CN115449302A - 一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 103
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 75
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 75
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 title claims abstract description 32
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims abstract description 15
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical group [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims abstract description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000373 fatty alcohol group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005227 alkyl sulfonate group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 13
- PWGQHOJABIQOOS-UHFFFAOYSA-N copper;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Cu+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O PWGQHOJABIQOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- AYFACLKQYVTXNS-UHFFFAOYSA-M sodium;tetradecane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O AYFACLKQYVTXNS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N ammonium lauryl sulfate Chemical compound [NH4+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940063953 ammonium lauryl sulfate Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- JZKFHQMONDVVNF-UHFFFAOYSA-N dodecyl sulfate;tris(2-hydroxyethyl)azanium Chemical compound OCCN(CCO)CCO.CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O JZKFHQMONDVVNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- ONQDVAFWWYYXHM-UHFFFAOYSA-M potassium lauryl sulfate Chemical compound [K+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O ONQDVAFWWYYXHM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116985 potassium lauryl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/04—Aqueous dispersions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
- B24B31/10—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work
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Abstract
本发明提供一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液及其使用方法，所述新型抛光液的配方如下：有机酸30‑80g/L；阴离子表面活性剂0.5‑1g/L；无机盐0.05‑0.1g/L；所述有机酸为柠檬酸或草酸，所述阴离子表面活性剂为磺酸盐或硫酸酯盐，所述无机盐为铬酸盐；本抛光液的使用方法为：将阴极钛辊表面机械抛磨后，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡至Ra在0.20μm左右停止浸泡。通过本发明的新型抛光液，可实现阴极辊的镜面抛光，保证阴极辊表面粗糙度、电流密度分布的均匀性，降低电解液对阴极辊的腐蚀作用，提升阴极钛辊的使用时间，提高铜箔生产效率，制备的铜箔可满足极薄锂电铜箔的要求。
Description
技术领域
本发明涉及电解铜箔生产技术领域领域，具体是一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液及其使用方法。
背景技术
阴极辊被称为电解铜箔之母，其表面质量对电解铜箔的生产至关重要，阴极辊表面晶粒组织的大小、外观形貌以及表面粗糙度等均对铜箔的生产有着重要的影响。目前使用的阴极辊主要为钛阴极辊，在生产过程中，阴极辊受电流密度、化学腐蚀、电解液等变化的影响，表面会出现不同程度的氧化或氢化现象，导致阴极辊表面各处钝化膜厚度不一致，影响阴极钛辊表面的粗糙度及电流密度分布，最终影响电解铜箔的质量，一般可通过在线抛光方式进行解决，但随着阴极辊使用时间的积累，钝化膜厚度不断增厚，无法通过在线抛光的方式改善阴极辊表面，需通过离线抛磨才能使阴极辊恢复至原来的状态继续生产。此外，阴极辊面因操作过程失误、电击打辊等造成阴极辊难以修复的缺陷，也需要通过离线抛磨处理使阴极辊形成新的光洁辊面。
阴极辊的离线磨抛方法包含机械抛磨、化学抛磨和电解抛光等，目前，企业主要采用机械磨抛的方式，机械抛磨虽然可使阴极钛辊表面的粗糙度Ra达到0.2-0.3μm，但是该方式操作时间长，难以保证粗糙度均匀，存在微小毛刺、毛边和锐角，钛辊表面会有一定的残余应力，降低钛辊的导电性能，另外，残余应力也会促进表层钛与氧的反应形成氧化膜，但由于残余应力分布不均匀，同时是自然状态下生成，导致氧化膜层的厚度不均匀，进而影响阴极辊钛辊的表面粗糙度和电流密度分布。采用机械抛光的阴极钛辊，使用初期容易因粗糙度不均匀，出现撕边问题。专利CN 110578165 A提供了一种钛质阴极辊用电化学抛光液及抛光方法，虽然采用电解抛光可以获得低粗糙度且速度快，但是抛光液容易腐蚀阴极辊，同时阴极辊的尺寸精度不好控制。专利CN 109023378 A和CN 109097779 A则提供了一种阴极辊化学抛光液及抛光方法，但是该方法也仅仅只是解决了阴极辊抛光问题，所用表面活性剂主要起润湿促进抛光作用，阴极辊抛光后处理并未涉及。对于抛光阴极辊表面氧化问题，专利CN 111334849A提供了一种涂抹硫酸铜溶液保护的方法，但该方式容易在阴极辊表面形成硫酸铜晶粒，影响阴极辊的使用。
随着锂电铜箔往轻薄化方向发展，对抛磨阴极辊的表面质量也提出了更高的要求，尽管采用不同的方式可实现阴极钛辊的磨抛，但是仍有许多问题未得到解决：抛光后阴极辊容易被自然氧化形成氧化膜影响电流密度与粗糙度的均匀性；阴极辊抛光完成后，在使用过程中依然容易被电解液腐蚀、氧化等，阴极辊的使用时间得不到延长。因此需要一种新型的抛光处理方式改善这些问题，提高阴极钛辊的使用时长，保证抛光阴极辊不被氧化，保证阴极辊的电流密度分布均匀，避免阴极辊使用初期撕边问题的出现，提升铜箔的质量，提高生产效率，此外，还需要操作简单、便捷。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足，而提供一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液及其使用方法，本发明所采取的技术方案如下：
一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液，所述新型抛光液的配方为：
有机酸30-80g/L；
阴离子表面活性剂0.5-1g/L；
无机盐0.05-0.1g/L；
所述有机酸为柠檬酸或草酸，所述阴离子表面活性剂为磺酸盐或硫酸酯盐，所述无机盐为铬酸盐；
将所述有机酸溶解于去离子水中，在搅拌条件下加入无机盐，待无机盐完全溶解后再加入阴离子表面活性剂，搅拌均匀，制得电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液。
作为优选，所述磺酸盐为烷基磺酸盐，其中烷基碳原子为C14～15；所述硫酸酯盐为脂肪醇硫酸盐；所述新型抛光液的PH为5～6.5。
还提供一种上述电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法：将机械预抛磨后的钛阴极辊清洗干净后放置在所述电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液中，在室温下浸泡30min，同时旋转辊筒使辊面浸泡均匀，阴极辊表面形成镜面，待其粗糙度(Ra)达到所需要的值(例如0.20μm)后停止浸泡。
还提供另一种上述电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法：待阴极辊磨抛后，将电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液均匀涂覆在阴极辊表面，形成保护层。
本发明的有益效果如下：通过本发明的新型抛光液，可实现阴极辊的镜面抛光，保证阴极辊表面粗糙度、电流密度分布的均匀性，降低电解液对阴极辊的腐蚀作用，延长钛辊的使用时间。本发明抛光液的使用方法采用机械磨抛和化学抛光的结合方式，机械磨抛进行初步处理，化学抛光进行精细处理，相比纯机械磨抛方式，抛光效率得到提高，整体的抛光质量也得到提升，同时也避免了电解抛光可能带来的阴极辊尺寸精度控制问题，具有很好的实用性。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合实施例对本发明作进一步地详细描述。
本发明新型抛光液的使用方式包含机械磨抛和化学抛光两个步骤。阴极钛辊的机械磨抛预处理步骤为：通过行车需要表面处理的钛阴极辊筒吊装至磨床，检查阴极辊并清洗阴极辊，设定阴极辊转速、砂轮转速、气缸压力和横向移动速度，开启砂轮旋转电机修整砂轮，开启冷却液或抛光液和钛阴极辊筒的旋转电机，使用不同型号的砂轮对钛阴极辊筒的辊面进行机械研磨预处理，然后对阴极辊进行抛光，直至阴极辊表面粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，阴极钛辊的机械磨抛预处理完成；机械预磨抛阴极钛辊的化学抛光处理步骤为：将机械预磨抛处理完成的阴极辊通过行车吊装至抛光液槽上方，设置阴极辊转速，开启钛阴极辊筒的旋转电机，使阴极辊在抛光液中均匀浸泡30min，直至阴极辊表面形成镜面，粗糙度Ra均值在0.20μm左右。
实施例1
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至表面粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸30g/L；十四烷基磺酸钠盐0.5g/L，铬酸铜0.05g/L。
实施例2
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸60g/L；十四烷基磺酸钠盐0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
实施例3
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸80g/L；十四烷基磺酸钠盐1g/L；铬酸铜0.1g/L。
实施例4
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：柠檬酸60g/L；十四烷基磺酸钠盐0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
实施例5
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸60g/L；仲烷基磺酸钠0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
实施例6
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸60g/L；月桂基硫酸钾0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
实施例7
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸60g/L；月桂基硫酸铵0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
实施例8
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液的主要成分为：草酸60g/L；月桂基硫酸三乙醇胺0.8g/L；铬酸铜0.08g/L。
对比例1
将氧化的阴极钛辊通过机械磨抛至表面粗糙度Ra均值在0.1～0.3μm，阴极辊磨抛完成，直接放入产线使用。
对比例2
将氧化的阴极钛辊机械磨抛至粗糙度Ra均值在0.3～0.4μm，放置于草酸60g/L的抛光液槽中，在室温下旋转浸泡30min，粗糙度Ra在0.20μm左右停止浸泡。抛光液只有草酸成分，无阴离子表面活性剂、无机盐。
将各实施例和对比例的抛光阴极辊放入产线，观察其使用效果，各抛光阴极辊的外观、粗糙度及使用时长结果如表1所示。
表1实施例和对比例抛光阴极辊表面状况及其使用结果
根据表1结果可知，相比纯机械抛磨，通过使用新型的抛光液，阴极辊表面的粗糙度均匀性得到极大改善，使用时长也得到大幅度提升。根据实施例1-3可知，使用时长相差不大，说明抛光液成分浓度设置合理。经本发明抛光液抛光的阴极辊生产极薄锂电铜箔稳定，铜箔表面粗糙度低，使用初期未出现撕边现象。另外，采用本发明的抛光方法，抛光的时间也得到缩短，由纯机械抛磨的8～10h缩短至5～6h，而且本发明抛光方法使用简单、容易操作，是一种简易高效的阴极钛辊处理方法。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。
Claims (6)
1.一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液，其特征在于：所述新型抛光液的配方如下：
有机酸30-80g/L；
阴离子表面活性剂0.5-1g/L；
无机盐0.05-0.1g/L；
所述有机酸为柠檬酸或草酸，所述阴离子表面活性剂为磺酸盐或硫酸酯盐，所述无机盐为铬酸盐；
将所述有机酸溶解于去离子水中，再加入无机盐、阴离子表面活性剂混合均匀，制得电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液。
2.根据权利要求1所述的一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液，其特征在于：所述磺酸盐为烷基磺酸盐，其中烷基碳原子为C14～15。
3.根据权利要求1所述的一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液，其特征在于：所述硫酸酯盐为脂肪醇硫酸盐。
4.根据权利要求1所述的一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液，其特征在于：所述新型抛光液的PH为5～6.5。
5.根据权利要求1-4任一项所述的一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法，其特征在于：将机械预抛磨后的钛阴极辊清洗干净后放置在所述电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液中，在室温下浸泡一段时间，同时旋转辊筒使辊面浸泡均匀，阴极辊表面形成镜面，待其粗糙度(Ra)达到所需要的值后停止浸泡。
6.根据权利要求1-4任一项所述的一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法，其特征在于：待阴极辊磨抛后，将电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液均匀涂覆在阴极辊表面，形成保护层。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211144236.3A CN115449302A (zh) | 2022-09-20 | 2022-09-20 | 一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211144236.3A Pending CN115449302A (zh) | 2022-09-20 | 2022-09-20 | 一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液的使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115449302A (zh) |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB819782A (en) * | 1954-08-31 | 1959-09-09 | Nat Res Dev | Improvements in and relating to cellulosic materials in sheet form |
| JPH1058687A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-03-03 | Xerox Corp | 加熱インクジェットプリンタとそのヘッドのヒートシンク部材を形成する方法 |
| US5840629A (en) * | 1995-12-14 | 1998-11-24 | Sematech, Inc. | Copper chemical mechanical polishing slurry utilizing a chromate oxidant |
| JP2003313700A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | Sony Corp | 電解研磨液、銅の電解研磨方法、及び半導体装置の製造方法 |
| US20040108302A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Jun Liu | Passivative chemical mechanical polishing composition for copper film planarization |
| CN1900206A (zh) * | 2005-07-21 | 2007-01-24 | 安集微电子（上海）有限公司 | 化学机械抛光液及其用途 |
| CN104073802A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-01 | 中国科学院金属研究所 | 一种纯钛、钛合金或钛铝金属间化合物的化铣溶液及应用 |
| CN104947112A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-09-30 | 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司 | 一种环保型金属抛光液的配制 |
| CN109023378A (zh) * | 2018-08-17 | 2018-12-18 | 常州大学 | 一种阴极辊化学抛光液及抛光方法 |
| CN109097779A (zh) * | 2018-08-28 | 2018-12-28 | 常州大学 | 一种电解铜箔用钛阴极辊化学抛光液及抛光方法 |
| CN111015371A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-04-17 | 湖北中一科技股份有限公司 | 一种应用于电解铜箔的阴极辊抛光方法 |
| CN111334849A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-06-26 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种阴极辊研磨后的保护方法、装置、应用 |
| CN114438551A (zh) * | 2022-01-26 | 2022-05-06 | 九江德福科技股份有限公司 | 一种钛阴极辊筒的表面处理方法 |
-
2022
- 2022-09-20 CN CN202211144236.3A patent/CN115449302A/zh active Pending
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB819782A (en) * | 1954-08-31 | 1959-09-09 | Nat Res Dev | Improvements in and relating to cellulosic materials in sheet form |
| US5840629A (en) * | 1995-12-14 | 1998-11-24 | Sematech, Inc. | Copper chemical mechanical polishing slurry utilizing a chromate oxidant |
| JPH1058687A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-03-03 | Xerox Corp | 加熱インクジェットプリンタとそのヘッドのヒートシンク部材を形成する方法 |
| JP2003313700A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | Sony Corp | 電解研磨液、銅の電解研磨方法、及び半導体装置の製造方法 |
| US20040108302A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Jun Liu | Passivative chemical mechanical polishing composition for copper film planarization |
| CN1900206A (zh) * | 2005-07-21 | 2007-01-24 | 安集微电子（上海）有限公司 | 化学机械抛光液及其用途 |
| CN104073802A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-01 | 中国科学院金属研究所 | 一种纯钛、钛合金或钛铝金属间化合物的化铣溶液及应用 |
| CN104947112A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-09-30 | 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司 | 一种环保型金属抛光液的配制 |
| CN109023378A (zh) * | 2018-08-17 | 2018-12-18 | 常州大学 | 一种阴极辊化学抛光液及抛光方法 |
| CN109097779A (zh) * | 2018-08-28 | 2018-12-28 | 常州大学 | 一种电解铜箔用钛阴极辊化学抛光液及抛光方法 |
| CN111015371A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-04-17 | 湖北中一科技股份有限公司 | 一种应用于电解铜箔的阴极辊抛光方法 |
| CN111334849A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-06-26 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种阴极辊研磨后的保护方法、装置、应用 |
| CN114438551A (zh) * | 2022-01-26 | 2022-05-06 | 九江德福科技股份有限公司 | 一种钛阴极辊筒的表面处理方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 王琴瑶: "《钛制化工设备设计》", 上海科学技术出版社, pages: 29 - 30 * |
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