CN216427394U - 一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种E‑Beam电子束蒸发镀膜装置，涉及到电子束蒸镀技术领域，包括真空箱，真空箱的内腔底部固定连接有定位组件，真空箱的内腔顶部固定连接有位于定位组件正上方的基板支架，定位组件包括托板、转盘和驱动箱，托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，限位滑槽的内腔活动插接有与限位滑槽相适配的限位滑杆，限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板。本实用新型通过在托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板，因此限位滑杆在限位滑槽的内腔滑动时能够带动弧形夹板移动，从而确保多个弧形夹板能够对放置在托板上表面的坩埚进行夹紧定位。
Description
技术领域
本实用新型涉及电子束蒸镀技术领域，特别涉及一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置。
背景技术
电子束蒸镀是物理气相沉积的一种，与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击蒸镀材料，使之融化进而沉积在基片上，电子束蒸镀可以镀出高纯度高精度的薄膜。
但目前，现有的E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其在使用前，不便于对装有蒸镀材料的坩埚进行定位，从而导致蒸镀材料的更换较为麻烦，其次，坩埚定位后，长时间使用容易发生松动和位置偏移，进而容易影响蒸镀的效果。因此，发明一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置来解决上述问题很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，包括真空箱，所述真空箱的内腔底部固定连接有定位组件，所述真空箱的内腔顶部固定连接有位于定位组件正上方的基板支架，所述定位组件包括托板、转盘和驱动箱，所述托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，所述限位滑槽的内腔活动插接有与限位滑槽相适配的限位滑杆，所述限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板，所述弧形夹板的凹侧面粘接连接有橡胶垫，所述限位滑杆的另一端固定连接有连接块，所述连接块的下端固定连接有活动块，所述限位滑槽的内侧壁下端贯穿开设有限位槽，所述连接块与限位槽活动贯穿连接且适配，所述活动块的上表面与托板的下表面贴合连接。
优选的，所述转盘的上表面与托板的下表面贴合连接且转盘设置为空心结构，所述转盘的内侧壁固定连接有多个呈环形阵列分布的弧形楔块，所述弧形楔块的弧形面与活动块的一侧面贴合。
优选的，所述转盘的中部固定贯穿连接有中心轴，所述中心轴的下端外侧固定套接有蜗轮。
优选的，所述托板的下表面中部固定连接有安装套，所述中心轴的上端通过轴承与安装套的内腔活动插接。
优选的，所述驱动箱的上表面与托板的下表面边缘固定连接，所述转盘位于驱动箱的内腔，所述中心轴转轴的下端通过轴承与驱动箱的底部活动插接。
优选的，所述驱动箱的内侧壁固定连接有驱动电机，所述驱动电机转轴的一端固定连接有蜗杆。
优选的，所述蜗杆与蜗轮啮合连接，所述蜗杆的两端外侧均通过轴承活动套接有定位板，所述定位板与驱动箱的内侧壁固定连接。
本实用新型的技术效果和优点：
1、本实用新型通过在托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，限位滑槽的内腔活动插接有限位滑杆，限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板，因此限位滑杆在限位滑槽的内腔滑动时能够带动弧形夹板移动，从而确保多个弧形夹板能够对放置在托板上表面的坩埚进行夹紧定位，并且坩埚的取放均方便便捷；
2、本实用新型通过在转盘的内侧壁固定连接有多个弧形楔块，中心轴的下端外侧固定套接有蜗轮，蜗轮与蜗杆啮合连接，因此蜗杆转动时能够带动蜗轮转动，进而带动转盘和弧形楔块转动，弧形楔块转动即可推动活动块滑动，进而带动限位滑杆和弧形夹板移动，而且蜗杆与蜗轮之间的啮合传动具有单向性，因此能够确保弧形夹板对坩埚的夹紧定位更加稳定，不易发生松动。
附图说明
图1为本实用新型整体结构剖视示意图。
图2为本实用新型定位组件结构立体示意图。
图3为本实用新型定位组件结构爆炸示意图。
图4为本实用新型托板结构立体示意图。
图5为本实用新型弧形夹板结构立体示意图。
图6为本实用新型蜗轮结构立体示意图。
图中：1、真空箱；2、定位组件；3、基板支架；4、托板；5、限位滑槽；51、限位槽；6、限位滑杆；7、弧形夹板；8、橡胶垫；9、连接块；10、活动块；11、转盘；12、弧形楔块；13、中心轴；14、蜗轮；15、安装套；16、驱动箱；17、驱动电机；18、蜗杆；19、定位板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1-6所示的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，包括真空箱1，真空箱1的内腔底部固定连接有定位组件2，真空箱1的内腔顶部固定连接有位于定位组件2正上方的基板支架3，定位组件2包括托板4、转盘11和驱动箱16。
具体的，在托板4的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽5，限位滑槽5的内腔活动插接有与限位滑槽5相适配的限位滑杆6，限位滑杆6的一端固定连接有弧形夹板7，弧形夹板7的凹侧面粘接连接有橡胶垫8，限位滑杆6能够在限位滑槽5的内腔沿限位滑槽5的长度方向滑动，从而确保多个弧形夹板7能够对坩埚进行夹紧定位，同时橡胶垫8的设置能够增大弧形夹板7与坩埚之间的摩擦力，进而避免坩埚发生移动，而且托板4的上表面还粘接连接有橡胶层，用于对坩埚的底部进行保护。
其次，在限位滑杆6的另一端固定连接有连接块9，连接块9的下端固定连接有活动块10，限位滑槽5的内侧壁下端贯穿开设有限位槽51，连接块9与限位槽51活动贯穿连接且适配，活动块10的上表面与托板4的下表面贴合连接，连接块9和活动块10的设置确保了限位滑杆6不会与限位滑槽5的内腔发生分离。
进一步的，在转盘11的上表面与托板4的下表面贴合连接且转盘11设置为空心结构，转盘11的内侧壁固定连接有多个呈环形阵列分布的弧形楔块12，弧形楔块12的弧形面与活动块10的一侧面贴合，当转盘11转动时，弧形楔块12能够对活动块10产生挤压，从而带动限位滑杆6在限位滑槽5的内腔滑动，并且由于多个弧形楔块12同步转动，因此多个限位滑杆6能够同步滑动，进而确保了弧形夹板7对坩埚夹紧定位后，坩埚能够位于托板4的上表面中部，从而避免坩埚的位置发生偏移。
而且，在转盘11的中部固定贯穿连接有中心轴13，中心轴13的下端外侧固定套接有蜗轮14，托板4的下表面中部固定连接有安装套15，中心轴13的上端通过轴承与安装套15的内腔活动插接，驱动箱16的上表面与托板4的下表面边缘固定连接，转盘11位于驱动箱16的内腔，中心轴13转轴的下端通过轴承与驱动箱16的底部活动插接，中心轴13的设置确保了转盘11只能够发生转动，而不会发生移动。
进一步的，在驱动箱16的内侧壁固定连接有驱动电机17，驱动电机17转轴的一端固定连接有蜗杆18，蜗杆18与蜗轮14啮合连接，蜗杆18的两端外侧均通过轴承活动套接有定位板19，定位板19与驱动箱16的内侧壁固定连接，因此当驱动电机17工作时，蜗杆18通过与蜗轮14之间的啮合连接能够带动蜗轮14转动，进而带动转盘11转动，同时，由于蜗杆18与蜗轮14之间只能够单向传动，因此驱动电机17停止工作后，转盘11能够保持位置稳定，不会轻易发生转动，进而确保了弧形夹板7对坩埚夹紧定位后，不会轻易发生松动。
本实用新型工作原理：
本装置使用时，首先将坩埚放置在托板4的上表面，然后启动驱动电机17，驱动电机17工作时带动蜗杆18转动，再通过蜗杆18与蜗轮14之间的啮合传动来带动蜗轮14转动，进而带动转盘11转动；
转盘11转动时，多个弧形楔块12同步转动并分别挤压多个活动块10，从而带动多个限位滑杆6分别在多个限位滑槽5的内腔同步滑动，进而使得多个弧形夹板7同步移动并相互聚拢，直至弧形夹板7贴合在坩埚的侧壁并对坩埚产生挤压，此时多个弧形夹板7即可对坩埚进行定位，并且坩埚能够稳定的位于托板4的上表面中部，关闭驱动电机17后，由于蜗杆18与蜗轮14之间单向传动，弧形夹板7的位置能够保持稳定，从而避免坩埚发生松动和位置偏移。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，包括真空箱(1)，其特征在于：所述真空箱(1)的内腔底部固定连接有定位组件(2)，所述真空箱(1)的内腔顶部固定连接有位于定位组件(2)正上方的基板支架(3)，所述定位组件(2)包括托板(4)、转盘(11)和驱动箱(16)，所述托板(4)的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽(5)，所述限位滑槽(5)的内腔活动插接有与限位滑槽(5)相适配的限位滑杆(6)，所述限位滑杆(6)的一端固定连接有弧形夹板(7)，所述弧形夹板(7)的凹侧面粘接连接有橡胶垫(8)，所述限位滑杆(6)的另一端固定连接有连接块(9)，所述连接块(9)的下端固定连接有活动块(10)，所述限位滑槽(5)的内侧壁下端贯穿开设有限位槽(51)，所述连接块(9)与限位槽(51)活动贯穿连接且适配，所述活动块(10)的上表面与托板(4)的下表面贴合连接。
2.根据权利要求1所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述转盘(11)的上表面与托板(4)的下表面贴合连接且转盘(11)设置为空心结构，所述转盘(11)的内侧壁固定连接有多个呈环形阵列分布的弧形楔块(12)，所述弧形楔块(12)的弧形面与活动块(10)的一侧面贴合。
3.根据权利要求2所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述转盘(11)的中部固定贯穿连接有中心轴(13)，所述中心轴(13)的下端外侧固定套接有蜗轮(14)。
4.根据权利要求3所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述托板(4)的下表面中部固定连接有安装套(15)，所述中心轴(13)的上端通过轴承与安装套(15)的内腔活动插接。
5.根据权利要求4所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述驱动箱(16)的上表面与托板(4)的下表面边缘固定连接，所述转盘(11)位于驱动箱(16)的内腔，所述中心轴(13)转轴的下端通过轴承与驱动箱(16)的底部活动插接。
6.根据权利要求5所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述驱动箱(16)的内侧壁固定连接有驱动电机(17)，所述驱动电机(17)转轴的一端固定连接有蜗杆(18)。
7.根据权利要求6所述的一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置，其特征在于：所述蜗杆(18)与蜗轮(14)啮合连接，所述蜗杆(18)的两端外侧均通过轴承活动套接有定位板(19)，所述定位板(19)与驱动箱(16)的内侧壁固定连接。
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| CN202122474849.0U CN216427394U (zh) | 2021-10-14 | 2021-10-14 | 一种E-Beam电子束蒸发镀膜装置 |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN115595545A (zh) * | 2022-09-27 | 2023-01-13 | 成都成发泰达航空科技股份有限公司（Cn） | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
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2021
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Cited By (2)
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| CN115595545A (zh) * | 2022-09-27 | 2023-01-13 | 成都成发泰达航空科技股份有限公司（Cn） | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
| CN115595545B (zh) * | 2022-09-27 | 2024-05-17 | 成都晨发泰达航空科技股份有限公司 | 一种eb-pvd涂层用的定位工装、加工设备及加工方法 |
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