释权利要求。发明内容和摘要章节可以陈述(多个)本发明人所设想的本发明的一个或多个但非所有示例实施例，因此，并不旨在以任何方式限制本实施例和所附权利要求。

借助于图示了指定功能及其关系的实施方式的功能构建块，本公开的一些方面已经在上面描述。为了方便描述，这些功能构建块的边界在本文中被任意地定义。交替边界可以被定义为只要指定功能及其关系被适当地执行即可。

本公开的具体方面的前述描述将充分展现各个方面的一般性，通过应用技术领域内的知识，在未过度实验，未脱离本公开的一般概念的情况下，其他人可以容易地修改和/或适应这种具体方面的各种应用。因此，基于本文提出的教导和指导，这种适应和修改旨在在与所公开的方面等效的含义和范围内。

本发明的其他方面在以下带编号的条项中陈述。

1.一种辐射源，包括：

第一光学感测装置，被配置为以第一速率生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

第二光学感测装置，被配置为以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据；以及

控制器，被配置为：

接收第一感测数据和第二感测数据；

基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据；以及

以第三速率并且基于燃料目标数据来生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

2.根据条项1的辐射源，其中：

第一光学感测装置包括光接收器；

第二光学感测装置包括成像装置；

第二速率不同于第一速率；并且

第三速率大约等于第一速率。

3.根据条项1的辐射源，其中：

第一光学感测装置包括第一液滴形成相机；

第二光学感测装置包括第二液滴形成相机，该第二液滴形成相机被配置为与第一液滴形成相机同步；

第二速率大约等于第一速率；并且

第三速率大约等于第一速率。

4.根据条项3的辐射源，还包括双液滴形成相机系统，该双液滴形成相机系统包括：

第一液滴形成相机，其中第一感测数据指示燃料目标与激光束之间的第一重叠，该第一重叠是大约在激光束被生成的时间从第一角度获得的；

第二液滴形成相机，其中第二感测数据指示燃料目标与激光束之间的第二重叠，该第二重叠是大约在激光束被生成的时间从第二角度获得的；

第一照射装置，被配置为大约在激光束被生成的时间从第一照射角度照射燃料目标；以及

第二照射装置，被配置为大约在激光束被生成的时间从不同于第一照射角度的第二照射角度照射燃料目标。

5.根据条项4的辐射源，其中激光束包括预脉冲激光束。

6.根据条项1的辐射源，其中燃料目标数据包括激光到液滴的数据。

7.根据条项1的辐射源，其中控制器还被配置为：

基于第一感测数据和第二感测数据来生成立体感测数据；以及

基于立体感测数据来生成燃料目标数据。

8.根据条项1的辐射源，其中控制器还被配置为：

生成第一估计燃料目标数据；

生成燃料目标数据与第一估计燃料目标数据的比较；

基于比较来生成燃料目标估计误差数据；以及

基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。

9.根据条项8的辐射源，其中：

转向控制信号是第一转向控制信号；并且

控制器还被配置为：

在第一时间，基于燃料目标数据来生成第一转向控制信号；以及

在不同于第一时间的第二时间，基于第二估计燃料目标数据来生成第二转向控制信号。

10.根据条项8的辐射源，其中：

比较是第一比较；

燃料目标估计误差数据是第一燃料目标估计误差数据；

控制器还被配置为：

生成燃料目标数据与第二估计燃料目标数据的第二比较；以及

基于第二比较来生成第二燃料目标估计误差数据；并且

第二燃料目标估计误差数据指示燃料目标数据与第二估计燃料目标数据之间不存在误差。

11.根据条项1的辐射源，还包括：

激光转向系统，其中：

转向控制信号包括指示将激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号；并且

控制器还被配置为将激光转向控制信号发送给激光转向系统。

12.根据条项11的辐射源，其中激光转向系统包括激光转向致动器，该激光转向致动器被配置为：

接收激光转向控制信号；以及

基于激光转向控制信号来将激光束向等离子体生成区域转向。

13.根据条项1的辐射源，还包括：

燃料目标转向系统，其中：转向控制信号包括指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号；并且

控制器还被配置为将燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。

14.根据条项13的辐射源，其中燃料目标转向系统包括燃料目标转向致动器，该燃料目标转向致动器被配置为：

接收燃料目标转向控制信号；以及

基于燃料目标转向控制信号来将燃料目标向等离子体生成区域转向。

15.根据条项1的辐射源，其中：

转向控制信号包括：

指示使激光束转向的第一电子指令的激光转向控制信号；以及

指示使燃料目标转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号；

控制器还被配置为：

将激光转向控制信号发送给激光转向系统；以及

将燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。

16.一种设备，包括：

控制器，被配置为：

接收以第一速率被捕获并且指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

接收以第二速率被捕获并且指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据；

基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据；

生成估计燃料目标数据；

生成燃料目标数据与估计燃料目标数据的比较；基于比较来生成燃料目标估计误差数据；

基于燃料目标数据、估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成修改后的估计燃料目标数据；以及以第三速率并且基于修改后的估计目标数据来生成被配置为使激光束或燃料目标转向的转向控制信号。

17.根据条项16的设备，其中：

控制器还被配置为：

从第一光学感测装置接收第一感测数据，第一光学感测装置包括光接收器；以及

从第二光学感测装置接收第二感测数据，第二光学感测装置包括成像装置；

第二速率不同于第一速率；并且

第三速率大约等于第一速率。

18.根据条项16的设备，其中：

控制器还被配置为：

从第一光学感测装置接收第一感测数据，第一光学感测装置包括第一液滴形成相机；以及

从第二光学感测装置接收第二感测数据，第二光学感测装置包括第二液滴形成相机，该第二液滴形成相机被配置为与第一液滴形成相机同步；

第二速率大约等于第一速率；并且

第三速率大约等于第一速率。

19.一种方法，包括：

由第一光学感测装置，生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

由第二光学感测装置生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据；

由控制器，基于第一感测数据和第二感测数据来生成燃料目标数据；

由控制器，生成第一估计燃料目标数据；

由控制器，生成燃料目标数据与第一估计燃料目标数据的比较；

由控制器，基于比较来生成燃料目标估计误差数据；

由控制器，基于燃料目标数据、第一估计燃料目标数据和燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据；以及

由控制器，基于第二估计目标数据来生成转向控制信号，该转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。

20.根据条项19的方法，其中：

转向控制信号包括：

指示将激光束向等离子体生成区域转向的第一电子指令的激光转向控制信号；或者

指示将燃料目标向等离子体生成区域转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号；并且

该方法还包括：

由激光转向系统的激光转向致动器，基于激光转向控制信号来将激光束向等离子体生成区域转向；或者

由燃料目标转向系统的燃料目标转向致动器，基于燃料目标转向控制信号来将燃料目标向等离子体生成区域转向。

本公开的广度和范围不应该受到任何上述示例方面或实施例的限制，而应该只根据以下权利要求及其等效物来定义。

Claims (20)

1.一种辐射源，包括：

第一光学感测装置，被配置为以第一速率生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

第二光学感测装置，被配置为以第二速率生成指示所述燃料目标与所述激光束之间的第二重叠的第二感测数据；以及

控制器，被配置为：

接收所述第一感测数据和所述第二感测数据；

基于所述第一感测数据和所述第二感测数据来生成燃料目标数据；以及

以第三速率并且基于所述燃料目标数据来生成转向控制信号，所述转向控制信号被配置为使所述激光束或所述燃料目标转向。

2.根据权利要求1所述的辐射源，其中：

所述第一光学感测装置包括光接收器；

所述第二光学感测装置包括成像装置；

所述第二速率不同于所述第一速率；并且

所述第三速率大约等于所述第一速率。

3.根据权利要求1所述的辐射源，其中：

所述第一光学感测装置包括第一液滴形成相机；

所述第二光学感测装置包括第二液滴形成相机，所述第二液滴形成相机被配置为与所述第一液滴形成相机同步；

所述第二速率大约等于所述第一速率；并且

所述第三速率大约等于所述第一速率。

4.根据权利要求3所述的辐射源，还包括双液滴形成相机系统，所述双液滴形成相机系统包括：

所述第一液滴形成相机，其中所述第一感测数据指示所述燃料目标与所述激光束之间的所述第一重叠，所述第一重叠是大约在所述激光束被生成的时间从第一角度获得的；

所述第二液滴形成相机，其中所述第二感测数据指示所述燃料目标与所述激光束之间的所述第二重叠，所述第二重叠是大约在所述激光束被生成的所述时间从第二角度获得的；

第一照射装置，被配置为大约在所述激光束被生成的所述时间从第一照射角度照射所述燃料目标；以及

第二照射装置，被配置为大约在所述激光束被生成的所述时间从不同于所述第一照射角度的第二照射角度照射所述燃料目标。

5.根据权利要求4所述的辐射源，其中所述激光束包括预脉冲激光束。

6.根据权利要求1所述的辐射源，其中所述燃料目标数据包括激光到液滴的数据。

7.根据权利要求1所述的辐射源，其中所述控制器还被配置为：

基于所述第一感测数据和所述第二感测数据来生成立体感测数据；以及

基于所述立体感测数据来生成所述燃料目标数据。

8.根据权利要求1所述的辐射源，其中所述控制器还被配置为：

生成第一估计燃料目标数据；

生成所述燃料目标数据与所述第一估计燃料目标数据的比较；

基于所述比较来生成燃料目标估计误差数据；以及

基于所述燃料目标数据、所述第一估计燃料目标数据和所述燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据。

9.根据权利要求8所述的辐射源，其中：

所述转向控制信号是第一转向控制信号；并且

所述控制器还被配置为：

在第一时间，基于所述燃料目标数据来生成所述第一转向控制信号；以及

在不同于所述第一时间的第二时间，基于所述第二估计燃料目标数据来生成第二转向控制信号。

10.根据权利要求8所述的辐射源，其中：

所述比较是第一比较；

所述燃料目标估计误差数据是第一燃料目标估计误差数据；

所述控制器还被配置为：

生成所述燃料目标数据与所述第二估计燃料目标数据的第二比较；以及

基于所述第二比较来生成第二燃料目标估计误差数据；并且所述第二燃料目标估计误差数据指示所述燃料目标数据与所述第二估计燃料目标数据之间不存在误差。

11.根据权利要求1所述的辐射源，还包括：

激光转向系统，其中：

所述转向控制信号包括指示将所述激光束向等离子体生成区域转向的电子指令的激光转向控制信号；并且

所述控制器还被配置为将所述激光转向控制信号发送给所述激光转向系统。

12.根据权利要求11所述的辐射源，其中所述激光转向系统包括激光转向致动器，所述激光转向致动器被配置为：

接收所述激光转向控制信号；以及

基于所述激光转向控制信号来将所述激光束向所述等离子体生成区域转向。

13.根据权利要求1所述的辐射源，还包括：

燃料目标转向系统，其中：

所述转向控制信号包括指示将所述燃料目标向等离子体生成区域转向的电子指令的燃料目标转向控制信号；并且

所述控制器还被配置为将所述燃料目标转向控制信号发送给所述燃料目标转向系统。

14.根据权利要求13所述的辐射源，其中所述燃料目标转向系统包括燃料目标转向致动器，所述燃料目标转向致动器被配置为：

接收所述燃料目标转向控制信号；以及

基于所述燃料目标转向控制信号来将所述燃料目标向所述等离子体生成区域转向。

15.根据权利要求1所述的辐射源，其中：

所述转向控制信号包括：

指示使所述激光束转向的第一电子指令的激光转向控制信号；以及

指示使所述燃料目标转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号；

所述控制器还被配置为：

将所述激光转向控制信号发送给激光转向系统；以及

将所述燃料目标转向控制信号发送给燃料目标转向系统。

16.一种设备，包括：

控制器，被配置为：

接收以第一速率被捕获并且指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

接收以第二速率被捕获并且指示所述燃料目标与所述激光束之间的第二重叠的第二感测数据；

基于所述第一感测数据和所述第二感测数据来生成燃料目标数据；

生成估计燃料目标数据；

生成所述燃料目标数据与所述估计燃料目标数据的比较；

基于所述比较来生成燃料目标估计误差数据；

基于所述燃料目标数据、所述估计燃料目标数据和所述燃料目标估计误差数据来生成修改后的估计燃料目标数据；以及

以第三速率并且基于所述修改后的估计目标数据来生成转向控制信号，所述转向控制信号被配置为使所述激光束或所述燃料目标转向。

17.根据权利要求16所述的设备，其中：

所述控制器还被配置为：

从第一光学感测装置接收所述第一感测数据，所述第一光学感测装置包括光接收器；以及

从第二光学感测装置接收所述第二感测数据，所述第二光学感测装置包括成像装置；

所述第二速率不同于所述第一速率；并且

所述第三速率大约等于所述第一速率。

18.根据权利要求16所述的设备，其中：

所述控制器还被配置为：

从第一光学感测装置接收所述第一感测数据，所述第一光学感测装置包括第一液滴形成相机；以及

从第二光学感测装置接收所述第二感测数据，所述第二光学感测装置包括第二液滴形成相机，所述第二液滴形成相机被配置为与所述第一液滴形成相机同步；

所述第二速率大约等于所述第一速率；并且

所述第三速率大约等于所述第一速率。

19.一种方法，包括：

由第一光学感测装置，生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据；

由第二光学感测装置，生成指示所述燃料目标与所述激光束之间的第二重叠的第二感测数据；

由控制器，基于所述第一感测数据和所述第二感测数据来生成燃料目标数据；

由所述控制器，生成第一估计燃料目标数据；

由所述控制器，生成所述燃料目标数据与所述第一估计燃料目标数据的比较；

由所述控制器，基于所述比较来生成燃料目标估计误差数据；

由所述控制器，基于所述燃料目标数据、所述第一估计燃料目标数据和所述燃料目标估计误差数据来生成第二估计燃料目标数据；以及

由所述控制器，基于所述第二估计目标数据来生成转向控制信号，所述转向控制信号被配置为使所述激光束或所述燃料目标转向。

20.根据权利要求19所述的方法，其中：

所述转向控制信号包括：

激光转向控制信号，指示将所述激光束向等离子体生成区域转向的第一电子指令的激光转向控制信号；或者

燃料目标转向控制信号，指示将所述燃料目标向所述等离子体生成区域转向的第二电子指令的燃料目标转向控制信号；并且

所述方法还包括：

由激光转向系统的激光转向致动器，基于所述激光转向控制信号来将所述激光束向所述等离子体生成区域转向；或者

由燃料目标转向系统的燃料目标转向致动器，基于所述燃料目标转向控制信号来将所述燃料目标向所述等离子体生成区域转向。

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