CN115608580A - 一种等离子涂敷结构 - Google Patents

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王晓东
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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Abstract

本发明涉及等离子涂敷技术领域,且公开了一种等离子涂敷结构,包括两个阀杆,所述阀杆的一侧设置有阀内密封圈,所述阀杆通过螺钉与阀固定座固定连接,所述阀固定座一侧通过螺钉固定连接有长加热座。该等离子涂敷结构,通过对主体外壳中加热棒进行通电加热,达到设定温度后,通过阀固定座对长加热座和主体外壳进行抽真空,达到一定真空度后,通过液体输入通道进入主体外壳底部的储液槽中,经过加热棒的加热处理使液体汽化,并且液体汽化逐步进入长加热座中,再通过压力传感器采集长加热座内部压力判断液体汽化的程度,在达到一定压力后,打开阀杆将汽化后的液体进入到工作腔体内进行工艺处理,从而提高了等离子涂敷处理的效率。

Description

一种等离子涂敷结构
技术领域
本发明涉及等离子涂敷技术领域,具体为一种等离子涂敷结构。
背景技术
随着高科技产业的快速发展,各种工艺对使用产品的技术要求越来越高,等离子表面处理技术的出现,不仅改进了产品性能、提高了生产效率,更实现了安全环保效应。等离子表面处理技术能够在材料科学、高分子科学、生物医药材料学、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微术和牙科医疗等领域得到应用。
应用中我们使用的多为低温等离子体,能够实现对处理物体表面的保护作用,但低温等离子体对物体表面处理的强度小于高温等离子体,从而降低等离子涂敷处理效率。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种等离子涂敷结构,具备安全性高,处理效率高的优点,解决了低温等离子体对物体表面处理的强度小于高温等离子体,从而降低等离子涂敷处理效率的问题。
(二)技术方案
为实现上述安全性高,处理效率高的目的,本发明提供如下技术方案:一种等离子涂敷结构,包括两个阀杆,所述阀杆的一侧设置有阀内密封圈,所述阀杆通过螺钉与阀固定座固定连接,所述阀固定座一侧通过螺钉固定连接有长加热座,所述长加热座的表面通过螺钉固定安装有固定片,所述长加热座一侧的顶部设置有圆形垫片和方形垫片,所述长加热座一侧的顶部通过螺钉固定安装有主体外壳,所述主体外壳的右侧设置有挡块密封圈,所述主体外壳的右侧通过螺钉固定连接有挡块,所述主体外壳的前后面嵌设有密封胶圈,所述主体外壳的前后面通过螺钉固定安装有加热固定板,所述加热固定板的一侧螺纹连接有加热棒。
优选的,所述阀固定座与长加热座的连接处设置有密封垫圈。
优选的,所述长加热座的内部呈中空状,其右侧开设有通孔,其顶部的左侧开设有方孔和圆孔。
优选的,所述主体外壳的前后面均开设有加热棒穿过的方孔,且在方孔的外侧开设有与密封胶圈相对应的凹槽。
优选的,所述加热棒为两组,每组数量二十个,两组加热棒安装时呈相互错开状。
优选的,所述长加热座的左侧嵌设有压力传感器。
(三)有益效果
与现有技术相比,本发明提供了一种等离子涂敷结构,具备以下有益效果:
该等离子涂敷结构,通过对主体外壳中加热棒进行通电加热,达到设定温度后,通过阀固定座对长加热座和主体外壳进行抽真空,达到一定真空度后,通过液体输入通道进入主体外壳底部的储液槽中,经过加热棒的加热处理使液体汽化,并且液体汽化逐步进入长加热座中,再通过压力传感器采集长加热座内部压力判断液体汽化的程度,在达到一定压力后,打开阀杆将汽化后的液体进入到工作腔体内进行工艺处理,从而提高了等离子涂敷处理的效率。
附图说明
图1为本发明爆炸结构示意图;
图2为本发明立体结构示意图;
图3为本发明立体结构示意图;
图4为本发明侧视结构平面图。
图中:1-阀杆、2-阀内密封圈、3-阀固定座、4-长加热座、5-固定片、6-圆形垫片、7-方形垫片、8-主体外壳、9-挡块密封圈、10-挡块、11-密封胶圈、12-加热固定板、13-加热棒、14-压力传感器。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,一种等离子涂敷结构,包括两个阀杆1,其中一个阀杆1的另一端连接有真空泵,阀杆1的一侧设置有阀内密封圈2,阀杆1通过螺钉与阀固定座3固定连接,阀固定座3一侧通过螺钉固定连接有长加热座4,阀固定座3与长加热座4的连接处设置有密封垫圈,长加热座4的内部呈中空状,其右侧开设有通孔,其顶部的左侧开设有方孔和圆孔,长加热座4的表面通过螺钉固定安装有固定片5,长加热座4的左侧嵌设有压力传感器14,用来检测长加热座4内部中的压力数值。
长加热座4一侧的顶部设置有圆形垫片6和方形垫片7,长加热座4一侧的顶部通过螺钉固定安装有主体外壳8,主体外壳8与长加热座4内部相互连通,且主体外壳8的一侧镶嵌有进液阀嘴,方便液体的进去主体外壳8的内部中。主体外壳8的右侧设置有挡块密封圈9,主体外壳8的右侧通过螺钉固定连接有挡块10,主体外壳8的前后面嵌设有密封胶圈11。
主体外壳8的前后面通过螺钉固定安装有加热固定板12,加热固定板12的一侧螺纹连接有加热棒13,加热棒13为两组,每组数量二十个,两组加热棒13安装时呈相互错开状,主体外壳8的前后面均开设有加热棒13穿过的方孔,且在方孔的外侧开设有与密封胶圈11相对应的凹槽。
其中真空泵、加热棒13和压力传感器14均与PLC控制器进行信号连接。
以上使用的垫圈或垫片均是防止气体或液体的泄露,加强使用安全性能。
工作原理:在使用时,通过对主体外壳8中加热棒13进行通电加热,达到设定温度后,通过阀固定座3对长加热座4和主体外壳8进行抽真空,达到一定真空度后,通过液体输入通道进入主体外壳8底部的储液槽中,经过加热棒13的加热处理使液体汽化,并且液体汽化逐步进入长加热座4中,再通过压力传感器14采集长加热座4内部压力判断液体汽化的程度,在达到一定压力后,打开阀杆1将汽化后的液体进入到工作腔体内进行工艺处理。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种等离子涂敷结构,包括两个阀杆(1),其特征在于:所述阀杆(1)的一侧设置有阀内密封圈(2),所述阀杆(1)通过螺钉与阀固定座(3)固定连接,所述阀固定座(3)一侧通过螺钉固定连接有长加热座(4),所述长加热座(4)的表面通过螺钉固定安装有固定片(5),所述长加热座(4)一侧的顶部设置有圆形垫片(6)和方形垫片(7),所述长加热座(4)一侧的顶部通过螺钉固定安装有主体外壳(8),所述主体外壳(8)的右侧设置有挡块密封圈(9),所述主体外壳(8)的右侧通过螺钉固定连接有挡块(10),所述主体外壳(8)的前后面嵌设有密封胶圈(11),所述主体外壳(8)的前后面通过螺钉固定安装有加热固定板(12),所述加热固定板(12)的一侧螺纹连接有加热棒(13)。
2.根据权利要求1所述的一种等离子涂敷结构,其特征在于:所述阀固定座(3)与长加热座(4)的连接处设置有密封垫圈。
3.根据权利要求1所述的一种等离子涂敷结构,其特征在于:所述长加热座(4)的内部呈中空状,其右侧开设有通孔,其顶部的左侧开设有方孔和圆孔。
4.根据权利要求1所述的一种等离子涂敷结构,其特征在于:所述主体外壳(8)的前后面均开设有加热棒(13)穿过的方孔,且在方孔的外侧开设有与密封胶圈(11)相对应的凹槽。
5.根据权利要求1所述的一种等离子涂敷结构,其特征在于:所述加热棒(13)为两组,每组数量二十个,两组加热棒(13)安装时呈相互错开状。
6.根据权利要求1所述的一种等离子涂敷结构,其特征在于:所述长加热座(4)的左侧嵌设有压力传感器(14)。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962549A2 (en) * 1998-05-28 1999-12-08 John T. Felts Multiple source plasma deposition apparatus
CN1806321A (zh) * 2003-06-24 2006-07-19 统合材料股份有限公司 用于连接硅部件的等离子喷涂
WO2006108395A1 (de) * 2005-04-11 2006-10-19 Dr. Laure Plasmatechnologie Gmbh Vorrichtung und verfahren zur plasmabeschichtung
EP1884576A2 (de) * 2006-07-26 2008-02-06 Dr. Laure Plasmatechnologie Gmbh Vorrichtung zur Plasmabeschichtung von länglichen, zylindrischen Bauteilen
CN101145507A (zh) * 2003-03-06 2008-03-19 积水化学工业株式会社 等离子加工装置
CN103947301A (zh) * 2011-11-22 2014-07-23 株式会社神户制钢所 等离子产生源及具备它的真空等离子处理装置
BR102014032374A2 (pt) * 2014-12-23 2016-07-19 Inst Tecnológico De Aeronáutica Ita aparato para reator a plasma, processo de deposição de revestimento de filme de carbono pelo uso do referido aparato e correspondente filme obtido
CN211813446U (zh) * 2018-08-30 2020-10-30 河南省驼人医疗科技有限公司 一种用于低温等离子过氧化氢灭菌器的过氧化氢提纯器
CN212158130U (zh) * 2020-03-23 2020-12-15 成都源永科技发展有限公司 一种改进型等离子汽化系统
CN217459568U (zh) * 2022-04-27 2022-09-20 上海稷以科技有限公司 一种改善液态源气体传输稳定性的装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962549A2 (en) * 1998-05-28 1999-12-08 John T. Felts Multiple source plasma deposition apparatus
CN101145507A (zh) * 2003-03-06 2008-03-19 积水化学工业株式会社 等离子加工装置
CN1806321A (zh) * 2003-06-24 2006-07-19 统合材料股份有限公司 用于连接硅部件的等离子喷涂
WO2006108395A1 (de) * 2005-04-11 2006-10-19 Dr. Laure Plasmatechnologie Gmbh Vorrichtung und verfahren zur plasmabeschichtung
EP1884576A2 (de) * 2006-07-26 2008-02-06 Dr. Laure Plasmatechnologie Gmbh Vorrichtung zur Plasmabeschichtung von länglichen, zylindrischen Bauteilen
CN103947301A (zh) * 2011-11-22 2014-07-23 株式会社神户制钢所 等离子产生源及具备它的真空等离子处理装置
BR102014032374A2 (pt) * 2014-12-23 2016-07-19 Inst Tecnológico De Aeronáutica Ita aparato para reator a plasma, processo de deposição de revestimento de filme de carbono pelo uso do referido aparato e correspondente filme obtido
CN211813446U (zh) * 2018-08-30 2020-10-30 河南省驼人医疗科技有限公司 一种用于低温等离子过氧化氢灭菌器的过氧化氢提纯器
CN212158130U (zh) * 2020-03-23 2020-12-15 成都源永科技发展有限公司 一种改进型等离子汽化系统
CN217459568U (zh) * 2022-04-27 2022-09-20 上海稷以科技有限公司 一种改善液态源气体传输稳定性的装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张晓东;彭炜;邹伟全;亓晓彬;: "等离子弧钎焊技术的原理与设备开发", 焊接技术 *
张琦;余永刚;刘东尧;陆欣;: "脉冲等离子射流与液体工质相互作用特性实验研究及数值模拟", 兵工学报 *

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