CN115337091B - 一种低温等离子体电极组件、手术内切刀及手术系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及医疗器械技术领域,具体而言,为一种低温等离子体电极组件、手术内切刀及手术系统。所述电极组件包括电极杆,所述电极杆上设有绝缘基座和通过所述绝缘基座隔离的工作极和回路极:所述绝缘基座上设有凸沿,所述凸沿将所述工作极围在其中,或所述凸沿将所述工作极和回路极均围在其中;所述被凸沿围在其中的工作极和回路极的最高点均低于所述凸沿的最低点,或与所述凸沿的最低点平齐;所述电极杆中设有将目标组织吸引到所述工作极处进行切割消融的吸引通道。能够提升手术的安全系数,且解决了做手术时候频繁换刀的麻烦,可以利用一把刀就把颅底肿瘤切除,而且还可以用于止血,节省时间,简化手术操作。
Description
技术领域
本发明涉及医疗器械技术领域,具体而言,为一种低温等离子体电极组件、手术内切刀及手术系统。
背景技术
低温等离子射频消融术是常用来治疗一些软组织肥大增生的疾病的手术方法,它的主要特点就是工作时的温度相对比较低,可以避免因为温度过高而导致对于身体组织出现的热损伤。利用该方法进行手术时出血有一定的减少,因为它可以在切除组织的过程当中同时有凝血功能,从而避免手术中出现出血过多的情况。
现有的手术内切刀在进行手术过程中,不能精确控制消融范围,在进行某些特殊部位等不允许有额外损伤的手术时,容易造成不必要的额外损伤,或者医生不好操作不易把控安全边界,即现有的手术内切刀手术安全系数不够高。
因此,现有的低温等离子体手术内切刀还有待改进。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种低温等离子体电极组件、手术内切刀及手术系统,能够提升手术的安全系数。
为达到上述目的,本发明提供如下技术方案:
本发明首先提出了一种电极组件,包括电极杆,所述电极杆上设有绝缘基座和通过所述绝缘基座隔离的工作极和回路极:
所述绝缘基座上设有凸沿,所述凸沿将所述工作极围在其中,或所述凸沿将所述工作极和回路极均围在其中;所述被凸沿围在其中的工作极和回路极的最高点均低于所述凸沿的最低点,或与所述凸沿的最低点平齐;所述电极杆中设有将目标组织吸引到所述工作极处进行切割消融的吸引通道。
进一步,当所述绝缘基座上设有将工作极围在其中的凸沿时,所述工作极为一个或至少两个,所述回路极为所述电极杆的裸露部分,或所述电极杆为中空管状结构,所述回路极内置于所述电极杆之中。
进一步,若所述回路极内置于所述电极杆之中,所述回路极为中空管状结构,所述吸引通道为所述回路极的内腔道,或所述回路极的内腔道构成所述吸引通道的一部分。
进一步,当所述工作极为至少两个时,各个所述工作极呈并列式分布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。
进一步,当所述凸沿将工作极和回路极均围在其中时,所述工作极和回路极呈并列式分布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。
进一步,所述电极组件上还包括用于手术时对所述工作极注入生理盐水的注水机构。
进一步,所述注水机构包括设置在所述电极杆内的注水通道和设置在所述绝缘基座上的出水通道,所述出水通道和所述注水通道连通。
进一步,所述出水通道的出水口位于所述工作极的工作部下方,所述工作极与所述出水口之间设有间隙。
进一步,所述工作极与所述出水口之间的间隙为0.1-0.5mm。
进一步,所述注水机构包括设置在所述电极杆内的注水通道和设置在所述绝缘基座上的出水槽,所述出水槽和所述注水通道连通,所述出水槽的出水口位于所述绝缘基座侧壁。
进一步,所述电极杆内壁与所述吸引通道外壁之间的间隙构成所述注水通道或构成所述注水通道的一部分。
进一步,所述回路极上套装有绝缘套管,所述回路极与所述绝缘套管之间的间隙形成所述注水通道。
进一步,所述凸沿上设有至少一个用于生理盐水通过的过水缺口或过水孔,所述过水缺口或过水孔设置在所述凸沿上远离所述工作极的工作部的部位。
进一步,所述凸沿高度为0.1-3mm,所述工作极工作部的最高点位于所述凸沿的最低点下方0.1-0.5mm。
本发明还提出了一种低温等离子体手术内切刀,包括手柄,所述手柄上设有如上任一项所述的电极组件。
本发明还提出了一种低温等离子体手术系统,包括等离子体主机、吸引器、注水装置和如上所述的低温等离子体手术内切刀。
本发明的有益效果在于:
本发明的手术电极、手术内切刀以及手术系统,手术时,通过吸引通道将目标组织吸引到工作极所在位置进行切割消融,由于工作极的工作部最高点位于凸沿最低点下方,或工作极的工作部最高点与凸沿的最低点平齐,使得人体组织先接触绝缘基座的凸沿,再被带入到电极位置,且在凸沿的包围作用下,工作时被加热的生理盐水直接经吸引通道被吸走,不会大面积流入其他人体组织,有效避免了对其他人体组织的误伤,避免造成不必要的损伤,能够有效提升手术的安全系数。
本发明的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述,并且在某种程度上,基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的,或者可以从本发明的实践中得到教导。本发明的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
附图说明
为了使本发明的目的、技术方案和有益效果更加清楚,本发明提供如下附图进行说明:
图1为本发明实施例1中电极组件的示意图;
图2为本发明实施例1中电极组件的剖视图;
图3为本发明实施例1中工作极和回路极的排布示意图之一;
图4为本发明实施例1中工作极和回路极的排布示意图之二;
图5为本发明中注水机构实施例的示意图;
图6为本发明中注水机构另一实施例的示意图;
图7为凸沿上设置一个过水缺口的示意图;
图8为凸沿上设置两个过水缺口的示意图;
图9为凸沿上设置过水孔的示意图;
图10为本发明实施例2中电极组件的示意图;
图11为本发明实施例2中电极组件的剖视图;
图12为本发明实施例3中电极组件的示意图;
图13为本发明实施例3中电极组件的剖视图;
图14为本发明中低温等离子体手术内切刀实施例的示意图;
图15为本发明中手柄示意图;
图16为本发明中低温等离子体手术系统实施例的示意图;
图17为现有技术中电极组件工作时的电流分布示意图;
图18为本发明电极组件工作时的电流分布示意图。
附图标记说明:
1-电极杆;2-绝缘基座;201-凸沿;202-出水通道;203-出水槽;204-过水缺口;205-过水孔;3-工作极;4-回路极;5-吸引通道;6-吸引管;7-注水通道;8-绝缘套管;9-手柄;10-等离子体主机;11-脚踏式开关。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好的理解本发明并能予以实施,但所举实施例不作为对本发明的限定。
实施例1
如图1和图2所示,分别为本实施例的电极组件的示意图和剖视图。本实施例的电极组件包括电极杆1,电极杆1上设有绝缘基座2和通过绝缘基座2隔离的工作极3和回路极4:
本实施例中,绝缘基座2上设有凸沿201,凸沿201将工作极3和回路极4均围在其中,被凸沿201围在其中的工作极3和回路极4的最高点均低于凸沿201的最低点,本实施例中,凸沿201的高度为0.1-3mm,工作极3和回路极4的最高点位于凸沿201的最低点下方0.1-0.5mm。当然,在一些实施例中,被凸沿201围在其中的工作极3和回路极4的最高点与凸沿201的最低点平齐。电极杆1中设有将目标组织吸引到工作极3处进行切割消融的吸引通道5,本实施例中,电极杆1为中空管状结构,其内部设有与其同轴设置的吸引管6,绝缘基座2设置在电极杆1的端部,绝缘基座2的轴线方向上设有连接通道,该连接通道的一端位于工作极3和回路极4所在的一侧、另一端与吸引管6相连通,本实施例中,上述连接通道与吸引管6的内腔道构成吸引通道5。
本实施例中,凸沿201、工作极3和回路极4均设置在绝缘基座2的端面上,工作极3和回路极4呈并列式分布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。其中,“并列式分布”包括两种方式,一种是平铺式地设置于绝缘基座2的端面上;另一种是向吸引通道5方向平铺式设置,相邻电极之间极性相反,如有多个电极,则工作极3和回路极4交错设置(如图1和图2中所示);如图3和图4中所示,“对称式分布”左右对称式排布和上下对称式排布,相邻电极之间极性相反,如有多个电极,则工作极3和回路极4交错设置,进一步优选的,另一排与之相对设置的电极极性相反;“阶梯式分布”,在绝缘基座2的端面上设置向内凹陷的多级台阶,并将与台阶的级数一一对应的多个工作极3分别对应设置在各级台阶上,相邻电极之间极性相反,如有多个电极,则工作极3和回路极4交错设置;“同心式排布”,绝缘基座2端面上设有多个由不同尺寸的环状、方形或其它多边形结构工作极3,并且上述的多个工作极3同心,相邻电极之间极性相反,如有多个电极,则工作极3和回路极4交错设置;“散点式分布”中,电极一般称柱状或针状,且平铺于绝缘基座2上,优选的,各个电极均匀分布,此时,电极的极性可有更多设置方式,不限于上述表述的各种方式。
如图2中所示,本实施例的电极组件还包括用于手术时对工作极3注入生理盐水的注水机构。下面就本发明中的两种注水机构的实时方式进行具体说明:
实施方式一:
如图2和图5中所示,本实施方式中,注水机构包括设置在电极杆1内的注水通道7和设置在绝缘基座2上的出水通道202,出水通道202和注水通道7连通,出水通道202的出水口位于绝缘基座2靠近工作极3和回路极4所在的一侧(绝缘基座2端面上)。手术时,向注水通道7中注入生理盐水,生理盐水经注水通道7进入出水通道202中,并从出水通道202的出水口流出,到达由凸沿201所围成的手术区域内。本实施方式中,出水口位于工作极3和回路极4的下方,工作极3、回路极4与出水口之间设有0.1-0.5mm的间隙,能够保证在工作极3有足够的生理盐水正常工作的同时防止电极堵塞出水口。
实施方式二:
如图6中所示,本实施方式中,注水机构包括设置在电极杆内的注水通道7和设置在绝缘基座2上的出水槽203,出水槽203和注水通道7连通,出水槽203的出水口位于绝缘基座2侧壁。手术时,向注水通道7中注入生理盐水,生理盐水经注水通道7进入出水槽203中,到达由凸沿201所围成的手术区域内。如图7和图8中所示,本实施例的凸沿201上设有一个或两个用于生理盐水通过的过水缺口204,可以防止电极在使用时前端因病灶组织的影响,生理盐水不能很好浸泡工作极3的工作部。如图9中所示,在一些实施例中,还可以利用在凸沿201上设置过水孔205的方式来满足上述需求。本实施例中,过水缺口204或过水孔205设置在凸沿201上远离工作极3部位,如图6-图9中所示,本实施例采用的工作极3为丝状电极,将一个或者两个过水缺口204设置在丝状电极的侧面,能够有效缩短出水处到吸引通道的行程,由于上述结构的优势,工作时被加热的生理盐水不会大面积流入其他人体组织,有效避免了对其他人体组织的误伤(即传统出水和吸引方式可能出现的烫伤),并提升了手术的精细程度。
如图2中所示,本实施例中,电极杆1内壁与吸引管6外壁之间的间隙形成注水通道7。在一些实施例中,电极杆1上套装有绝缘套管8,也可以在电极杆1与吸引管6之间设置间隙,并将该间隙设为注水通道7。
具体实施中,可以择一采用上述任意一种注水机构,也可以两种注水机构组合使用。
实施例2
如图10和图11所示,分别为本实施例的电极组件的示意图和剖视图。本实施例的电极组件包括电极杆1,电极杆1上设有绝缘基座2和通过绝缘基座2隔离的工作极3和回路极4:
本实施例中,绝缘基座2上设有凸沿201,凸沿201仅将工作极3围在其中,电极杆1上设有绝缘套管8,且电极杆1的前端裸露并作为本实施例的回路极4。同样地,本实施例中,被凸沿201围在其中的工作极3的最高点低于凸沿201的最低点,本实施例中,凸沿201的高度为0.1-3mm,工作极3的最高点位于凸沿201的最低点下方0.1-0.5mm。本实施例中,电极杆1也为中空管状结构,其内部设有与其同轴设置的吸引管6,绝缘基座2设置在电极杆1的端部,绝缘基座2的轴线方向上设有连接通道,该连接通道的一端位于工作极3和回路极4所在的一侧、另一端与吸引管6相连通,本实施例中,上述连接通道与吸引管6的内腔道构成吸引通道5。
本实施例中,凸沿201和工作极3均设置在绝缘基座2的端面上,工作极3可以呈并列式排布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。其中,“并列式分布”包括两种方式,一种是平铺式地设置于绝缘基座2的端面上;另一种是向吸引通道5方向平铺式设置。“对称式分布”包括左右对称式排布和上下对称式排布;“阶梯式分布”中,在绝缘基座2的端面上设置向内凹陷的多级台阶,并将与台阶的级数一一对应的多个工作极3分别对应设置在各级台阶上;“同心式排布”中,绝缘基座2端面上设有多个由不同尺寸的环状、方形或其它多边形结构工作极3,并且上述的多个工作极3同心;“散点式分布”中,电极一般称柱状或针状,且平铺于绝缘基座2上,优选的,各个电极均匀分布。
本实施例中,注水机构与实施例1中的设置相同,不再赘述。
实施例3
如图12和图13中所示,分别为本实施例的电极组件的示意图和剖视图。本实施例的电极组件包括电极杆1,电极杆1上设有绝缘基座2和通过绝缘基座2隔离的工作极3和回路极4:
本实施例中,绝缘基座2上设有凸沿201,凸沿201仅将工作极3围在其中,电极杆1为中空管状结构,回路极4内置在电极杆1中,同样地,本实施例中,被凸沿201围在其中的工作极3的最高点低于凸沿201的最低点,本实施例中,凸沿201的高度为0.1-3mm,工作极3的最高点位于凸沿201的最低点下方0.1-0.5mm。本实施例中,回路极4也为中空管状结构,其内部腔道构成吸引通道5的一部分,绝缘基座2设置在电极杆1的端部,绝缘基座2的轴线方向上设有连接通道,该连接通道的一端位于工作极3和回路极4所在的一侧、另一端与回路极4的内腔道相连通,本实施例中,上述连接通道与回路极4的内腔道构成吸引通道5。由于回路极4内置在电极杆1中,回路极内置这种方式,电流范围仅局限于电极头部分的小范围内,手术中可以避免电流外溢(参考附图18),电流从而避免造成不必要的损伤,能够有效提升手术的安全系数。颅底肿瘤手术需要尽可能精确的进行手术操作,如果采用原来常规的回路极的设置方式(参考附图17),可能导致电流扩散范围比较大,这种方式不适合颅底肿瘤手术。
本实施例中,工作极3的排布与实施例2中的排布一致,此处不再赘述。
本实施例的电极组件还包括用于手术时对工作极3注入生理盐水的注水机构。下面就本发明中的两种注水机构的实时方式进行具体说明:
实施方式一:
如图13所示,本实施方式中,注水机构包括设置在电极杆1内的注水通道7和设置在绝缘基座2上的出水通道202,出水通道202和注水通道7连通,出水通道202的出水口位于绝缘基座2靠近工作极3所在的一侧(绝缘基座2端面上)。手术时,向注水通道7中注入生理盐水,生理盐水经注水通道7进入出水通道202中,并从出水通道202的出水口流出,到达由凸沿201所围成的手术区域内。本实施方式中,出水口位于工作极3和回路极4的下方,工作极3与出水口之间设有0.1-0.5mm的间隙,能够保证在工作极3有足够的生理盐水正常工作的同时防止电极堵塞出水口。
实施方式二:
同样地,如图5-图8中所示,本实施方式中,注水机构包括设置在电极杆内的注水通道7和设置在绝缘基座2上的出水槽203,出水槽203和注水通道7连通,出水槽203的出水口位于绝缘基座2侧壁。手术时,向注水通道7中注入生理盐水,生理盐水经注水通道7进入出水槽203中,到达由凸沿201所围成的手术区域内。如中所示,本实施例的凸沿201上设有一个或两个用于生理盐水通过的过水缺口204,可以防止电极在使用时前端因病灶组织的影响,生理盐水不能很好浸泡工作极3。如图9中所示,在一些实施例中,还可以利用在凸沿201上设置过水孔205的方式来满足上述需求。如图6-图9中所示,本实施例中,过水缺口204或过水孔205设置在凸沿201上远离工作极3部位,本实施例采用的工作极3为丝状电极,将一个或者两个过水缺口204设置在丝状电极的侧面,工作时被加热的生理盐水不会大面积流入其他人体组织,有效避免了对其他人体组织的误伤,减小不必要的额外损伤。
如图13中所示,本实施例中,回路极4内壁与回路极4外壁之间的间隙形成注水通道7。在一些实施例中,电极杆1上套装有绝缘套管8,也可以在电极杆1与吸引管6之间设置间隙,并将该间隙设为注水通道7。
实施例4
如图14所示,为本实施例的低温等离子体手术内切刀的示意图。本实施例的低温等离子体手术内切刀,包括手柄9,手柄9上设有如实施例1、2或3中任一项所述的电极组件。如图15中所示,本实施例的手柄9上还设有用于安装电极组件以及电缆线的安装通道,还设有进水固定通道和出水固定通道,便于安装固定各种管路。
实施例5
如图16中所示,本发明还提出了一种低温等离子体手术系统,包括等离子体主机10、吸引器、注水装置和如上的低温等离子体手术内切刀。其中,手术内切刀通过线缆与等离子体主机10相连接,注水装置与注水通道7相连通,吸引器与吸引通道5相连通,其中吸引器和注水装置未在图中示出。本实施例中,等离子体主机10采用脚踏式开关11进行控制,便于单人进行操作。
以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例,本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换,均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。
Claims (14)
1.一种电极组件,包括电极杆,所述电极杆上设有绝缘基座和通过所述绝缘基座隔离的工作极和回路极,其特征在于:
所述绝缘基座上设有凸沿,所述凸沿将所述工作极围在其中,或所述凸沿将所述工作极和回路极均围在其中;所述被凸沿围在其中的工作极和回路极的最高点均低于所述凸沿的最低点,或与所述凸沿的最低点平齐;所述电极杆中设有将目标组织吸引到所述工作极处进行切割消融的吸引通道;
所述绝缘基座上设有将工作极围在其中的凸沿时,所述工作极为一个或至少两个,所述回路极为所述电极杆的裸露部分,或所述电极杆为中空管状结构,所述回路极内置于所述电极杆之中;
若所述回路极内置于所述电极杆之中,所述回路极为中空管状结构,所述吸引通道为所述回路极的内腔道,或所述回路极的内腔道构成所述吸引通道的一部分;
绝缘基座的轴线方向上设有连接通道,该连接通道的一端位于工作极和回路极所在的一侧、另一端与回路极的内腔道相连通。
2.根据权利要求1所述的电极组件,其特征在于:当所述工作极为至少两个时,各个所述工作极呈并列式分布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。
3.根据权利要求1所述的电极组件,其特征在于:当所述凸沿将工作极和回路极均围在其中时,所述工作极和回路极呈并列式分布、对称式分布、阶梯式分布、同心式分布或散点式分布。
4.根据权利要求1所述的电极组件,其特征在于:所述电极组件上还包括用于手术时对所述工作极注入生理盐水的注水机构。
5.根据权利要求4所述的电极组件,其特征在于:所述注水机构包括设置在所述电极杆内的注水通道和设置在所述绝缘基座上的出水通道,所述出水通道和所述注水通道连通。
6.根据权利要求5所述的电极组件,其特征在于:所述出水通道的出水口位于所述工作极的工作部下方,所述工作极与所述出水口之间设有间隙。
7.根据权利要求6所述的电极组件,其特征在于:所述工作极与所述出水口之间的间隙为0.1-0.5mm。
8.根据权利要求4所述的电极组件,其特征在于:所述注水机构包括设置在所述电极杆内的注水通道和设置在所述绝缘基座上的出水槽,所述出水槽和所述注水通道连通,所述出水槽的出水口位于所述绝缘基座侧壁。
9.根据权利要求5-8任一项所述的电极组件,其特征在于:所述电极杆内壁与所述吸引通道外壁之间的间隙构成所述注水通道或构成所述注水通道的一部分。
10.根据权利要求5-8任一项所述的电极组件,其特征在于:所述回路极上套装有绝缘套管,所述回路极与所述绝缘套管之间的间隙形成所述注水通道。
11.根据权利要求5-8任一项所述的电极组件,其特征在于:所述凸沿上设有至少一个用于生理盐水通过的过水缺口或过水孔,所述过水缺口或过水孔设置在所述凸沿上远离所述工作极的工作部的部位。
12.根据权利要求1所述的电极组件,其特征在于:所述凸沿高度为0.1-3mm,所述工作极工作部的最高点位于所述凸沿的最低点下方0.1-0.5mm。
13.一种低温等离子体手术内切刀,其特征在于:包括手柄,所述手柄上设有如权利要求1-12任一项所述的电极组件。
14.一种低温等离子体手术系统,其特征在于:包括等离子体主机、吸引器、注水装置和如权利要求13中所述的低温等离子体手术内切刀。
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