CN115595545A - 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005328 electron beam physical vapour deposition Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 7
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 239000012720 thermal barrier coating Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种EB‑PVD涂层用的定位工装、加工设备及加工方法，包括装料组件和载料组件，载料组件可拆卸设置在装料组件上，装料组件包括定位套筒，装料盘和定位板均同轴固定设置在连接轴的一端上，装料盘与定位板的一侧端面接触，定位套筒同轴固定设置在定位板的另一侧端面上，定位套筒的外壁上设置有至少三个定位面，定位套筒上所有的定位面呈正多边形设置，载料组件可拆卸设置在装料盘上，载料组件与定位面接触且配合，需要涂层的零件安装于载料组件上。每次装夹时，不需要操作者仔细调节零件的角度，以保证零件旋转至靶源正上方时，待涂层表面正对靶源，只需将载料壳体的接触面贴合到定位套筒的定位面上即可，缩短操作时间，从而提高工作效率。
Description
技术领域
本发明涉及涂层技术领域，特别涉及一种EB-PVD涂层用的定位工装、加工设备及加工方法。
背景技术
EB-PVD(Electron Beam Physical Vapor Deposition)电子束物理气相沉积技术(后续正文中简称为EB-PVD)，是利用电子枪产生的高能电子束作为加热源，可将常规方法无法加热的金属或陶瓷靶加热至蒸发，随后气态原子沉积到零件表面，形成一层极薄的保护涂层，如抗氧化涂层、抗腐蚀涂层、热障涂层等，以提高零件(如航空发动机的涡轮叶片)的抗氧化性能、抗腐蚀性能、抗高温性能。
现有EB-PVD涂层技术装夹涡轮叶片过程中，需要将待涂层的叶片装入保护工装：操作者手握保护工装，肉眼水平观察叶片并调节叶片的角度，将叶片的涂层区域(一般为叶片的叶盆区域)调节至观察者的正前方，以保证在涂层时，叶片的涂层区域正对靶源，而非涂层区域一般为叶片的叶背区域)背对靶材，随后用螺母将工装安装并固定在装料盘上。每次调节叶片角度，用时较长，且很难保证每次装夹时，不同叶片的角度不能保证一致性，这会导致不同叶片和/或不同炉批的涂层质量一致性差的问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种EB-PVD涂层用的定位工装、加工设备及加工方法。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
一种EB-PVD涂层用的定位工装，包括装料组件和载料组件，所述载料组件可拆卸设置在所述装料组件上，所述装料组件包括连接轴、装料盘、定位板和定位套筒，所述装料盘和所述定位板均同轴固定设置在所述连接轴的一端上，所述装料盘与所述定位板的一侧端面接触，所述定位套筒同轴固定设置在所述定位板的另一侧端面上，所述定位套筒的外壁上设置有至少三个定位面，所述定位套筒上所有的所述定位面呈正多边形设置，所述载料组件可拆卸设置在所述装料盘上，所述载料组件与所述定位面接触且配合，需要涂层的零件安装于所述载料组件上。
进一步地，所述载料组件包括连接杆和载料壳体，所述连接杆的一端与所述装料盘可拆卸连接，所述载料壳体固定设置在所述连接杆的另一端上，所述载料壳体上设置有若干用于安装所述零件的固定槽，所述固定槽的反向侧设置有接触面，所述接触面与所述定位面配合。
进一步地，所述连接轴的端部设置有限位凸环，所述定位板的中部同轴设置有贯穿的第一安装孔，所述装料盘的中部同轴设置有贯穿的第二安装孔，所述连接轴的一端依次从所述第一安装孔、所述第二安装孔中穿出，所述限位凸环与所述定位板的内壁接触，所述连接轴上设置有将所述装料盘和所述定位板固定在所述连接轴上的卡子，所述连接轴上设置有与所述卡子配合的卡孔。
进一步地，所述第一安装孔上设置有第一花键槽，所述连接轴上设置有第二花键槽，所述第二安装孔上设置有第三花键槽，所述第一花键槽、所述第二花键槽和所述第三花键槽均与销子配合。
一种EB-PVD涂层用的加工设备，包括加工组件和定位工装，所述定位工装设置在所述加工组件内。
进一步地，所述加工组件包括外壳体、转动轴、坩埚、靶源、第一电子枪和推板，所述外壳体设置有涂层室和装料室，所述涂层室与所述装料室之间设置有真空阀门，所述涂层室的内部体积大于所述装料室的内部体积，所述连接轴的连接端同轴设置在所述转动轴的一端上，所述连接轴可在所述涂层室与所述装料室之间移动，所述转动轴的另一端穿过所述装料室的侧壁与动力件相连，所述转动轴与所述装料室的内壁密封配合，所述坩埚密封固定设置在涂层室底部上，所述靶源设置在所述坩埚内，加工时，所述靶源设置在所述定位套筒的正下方，所述坩埚的底部设置有可上下移动的所述推板，所述推板与所述坩埚密封配合，所述第一电子枪设置在所述涂层室的侧壁上且与所述靶源上端面配合，所述涂层室与第一抽真空部件相连，所述装料室与第二抽真空部件相连，所述涂层室上设置有第一箱门，所述装料室上设置有第二箱门。
进一步地，所述加工组件还包括第二电子枪，所述第二电子枪设置在所述涂层室的顶部且用于为所述零件加热。
一种EB-PVD涂层用的加工方法，所述加工方法包括以下步骤：
S1：将装料盘通过连接轴固定到转动轴上；
S2：将零件安装到载料壳体上的固定槽中；
S3：将所述载料壳体通过连接杆固定到装料盘上，并使所述载料壳体上的接触面贴合到定位套筒上的定位面上，关闭装料室上的第二箱门，并通过第二抽真空部件将所述装料室内抽成真空；
S4：将靶源安装到坩埚中，调节坩埚底部推板的位置，使得靶源的上端面与所述坩埚的上端开口齐平，关闭涂层室上设置有第一箱门，并通过第一抽真空部件将所述涂层室内抽成真空；
S5：开启转动轴转动，其旋转速度为5-20RPM，打开真空阀门，将定位工装推送所述涂层室，保证所述零件位于靶源的正上方；
S6：启动第一电子枪和第二电子枪，使得所述第一电子枪产生电子束，所述电子束作用在所述靶源的上表面上，同时，所述第二电子枪为所述零件加热；
S7：所述靶源在所述第一电子枪作用下蒸发形成气态原子，然后使得蒸发形成气态原子后附着在所述零件上形成涂层；
S8：待所有的所述零件涂层后停止加工，将所述定位工装从所述涂层室推送所述装料室，关闭所述真空阀门，待所述零件冷却后打开所述第二箱门；
S9：待冷却后拆下载料组件，然后安装另一组载有未涂层的所述载料组件；
S10：重复所述S2步骤到所述S9步骤加工所有需要涂层的所述零件。
进一步地，所述S8步骤中，待所述零件上附着有60-100μm的涂层后才能停止加工。
进一步地，所述S9步骤中，拆下所述连接杆后，再将所述零件从所述载料壳体上拆下，并清理所述载料壳体上的涂层。
本发明的有益效果是：
1)缩短零件角度调节时间，每次装夹时，不需要操作者仔细调节零件的角度，以保证零件旋转至靶源正上方时，待涂层表面正对靶源，只需将载料壳体的接触面贴合到定位套筒的定位面上即可，缩短操作时间，从而提高工作效率。
2)提高涂层质量一致性，由于每件零件的安装角度一致，保证了每一件零件有相同的沉积效率，提高了涂层质量一致性。
3)减少零件加热时间，现有技术的零件加热时，第二电子枪产生的电子束只有部分扫描在零件表面上对其加热，其余电子束扫描设备的底部，不能对零件加热，降低了零件的加热效率。本发明增加了定位套筒，由于定位套筒长度大于载料组件的长度，第二电子枪产生的其余电子束可全部扫描在定位套筒上，定位套筒吸收了电子束的热量后，可作为热源将热量传递给载料组件，从而将热量传递给零件，提高了电子束的利用效率、减少了零件的加热时间。
4)提高零件温度均匀性，现有技术的零件加热，加热源只有电子束，零件上部受热后，缓慢将热量传递给零件下部，易造成零件上部和下部受热不均匀。而本发明的零件加热，加热源不仅有电子束，底部的加热筒也可以作为热源对零件的底部进行加热，从而减少了零件上部和下部的温差，提高了零件的温度均匀性。
附图说明
图1为现有技术中定位工装的连接结构示意图；
图2为载料组件的连接结构示意图；
图3为本发明的定位工装的连接结构示意图；
图4为发明的定位工装的爆炸结构示意图；
图5为定位面与接触面之间的配合结构示意图；
图6为本发明加工设备的连接结构示意图；
图中，1-连接轴，2-装料盘，3-定位板，4-定位套筒，5-定位面，6-零件，7-连接杆，8-载料壳体，9-固定槽，10-接触面，11-限位凸环，12-第一安装孔，13-第二安装孔，14-卡子，15-卡孔，16-销子，17-外壳体，18-转动轴，19-坩埚，20-靶源，21-第一电子枪，22-推板，23-第二电子枪，24-螺母，25-涂层室，26-装料室，27-真空阀门，28-第一抽真空部件，29-第二抽真空部件。
具体实施方式
下面将结合实施例，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参阅图2-图6，本发明提供一种技术方案：
一种EB-PVD涂层用的定位工装，包括装料组件和载料组件，载料组件可拆卸设置在装料组件上，装料组件包括连接轴1、装料盘2、定位板3和定位套筒4，装料盘2和定位板3均同轴固定设置在连接轴1的一端上，装料盘2与定位板3的一侧端面接触，定位套筒4同轴固定设置在定位板3的另一侧端面上，定位套筒4的外壁上设置有至少三个定位面5，定位套筒4上所有的定位面5呈正多边形设置，载料组件可拆卸设置在装料盘2上，载料组件与定位面5接触且配合，需要涂层的零件6安装于载料组件上。其中，定位板3的作用是用来安装定位套筒4，定位板3与定位套筒4可一体成型，通过连接轴1的连接，使得装料盘2与定位板3同轴设置，在连接轴1转动过程中，载料组件上的零件6到靶源20上表面之间的距离相等，这样可保证同批次中所有的零件6上的涂层相同。装料盘2主要用来安装载有零件6的载料组件，本技术中的零件6为背景技术中的涡轮叶片。在定位套筒4上设置定位面5，多个定位面呈正多边形设置，本技术中选用正六边形设置，载料壳体8上的接触面10紧贴在定位面5上，这样方便载料组件的安装工作，不需要花时间调整载料壳体8的安装角度问题，载料壳体8上的零件6在加工时，零件6上的涂层区域需要正对靶源20。在加工过程中，连接轴1、装料盘2、定位板3和定位套筒4作为一个整体安装在加工设备内，且载料组件、连接轴1、装料盘2、定位板3和定位套筒4为现有技术中的耐高温材料制成，只有当其中一些零部件不能使用时再进行更换部分或者全部。定位套筒4的厚度大于20mm，方便储存和传递热量，然后通过载料壳体8给零件6加热。定位套筒4的长度大于载料组件的长度，接触面10的面积小于定位面5的面积，接触面10的完全贴合在定位面5上。
在一些实施例中，载料组件包括连接杆7和载料壳体8，连接杆7的一端与装料盘2可拆卸连接，载料壳体8固定设置在连接杆7的另一端上，载料壳体8上设置有若干用于安装零件6的固定槽9，固定槽9的反向侧设置有接触面10，接触面10与定位面5配合。其中，装料盘2上设置有插孔，连接杆7的端部插入到插孔中，连接杆7上设置有螺纹，然后通过螺母24固定在装料盘2上，连接杆7的另一端与载料壳体8焊接在一起，零件6安装在载料壳体8的固定槽9中，零件6的非涂层面朝向固定槽9的内部，加工时，零件6的涂层面必须朝向靶源20。在载料壳体8上，可以设置一个固定槽9，也可以设置多个固定槽9。
在一些实施例中，连接轴1的端部设置有限位凸环11，定位板3的中部同轴设置有贯穿的第一安装孔12，装料盘2的中部同轴设置有贯穿的第二安装孔13，连接轴1的一端依次从第一安装孔12、第二安装孔13中穿出，限位凸环11与定位板3的内壁接触，连接轴1上设置有将装料盘2和定位板3固定在连接轴1上的卡子14，连接轴1上设置有与卡子14配合的卡孔15。第一安装孔12上设置有第一花键槽，连接轴1上设置有第二花键槽，第二安装孔13上设置有第三花键槽，第一花键槽、第二花键槽和第三花键槽均与销子16配合。其中，通过限位凸环11和卡子14将料盘2和定位板3固定在连接轴1上，卡子14上设置有斜边，卡孔15为贯穿的通孔且与卡子14配合。销子16同时插入到第一花键槽、第二花键槽和第三花键槽中，这样使得定位板3、连接轴1和装料盘2同步转动。
一种EB-PVD涂层用的加工设备，包括加工组件和定位工装，定位工装设置在加工组件内。加工组件包括外壳体17、转动轴18、坩埚19、靶源20、第一电子枪21和推板22，外壳体17设置有涂层室25和装料室26，涂层室25与装料室26之间设置有真空阀门27，涂层室25的内部体积大于装料室26的内部体积，连接轴1的连接端同轴设置在转动轴18的一端上，连接轴1可在涂层室25与装料室26之间移动，转动轴18的另一端穿过装料室26的侧壁与动力件相连，转动轴18与装料室26的内壁密封配合，坩埚19密封固定设置在涂层室25底部上，靶源20设置在坩埚19内，加工时，靶源20设置在定位套筒4的正下方，坩埚19的底部设置有可上下移动的推板22，推板22与坩埚19密封配合，第一电子枪21设置在涂层室25的侧壁上且与靶源20上端面配合，涂层室25与第一抽真空部件28相连，装料室26与第二抽真空部件29相连，涂层室25上设置有第一箱门，装料室26上设置有第二箱门。加工组件还包括第二电子枪23，第二电子枪23设置在涂层室25的顶部且用于为零件6加热。其中，在生产过程中，在涂层室25内进行涂层加工，在装料室26进行零件6的更换工作，外壳体17上设置有第一箱门，设置第一箱门的目的是清洁涂层室25。装料室26上设置有第二箱门，设置第二箱门的目的是更换零件6，涂层室25在加工时需要抽成真空状态，第一抽真空部件28和第二抽真空部件29均为现有技术，因为在涂层时，现有技术的靶源20需要加热到3000-4500℃的范围内，靶源20在高温下形成气态原子，然后附着在零件6的涂层区域上。第一电子枪21和第二电子枪23均为现有技术中的电子枪，第一电子枪21发射电子束给靶源20加热，第二电子枪23发射电子束给零件6加热，加热后的零件6更好的被气态原子进行涂层。转动轴18在外部设置的电机作用下匀速转动，推板22的作用是顶着坩埚19上移，使得靶源20上端面的位置不变。在加工设备中，外壳体17只设置涂层室25，不设置装料室26，零件6的更换工作都在涂层室25内完成。
一种EB-PVD涂层用的加工方法，加工方法包括以下步骤：
(1)将装料盘2通过连接轴1固定到转动轴18上。
(2)将零件6安装到载料壳体8上的固定槽9中。在加工过程中，载料壳体8需要重复使用，但是加工时，有部分气态原子会涂层到载料壳体8上，每加工一次，载料壳体8上的固定槽9需要清理一次。在装料盘2上不方便清理，所以都是将载料壳体8从装料盘2上下卸载下来进行清理以及装拆零件6的工作。
(3)将载料壳体8通过连接杆7固定到装料盘2上，并使载料壳体8上的接触面10贴合到定位套筒4上的定位面5上，关闭装料室26上的第二箱门，并通过第二抽真空部件29将装料室26内抽成真空。载料壳体8不仅通过定位面5起到定位的作用，同时载料壳体8也具有储存和传递热量的功能，第二电子枪23除了作用在零件6上之外，在转动过程中，还有部分作用在载料壳体8上，载料壳体8上的热量再传递给零件6使用。
(4)将靶源20安装到坩埚19中，调节坩埚19底部推板22的位置，使得靶源20的上端面与坩埚19的上端开口齐平，关闭涂层室25上设置有第一箱门，并通过第一抽真空部件28将涂层室25内抽成真空。靶源20的上端面必须与第一电子枪21配合，防止靶源20上端面的位置出现差错导致坩埚19被电子束作用，随着靶源20被消耗，推板22需要推动靶源20上移。
(5)开启转动轴18转动，其旋转速度为5-20RPM，打开真空阀门27，将定位工装推送涂层室25，保证零件6位于靶源20的正上方。转动轴18不处在涂层室25时，现有技术的真空阀门27处于关闭状态。在加工时，零件6的涂层区域需要保证正对着靶源20。由于涂层室25内的温度非常高，因此，涂层室25内需要抽真空处理，同时防止靶源20和零件6与空气发生反应。
(6)启动第一电子枪21和第二电子枪23，使得第一电子枪21产生电子束，电子束作用在靶源20的上表面上，同时，第二电子枪23为零件6加热。在工作过程中，要先打开第二电子枪23加热零件6，待零件6达到一定温度后(一般为800-900℃)，然后再才能打开第一电子枪21加热靶源20。
(7)靶源20在第一电子枪21作用下蒸发形成气态原子，然后使得蒸发形成气态原子后附着在零件6上形成涂层。此部分属于正式涂层工艺，根据零件的需求不同，涂层的时间不相同。
(8)待所有的零件6涂层后停止加工，将定位工装从涂层室25推送装料室26，关闭真空阀门27，待零件6冷却后打开第二箱门。其中，待零件6上附着有60-100μm厚的涂层后才能停止加工。涂层后冷却，然后开第一箱门取下载料组件。
(9)待冷却后拆下载料组件，然后安装另一组载有未涂层的载料组件。拆下载料组件后，再将零件6从载料壳体8上拆下，并清理载料壳体8上的涂层。
(10)重复S2步骤到S9步骤加工所有需要涂层的零件6。本发明中每次加工六个零件，超过六个零件的数量时需要多批次加工。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
Claims (10)
1.一种EB-PVD涂层用的定位工装，其特征在于：包括装料组件和载料组件，所述载料组件可拆卸设置在所述装料组件上，所述装料组件包括连接轴(1)、装料盘(2)、定位板(3)和定位套筒(4)，所述装料盘(2)和所述定位板(3)均同轴固定设置在所述连接轴(1)的一端上，所述装料盘(2)与所述定位板(3)的一侧端面接触，所述定位套筒(4)同轴固定设置在所述定位板(3)的另一侧端面上，所述定位套筒(4)的外壁上设置有至少三个定位面(5)，所述定位套筒(4)上所有的所述定位面(5)呈正多边形设置，所述载料组件可拆卸设置在所述装料盘(2)上，所述载料组件与所述定位面(5)接触且配合，需要涂层的零件(6)安装于所述载料组件上。
2.根据权利要求1所述的一种EB-PVD涂层用的定位工装，其特征在于：所述载料组件包括连接杆(7)和载料壳体(8)，所述连接杆(7)的一端与所述装料盘(2)可拆卸连接，所述载料壳体(8)固定设置在所述连接杆(7)的另一端上，所述载料壳体(8)上设置有若干用于安装所述零件(6)的固定槽(9)，所述固定槽(9)的反向侧设置有接触面(10)，所述接触面(10)与所述定位面(5)配合。
3.根据权利要求1所述的一种EB-PVD涂层用的定位工装，其特征在于：所述连接轴(1)的端部设置有限位凸环(11)，所述定位板(3)的中部同轴设置有贯穿的第一安装孔(12)，所述装料盘(2)的中部同轴设置有贯穿的第二安装孔(13)，所述连接轴(1)的一端依次从所述第一安装孔(12)、所述第二安装孔(13)中穿出，所述限位凸环(11)与所述定位板(3)的内壁接触，所述连接轴(1)上设置有将所述装料盘(2)和所述定位板(3)固定在所述连接轴(1)上的卡子(14)，所述连接轴(1)上设置有与所述卡子(14)配合的卡孔(15)。
4.根据权利要求3所述的一种EB-PVD涂层用的定位工装，其特征在于：所述第一安装孔(12)上设置有第一花键槽，所述连接轴(1)上设置有第二花键槽，所述第二安装孔(13)上设置有第三花键槽，所述第一花键槽、所述第二花键槽和所述第三花键槽均与销子(16)配合。
5.一种EB-PVD涂层用的加工设备，其特征在于：包括加工组件和如权利要求1-4中任一向所述的定位工装，所述定位工装设置在所述加工组件内。
6.根据权利要求5所述的一种EB-PVD涂层用的加工设备，其特征在于：所述加工组件包括外壳体(17)、转动轴(18)、坩埚(19)、靶源(20)、第一电子枪(21)和推板(22)，所述外壳体(17)设置有涂层室(25)和装料室(26)，所述涂层室(25)与所述装料室(26)之间设置有真空阀门(27)，所述涂层室(25)的内部体积大于所述装料室(26)的内部体积，所述连接轴(1)的连接端同轴设置在所述转动轴(18)的一端上，所述连接轴(1)可在所述涂层室(25)与所述装料室(26)之间移动，所述转动轴(18)的另一端穿过所述装料室(26)的侧壁与动力件相连，所述转动轴(18)与所述装料室(26)的内壁密封配合，所述坩埚(19)密封固定设置在涂层室(25)底部上，所述靶源(20)设置在所述坩埚(19)内，加工时，所述靶源(20)设置在所述定位套筒(4)的正下方，所述坩埚(19)的底部设置有可上下移动的所述推板(22)，所述推板(22)与所述坩埚(19)密封配合，所述第一电子枪(21)设置在所述涂层室(25)的侧壁上且与所述靶源(20)上端面配合，所述涂层室(25)与第一抽真空部件(28)相连，所述装料室(26)与第二抽真空部件(29)相连，所述涂层室(25)上设置有第一箱门，所述装料室(26)上设置有第二箱门。
7.根据权利要求6所述的一种EB-PVD涂层用的加工设备，其特征在于：所述加工组件还包括第二电子枪(23)，所述第二电子枪(23)设置在所述涂层室(25)的顶部且用于为所述零件(6)加热。
8.一种EB-PVD涂层用的加工方法，其特征在于：所述加工方法包括以下步骤：
S1：将装料盘(2)通过连接轴(1)固定到转动轴(18)上；
S2：将零件(6)安装到载料壳体(8)上的固定槽(9)中；
S3：将所述载料壳体(8)通过连接杆(7)固定到装料盘(2)上，并使所述载料壳体(8)上的接触面(10)贴合到定位套筒(4)上的定位面(5)上，关闭装料室(26)上的第二箱门，并通过第二抽真空部件(29)将所述装料室(26)内抽成真空；
S4：将靶源(20)安装到坩埚(19)中，调节坩埚(19)底部推板(22)的位置，使得靶源(20)的上端面与所述坩埚(19)的上端开口齐平，关闭涂层室(25)上设置有第一箱门，并通过第一抽真空部件(28)将所述涂层室(25)内抽成真空；
S5：开启转动轴(18)转动，其旋转速度为5-20RPM，打开真空阀门(27)，将定位工装推送所述涂层室(25)，保证所述零件(6)位于靶源(20)的正上方；
S6：启动第一电子枪(21)和第二电子枪(23)，使得所述第一电子枪(21)产生电子束，所述电子束作用在所述靶源(20)的上表面上，同时，所述第二电子枪(23)为所述零件(6)加热；
S7：所述靶源(20)在所述第一电子枪(21)作用下蒸发形成气态原子，然后使得蒸发形成气态原子后附着在所述零件(6)上形成涂层；
S8：待所有的所述零件(6)涂层后停止加工，将所述定位工装从所述涂层室(25)推送所述装料室(26)，关闭所述真空阀门(27)，待所述零件(6)冷却后打开所述第二箱门；
S9：待冷却后拆下载料组件，然后安装另一组载有未涂层的所述载料组件；
S10：重复所述S2步骤到所述S9步骤加工所有需要涂层的所述零件(6)。
9.根据权利要求8所述的一种EB-PVD涂层用的加工方法，其特征在于：所述S8步骤中，待所述零件(6)上附着有60-100μm的涂层后才能停止加工。
10.根据权利要求8所述的一种EB-PVD涂层用的加工方法，其特征在于：所述S9步骤中，拆下所述连接杆(7)后，再将所述零件(6)从所述载料壳体(8)上拆下，并清理所述载料壳体(8)上的涂层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211179564.7A CN115595545B (zh) | 2022-09-27 | 2022-09-27 | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
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| CN202211179564.7A CN115595545B (zh) | 2022-09-27 | 2022-09-27 | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115595545A true CN115595545A (zh) | 2023-01-13 |
| CN115595545B CN115595545B (zh) | 2024-05-17 |
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ID=84845601
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211179564.7A Active CN115595545B (zh) | 2022-09-27 | 2022-09-27 | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115595545B (zh) |
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