CN115734840A - 用于标记涂覆的眼科镜片的系统 - Google Patents

Abstract

一种用于标记涂覆的光学制品(10)的系统，在该涂覆的光学制品(10)的基材(20)的表面上具有至少一个第一标记(18)，该系统包括至少一个标记(18)识别装置，该至少一个标记识别装置具有至少一个电磁辐射源(111)，该至少一个电磁辐射源被配置为用电磁辐射(119A，123)照射具有该至少一个第一标记(18)的基材(20)的表面的至少一部分。该至少一个标记(18)识别装置进一步包括至少一个成像装置，该至少一个成像装置被配置为接收从具有该至少一个第一标记(18)的基材(20)的表面反射的电磁辐射(119A，123)的一部分并且确定该至少一个第一标记(18)在基材(20)的表面上的位置。该系统进一步包括至少一个标记装置，该至少一个标记装置被配置用于基于该至少一个第一标记(18)的位置对该涂覆的光学制品(10)标记至少一个第二标记(180)。

Description

用于标记涂覆的眼科镜片的系统

背景

技术领域

本披露内容总体上涉及一种用于标记涂覆的光学制品的系统和方法，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记，该系统和方法涉及识别该至少一个第一标记的位置、以及对该涂覆的光学制品标记至少一个位置基于该至少一个第一标记的位置的第二标记。

背景技术

关于光学制品(比如眼科镜片)，一个或多个标记经常与该光学制品的基材的至少一个表面相关联。这种标记可以用于各种目的，例如识别该光学制品的制造商、识别使得该光学制品形成的特定生产运行、和/或提供关于该光学制品的信息，比如光学特性(例如，光轴、定心点等)，这些光学特性可以被验光师用来正确且准确地将光学制品装配到镜片镜架中。当光学制品正常使用时，这种标记典型地是难以观察到的，比如难以被戴着具有这种标记的一副眼科镜片的人观察到。在某些有限的情况下，比如暴露于特定波长的光，这些标记可以变得可观察到，以确定该标记中所包含的信息。典型地，标记的尺寸相对较小(1.0mm至2.0mm)。经常期望该标记是永久性标记，因此由其提供的信息可以被多次访问和/或在距标记的形成较远的时间被访问。在一些示例中，通过物理雕刻基材的表面(比如使用尖笔或激光器)、化学蚀刻该基材的表面、或在该基材的制造期间模制标记，将该标记引入基材。

目前将标记引入光学制品的方法可以形成当基材涂覆有一个或多个涂层时在一些条件下不易观察到的标记。期望开发新的系统和方法来对涂覆的光学制品标记至少一个第二标记，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记，以增加该至少一个第一标记的可见性。

发明内容

根据本披露内容的一些实施例或方面，可以提供一种用于标记涂覆的光学制品的系统，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记。该系统可以包括至少一个标记识别装置，该至少一个标记识别装置具有至少一个电磁辐射源，该至少一个电磁辐射源被配置为用电磁辐射照射具有该至少一个第一标记的基材的表面的至少一部分。该系统进一步可以包括至少一个成像装置，该至少一个成像装置被配置为接收从具有该至少一个第一标记的基材的表面反射的电磁辐射的一部分并且确定该至少一个第一标记在该基材的表面上的位置。该系统可以进一步包括至少一个标记装置，该至少一个标记装置被配置用于对该涂覆的光学制品标记至少一个位置基于该至少一个第一标记的位置的第二标记。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个电磁辐射源可以是具有在190nm至10,000nm范围内的波长的激光器。该至少一个成像装置可以具有观察表面和相机，该观察表面被配置用于接收从基材的表面反射的电磁辐射的一部分，该相机被配置用于对该观察表面成像。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个标记识别装置进一步可以包括至少一个束操纵装置，该至少一个束操纵装置被配置用于控制该电磁辐射的至少一个特性。该至少一个束操纵装置可以包括束扩展器、准直透镜、会聚透镜、发散透镜、空间滤波器、检流计、伺服装置和万向节中的至少一个。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个标记识别装置进一步可以包括至少一个源操纵装置，该至少一个源操纵装置被配置用于控制该至少一个电磁辐射源相对于该涂覆的光学制品的位置。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个标记装置可以被配置为对该涂覆的光学制品的至少一个涂层标记该至少一个第二标记。该至少一个第二标记可以是该涂覆的光学制品的至少一个涂层上的元素阵列。该至少一个标记装置可以被配置为调整该元素阵列中每个元素的大小、该元素阵列中每个元素的深度、和该元素阵列的密度中的至少一个。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个标记装置可以包括蚀刻装置和至少一个镜子，该至少一个镜子被配置用于将来自该蚀刻装置的束反射到该涂覆的光学制品上。该蚀刻装置可以是具有在190nm至30,000nm范围内的波长的激光器。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个成像装置可以包括相机和具有至少一个开口的掩模，该掩模被定位在该相机与该涂覆的光学制品之间。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该系统可以进一步包括验证装置，该验证装置被配置用于比较该至少一个第二标记的位置相对于该至少一个第一标记的位置并且确定该至少一个第二标记的位置是否在该至少一个第一标记的位置的预定距离内。该验证装置可以包括验证相机和背光源。该涂覆的光学制品可以被配置为定位在该验证相机与该背光源之间。该验证装置可以被进一步配置用于引导该至少一个标记装置，使得该至少一个第二标记的位置至少部分地与该至少一个第一标记的位置重叠。

根据本披露内容的一些实施例或方面，可以提供一种用于标记涂覆的光学制品的方法，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记。该方法可以包括：使用至少一个电磁辐射源用电磁辐射照射具有该至少一个第一标记的基材的表面的至少一部分，并且通过用该至少一个标记识别装置接收从具有该至少一个第一标记的基材的表面反射的电磁辐射的一部分来确定该至少一个第一标记在该基材的表面上的位置。该方法可以进一步包括使用至少一个标记装置对该涂覆的光学制品标记至少一个位置基于该至少一个第一标记的位置的第二标记。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个电磁辐射源可以是具有在190nm至10,000nm范围内的波长的激光器。从基材的表面反射的电磁辐射的一部分可以在该至少一个标记识别装置的该至少一个成像装置的观察表面上被接收，并且其中，使用相机对该观察表面成像。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该方法可以进一步包括使用该至少一个标记识别装置的至少一个束操纵装置控制该电磁辐射的至少一个特性。该至少一个束操纵装置可以包括束扩展器、准直透镜、会聚透镜、发散透镜、空间滤波器、检流计、伺服装置和万向节中的至少一个。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该方法可以进一步包括使用该至少一个标记识别装置的至少一个源操纵装置控制该至少一个电磁辐射源相对于该涂覆的光学制品的位置。

根据本披露内容的一些实施例或方面，标记该涂覆的光学制品可以包括使用蚀刻装置将该至少一个第二标记蚀刻到该涂覆的光学制品的至少一个涂层中。该蚀刻装置可以是具有在190nm至30,000nm范围内的波长的激光器。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该至少一个成像装置可以包括相机和具有至少一个开口的掩模，其中该掩模被定位在该相机与该涂覆的光学制品之间。该至少一个标记装置可以被配置为对该涂覆的光学制品的至少一个涂层标记该至少一个第二标记。

根据本披露内容的一些实施例或方面，对该涂覆的光学制品标记至少一个第二标记可以包括在该涂覆的光学制品的至少一个涂层上标记元素阵列。该方法可以进一步包括调整该元素阵列中每个元素的大小、该元素阵列中每个元素的深度、和该元素阵列的密度中的至少一个。

根据本披露内容的一些实施例或方面，该方法可以进一步包括使用验证装置来比较该至少一个第二标记的位置相对于该至少一个第一标记的位置并且确定该至少一个第二标记的位置是否在该至少一个第一标记的位置的预定距离内。该验证装置可以包括验证相机和背光源。该涂覆的光学制品可以被配置为定位在该验证相机与该背光源之间。该验证装置可以被进一步配置用于引导该至少一个标记装置，使得该至少一个第二标记的位置至少部分地与该至少一个第一标记的位置重叠。

根据本披露内容的一些实施例或方面，提供了一种涂覆的光学制品，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记并且在该涂覆的光学制品的至少一个涂层上具有至少一个第二标记，其中该光学制品可以通过本文描述的任何方法获得。

用于制作光学制品的系统和方法可以用以下一个或多个方面来表征。

在第一方面，本发明可以涉及一种用于标记涂覆的光学制品的系统，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记，该系统包括：至少一个标记识别装置，该至少一个标记识别装置包括：至少一个电磁辐射源，该至少一个电磁辐射源被配置为用电磁辐射照射具有该至少一个第一标记的基材的表面的至少一部分；以及至少一个成像装置，该至少一个成像装置被配置为接收从具有该至少一个第一标记的基材的表面反射的该电磁辐射的一部分并且确定该至少一个第一标记在该基材的表面上的位置；以及至少一个标记装置，该至少一个标记装置被配置用于对该涂覆的光学制品标记至少一个位置基于该至少一个第一标记的位置的第二标记。

在第二方面，根据第一方面的系统的该至少一个电磁辐射源是具有在190nm至10,000nm范围内的波长的激光器。

在第三方面，根据第一方面或第二方面的该至少一个成像装置包括观察表面和相机，该观察表面被配置用于接收从该基材的表面反射的电磁辐射的一部分，该相机被配置用于对该观察表面成像。

在第四方面，根据第一方面至第三方面中的任一方面的该至少一个标记识别装置进一步包括至少一个束操纵装置，该至少一个束操纵装置被配置用于控制该电磁辐射的至少一个特性。

在第五方面，根据第四方面的该至少一个束操纵装置包括束扩展器、准直透镜、会聚透镜、空间滤波器、发散透镜、检流计、伺服装置或万向节中的至少一个。

在第六方面，根据前述第一方面至第五方面中的任一方面的该至少一个标记识别装置进一步包括至少一个源操纵装置，该至少一个源操纵装置被配置用于控制该至少一个电磁辐射源相对于该涂覆的光学制品的位置。

在第七方面，根据前述第一方面至第六方面中的任一方面的该至少一个标记装置被配置为对该涂覆的光学制品的至少一个涂层标记该至少一个第二标记。

在第八方面，根据前述第一方面至第七方面中的任一方面的该至少一个第二标记是该涂覆的光学制品的至少一个涂层上的元素阵列。

在第九方面，根据第八方面的该至少一个标记装置被配置为调整该元素阵列中每个元素的大小、该元素阵列中每个元素的深度、或该元素阵列的密度中的至少一个。

在第十方面，根据前述第一方面至第九方面中的任一方面的该至少一个标记装置包括蚀刻装置和至少一个镜子，该至少一个镜子被配置用于将来自该蚀刻装置的束反射到该涂覆的光学制品上。

在第十一方面，根据第十方面的蚀刻装置是具有在190nm至30,000nm范围内的波长的激光器。

在第十二方面，根据前述第一方面至第十一方面中的任一方面的该至少一个成像装置包括相机和具有至少一个开口的掩模，该掩模被定位在该相机与该涂覆的光学制品之间。

在第十三方面，根据前述第一方面至第十二方面中的任一方面的系统进一步包括验证装置，该验证装置被配置用于比较该至少一个第二标记的位置相对于该至少一个第一标记的位置并且确定该至少一个第二标记的位置是否在该至少一个第一标记的位置的预定距离内。

在第十四方面，根据第十三方面的验证装置包括验证相机和背光源，并且其中，该涂覆的光学制品被配置为定位在该验证相机与该背光源之间。

在第十五方面，根据第十三方面或第十四方面的验证装置被进一步配置用于引导该至少一个标记装置，使得该至少一个第二标记的位置至少部分地与该至少一个第一标记的位置重叠。

在第十六方面，提供了一种用于标记涂覆的光学制品的方法，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记，该方法包括：使用至少一个电磁辐射源用电磁辐射照射具有该至少一个第一标记的基材的表面的至少一部分；通过用至少一个标记识别装置接收从具有该至少一个第一标记的基材的表面反射的电磁辐射的一部分来确定该至少一个第一标记在该基材的表面上的位置；以及使用至少一个标记装置对该涂覆的光学制品标记至少一个位置基于该至少一个第一标记的位置的第二标记。

在第十七方面，根据第十六方面的该至少一个电磁辐射源是具有在190nm至10,000nm范围内的波长的激光器。

在第十八方面，根据第十六方面或第十七方面的从基材的表面反射的电磁辐射的一部分在该至少一个标记识别装置的该至少一个成像装置的观察表面上被接收，并且其中，使用相机对该观察表面成像。

在第十九方面，根据第十六方面至第十八方面中的任一方面的方法进一步包括使用该至少一个标记识别装置的至少一个束操纵装置控制该电磁辐射的至少一个特性。

在第二十方面，根据第十九方面的该至少一个束操纵装置包括束扩展器、准直透镜、会聚透镜、发散透镜、空间滤波器、检流计、伺服装置或万向节中的至少一个。

在第二十一方面，根据前述第十六方面至第二十方面中的任一方面的方法进一步包括使用该至少一个标记识别装置的至少一个源操纵装置控制该至少一个电磁辐射源相对于该涂覆的光学制品的位置。

在第二十二方面，根据前述第十六方面至第二十一方面中的任一方面的标记该涂覆的光学制品包括：使用蚀刻装置将该至少一个第二标记蚀刻到该涂覆的光学制品的至少一个涂层中。

在第二十三方面，根据第二十二方面的蚀刻装置是具有在190nm至30,000nm范围内的波长的激光器。

在第二十四方面，根据前述第十六方面至第二十三方面中的任一方面的该至少一个成像装置包括相机和具有至少一个开口的掩模，该掩模被定位在该相机与该涂覆的光学制品之间。

在第二十五方面，根据前述第十六方面至第二十四方面中的任一方面的该至少一个标记装置被配置为对该涂覆的光学制品的至少一个涂层标记该至少一个第二标记。

在第二十六方面，根据前述第十六方面至第二十五方面中的任一方面的对该涂覆的光学制品标记至少一个第二标记包括在该涂覆的光学制品的至少一个涂层上标记元素阵列。

在第二十七方面，根据前述第十六方面至第二十六方面中的任一方面的方法进一步包括调整该元素阵列中每个元素的大小、该元素阵列中每个元素的深度、或该元素阵列的密度中的至少一个。

在第二十八方面，根据前述第十六方面至第二十七方面中的任一方面的方法进一步包括使用验证装置来比较该至少一个第二标记的位置相对于该至少一个第一标记的位置并且确定该至少一个第二标记的位置是否在该至少一个第一标记的位置的预定距离内。

在第二十九方面，根据第二十八方面的验证装置包括验证相机和背光源，并且其中，该涂覆的光学制品被配置为定位在该验证相机与该背光源之间。

在第三十方面，根据第二十八方面或第二十九方面的验证装置被进一步配置用于引导该至少一个标记装置，使得该至少一个第二标记的位置至少部分地与该至少一个第一标记的位置重叠。

在第三十一方面，通过第十六方面至第三十方面中的任一方面的方法获得一种涂覆的光学制品，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记并且在该涂覆的光学制品的至少一个涂层上具有至少一个第二标记。

本文描述的光学制品的这些和其他特征和特性、以及这种制品的制造方法，在参考附图考虑以下描述和所附权利要求时将变得更加清晰，所有附图构成本说明书的一部分，其中在各个图中同样的附图标记指代对应的部分。然而，应明确理解，附图仅用于说明和描述的目的。

附图说明

图1是根据本披露内容的一些实施例或方面的具有第一标记和一个或多个涂层的涂覆的光学制品的代表性部分截面立体图；

图2是根据本披露内容的一些实施例或方面的用于标记图1的涂覆的光学制品的系统的示意图；

图3A至图3B是图2中所示的系统的标记识别装置的示意图；

图4是第一标记和由标记识别装置用来识别第一标记的位置的识别标志的顶视图；

图5是图2中所示的系统的标记装置的示意图；

图6是具有第一标记和由标记装置赋予的第二标记的涂覆的光学制品的代表性部分截面立体图；

图7是图2中所示的系统的验证装置的示意图；以及

图8是用于对涂覆的光学制品标记第二标记的方法的流程图。

在图1至图8中，除非另有说明，否则相同的字符代表相同的部件。

具体实施方式

如本文所使用的，除非上下文另有明确规定，否则“一个”、“一种”和“该”的单数形式包括复数指代。

空间或方向术语，比如“左”、“右”、“内”、“外”、“上方”、“下方”等，与附图中所示的发明有关并且是不应被认为是限制性的，因为本发明可以采用各种替代取向。

说明书和权利要求中使用的所有数字应理解为在所有情况下都由术语“约”修饰。“约”是指所述值的正或负百分之二十五，比如所述值的正或负百分之十。然而，不应将其视为局限于在等效原则下对这些值的任何分析。

除非另外指明，否则本文所披露的所有范围或比率应理解为包括起始值和结束值以及其中包含的任何和所有子范围或子比率。例如，叙述的范围或比率“1至10”应视为包括在最小值1与最大值10之间(并且包含端点)的任何和所有子范围或子比率；即，以最小值1或更大值开始并且以最大值10或更小值结束的所有子范围或子比率。本文披露的范围和/或比率表示指定范围和/或比率上的平均值。

术语“第一”、“第二”等并非旨在指任何特定的顺序或年代，而是指不同的条件、特征或要素。

本文中提及的所有文件均“通过援引并入”。

术语“至少”与“大于或等于”同义。

如本文所使用的，“至少一个”与“一个或多个”同义。例如，短语“A、B或C中的至少一个”是指A、B或C中的任何一个，或A、B或C中的任何两个或更多个的任何组合。进一步，“A、B和C中的至少一个”包括单独的A；或单独的B；或单独的C；或A和B；或A和C；或B和C；或A、B和C全部。

术语“包括”与“包括”同义。

如本文所使用的，术语“平行”或“基本上平行”是指两个物体(比如长形物体并包括参考线)之间的相对角度(如果延伸到理论相交处)为从0°到5°，或从0°到3°，或从0°到2°，或从0°到1°，或从0°到0.5°，或从0°到0.25°，或从0°到0.1°，包含所列举的值。

如本文所使用的，术语“垂直”或“基本上垂直”是指两个物体在其实际或理论相交处的相对角度为从85°到90°，或从87°到90°，或从88°到90°，或从89°到90°，或从89.5°到90°，或从89.75°到90°，或从89.9°到90°，包含所列举的值。

如本文所使用的，术语“光学”是指与光和/或视觉有关或相关联。例如，根据本文披露的各种非限制性方面，光学制品、制品或装置可以选自眼科元件、制品和装置，显示元件、制品和装置，窗，和镜子。

如本文所使用的，术语“眼科”是指与眼睛和视觉有关或相关联。眼科制品或元件的非限制性示例包括矫正和非矫正镜片，包括单光或多光镜片，它们可以是分段或非分段的多光镜片(比如但不限于双焦镜片、三焦点镜片和渐变镜片)，以及用于矫正、保护或增强(美容或其他)视觉的其他元件，包括但不限于隐形眼镜、人工晶状体、放大镜和保护性镜片或遮阳板。

如本文所使用的，术语“镜片”是指并包括至少单独的镜片、镜片对、部分成型(或半成品)镜片、完全成型(或成品)镜片和镜片毛坯。

如本文所使用的，术语“眼科基材”是指镜片、部分成型的镜片和镜片毛坯。

如本文所使用的，术语“涂层”是指从可流动组合物得到的受支撑膜，其可以具有或不具有均匀的厚度，并且具体地排除聚合物片材。

如本文所使用的，术语“标记”是指一个或多个标记。

如本文所使用的，术语“可见光”或“可见辐射”是指具有在380nm至780nm范围内的波长的电磁辐射。

如本文所使用的，术语“紫外”、“紫外辐射”和“紫外光”是指具有在100nm至小于380nm范围内的波长的电磁辐射。术语“UV”是指紫外，比如紫外辐射。

如本文所使用的，术语“红外”、“红外辐射”和“红外光”是指具有在超过780nm至高达30,000nm范围内的波长的电磁辐射。

对各种示例或方面的讨论可以将某些特征描述为“特别地”或“优选地”在某些限制内(例如，“优选地”、“更优选地”、或“甚至更优选地”在某些限制内)。应理解的是，本发明不限于这些特定或优选的限制，而是涵盖本文所描述的各种示例和方面的整个范围。

本披露内容以任意组合的形式包括以下示例或方面、由其组成或基本上由其组成。本披露内容的各种示例或方面在单独的附图中示出。然而，应当理解的是，这仅仅是为了便于说明和讨论。在本披露内容的实践中，一个附图中所示的一个或多个示例或方面可以与一个或多个其他附图中所示的一个或多个示例或方面组合。

在一些实施例或方面，本披露内容总体上涉及一种光学制品10、以及一种用于标记涂覆的光学制品的系统和方法，在该涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记。在描述该系统和方法之前，现在将描述示例性光学制品10。

在本披露内容的各种实施例或方面中，光学制品10可以选自眼科制品或元件、显示制品或元件、窗、镜子、有源液晶单元制品或元件、或无源液晶单元制品或元件。

眼科制品或元件的示例包括但不限于矫正和非矫正镜片，包括单光或多光镜片，它们可以是分段或非分段的多光镜片(比如但不限于双焦点镜片、三焦点镜片和渐变镜片)，以及用于矫正、保护或增强(美容或其他)视觉的其他元件，包括但不限于隐形眼镜、人工晶状体、放大镜和保护性镜片或遮阳板。

显示制品、元件和装置的示例包括但不限于屏幕、监视器和安全元件，包括但不限于安全标记和认证标记。

窗的示例包括但不限于汽车和飞机透明片、滤波器、百叶窗和光学开关。

参考图1，光学制品10通常包括基材20和施加于基材20的一个或多个表面的一个或多个涂层。在一些实施例或方面，该一个或多个涂层可以包括施加在光学制品10的至少一个表面的至少一部分上的第一涂层22。光学制品10进一步可以包括施加在第一涂层22的至少一部分上的一个或多个附加涂层24。

继续参考图1，基材20具有向前或顶表面12、向后或底表面14以及在顶表面12与底表面14之间延伸的侧表面16。当光学制品10是眼科镜片时，底表面14与戴着光学制品10的个人的眼睛相对，侧表面16典型地位于支撑镜架内，并且顶表面12面向入射光(未示出)，该入射光的至少一部分穿过光学制品10并且进入个人的眼睛。

对于一些实施例或方面，顶表面12、底表面14和侧表面16中的至少一个可以是凸面的、凹面的或平面的。顶表面12、底表面14和侧表面16共同定义了基材20的外部26，该基材的外部总体上定义了光学制品10的总体外部物理形状。第一涂层22和该一个或多个附加涂层24可以施加至基材20的外部26的任何部分。

基材20可以包括无机材料、有机聚合物材料或其组合。对于一些方面，基材20可以是眼科基材。适用于形成眼科基材的有机材料的非限制性示例包括但不限于本领域公认的可用作眼科基材的聚合物，比如用于制备用于光学应用(比如眼科镜片)的光学透明铸件的有机光学树脂。适用于形成本披露内容的光学制品10的基材20的无机材料的非限制性示例包括玻璃，比如硅基玻璃、矿物、陶瓷和金属。例如，在一个非限制性方面，基材20可以包括玻璃。

继续参考图1，可以在基材20上提供至少一个标志，比如至少一个第一标记18。在一些实施例或方面，第一标记18可以被提供在基材20的表面上，比如顶表面12上。第一标记18可以形成在基材20的外部26的凹表面、凸表面或平面表面上。第一标记18可以被形成为可以从基材20的外部26突出的地形特征，或者凹入基材20的外部26中的地形特征。

在一些实施例或方面，第一标记18的形状可以设计为定义光学参考标记，从业者可以将其用作将光学制品10的焦度与配戴者的处方相匹配的参考点。在其他方面，第一标记18可以是标志，比如标识。第一标记18可以被形成为多个单独标记18的阵列，这些单独标记一起定义了总体标记。当在基材20的外表面26上提供多个标记18的情况下，这多个标记18可以被提供在同一平面或多个偏离的平面中。第一标记18的各种尺寸(包括深度、高度和宽度)可以根据本领域公认的方法来选择。

在一些实施例或方面，第一标记18可以以多种方式提供在基材20上。例如，一个或多个第一标记18可以被整体地形成在基材20上，例如，通过模制。在其他方面，一个或多个标记18可以通过蚀刻、雕刻或根据本领域技术人员已知的其他方法被形成在基材20上，以在基材20上印出期望的第一标记18。例如，激光器可以用于对基材20的外部26雕刻该标记。在各种实施例或方面，第一标记18是对基材涂覆一个或多个涂层之前被形成在基材20上。

继续参考图1，光学制品10包括一个或多个涂层，比如第一涂层22和一个或多个附加涂层24，这些涂层被施加在基材20的外部26的至少一部分和第一标记18上。第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的示例包括但不限于：底漆涂层和膜；保护性涂层和膜，包括过渡涂层和膜以及耐磨涂层和膜；减反射涂层和膜；偏振涂层和膜；及其组合。

第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24可以是光学透明的(没有色调)，或者具有期望的色调。对于一些附加方面，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24可以包括静态染料、光致变色材料、或其两种或更多种的组合。在一些实施例或方面，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24不含静态染料、和光致变色材料。

第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24可以形成在基材20的整个外部26上，或者形成在基材20的至少一个表面(比如顶表面12)的至少一部分上。第一涂层22可以与外部26和第一标记18共形，或者它可以在外部26和第一标记18上形成平坦的表面。在各种实施例或方面，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24可以使用各种涂覆方法被施加在基材20的外部26的至少一部分上，包括但不限于旋转、喷雾、浸渍、流动、帘幕、PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)、等离子体增强CVD、蒸发、溅射、电沉积、以及印刷(比如喷墨印刷)。

在基材20上或上方形成的第一涂层22和其他可选的膜和/或层(比如但不限于该一个或多个附加涂层24)各自具有至少足够的清晰度，以允许观察到透过涂覆的光学制品10的电磁能量源和入射在涂覆的光学制品10的表面上的电磁能量的反射。对于一些方面，第一涂层22和一个或多个附加层24各自独立地具有大于0％和小于或等于100％(比如从50％到100％)的百分比透射率(比如可见光的百分比透射率)。在一些实施例或方面，第一涂层22和一个或多个附加涂层24具有至少足够的反射率，以允许入射在涂覆的光学制品10的外表面上的电磁能量的至少一部分反射。

在一些实施例或方面，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24具有相对于基材20的折射率值相似的折射率值，这取决于第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的厚度。例如，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的折射率值在基材20的折射率值的+/-0.04内或更小。在其他实施例或方面，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24具有相对于基材20的折射率值不同的折射率值，这取决于第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的厚度。例如，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的折射率值比基材20的折射率值高或低至少+/-0.04。虽然无意受任何理论的约束，但认为，第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24的折射率值与基材20的折射率值的相似性或差异性使得人眼在检查涂覆的光学制品10时难以观察到第一标记18。换言之，虽然第一标记18可能在未涂覆的基材20上是可见的，但将第一涂层22和/或该一个或多个附加涂层24施加到基材20上以及第一标记18上可能使视觉上观察到第一标记18更加困难或不可能。

在一些实施例或方面，提供了一种系统100，用于对具有第一标记18的涂覆的光学制品10基于第一标记18的位置来标记第二标记。系统100可以被配置用于识别第一标记18的位置、并且对涂覆的光学制品10标记第二标记。以这种方式，当透过涂覆的光学制品10相对于第二标记观察电磁能量源时或者当电磁能量源从涂覆的光学制品10的表面反射时，第二标记可以是可见的。在一些实施例或方面，系统100可以被进一步配置用于比较第二标记相对于第一标记18的位置并且确定第二标记的位置是否在第一标记18的位置的预定距离内。

参考图2，系统100具有标记识别装置110，该标记识别装置被配置用于识别第一标记18在涂覆的光学制品10的基材20上的位置。系统100进一步具有标记装置120，该标记装置被配置用于对涂覆的光学制品10标记第二标记180。系统100进一步具有验证装置130，该验证装置被配置用于比较第二标记180相对于第一标记18的位置并且确定第二标记180的位置是否在第一标记18的位置的预定距离内。在各种实施例或方面，系统100可以具有一个或多个标记识别装置110、一个或多个标记装置120、一个或多个标记验证装置130、和/或一个或多个控制器140。

对于一些实施例或方面，通过对光学制品10标记第二标记来增加第一标记18的可见性可以对必须根据配戴者的处方来检查和匹配该镜片的焦度的从业者有帮助。例如，代表镜片焦度的符号以及其他的对从业者有用的识别信息可以以第二标记的形式被标记在光学制品10上，甚至当第一标记18不能被轻易地识别到时。本披露内容的非常可见的第二标记可能对于负责检查光学制品的质量控制人员来说是有用的，或者它可以用作自动验证系统中的标志。当本披露内容的具有第二标记的光学制品10在电磁能量源存在的情况下被检查时，第二标记相对于光学制品10的周围表面很容易被识别。

在一些实施例或方面，系统100可以包括控制器140，该控制器被配置为控制系统100的一个或多个部件的操作，比如标记识别装置110、标记装置120和验证装置130。控制器140可以被配置为经由具有有线或无线通信连接的通信网络160向系统100的一个或多个部件传输数据和/或从该系统的一个或多个部件接收数据。在一些实施例或方面，有线通信连接可以是将系统100的一个或多个部件连接到控制器140的一个或多个物理电线。无线通信连接的示例包括但不限于蜂窝网络(例如，长期演进(LTE)网络、第三代(3G)网络、第四代(4G)网络、码分多址访问(CDMA)网络等)、公共陆地移动网络(PLMN)、局域网(LAN)、广域网(WAN)、城域网(MAN)、电话网络(例如，公共交换电话网(PSTN))、专用网络、自组网、内联网、互联网、基于光纤的网络、云计算网络和/或类似网络、NFC通信连接、RFID通信连接、

通信连接和/或类似通信连接、和/或部分或所有这些或其他类型网络的组合。

图1中所示的系统100的部件的数量和布置作为示例提供。可以存在附加的系统和/或装置、更少的系统和/或装置、不同的系统和/或装置、或与图1所示不同布置的系统和/或装置。图1中所示的系统100的一个或多个装置或部件可以执行被描述为由另一个装置或部件执行的一个或多个功能。

继续参考图1，控制器140可以包括总线142、处理器144、存储器146、存储部件148、输入部件150、输出部件152、以及通信接口154。

总线142可以包括允许在系统100的部件之间通信的部件。在一些非限制性的实施例或方面，处理器144可以以硬件、软件或硬件与软件的组合来实现。例如，处理器144可以包括处理器(例如，中央处理单元(CPU)、图形处理单元(GPU)、加速处理单元(APU)等)、微处理器、数字信号处理器(DSP)和/或任何的可以被编程以执行功能的处理部件(例如，现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)等)。存储器146可以包括随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)和/或另一种类型的存储有供处理器144使用的信息和/或指令的动态或静态存储装置(例如，闪存、磁存储器、光存储器等)。

存储部件148可以存储与系统100的一个或多个部件的操作和使用相关的信息和/或软件。例如，存储部件148可以包括硬盘(例如，磁盘、光盘、磁光盘、固态盘等)、光碟(CD)、数字多功能光盘(DVD)、软盘、磁带盒、磁带和/或另一种类型的计算机可读介质，以及相应的驱动器。

输入部件150可以包括允许系统100的一个或多个部件接收信息的部件，比如经由用户输入(例如，触摸屏显示器、键盘、小键盘、鼠标、按钮、开关、麦克风、相机等)。输出部件152可以包括从系统100的一个或多个部件提供输出信息的部件(例如，显示器、扬声器、一个或多个发光二极管(LED)等)。

通信接口154可以包括类似收发器的部件(例如，收发器、单独的接收器与发射器等)，其使系统100的一个或多个部件能够与其他装置通信，比如经由有线连接、无线连接或有线连接与无线连接的组合。通信接口154可以允许系统100的一个或多个部件从另一个装置接收信息和/或向另一个装置提供信息。例如，通信接口154可以包括以太网接口、光学接口、同轴接口、红外接口、射频(RF)接口、通用串行总线(USB)接口、

接口、蜂窝网络接口、和/或类似接口。

控制器140可以执行本文描述的一个或多个过程。控制器140可以基于处理器144执行由计算机可读介质(比如存储器146和/或存储部件148)存储的软件指令来执行这些过程。计算机可读介质(例如，非暂态计算机可读介质)在本文中被定义为非暂态存储装置。非暂态存储装置包括位于单一物理存储装置内部的存储空间或分布于多个物理存储装置的存储空间。

软件指令可以从另一个计算机可读介质或经由通信接口154从另一个装置被读入存储器146和/或存储部件148。当被执行时，存储在存储器146和/或存储部件148中的软件指令可以使处理器144执行本文描述的一个或多个过程。附加地或替代地，可以代替软件指令或与软件指令结合使用硬连线电路，以执行本文描述的一个或多个过程。因此，本文描述的实施例或方面不限于硬件电路与软件的任何特定组合。

存储器146和/或存储部件148可以包括数据存储或一个或多个数据结构(例如，数据库、和/或类似物)。控制器140可能能够从存储器146和/或存储部件148中的数据存储或一个或多个数据结构中接收信息、在其中存储信息、向其之传达信息、或搜索存储在其中的信息。例如，该信息可以包括与一组配置文件、输入数据、输出数据、交易数据、账户数据、或其任何组合相关联的数据。

参考图3A，根据本披露内容的一些实施例或方面示出了标记识别装置110。一般来说，标记识别装置110包括至少一个电磁辐射源111和至少一个成像装置112。在一些实施例或方面，该至少一个电磁辐射源111可以被配置为用第一电磁辐射束119a照射具有至少一个第一标记18的基材20的表面的至少一部分。该至少一个成像装置112可以被配置为接收从具有至少一个第一标记18的基材20的表面反射的第一电磁辐射束119a的至少一部分并且确定该至少一个第一标记18在基材20的表面上的位置。

继续参考图3A，该至少一个电磁辐射源111可以是激光器。该激光器可以是连续波激光器或脉冲波激光器。在一些实施例或方面，该激光器可以是具有在380nm至780nm范围内的波长的可见光激光器。在其他实施例或方面，该激光器可以是具有在100nm至小于380nm的范围内的波长的紫外光激光器。在其他实施例或方面，该激光器可以是具有在超过780nm至高达30,000nm的范围内的波长的红外光激光器。在其他实施例或方面，该至少一个电磁辐射源111可以是相干单色(或接近单色的)可见光源。在不同的实施例或方面，可见光源可以是高强度氙弧灯、发光二极管(LED)、荧光灯、或任何其他可见光源。该至少一个电磁辐射源111的单色特性可以随电磁源111的类型而变，例如，如果电磁辐射源111是LED，或者它可以使用滤波器和单色仪中的至少一个来生成。

该至少一个电磁辐射源111被配置为将第一电磁辐射束119a(比如激光)投射到其上具有第一标记18的基材20的外部26的至少一部分上。在一些实施例或方面，该至少一个电磁辐射源111可以被配置为将会聚的、发散或准直的第一电磁辐射束119a投射到其上具有第一标记18的基材20的外部26的至少一部分上。

可以提供至少一个束操纵装置113，用于操纵来自该至少一个电磁辐射源111的第一电磁辐射束119a的特性，比如束的形状和/或束投射在基材20的表面上的位置。在一些实施例或方面，该至少一个束操纵装置113可以被配置为操纵从该至少一个电磁辐射源111发射的电磁辐射束的大小。例如，该至少一个束操纵装置113可以被配置为将电磁辐射束的大小控制在0.2mm与80mm之间。在一些实施例或方面，该至少一个束操纵装置113可以被配置为会聚、发散或准直从该至少一个电磁辐射源111发射的束。例如，该至少一个束操纵装置113可以具有至少一个束扩展器、至少一个会聚透镜、至少一个发散透镜、至少一个准直透镜、或其任何组合。在一些实施例或方面，该至少一个束操纵装置113可以是平凹束扩展器，该平凹束扩展器被配置为控制来自该至少一个电磁辐射源111的束投射在基材20的表面上的位置。例如，该至少一个束操纵装置113可以是检流计、伺服装置、万向节、和/或其任何组合。在一些实施例或方面，该至少一个束操纵装置113可以是空间滤波器，该空间滤波器被配置为改善从该至少一个电磁辐射源111发射的电磁辐射的一致性。在各种实施例或方面，该至少一个束操纵装置113可以包括多个单独的束操纵装置113。

在其他实施例或方面，该至少一个电磁辐射源111相对于基材20的位置可以经由至少一个源操纵装置114来控制。例如，该至少一个束操纵装置113可以被配置为使该至少一个电磁辐射源111在笛卡尔坐标系中相对于基材20在任一方向上移动，和/或改变该至少一个电磁辐射源111相对于基材20的角度取向。

继续参考图3A，该至少一个成像装置112被配置为接收从具有至少一个第一标记18的基材20的表面反射的第一电磁辐射束119a的一部分并且确定该至少一个第一标记18在基材20的表面上的位置。在一些实施例或方面，该至少一个成像装置112可以是相机，比如光学相机。该相机可以被配置为捕获第一电磁辐射束119a的图像数据，该第一电磁辐射束被从具有第一标记18的基材20的表面反射并且投射到观察表面115上。例如，相机可以被配置为捕获包括第一标记18的反射图像的图像数据。相机可以被选择为使得其被配置为基于从该至少一个电磁辐射源111发射的电磁辐射的特性来捕获图像数据。例如，相机可以是可见光相机、红外相机、或UV相机。可以使用各种透镜来增强相机的光学特性。观察表面115被配置用于接收第一电磁辐射束119a的从基材20的表面反射的这部分，使得第一束119a可以被相机捕获。在一些实施例或方面，观察表面115可以是平面屏幕，该平面屏幕被定位在该至少一个成像装置112与光学制品10之间。观察表面115可以是透明或半透明的。可以使用一个或多个掩模116(每个掩模116具有至少一个开口117)来阻挡反射到观察表面115上的第一电磁辐射束119a的至少一部分。每个掩模117可以被定位在相机与涂覆的光学制品10之间。

继续参考图3A，该至少一个成像装置112可以被编程或配置为捕获所反射的第一电磁辐射束119a的一部分的图像数据。例如，来自该至少一个电磁辐射源111的第一电磁辐射束119a可以被聚焦在光学制品10的顶表面的一部分上，比如经由该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114。控制器140(在图2中示出)可以被配置或编程为分析由该至少一个成像装置112记录的图像数据并且确定该图像数据是否包括指示第一标记18的反射图像的存在的信息。如果发现第一标记18的反射图像，则存储反射的标记18的位置。例如，控制器140可以被配置或编程为将反射的标记18的位置作为坐标数据存储在存储器146和/或存储部件148中。在一些示例或方面，坐标数据可以是对应于光学制品10的顶视图平面的一组X轴和Y轴坐标。

如果在由该至少一个成像装置112捕获的光学制品10的一部分的图像数据中没有发现第一标记18的反射图像，则来自该至少一个电磁辐射源111的第一电磁辐射束119a可以被聚焦在光学制品10的顶表面的先前没有被成像的不同部分上，比如经由该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114。然后，控制器140可以分析与光学制品10的顶表面12的该不同部分相关联的图像数据并且确定该图像数据是否包括指示第一标记18的反射图像的存在的信息。捕获光学制品10的一部分的图像数据并且分析该图像数据是否包括第一标记18的反射图像的过程可以重复进行，直到发现该反射图像或者光学制品10被认为没有第一标记18。

在一些实施例或方面，代替以迭代的方式捕获和分析光学制品的分立部分的图像数据，该至少一个成像装置112可以被配置为在第一电磁辐射束119a被操纵以扫描或扫掠光学制品10的整个顶表面时连续地捕获所反射的第一电磁辐射束119a的图像数据。例如，控制器140可以被配置或编程为以如下方式控制该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114：使得来自该至少一个电磁辐射源111的电磁辐射通过连续地扫描或扫掠光学制品10的不同部分来照射光学制品10的整个表面。在一些实施例或方面，该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114可以以如下方式被控制：使得来自该至少一个电磁辐射源111的第一电磁辐射束119a以扫掠光学制品10的表面的线被投射。

在其他实施例或方面，掩模116可以放置在该至少一个电磁辐射源111与观察表面115之间，使得掩模116阻挡第一电磁辐射束119a，除了第一电磁辐射束119a的穿过掩模116的开口117的一部分之外。

参考图3B，在确定光学制品10的图像数据具有第一标记18的反射图像之后，系统100可以被配置为通过基于在图像数据的初始分析期间确定的坐标数据将第二电磁辐射束119b引导到光学制品10的顶表面上的一个位置处，来验证标记18的反射图像的位置。第二电磁辐射束119b可以是具有与第一标记18相同的一般大小的聚焦束，例如，该聚焦束可以具有高达2.0mm的直径。例如，控制器140可以被配置或编程为以如下方式控制该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114：使得来自该至少一个电磁辐射源111的第二电磁辐射束119b被引导到光学制品10的顶表面12上的如下位置处，该位置在光学制品10的顶视图平面中具有与第一标记18的反射图像的位置相对应的X轴和Y轴坐标。该至少一个成像装置112可以捕获新的图像数据。

参考图4，由该至少一个成像装置112捕获的图像数据可以用于验证第二电磁辐射束119b相对于第一标记18的反射图像的对齐。例如，如果第二电磁辐射束119b的位置与第一标记18的反射图像的位置不对齐，则控制器140可以被配置或编程为以一种方式控制该至少一个束操纵装置113和/或该至少一个源操纵装置114，以在箭头A的方向上(例如，对应于在光学制品的顶视图平面中的Y轴方向)和/或在箭头B的方向上(例如，对应于在光学制品的顶视图平面中的X轴方向)引导第二电磁辐射束119b。一旦第二电磁辐射束119b的位置与第一标记18的反射图像的位置对齐，就可以使用此位置的坐标数据来引导该至少一个标记装置120在光学制品10上标记第二标记180，如本文描述的。

参考图5，根据一些实施例或方面示出了至少一个标记装置120。如本文所讨论的，该至少一个标记装置120被配置为对涂覆的制品10的至少一部分标记至少一个第二标记180。在一些实施例或方面，该至少一个标记装置120可以被配置为在光学制品10上的与第一标记18的位置相对应的位置处标记至少一个涂层，比如第一涂层22和/或该至少一个附加涂层24。在其他实施例或方面，该至少一个标记装置120可以被配置为标记至少一个涂层和基材20，比如基材20的至少一个表面。

继续参考图5，该至少一个标记装置120具有蚀刻装置122，该蚀刻装置被配置用于将一束电磁辐射123投射到光学制品10的表面上，比如光学制品10的该至少一个涂层上。蚀刻装置122可以是激光器。该激光器可以是连续波激光器或脉冲波激光器。在一些实施例或方面，该激光器可以是具有在380nm至780nm范围内的波长的可见光激光器。在其他实施例或方面，该激光器可以是具有在100nm至小于380nm的范围内的波长的紫外光激光器。在其他实施例或方面，该激光器可以是具有在超过780nm至高达30,000nm的范围内的波长的红外光激光器。

来自蚀刻装置122的电磁辐射束123可以被配置为用第二标记180在光学制品10上的与第一标记18的位置相对应的位置处蚀刻光学制品10的至少一个涂层(比如第一涂层22和/或至少一个附加涂层24)的表面。第二标记180可以蚀刻在2.75μm至5μm的深度处。

在一些实施例或方面，蚀刻装置122可以被配置用于在光学基材20上的该至少一个涂层的外表面下方进行表面下蚀刻第二标记180。在其他实施例或方面，蚀刻装置122可以被配置用于在光学基材20的表面下方进行第二标记180的表面下蚀刻。来自蚀刻装置122的电磁辐射束123可以被聚焦(比如使用一个或多个聚焦元件)到在该至少一个涂层的外表面下方或在基材20的外表面下方的期望深度。可以通过改变蚀刻装置122与光学制品10之间的距离，比如移动蚀刻装置122和光学制品10中的一个或两个，来进一步控制第二标记180的表面下深度。蚀刻装置122可以相对于涂覆的光学制品10成角度，以便考虑基材20的任何表面曲率，使得来自蚀刻装置122的电磁辐射束被对称地衍射。在一些实施例或方面，可以通过在该至少一个涂层的表面或光学基材20的表面下方的不同深度处对多个表面下的层进行分层来制作第二标记180。以这种方式，第二标记180可以具有三维形状。

该至少一个标记装置120进一步具有镜子126，该镜子被配置用于将来自蚀刻装置122的电磁辐射束123朝向光学制品10的表面反射。在一些实施例或方面，镜子126可以是单向镜子。可以提供至少一个蚀刻束操纵装置124，用于控制来自蚀刻装置122的电磁辐射束123投射在光学制品10上的位置。例如，该至少一个蚀刻束操纵装置124可以是控制该至少一个镜子126的取向的检流计、伺服装置、万向节、和/或其任何组合。控制器140(在图2中示出)可以被配置或编程为以如下方式控制该至少一个蚀刻束操纵装置124：使得来自蚀刻装置122的电磁辐射束123作为聚焦束123朝向光学制品10的顶表面被引导到一个位置处，该位置在光学制品10的顶视图平面中具有与第一标记18的反射图像的位置相对应的X轴和Y轴坐标。

继续参考图5，该至少一个标记装置120可以具有被定位在镜子126与光学制品10之间的相机128。相机128可以被配置为通过镜子126(比如单向镜子)捕获光学制品10的图像数据。在一些实施例或方面，相机128可以对齐，使得它以基本上垂直于光学制品10的顶表面的平面的角度被直接定位在光学制品10的顶表面上方。该相机可以是可见光相机、红外相机或UV相机。可以使用各种透镜和滤波器来增强相机的光学特性。控制器140(在图2中示出)可以被配置或编程为分析由相机128记录的图像数据并且确定该图像数据是否包括指示在光学制品10的顶表面上存在聚焦束123的信息。

控制器140(在图2中示出)可以被进一步配置为引导该至少一个蚀刻束操纵装置124以定位镜子126，使得来自蚀刻装置122的聚焦电磁辐射束123被引导到与来自该至少一个电磁辐射源111的第二电磁辐射束119b相同的位置，该位置指示第一标记18在光学制品10的基材20上的位置。以这种方式，相机128可以用于引导镜子126的位置，使得来自蚀刻装置122的聚焦电磁辐射束123可以与来自该至少一个电磁辐射源111的第二束119b对齐。聚焦束123与第二束119b的这种对齐保证了第二标记180的位置对应于第一标记18的位置。该至少一个标记装置120可以用该至少一个标记识别装置110来校准，以考虑聚焦束123和第二束119b投射到光学制品10上的角度的任何差异。

继续参考图5，在该至少一个标记装置120被对齐以将聚焦电磁辐射束123投射到光学制品10上的与第一标记18的位置相对应的期望位置上之后，蚀刻装置122可以被操作来用第二标记180蚀刻涂覆的光学制品10的至少一个涂层。

在一些实施例或方面，第二标记180可以是涂覆的光学制品10的至少一个涂层(比如第一涂层22和/或附加涂层24)上的元素184的阵列(见图6)。在一些实施例或方面，每个元素184可以是点、线、或任何其他几何元素。例如，元素184可以具有圆形形状、椭圆形形状、长方形形状、三角形形状、或任何其他几何形状。元素184的阵列中的元素184可以是相同的，也可以是彼此不同的。元素184的阵列中的元素184可以相互连接，也可以相互分离。例如，元素184彼此之间可以具有15至30μm之间的间隔。元素184的阵列可以定义图案，比如交叉影线图案、蜂窝状图案、圆形图案、或任何其他图案。该至少一个标记装置120可以被配置为调整元素184的阵列中每个元素184的大小、元素184的阵列中每个元素184的深度、以及元素184的阵列的密度中的至少一个。

在一些实施例或方面，第二标记180的大小和形状可以被选择为对应于第一标记18的大小和形状。

在一些实施例或方面，第二标记180的形状可以设计为定义与第一标记18相同的光学参考标记，从业者可以将其用作将光学制品10的焦度与配戴者的处方相匹配的参考点。在其他方面，第二标记180可以是标志，比如标识。第二标记180的各种尺寸(包括深度、高度和宽度)可以基于第二标记180的期望特性来选择。

参考图7，验证装置130可以被配置用于比较该至少一个第二标记180的位置相对于该至少一个第一标记18的位置并且确定该至少一个第二标记180的位置是否在该至少一个第一标记18的位置的预定距离内。在一些实施例或方面，验证装置130可以包括验证相机132和背光源136。被标记有第二标记180的该涂覆的光学制品10被定位在验证相机132与背光源136之间。当来自背光源136的电磁能量穿过涂覆的光学制品10被观察到时，第二标记180可以被看见。与一些方面一样，通过同时使用对第二标记180的放大，比如在第二标记180与观察者之间插入一个或多个放大镜(未示出)，可以增强对第二标记180的观察。

在一些实施例或方面，验证相机132可以是与对该至少一个标记装置120使用的相机128相同的相机。背光源136可以被提供在支撑该光学制品10的平台134上，使得光学制品10可以使用背光源136从底部被照亮。在一些实施例或方面，背光源136可以是被配置为发射可见光谱中的光的灯泡。对于一些方面，可见光的背光源136可以具有从380纳米到710纳米的一个或多个波长，包含所列举的值。在其他实施例或方面，背光源136可以是红外光源或紫外光源。验证相机132可以被选择为被配置为基于从背光源136发射的电磁辐射的特性来捕获图像数据。例如，验证相机132可以是可见光相机、红外相机、或UV相机。可以使用各种透镜和滤波器来增强验证相机132的光学特性。

继续参考图7，验证相机132可以被编程或配置为捕获包括第二标记180的被标记的光学制品10的顶表面的图像数据。控制器140(在图2中示出)可以被配置或编程为分析由验证相机132记录的图像数据并且确定该图像数据是否包括指示第二标记180的存在的信息。如果发现第二标记180，则将第二标记180的位置与所存储的第一标记18的位置进行比较。例如，控制器140可以被配置或编程为将第二标记180的位置作为坐标数据存储在存储器146和/或存储部件148中。在一些示例或方面，坐标数据可以是对应于光学制品10的顶视图平面的一组X轴和Y轴坐标。

控制器140可以被进一步配置或编程为将第二标记180的位置与所存储的第一标记18的位置进行比较。如果第二标记180的位置在第一标记18的位置的预定距离内，则被标记的光学制品10被认为是可接受的。如果第二标记180的位置在第一标记18的位置的预定距离之外，则被标记的光学制品10被认为是不可接受的。在一些实施例或方面，不可接受的光学制品10可以用新的第二标记180来标记，并且新的第二标记180的位置可以与第一标记18的位置进行比较以确定新的第二标记180是否是可接受的。

在描述了涂覆的光学制品10的结构以及用于基于光学制品10的基材20上的第一标记18的位置对该涂覆的光学制品10标记第二标记180的系统100之后，现在将参考图8来描述一种标记涂覆的光学制品10的方法200。在一些实施例或方面，方法200包括在步骤201中使用至少一个标记识别装置110来确定第一标记18在光学制品10的基材20上的位置。例如，如图3A所示，可以用来自至少一个电磁辐射源111的第一电磁辐射束119a来照射第一标记18，并且第一标记18的反射图像可以被至少一个成像装置112捕获。控制器140可以分析光学制品10的顶表面的图像数据并且确定该图像数据是否包括指示第一标记18的反射图像的存在的信息。如图3所示，可以通过基于在图像数据的初步分析期间确定的坐标数据将第二电磁辐射束119b引导到光学制品10的顶表面上的一个位置处，来验证标记18的反射图像的位置。

继续参考图8，在步骤202中使用至少一个标记装置120对该涂覆的光学制品10标记第二标记180。如图5所示，该至少一个标记装置120可以被配置为在光学制品10上的与第一标记18的位置相对应的位置处标记至少一个涂层，比如第一涂层22和/或该至少一个附加涂层24。该至少一个标记装置120的蚀刻装置122被配置用于将电磁辐射束123投射到光学制品10的表面(比如光学制品10的至少一个涂层)上的与第一标记18的位置相对应的位置处，以便对该涂覆的光学制品10的至少一个涂层标记或蚀刻第二标记180。第二标记180的形状可以设计为定义与第一标记18相同的光学参考标记，从业者可以将其用作将光学制品10的焦度与配戴者的处方相匹配的参考点。

继续参考图8，在步骤203中使用验证装置130来确定第二标记180的位置，并且验证该至少一个第二标记180的位置在该至少一个第一标记18的位置的预定距离内。如图7所示，被标记的光学制品10被定位在验证相机132与背光源136之间，使得第二标记180可以被相机132看到。然后将第二标记180的位置与所存储的第一标记18的位置进行比较，以确定第二标记180是否在第一标记18的预定距离内，从而认为被标记的光学制品10是可接受的。

已经参考本披露内容的特定方面的具体细节描述了本披露内容。这并不旨在认为这些细节是对本披露内容的范围的限制，除非且是在它们包含在所附权利要求中的程度上。

Claims (15)

1.一种用于标记涂覆的光学制品的系统，在所述涂覆的光学制品的基材的表面上具有至少一个第一标记，所述系统包括：

至少一个标记识别装置，所述至少一个标记识别装置包括：

至少一个电磁辐射源，所述至少一个电磁辐射源被配置为用电磁辐射照射具有所述至少一个第一标记的所述基材的表面的至少一部分；以及

至少一个成像装置，所述至少一个成像装置被配置为接收从具有所述至少一个第一标记的所述基材的表面反射的所述电磁辐射的一部分并且确定所述至少一个第一标记在所述基材的表面上的位置；以及

至少一个标记装置，所述至少一个标记装置被配置用于基于所述至少一个第一标记的位置对所述涂覆的光学制品标记至少一个第二标记。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个电磁辐射源是具有在190nm至10,000nm范围内的波长的激光器。

3.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述至少一个成像装置包括观察表面和相机，所述观察表面被配置用于接收从所述基材的表面反射的所述电磁辐射的一部分，所述相机被配置用于对所述观察表面成像。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统，其中，所述至少一个标记识别装置进一步包括至少一个束操纵装置，所述至少一个束操纵装置被配置用于控制所述电磁辐射的至少一个特性。

5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个束操纵装置包括束扩展器、准直透镜、会聚透镜、发散透镜、空间滤波器、检流计、伺服装置或万向节中的至少一个。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的系统，其中，所述至少一个标记识别装置进一步包括至少一个源操纵装置，所述至少一个源操纵装置被配置用于控制所述至少一个电磁辐射源相对于所述涂覆的光学制品的位置。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的系统，其中，所述至少一个标记装置被配置为对所述涂覆的光学制品的至少一个涂层标记所述至少一个第二标记。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的系统，其中，所述至少一个第二标记是所述涂覆的光学制品的至少一个涂层上的元素阵列。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述至少一个标记装置被配置为调整所述元素阵列中每个元素的大小、所述元素阵列中每个元素的深度、或所述元素阵列的密度中的至少一个。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的系统，其中，所述至少一个标记装置包括蚀刻装置和至少一个镜子，所述至少一个镜子被配置用于将来自所述蚀刻装置的束反射到所述涂覆的光学制品上。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述蚀刻装置是具有在190nm至30,000nm范围内的波长的激光器。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的系统，其中，所述至少一个成像装置包括相机和具有至少一个开口的掩模，所述掩模被定位在所述相机与所述涂覆的光学制品之间。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的系统，进一步包括验证装置，所述验证装置被配置用于比较所述至少一个第二标记的位置相对于所述至少一个第一标记的位置并且确定所述至少一个第二标记的位置是否在所述至少一个第一标记的位置的预定距离内。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述验证装置包括验证相机和背光源，并且其中，所述涂覆的光学制品被配置为定位在所述验证相机与所述背光源之间。

15.根据权利要求13或14所述的系统，其中，所述验证装置被进一步配置用于引导所述至少一个标记装置，使得所述至少一个第二标记的位置至少部分地与所述至少一个第一标记的位置重叠。

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