CN115582378B - 一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，涉及反应釜清洁装置技术领域，包括底板，所述底板上滑动安装有滑移架，抱卡内壁转动安装有若干个均匀设置的橡胶摩擦滚轴，螺纹杆上同轴固定有圆柱块，所述圆柱块上开设有环向弧槽I和环向弧槽II。本发明通过设置的中空轴旋转实现毛刷板旋转，实现对反应釜内壁进行旋转清洁，毛刷板能够相对反应釜轴向运动，而设置的导向套块能交替与两个让位弹簧抵推，使得定位柱交替与环向弧槽I和环向弧槽II卡接，使得圆柱转换套块能交替与旋转套管I和旋转套管II传动，使得反应釜相对毛刷板轴向往复运动，反应釜内壁得到自动、充分的旋转清洁，大大提升了清洁效率。
Description
技术领域
本发明涉及反应釜清洁装置技术领域，具体是一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置。
背景技术
目前烷基锂的工业生产主要工艺为白油分散锂沙工艺，白油分散锂沙工艺是先将金属锂在白油中熔融搅拌，然后急速降温，形成锂沙细颗粒，最后过滤，溶剂洗涤除去白油，投入合成反应釜。而烷基锂生产过程中所使用的反应釜需要借助清洁装置对其内壁进行清理操作。
授权公告号为CN 216225963 U的中国专利虽然公开了一种聚合加热反应釜内壁清洁装置，包括反应釜，反应釜正表面固定安装有清洗液储存箱，清洗液储存箱内部开设有储存凹槽，反应釜上表面固定安装有动力电机，动力电机输出端固定安装有动力传输杆，动力传输杆外表面固定安装有多个叶片连接杆，一侧所述叶片连接杆外表面固定安装有扰流板，动力传输杆外表面且位于叶片连接杆下方固定安装有刮擦连接柱，反应釜下表面设置有出料口，但是该装置在使用时，用于带动清理垫对反应釜清理的联动环不能相对反应釜的轴向线性自动调节，制约了反应釜内壁的清理效率，针对现有技术的上述技术缺陷，现提供一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，包括底板，所述底板上滑动安装有滑移架，所述滑移架上安装有用于对反应釜进行限位的抱卡，所述抱卡内壁转动安装有若干个均匀设置的橡胶摩擦滚轴，所述底板上转动安装有延伸至反应釜内部的中空轴，所述中空轴内部与外部压力水源连通，所述中空轴侧壁安装有若干个喷头，所述中空轴侧壁安装有套筒，所述套筒上安装有与所述反应釜内壁抵接的毛刷板，所述底板上转动安装有螺纹杆，所述螺纹杆上螺纹套接有与所述滑移架固定的螺纹套块，所述底板上固定有与所述螺纹杆平行的导杆，所述导杆上滑动安装有与所述滑移架固定的导向套块，所述底板上转动安装有转向相反的旋转套管I和旋转套管II，所述旋转套管I和旋转套管II均转动安装在螺纹杆上，所述螺纹杆上同轴固定有处于所述旋转套管I和旋转套管II之间的圆柱转换套块，所述圆柱转换套块的两端都均匀固定有若干个连接齿I，所述旋转套管I和旋转套管II与圆柱转换套块相对的一端都均匀固定有若干个连接齿II，连接齿II与所述连接齿I相对设置，所述螺纹杆上同轴固定有圆柱块，所述圆柱块上开设有环向弧槽I和环向弧槽II，所述底板上滑动安装有与环向弧槽I或环向弧槽II抵接适配的定位柱。
作为本发明的一种改进方案：所述底板上固定有限位板，定位柱与所述限位板滑动连接，所述定位柱上固定有挡板，所述挡板与所述限位板之间固定有定位弹簧。
作为本发明的一种改进方案：所述导杆的两端均滑动套接有限位套环，所述限位套环上螺纹连接有与所述导杆抵接的锁紧螺柱，两个所述限位套环相对的一侧固定有让位弹簧，让位弹簧套接在所述导杆上。
作为本发明的一种改进方案：所述底板上转动安装有中间锥齿轮，所述旋转套管I和所述旋转套管II上分别同轴固定有锥齿轮II和锥齿轮I，所述锥齿轮II和锥齿轮I均与中间锥齿轮啮合。
作为本发明的一种改进方案：所述中空轴上同轴固定有副齿轮，所述副齿轮上啮合连接有由电机驱动旋转的主齿轮，所述中空轴上同轴固定有蜗杆，蜗杆上啮合连接有蜗轮，所述蜗轮通过皮带轮机构与所述中间锥齿轮传动连接。
作为本发明的一种改进方案：所述滑移架上转动安装有与反应釜外壁抵接的橡胶辊，所述橡胶辊上同轴固定有锥齿轮III，所述锥齿轮III上啮合连接有锥齿轮IV，所述锥齿轮IV上同轴固定有移动齿轮，底板上固定有与所述移动齿轮啮合的齿条。
作为本发明的一种改进方案：所述中空轴的端部固定有轴向套管，所述轴向套管上滑动安装有传动杆，所述传动杆的侧壁固定有滑动嵌设在所述轴向套管上的连接条块，所述传动杆上固定有曲面刮板，所述传动杆与所述轴向套管之间固定有轴向弹簧。
作为本发明的一种改进方案：所述毛刷板与所述套筒滑动连接，所述套筒与所述毛刷板之间固定有径向弹簧。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过设置的中空轴旋转实现毛刷板旋转，实现对反应釜内壁进行旋转清洁，而同时设置的螺纹杆旋转能驱动螺纹套块进行线性滑动，使得毛刷板能够相对反应釜轴向运动，而设置的导向套块能交替与两个让位弹簧抵推，使得定位柱交替与环向弧槽I和环向弧槽II卡接，使得圆柱转换套块能交替与旋转套管I和旋转套管II传动，使得反应釜相对毛刷板轴向往复运动，反应釜内壁得到自动、充分的旋转清洁，大大提升了清洁效率。
本发明通过设置的滑移架在带动反应釜往复运动的过程中，移动齿轮与齿条啮合传动进行旋转，经过锥齿轮IV和锥齿轮III的传动，实现橡胶辊驱动反应釜进行自转，使得反应釜与毛刷板具有更大的相对旋转速度，反应釜内壁清洁效率得到大幅提升。
附图说明
图1为本发明在某一个视角下的结构示意图；
图2为本发明在另一个视角下的结构示意图；
图3为本发明图1的局部结构示意图；
图4为本发明中导杆、导向套块、让位弹簧和限位套环的连接示意图；
图5为本发明中滑移架、抱卡、橡胶摩擦滚轴和橡胶辊等部件的连接示意图；
图6为本发明中中空轴、曲面刮板、毛刷板和喷头等部件的连接示意图；
图7为本发明中图6的局部爆炸视图；
图8为本发明中螺纹杆、圆柱块、定位柱、环向弧槽I和环向弧槽II等部件的结构示意图。
图中：1-底板、2-螺纹杆、3-螺纹套块、4-滑移架、5-抱卡、6-圆柱块、7-反应釜、8-移动齿轮、9-中空轴、10-蜗杆、11-电机、12-主齿轮、13-副齿轮、14-橡胶辊、15-毛刷板、16-喷头、17-蜗轮、18-锥齿轮I、19-圆柱转换套块、20-皮带轮机构、21-中间锥齿轮、22-导杆、23-导向套块、24-齿条、25-锥齿轮II、26-旋转套管I、27-旋转套管II、28-连接齿I、29-连接齿II、30-限位套环、31-锁紧螺柱、32-让位弹簧、33-曲面刮板、34-传动杆、35-锥齿轮III、36-套筒、37-径向弹簧、38-轴向弹簧、39-轴向套管、40-定位柱、41-环向弧槽I、42-环向弧槽II、43-挡板、44-定位弹簧、45-限位板、46-橡胶摩擦滚轴、47-锥齿轮IV、48-连接条块。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明：
实施例1
请参阅图1-8，一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，包括底板1，底板1上滑动安装有滑移架4，滑移架4上安装有用于对反应釜7进行限位的抱卡5，抱卡5内壁转动安装有若干个均匀设置的橡胶摩擦滚轴46，底板1上转动安装有延伸至反应釜7内部的中空轴9，中空轴9内部与外部压力水源连通，中空轴9侧壁安装有若干个喷头16，中空轴9侧壁安装有套筒36，套筒36上安装有与反应釜7内壁抵接的毛刷板15，底板1上转动安装有螺纹杆2，螺纹杆2上螺纹套接有与滑移架4固定的螺纹套块3，底板1上固定有与螺纹杆2平行的导杆22，导杆22上滑动安装有与滑移架4固定的导向套块23，底板1上转动安装有转向相反的旋转套管I26和旋转套管II27，旋转套管I26和旋转套管II27均转动安装在螺纹杆2上，螺纹杆2上同轴固定有处于旋转套管I26和旋转套管II27之间的圆柱转换套块19，圆柱转换套块19的两端都均匀固定有若干个连接齿I28，旋转套管I26和旋转套管II27与圆柱转换套块19相对的一端都均匀固定有若干个连接齿II29，连接齿II29与连接齿I28相对设置，螺纹杆2上同轴固定有圆柱块6，圆柱块6上开设有环向弧槽I41和环向弧槽II42，底板1上滑动安装有与环向弧槽I41或环向弧槽II42抵接适配的定位柱40。
其中，中空轴9上同轴固定有副齿轮13，副齿轮13上啮合连接有由电机11驱动旋转的主齿轮12，中空轴9上同轴固定有蜗杆10，蜗杆10上啮合连接有蜗轮17，蜗轮17通过皮带轮机构20与中间锥齿轮21传动连接。
中空轴9通过旋转接头连接管道并与外部的压力水源连通，压力水源进入到中空轴9内部并通过喷头16喷向反应釜7内部，设置的电机11驱动主齿轮12旋转，主齿轮12驱动副齿轮13转动，使得副齿轮13驱动中空轴9带动套筒36、毛刷板15旋转，实现对反应釜7内壁进行旋转清洗。
而底板1上转动安装有中间锥齿轮21，旋转套管I26和旋转套管II27上分别同轴固定有锥齿轮II25和锥齿轮I18，锥齿轮II25和锥齿轮I18均与中间锥齿轮21啮合。
中空轴9在旋转的过程中驱动蜗杆10旋转，蜗杆10驱动蜗轮17进行减速传动，此时蜗轮17通过皮带轮机构20带动中间锥齿轮21旋转，当圆柱转换套块19上的连接齿I28与旋转套管I26上的连接齿II29卡接，使得中间锥齿轮21驱动锥齿轮II25旋转，使得锥齿轮II25通过旋转套管I26、圆柱转换套块19驱动螺纹杆2旋转，而当圆柱转换套块19上的连接齿I28与旋转套管II27上的连接齿II29卡接，使得中间锥齿轮21驱动锥齿轮I18旋转，使得锥齿轮I18通过旋转套管II27、圆柱转换套块19驱动螺纹杆2反向旋转，通过调节圆柱转换套块19交替与旋转套管I26和旋转套管II27传动，实现螺纹杆2顺逆时针交替旋转，使得滑移架4带动抱卡5和反应釜7相对毛刷板15往复运动，促进了反应釜7内壁的充分清洁。
而由于橡胶摩擦滚轴46对反应釜7抵接，借助橡胶摩擦滚轴46与反应釜7轴向的摩擦力，使得反应釜7能随着抱卡5的移动而移动，使得反应釜7能稳定线性移动。
其中，在底板1上固定有限位板45，定位柱40与限位板45滑动连接，定位柱40上固定有挡板43，挡板43与限位板45之间固定有定位弹簧44。导杆22的两端均滑动套接有限位套环30，限位套环30上螺纹连接有与导杆22抵接的锁紧螺柱31，两个限位套环30相对的一侧固定有让位弹簧32，让位弹簧32套接在导杆22上。
通过上述设置，在滑移架4移动时，滑移架4上的导向套块23沿着导杆22滑动并最终对让位弹簧32进行抵推，使得让位弹簧32实现压缩，而随后螺纹套块3连同螺纹杆2、圆柱块6相对底板1滑动一段位移，此时原本与环向弧槽I41卡接的定位柱40与环向弧槽II42卡接，实现对螺纹杆2进行定位，同时螺纹杆2带动圆柱转换套块19移动，使得圆柱转换套块19通过连接齿I28和连接齿II29卡接配合与旋转套管II27传动连接，即原本与锥齿轮II25啮合的中间锥齿轮21移动后，中间锥齿轮21与锥齿轮I18啮合，使得螺纹杆2的旋转方向实现切换，导向套块23反向移动，当导向套块23对另一个让位弹簧32抵推时，中间锥齿轮21与锥齿轮II25啮合，如此反复，实现了反应釜7实现自动与毛刷板15线性往复运动，大大提升了反应釜7的清洁效率。
实施例2
请参阅图1-8，在实施例1的基础上，另外，滑移架4上转动安装有与反应釜7外壁抵接的橡胶辊14，橡胶辊14上同轴固定有锥齿轮III35，锥齿轮III35上啮合连接有锥齿轮IV47，锥齿轮IV47上同轴固定有移动齿轮8，底板1上固定有与移动齿轮8啮合的齿条24。
通过上述设置，在滑移架4进行线性移动的过程中，移动齿轮8随之移动，在齿条24的啮合作用下，使得移动齿轮8驱动锥齿轮IV47、锥齿轮III35对橡胶辊14传动，此时橡胶辊14通过摩擦作用力驱动反应釜7在橡胶摩擦滚轴46的支撑与导向作用下实现旋转，使得反应釜7在线性移动的同时进行自转，使得毛刷板15对反应釜7内壁进行更为高效且充分的清洁。
另外，在中空轴9的端部固定有轴向套管39，轴向套管39上滑动安装有传动杆34，传动杆34的侧壁固定有滑动嵌设在轴向套管39上的连接条块48，传动杆34上固定有曲面刮板33，传动杆34与轴向套管39之间固定有轴向弹簧38，毛刷板15与套筒36滑动连接，套筒36与毛刷板15之间固定有径向弹簧37。
在中空轴9旋转时，中空轴9通过套筒36驱动毛刷板15旋转，此时毛刷板15对反应釜7旋转清洁，而设置的径向弹簧37能给予毛刷板15一定的抵推作用力，保证毛刷板15与反应釜7内壁贴合，提升了清洁效果，而设置的轴向套管39能随着中空轴9旋转，轴向套管39通过连接条块48驱动传动杆34转动，使得曲面刮板33在移动到反应釜7内底部时能对反应釜7内底部进行旋转清洁，设置的轴向弹簧38给予传动杆34轴向抵推力，保证在曲面刮板33对反应釜7内底部充分清洁，大大提升了反应釜7的清洁全面程度。
综上所述，本发明通过设置的中空轴9旋转实现毛刷板15旋转，实现对反应釜7内壁进行旋转清洁，而同时设置的螺纹杆2旋转能驱动螺纹套块3进行线性滑动，使得毛刷板15能够相对反应釜7轴向运动，而设置的导向套块23能交替与两个让位弹簧32抵推，使得定位柱40交替与环向弧槽I41和环向弧槽II42卡接，使得圆柱转换套块19能交替与旋转套管I26和旋转套管II27传动，使得反应釜7相对毛刷板15轴向往复运动，反应釜7内壁得到自动、充分的旋转清洁，大大提升了清洁效率。本发明通过设置的滑移架4在带动反应釜7往复运动的过程中，移动齿轮8与齿条24啮合传动进行旋转，经过锥齿轮IV47和锥齿轮III35的传动，实现橡胶辊14驱动反应釜7进行自转，使得反应釜7与毛刷板15具有更大的相对旋转速度，反应釜7内壁清洁效率得到大幅提升。
需要特别说明的是，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式，以上实施例仅表达了本技术方案的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术方案专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本技术方案的保护范围。本技术方案专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (6)
1.一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，包括底板(1)，所述底板(1)上滑动安装有滑移架(4)，所述滑移架(4)上安装有用于对反应釜(7)进行限位的抱卡(5)，所述抱卡(5)内壁转动安装有若干个均匀设置的橡胶摩擦滚轴(46)，其特征在于，所述底板(1)上转动安装有延伸至反应釜(7)内部的中空轴(9)，所述中空轴(9)内部与外部压力水源连通，所述中空轴(9)侧壁安装有若干个喷头(16)，所述中空轴(9)侧壁安装有套筒(36)，所述套筒(36)上安装有与所述反应釜(7)内壁抵接的毛刷板(15)，所述底板(1)上转动安装有螺纹杆(2)，所述螺纹杆(2)上螺纹套接有与所述滑移架(4)固定的螺纹套块(3)，所述底板(1)上固定有与所述螺纹杆(2)平行的导杆(22)，所述导杆(22)上滑动安装有与所述滑移架(4)固定的导向套块(23)，所述底板(1)上转动安装有转向相反的旋转套管I(26)和旋转套管II(27)，所述旋转套管I(26)和旋转套管II(27)均转动安装在螺纹杆(2)上，所述螺纹杆(2)上同轴固定有处于所述旋转套管I(26)和旋转套管II(27)之间的圆柱转换套块(19)，所述圆柱转换套块(19)的两端都均匀固定有若干个连接齿I(28)，所述旋转套管I(26)和旋转套管II(27)与圆柱转换套块(19)相对的一端都均匀固定有若干个连接齿II(29)，连接齿II(29)与所述连接齿I(28)相对设置，所述螺纹杆(2)上同轴固定有圆柱块(6)，所述圆柱块(6)上开设有环向弧槽I(41)和环向弧槽II(42)，所述底板(1)上滑动安装有与环向弧槽I(41)或环向弧槽II(42)抵接适配的定位柱(40)，所述底板(1)上固定有限位板(45)，定位柱(40)与所述限位板(45)滑动连接，所述定位柱(40)上固定有挡板(43)，所述挡板(43)与所述限位板(45)之间固定有定位弹簧(44)，所述底板(1)上转动安装有中间锥齿轮(21)，所述旋转套管I(26)和所述旋转套管II(27)上分别同轴固定有锥齿轮II(25)和锥齿轮I(18)，所述锥齿轮II(25)和锥齿轮I(18)均与中间锥齿轮(21)啮合。
2.根据权利要求1所述的一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，其特征在于，所述导杆(22)的两端均滑动套接有限位套环(30)，所述限位套环(30)上螺纹连接有与所述导杆(22)抵接的锁紧螺柱(31)，两个所述限位套环(30)相对的一侧固定有让位弹簧(32)，让位弹簧(32)套接在所述导杆(22)上。
3.根据权利要求1所述的一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，其特征在于，所述中空轴(9)上同轴固定有副齿轮(13)，所述副齿轮(13)上啮合连接有由电机(11)驱动旋转的主齿轮(12)，所述中空轴(9)上同轴固定有蜗杆(10)，蜗杆(10)上啮合连接有蜗轮(17)，所述蜗轮(17)通过皮带轮机构(20)与所述中间锥齿轮(21)传动连接。
4.根据权利要求1所述的一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，其特征在于，所述滑移架(4)上转动安装有与反应釜(7)外壁抵接的橡胶辊(14)，所述橡胶辊(14)上同轴固定有锥齿轮III(35)，所述锥齿轮III(35)上啮合连接有锥齿轮IV(47)，所述锥齿轮IV(47)上同轴固定有移动齿轮(8)，底板(1)上固定有与所述移动齿轮(8)啮合的齿条(24)。
5.根据权利要求1所述的一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，其特征在于，所述中空轴(9)的端部固定有轴向套管(39)，所述轴向套管(39)上滑动安装有传动杆(34)，所述传动杆(34)的侧壁固定有滑动嵌设在所述轴向套管(39)上的连接条块(48)，所述传动杆(34)上固定有曲面刮板(33)，所述传动杆(34)与所述轴向套管(39)之间固定有轴向弹簧(38)。
6.根据权利要求5所述的一种烷基锂生产用反应釜内壁清洁装置，其特征在于，所述毛刷板(15)与所述套筒(36)滑动连接，所述套筒(36)与所述毛刷板(15)之间固定有径向弹簧(37)。
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