CN115315721A - 用于选择性修改组织标本的x射线图像的系统、方法和计算机程序产品 - Google Patents

Abstract

由活检组织处置装置生成的X射线图像被选择性地修改以强调感兴趣的区域，并且不强调或消除分散注意力、损害查看注意力和/或导致眼睛疲劳的图像区域。图像处理器基于标本托盘的一部分的几何构造执行图像掩模，该标本托盘包括具有组织标本的存储隔间。隔间掩模在描绘包括组织标本的存储隔间的X射线图像的一部分上执行。隔间掩模边界基本上与隔间的轮廓对应。部分结构掩模在X射线图像的描绘标本托盘和存储隔间的相应壁的一部分上执行。部分结构掩模边界沿着相应长度延伸并部分地穿过标本托盘的相应壁。

Description

用于选择性修改组织标本的X射线图像的系统、方法和计算机 程序产品

技术领域

所公开的发明一般而言涉及活检组织标本的成像，并且更具体地涉及用于可以在活检规程期间实时完成的修改和增强组织标本的X射线图像的系统、方法和计算机程序产品。

背景技术

活检是众所周知的医疗规程，涉及从活体中取出组织并检查组织以进行诊断研究，诸如确定疾病的存在、原因或程度。例如，为了诊断乳腺癌或其它疾病，可以执行人体乳腺组织的活检。当前的护理标准是经皮活检，这由通过小切口插入具有针和切割设备的活检设备并将针和切割设备推进到感兴趣组织的部位来执行。然后切割设备切割组织的样本，捕获组织标本并通过小切口移除组织标本。经皮活检设备已经使用各种手段来移除组织标本，诸如简单地通过切口将带有捕获的组织标本的设备移除，或者将组织标本通过设备运送出去，在那里它可以被移除或通过管子抽取到容器。从活检设备中移除组织标本的一个优点是可以采集多个标本而不必从患者身上移除活检设备。

通常使用X射线成像系统对组织标本进行成像以进行验证。例如，可以将组织标本放置到X射线标本托盘或容器中，然后放置到标本成像设备中以获取组织的图像。还已经公开了用于执行活检和对组织标本进行成像的自动活检和成像系统。在美国专利No.9,492,130中描述了组织活检和处置装置的一个示例，该专利的内容通过引用并入本文，就好像完整地阐述了一样。特别地，美国专利No.9,492,130公开了一种集成活检分析系统，该系统具有活检切除工具、用于将切除的组织标本从活检切除工具自动运送到分析/成像单元的组织标本运送机构，以及用于自动分析由X射线成像设备获取的组织标本图像的分析/成像系统。该系统切除组织标本并将切除的组织标本转移和放置到标本保持器中，该标本保持器具有用于放置多个不同组织标本的多个组织接受槽。成像单元被配置为获取组织保持器中的组织标本的图像，诸如通过获取每个组织标本在其相应组织接受槽中的单独图像。

但是，已知的活检和成像系统具有一些缺点并且可以被改进。例如，虽然由已知的活检和成像系统生成的X射线图像可以是信息丰富且有用的，但由于相关联的标本保持器结构和具有不同亮度的图像部分的成像，X射线图像的某些内容会分散注意力并造成眼睛疲劳。一些图像部分会比其它图像部分明显更亮(例如，金属物体)，因此用户的注意力会在最初和在标本审查过程中被吸引到这些区域。否则，当审查X射线图像时，此类亮点在用户的视场中。由于非标本物体的成像引起的这些分心和干扰可以是不方便的、耗时的，并且会损害观察者的分析和耐力，并且随着用户参与更长的审查会话并要求审查更大数量的标本图像，这些缺点会更加复杂。由于不得不在质量较低的图像上花费额外的时间，此类缺点也会扰乱审查工作流。

其它活检和成像系统已被设计为改进X射线图像获取期间的流体控制，因为成像场中的流体会导致图像质量降低。例如，当使用X射线成像设备获取图像时，流体会部分或完全地覆盖或遮盖组织标本和/或粘附到组织标本的顶部或部分或完全覆盖组织标本。干扰流体可以具有与正被成像的组织标本相似的衰减属性并遮盖标本的部分。因此，被成像的组织标本可以看起来类似于癌组织或具有指示癌症的特点的组织，诸如肿块、肿瘤或钙化。干扰流体也会看起来是遮挡感兴趣图像部分的阴影。

为了解决这些缺点，过滤器托盘组件已经被设计有在组织标本的X射线成像期间管理成像场中的流体的结构。流体管理可以涉及使用不同类型的流体控制结构防止流体进入成像场和/或移除进入成像场的流体。

但是，这些附加的流体控制结构(可以由塑料或其它不透射线的材料制成)也与标本一起被成像并最终出现在结果所得的X射线图像中。因此，虽然这些附加的结构可以改善流体管理，但由于附加的流体管理结构被成像，它们也会导致上面提到的各种X射线图像缺陷。

发明内容

本文描述的组织活检和处置系统、方法和成像算法的实施例通过选择性地修改X射线图像来提供改进的X射线成像，这可以实时地或与组织提取和处理联机进行。

本文所述的组织活检和处置系统、方法和成像算法的实施例通过选择性地修改标本托盘的X射线图像来提供改进的X射线成像，标本托盘包括标本并且具有用于在X射线成像期间改进流体管理结构的附加结构。

组织活检和处置系统、方法和成像算法的实施例还提供了改进的组织标本X射线图像，这些图像更干净并且更集中以强调感兴趣的图像部分，同时不强调或消除分散注意力的图像部分以维持观察者的注意力。

组织活检和处置系统、方法和成像算法的实施例还提供了改进的组织标本X射线图像，与由X射线成像设备生成的未加工的X射线图像相比，这些图像在观察者的眼睛上更容易并且因此改善了观察者眼睛的疲劳。

组织活检处置系统、方法和成像算法的实施例还提供了各种类型和配置的标本托盘中的标本的改进成像。标本托盘可以由塑料和其它不透射线材料制成并且包括不同的不透射线物体(诸如用作隔间参考的磁体或“零”位置标记和印刷的记号)。

实施例还提供了在成像期间适于制造缺陷和准直器偏移量的标本成像。

实施例通过使用部分结构掩模来提供改进的标本成像，这被执行以使得标本托盘壁的外部部分(诸如分隔器壁)不被强调或消除，而壁的内部部分限定组织储藏室得到维护或增强。换句话说，部分结构掩模的边界不涵盖标本托盘壁的整个宽度或厚度，并且这个部分厚度边界可以延伸壁的长度或周边。以这种方式，部分结构掩模捕获相应壁的一部分(限定或邻近组织存储隔间的内壁区段)和存储隔间的未被用于内部隔间的成像掩模的边界涵盖或超出该边界的剩余部分。例如，部分结构掩模可以包括壁的内25％至50％，无论其形状是线性的还是弧形的或其它形状。因此，实施例示出了选定的相关壁结构，并且更具体地示出了标本托盘壁的最接近或邻近存储隔间或标本的一部分，同时不强调或消除可能在视觉上分散注意力且不必要的外壁结构。

根据一个实施例，一种由活检组织处置装置执行的计算机实现的方法包括由活检组织处置装置的X射线成像系统获取在标本托盘的存储隔间中的组织标本的X射线图像。该方法还包括通过与执行成像算法的X射线成像系统通信的图像处理器生成经修改的X射线图像。经修改的X射线图像由图像处理器执行成像算法生成，该算法包括执行多个图像掩模，这些图像掩模至少部分地基于包括具有组织标本的存储隔间的标本托盘的至少一部分的几何配置。在X射线图像的一部分上执行隔间掩模，该图像描绘了具有被切下的组织标本的存储隔间。隔间掩模边界基本上与存储隔间限定的标本托盘壁的轮廓对应，其可以是线性的或弯曲的/弧形的。在描绘标本托盘的相应壁和存储隔间的一部分的X射线图像的一部分上执行部分结构掩模。部分结构掩模的边界沿着相应的长度延伸并部分地穿过标本托盘的相应壁，并且捕获未被隔间掩模涵盖的存储隔间的一部分和壁厚度的一部分。

因此，部分结构掩模边界沿着标本托盘壁的长度或周边延伸，并且部分地延伸到标本托盘壁中(例如，延伸到标本托盘壁的第一四分之一、第一三分之一或第一半)。换句话说，在此类实施例中，部分结构掩模的边界不涵盖标本托盘壁的整个宽度或厚度。以这种方式，部分结构掩模捕获标本托盘的相应壁的相应内部区段或部分，同时还捕获不包括在隔间掩模的边界中和超出该边界的存储隔间的剩余部分，从而相对于隔间和标本示出所选择的相关壁结构，同时不强调或消除可能不感兴趣和视觉上分散注意力的外壁结构。

在另一个实施例中，活检组织处置装置包括标本托盘、管、X射线成像系统和显示器。标本托盘限定用于保持一个或多个组织标本的一个或多个存储隔间或室。管限定与存储隔间连通的真空管腔，使得管可以接收被切下的组织标本并将被切下的组织标本与流体一起通过真空管腔递送到存储隔间中。X射线成像系统相对于组织存储隔间定位或布置以获取标本托盘的存储隔间中被切下的组织标本的X射线图像。与X射线成像系统通信的图像处理器被编程或配置为执行通过执行多个图像掩模来修改X射线图像的成像算法，这些图像掩模至少部分地基于包括具有组织标本的存储隔间的标本托盘的至少一部分的几何配置。在X射线图像的一部分上执行隔间掩模，该图像描绘了具有被切下的组织标本的存储隔间。隔间掩模边界基本上与存储隔间限定的标本托盘壁的轮廓对应。部分结构掩模也在描绘标本托盘和存储隔间的相应壁的X射线图像的一部分上执行。部分结构掩模的边界沿着相应长度延伸并部分地穿过标本托盘的相应壁并且捕获壁厚度的一部分和未被隔间掩模涵盖的存储隔间的一部分。其它系统实施例可以包括标本托盘、管、X射线成像系统和显示器中的一个或多个及其组合。

在进一步的实施例中，一种非暂态计算机可读介质有形地实施一个或多个指令序列，指令序列可以由包含在活检组织处置装置的一个或多个计算系统中的一个或多个处理器执行，以使得一个或多个计算系统通过执行实施例的计算机实现的方法和成像算法来获取和修改X射线图像。

在一个或多个实施例或选项中，隔间掩模是内部隔间掩模，其不包括存储隔间的壁、X射线成像设备的准直器的被成像部分以及磁体。当标本托盘绕轴旋转时，磁体可以用作组织存储隔间的“零”位置标记。隔间掩模增强或强调描绘隔间中的组织标本的X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个。隔间掩模可以涵盖整个标本或标本的一部分，并且标本的剩余部分可以被部分结构掩模涵盖。

在一个或多个实施例或选项中，执行部分结构掩模以遮蔽、变黑或降低描绘在部分结构掩模的边界之外的标本托盘的相应塑料壁的外部分的X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个，并且部分结构掩模边界是根据或基于壁内的预定点(例如，中点)或距隔间掩模的边界的预定距离来确定的。

在一个或多个实施例或选项中，部分结构掩模的边界与隔间掩模的边界具有基本相同的形状并且涵盖隔间掩模的边界，在一个实施例中，其包括一对线性边界区段和在线性边界区段之间延伸的一对弯曲/弧形边界区段。可以使用其它隔间掩模和部分结构掩模配置。

在单个或多个实施例或选项中，图像处理器在X射线图像的一部分上执行无关物体掩模，该部分描绘物体(诸如嵌入、固定或应用到标本托盘的磁体或印刷的记号)。例如，金属磁体可以嵌入标本托盘的塑料壁区段内并且可以用作参考或“零”位置隔间标记并且被用于接合另一个磁体以旋转标本托盘。对于这些类型的物体(例如，金属物体)，掩模可以基本上与磁体的外周边对应并且遮蔽、变黑或降低描绘不透射线的磁体的X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个，其最初在原始X射线图像中看起来是明亮的白点。因此，实施例减少或消除了磁体在X射线图像中的突出和吸引观察者注意力的趋势。作为另一个示例，物体可以是印刷的记号，诸如用钨墨印刷的数字或字符，其与组织隔间相关联或识别组织隔间。对于这些类型的物体，无关物体掩模的边界(例如，包围记号的正方形或矩形)定义包括记号并且将被包括在经修改的图像中的区域。因此，取决于由用户识别或指示的物体的类型，物体可以被不强调或消除(例如，对于金属磁体)或被选择并包括在经修改的X射线图像中。

在一个或多个实施例或选项中，隔间掩模的边界包括第一线性边界区段、第二线性边界区段、第一弧形边界区段、第二弧形边界区段和第三弧形边界区段。第一弧形边界区段在第一线性边界区段和第二线性边界区段之间延伸，第二弧形边界区段在第一线性边界区段和第三弧形边界区段之间延伸，并且第三边界区段在第二弧形边界区段和第二线性边界区段之间延伸。利用这种隔间掩模配置，隔间掩模的第三弧形区段(例如，邻近磁体的被成像部分)的曲率半径小于标本和托盘结构掩模的相应第一和第二弧形边界的相应曲率半径。部分结构掩模可以是与隔间掩模相同的形状，或者在其它实施例中，托盘结构掩模的边界的一部分可以延伸通过由无关物体掩模(例如，磁体的被成像部分)的边界限定的区域，使得隔间与部分结构掩模的边界可以是不同的形状。

在单个或多个实施例或选项中，由图像处理器执行的图像掩模是预定义的感兴趣区域掩模，其可操作以初始裁剪X射线图像，例如，以消除X射线的描述X射线成像系统的金属准直器的部分。在单个或多个实施例或选项中，预定义的感兴趣区域掩模是在未加工的X射线图像上执行并且在隔间和部分结构掩模执行之前执行的第一图像掩模。

在单个或多个实施例或选项中，标本托盘的至少一部分的几何配置和/或所执行的图像掩模的朝向至少部分地基于与存储隔间相关联的印刷的记号的中心(例如，质心)。如果需要，那么旋转X射线图像以将印刷的记号的中心与预定轴(例如，水平轴)对准，以便将X射线图像与标本托盘的几何配置配准或对准和/或最初为正确对准的图像配置的图像掩模可以旋转。出于这些目的，也可以旋转掩模朝向和相关联的结构或几何标本托盘配置。因此，实施例可以自动补偿和适应活检组织处置装置的旋转或机械不一致性，并且使得几何配置可以被用于在执行图像掩模时确定X射线图像中的对应区段。

在单个或多个实施例或选项中，图像处理器确定X射线成像设备的准直器的偏移量值，例如，相对于被成像的组织隔间的侧面或左及右端的水平偏移量值，用于X射线图像或其部分的水平调整或配准和/或调整图像掩模被执行的位置，以便应用图像掩模来确定X射线图像中的对应区段。

在单个或多个实施例或选项中，活检组织处置装置通过与存储隔间连通的真空管腔将被切下的组织标本存放到存储隔间中。

在单个或多个实施例或选项中，生成的或未加工的X射线图像通过根据多个掩模改变像素值并将经修改的X射线图像像素数据结合到医学数字成像和通信(DICOM)对象中来修改。也可以使用其它数据格式。

在单个或多个实施例或选项中，在处理被切下的组织标本期间实时地执行图像掩模并且修改X射线图像。

在单个或多个实施例或选项中，选择性地修改描绘组织标本的X射线图像的像素的亮度值，以使相应的亮度水平适应被成像的组织标本的相应不同厚度。例如，与标本的较厚部分相比，描绘标本的较薄部分的X射线图像的部分可以被识别，使得可以基于不同的标本厚度进行像素调整，例如，较薄和较厚的标本部分的像素的亮度值通过相应的亮度和对比度得到增强，从而可以描绘较薄和较厚标本部分的标本边缘，而较厚的标本部分不会太亮。因此，像素值可以跨标本厚度选择性地适应。

附图说明

本文公开的发明的实施例的前述和其它方面将参考附图进一步详细描述，其中相像的附图标记指相像的元素，并且对相像的元素的描述只要相关就应当适用于所有描述的实施例：

图1是根据一个实施例构造的用于组织标本的X射线成像和修改组织标本的X射线图像的组织活检和处置系统的框图；

图2是根据一个实施例的用于修改组织标本的X射线图像的方法的流程图；

图3是根据一个实施例的用于修改组织标本的X射线图像的方法的流程图；

图4A-B描绘了组织活检和处置系统，其可操作以执行实施例并且用于在活检规程期间执行乳房活检规程和乳房组织标本的实时成像，其中图4A图示了处于打开位置的成像柜，并且图4B图示了处于闭合位置的成像柜；

图5描绘了根据一个实施例构造的组织活检和处置系统的成像柜的实施例；

图6更详细地描绘了可以被用于切割组织标本的组织活检和处置系统的示例，以及在活检规程期间流体(诸如盐水和血液)可以流过的管道组件；

图7A-M更详细地描绘了组织活检和处置系统的组织过滤器组件的示例并且包括在活检规程期间组织标本和流体存放在其中的组织存储隔间，其中图7A-D描绘了具有可旋转标本托盘的一个示例组织过滤器组件，并且图7E-M描绘了还包括附加的流体管理结构的组织过滤器组件，该流体管理结构包括流体通道和流动梳；

图8是根据一个实施例的用于修改组织标本的X射线图像的方法的流程图；

图9图示了标本托盘的至少一部分的结构或几何构造如何应用于X射线图像的示例；

图10A-B是展示由实施例实现的视觉增强的X射线图像，其中图10A是包括被成像的磁体的标本托盘的一部分的未加工的X射线图像，并且图10B是根据实施例生成的经修改的X射线图像；以及

图11A-B是展示由实施例实现的视觉增强的X射线图像，其中图11A是不包括磁体的标本托盘的一部分的未加工的X射线图像，并且图11B是根据实施例生成的经修改的X射线图像。

具体实施方式

实施例提供了组织活检和处置系统、方法和成像算法，它们通过执行图像掩模和被成像和描绘在X射线图像中的标本托盘的至少一部分的结构或几何构造来选择性地修改组织标本的X射线图像。根据实施例生成的经修改的X射线图像比传统的或未加工的X射线图像更干净且更集中，传统的或未加工的X射线图像可能杂乱无章，具有无关且明亮的区域，这些区域会非常分散观察者的注意力并导致观察者疲劳并降低审查吞吐量。根据实施例生成的经修改的X射线图像强调或维持相关的图像区段，同时不强调或删除无关或高衰减物体(诸如磁体和各种无关的标本托盘结构)的图像部分。因此，实施例还特别适用于涉及标本托盘的X射线成像，该标本托盘具有用于管理流体(诸如血液、盐水、麻醉剂、生物流体等)进出成像场的控制的附加结构并且与标本一起被成像。实施例可适用于修改各种类型的标本托盘结构的X射线图像。另外，给定实施例执行的方式，实施例可以适应不同成像系统和部件的机械和成像变化。

实施例有利地执行以生成改进的X射线图像，其可以在组织处理之后或在组织处理期间实时生成。例如，在规程期间，从患者身上切下组织标本，通过真空管连同运输和/或体液(诸如盐水、血液或它们的组合)一起被吸入，并与流体一起存放到标本托盘的存储隔间中。获取切下的组织标本的X射线图像，并且执行实施例以选择性地修改所生成的X射线图像。然后，可以在规程期间通过显示器实时向放射科医生或组织活检和处置系统的其他用户呈现结果所得的经修改的X射线图像，而不是生成的X射线图像。经修改的X射线图像和生成的X射线图像也可以一起呈现，以进行附加的审查和比较。图像获取和实施例执行可以在患者保持在立体定向台上时、在切下的组织标本已经通过真空管吸入并存放到标本托盘中之后、组织标本从标本托盘中移除之前、组织标本从组织活检和处置系统的壳体中移除之前执行。

参考图1，示出了根据一个实施例构造的组织活检和处置系统100(一般而言是组织活检系统100)的示意图。虽然图1的示意图示出了组织活检系统100的某些特征，但组织活检系统100可以包括如美国专利No.9,492,130B2中公开的组织活检系统的部件和特征，该专利的内容通过引用并入本文，就好像全面阐述一样。

示例性组织活检系统100包括组织过滤器或组织保持器组件110(一般而言，组织过滤器组件110)。组织过滤器组件110附接到并连接在活检切除工具120和抽吸罐130之间。活检切除工具120和组织过滤器组件110经由入口线122彼此流体连通。组织过滤器组件110和抽吸罐130通过抽空抽吸线132彼此连通。真空源(图1中未示出)与抽空抽吸线132和/或抽吸罐130连通，使得真空源的激活导致吸入由活检切除工具120切除的组织标本123和一种或多种体液或添加的流体124通过入口线122到组织过滤器组件110的标本托盘的组织存储隔间中。

组织活检系统100包括成像单元140，该成像单元140相对于组织过滤器组件110定位，使得被切除的组织标本123和存放到组织过滤器组件110中的流体124定位在成像单元140的视场中，包括生成X射线图像150的X射线成像设备141。X射线成像设备141利用大约10keV至大约100keV的能量范围和大约～0.01nm至～10nm的波长内的光子。X射线成像设备141与图像处理器160通信，图像处理器160接收包括生成的或X射线图像150的数据的输入。

根据实施例的图像处理器160通过执行利用图像掩模170和在X射线图像150中成像和描绘的组织过滤器组件110的标本托盘的至少一部分的结构或几何构造172的成像算法来生成经修改的X射线图像150m(“m”指“经修改的”)。图像处理器160还与组织活检系统100的显示器180通信以将经修改的X射线图像150m呈现给组织活检系统100的用户或操作者。

参考图2，在总体上在图1中示出的组织活检系统100执行的计算机实现的方法200的一个实施例中，在202处，在组织标本123和流体124已存放到组织过滤器组件110的标本托盘的组织存储隔间中之后，X射线成像设备141被激活以获取被切下的组织标本123的X射线图像150。在204处，图像处理器160执行成像算法以确定在X射线图像150中成像和描绘的标本托盘的至少一部分的结构或几何构造172，并且在206处，在由X射线成像设备141生成的X射线图像150的相应选择的部分上基于结构或几何构造172执行多个图像掩模170。通过修改X射线图像150的某些像素来生成结果所得的选择性修改的X射线图像。然后在208处可以经由显示器180的UI 182将经修改的X射线图像150m呈现给用户，或者以其它方式传送或存储。

参考图3，在由图1中总体示出的组织活检系统100执行的计算机实现的方法200的一个实施例中，在302处，X射线成像设备141被激活以获取组织过滤器组件110的标本托盘的存储隔间中的组织标本123的X射线图像150。在304处，图像处理器确定标本托盘的至少一部分的结构或几何构造172，该标本托盘包括具有在X射线图像150中成像和描绘的组织标本123的存储隔间。在306处，图像处理器至少部分地基于确定的几何配置171来执行包括内部隔间掩模和部分结构掩模的图像掩模170。在308处，图像处理器160基于掩模执行的结果选择性地修改X射线图像150，并且在310处，经由显示器180的UI向用户显示经修改的X射线图像150。

图4-7M图示了根据某些实施例的示例性组织活检系统100及其组织过滤器组件110，其可以被用于实现和/或执行X射线图像修改实施例。参考图4-7M描述示例性组织活检系统部件的方面，其中图7E-M描绘了具有不同流体管理配置和相关联的附加结构的实施例。参考图8-11描述利用图7A-M的示例性组织过滤器组件的X射线修改和成像算法的进一步细节。

参考图4A-B，图示了示例性组织活检系统100，该系统结合用于实时修改组织标本123的X射线图像150的实施例。在所示实施例中，示例性组织活检系统100包括主壳体或柜400，其包括成像柜402和过滤器抽屉430。过滤器抽屉430可以在成像柜402内在打开位置431(如图4A中所示)和闭合位置432(如图4B中所示)之间滑动。在打开位置431，过滤器抽屉430弹出或由放射科医师拉出以从成像柜402向外延伸，从而允许插入和移除组织过滤器组件110。过滤器抽屉430被推入或插入成像柜402并进入闭合位置432，在该闭合位置432，X射线成像设备141(位于成像柜402内部)相对于组织过滤器组件110定位，使得包含在组织过滤器组件110中的被切下的组织标本123定位在X射线成像设备141的视场中。

X射线成像设备141可以被配置为用X射线成像设备141获取X射线图像150，然后移动或旋转包含组织标本123的组织过滤器组件110以在用于成像的视场中定位下一个组织标本123。X射线成像设备141的位置也可以被调整，但为了便于解释而非限制，参考组织过滤器组件110或其标本托盘可旋转以将组织标本123放置在成像柜402中的X射线成像设备141的视场中。

在图4A中所示的所示实施例中，活检切除工具120与遥控器410通信，该遥控器可由放射科医师操作以激活和控制活检切除工具120的操作模式和其它控制。图4A-B还图示了通过主壳体400与组织过滤器组件110连通的抽吸罐130和相关联的抽吸线132。抽吸罐130可以是一次性罐，其用于收集、保留和处置在活检规程期间生成的废物，包括一种或多种流体124，诸如通过组织过滤器组件110吸入的过量盐水和/或血液。组织活检系统100还可以包括允许外科医生手动激活和/或控制活检切除工具120的脚踏开关440，并且系统模式或控制状态和/或系统模式或控制参数可以经由技术专家控制显示器420显示或调整。

图5更详细地图示了组织活检系统100的成像柜402可以如何配置。在所示实施例中，限定相应组织存储隔间的组织过滤器组件110可移除地插入过滤器抽屉430中。过滤器抽屉430可滑动地插入成像柜402中和从成像柜402中移除。组织过滤器组件110被构造成使得组织存储隔间被定位成经由入口线122与活检切除工具120并经由抽空抽吸或出口管132与抽吸罐130连通以及在二者其间。在使用期间，由活检切除工具120切除的组织标本123和流体124通过入口线122被吸入并存放到组织过滤器组件110的组织存储隔间中。过多的流体124可以通过抽空抽吸线132被吸入并到抽吸罐130中。成像柜402包括或容纳X射线成像设备141，并且成像柜402包括用于检测发射的X射线并生成X射线图像150的检测器板510。组织标本123定位在X射线成像设备141的视场中，

图像处理器160也可以包括在成像柜402中，但实施例不限于此。例如，图像处理器160或其部件可以相对于组织活检系统100远程定位，以允许远程图像处理、图像掩模170的远程执行和机器智能的远程执行以及组织标本123内的物体检测。为便于解释，参考X射线图像150的实时成像和获取。

过滤器抽屉430限定用于入口线122和出口或抽吸线132的管道通道520。真空源(未示出)与抽吸或出口线132和/或抽吸罐130连通，使得真空源的激活导致组织标本123和流体124通过入口线122吸入并到组织过滤器组件110的组织存储隔间中。废物或过多的流体可以通过抽空抽吸线132被吸入到抽吸罐130中。

再次参考图4A-B，并继续参考图5，成像柜402包括控制面板460，其具有按钮或UI元件(用于触摸屏形式的控制面板)以允许用户根据实施例选择或调整活检系统100的各种操作参数，诸如成像参数或过滤器，并请求生成经修改的X射线图像150m，并且提供显示器180以向用户呈现根据实施例生成的经修改的X射线图像150m。在某些实施例中，可以经由显示器180上的一个或多个UI元素182来调整这些参数。

例如，图像处理器160可以执行包括一个或多个图像掩模170的成像算法，诸如预定义的感兴趣区域(ROI)掩模以排除X射线图像150的描绘X射线成像设备141的金属准直器142的部分、在X射线图像150的描绘组织存储隔间内部的一部分上执行的隔间掩模、在描绘不被隔间掩模涵盖的标本托盘壁和隔间内部的部分的X射线图像150的部分上执行的部分结构掩模、用于固定到或嵌入标本托盘内的其它物体(诸如磁体或印刷的记号)的一个或多个无关物体掩模，以及背景图像掩模(例如，用于其它塑料周围或基础材料)。图像处理器160还与组织活检系统100的计算机显示器180通信以处理经由UI182的用户交互，例如处理用户对根据实施例的X射线图像修改的请求。

参考图6，示出了示例性活检切除工具120和组织过滤器组件110。活检切除工具120的远端包括用于插入活检针622的引导器620，活检针622附接到活检切除工具120的驱动器并且被配置用于组织提取。为了这些目的，活检切除工具120的近端与盐水/吸入管组件610连通，盐水/抽吸管组件610包括用于递送盐水124和将流体递送到过滤器组件110的入口线122。如图6中所示的示例性盐水/吸入管组件610可以包括抽吸线612，通过该抽吸线612，通过活检切除工具120的针622切除的组织标本123与流体124(诸如经由一个或多个入口值或盐水线614引入的盐水)一起被吸入。切除的组织标本123和(一种或多种)流体124通过与进入过滤器组件110的入口连通的抽吸线612被吸入。组织过滤器组件110的出口经由抽空抽吸线132与抽吸罐130流体连通。

图7A-D图示了组织过滤器组件110的示例性构造，其在活检切除工具120和抽吸罐130之间流体连通。在所示实施例中，组织过滤器组件110包括壳体或盖710和基座730。盖710可移除地附接到基座730上以限定内部或腔室，组织标本保持器或托盘、或过滤器保持器或标本托盘720(一般而言，标本托盘720)被封闭在该内部或腔室中。基座730包括接收标本托盘720的毂722的心轴732，使得标本托盘720可绕由心轴732限定的旋转轴线740旋转并且可相对于基座730和盖710绕轴线740旋转。换句话说，基座730和盖710是静止的，而标本托盘720在由基座730和盖710限定的腔室内旋转。标本托盘720可以使用任何合适的致动器旋转，包括磁性驱动系统(图7A-D中未示出)，其中一个或多个磁性元件部署在标本托盘720上或嵌入其中，标本托盘720通过致动器中磁体的磁力旋转。

在图7A-D中所示的实施例中，基座730包括底部构件或表面734和圆柱形圆周外侧壁736(一般而言是侧壁736)。侧壁736从底部构件734向上延伸并且具有内径，使得标本托盘720可通过接收标本托盘720的毂722的基座730的心轴732旋转，使得标本托盘720可绕旋转轴线740旋转。

在图7A-D中所示的实施例中，标本托盘720还包括底部构件，该底部构件可以包括过滤材料724和从底部构件724向上延伸的圆柱形圆周侧壁726(一般而言是侧壁726)。在某些实施例中，标本托盘720的底表面724包括多孔过滤材料。过滤材料可以是单个过滤器，诸如覆盖标本托盘720的整个底部并且过多的流体124通过其流入抽吸罐130的过滤板。可替代地，过滤材料可以是部署在每个组织存储隔间728底部的单独过滤器。

标本托盘720还包括多个内壁或分隔壁727(一般而言是分隔壁727)从中心或毂722径向延伸到侧壁726的内表面以限定相应的组织存储隔间728。在所示实施例中，标本托盘720限定了12个组织存储隔间728A-L(一般而言是组织存储隔间728)。在所示配置中，标本托盘720限定了呈“饼”形或“楔形”形片段的形状的存储隔间728的角度布置，每个片段由两个分隔壁727和侧壁726的弧形部分限定。组织存储隔间728由径向延伸的分隔壁727分隔并部分地限定。将理解的是，标本托盘720可以限定其它数量的组织存储隔间728并且具有其它配置，使得提供图7A-D是为了说明和解释的目的，而不是限制。

在活检规程期间，组织标本123和(一种或多种)流体124通过活检针622被吸入联机组织储存室728。提供组织室记号或标识符750a-1(一般而言是隔间记号750)以识别相应的组织存储隔间728和其中的相应组织标本123。隔间标记750可以是印刷或雕刻的字母数字指示器。例如，不透射线的钨墨可以被用于隔间记号750，使得它们在X射线图像151中可见。在所示实施例中，隔间记号750是字母A-L形式的α指示器，以识别相应的12个组织存储隔间728A-L。

某些实施例可以涉及在组织标本123成像之前首先减少组织存储隔间728中的流体124。然后在存在剩余流体124的情况下执行用于组织标本123的图像处理的实施例。

根据一个实施例，流体管理设备760可以部署在基座730的内部。实施例可以涉及用流体管理设备760形式的机械设备从组织存储隔间728中移除流体124，以处理留在组织存储隔间728中并且继续干扰切下的组织标本123的成像的流体124。

图7E-M描绘了过滤器组件110的另一个示例性配置，其在活检切除工具120和抽吸罐130之间流体连通，并且包括用于改进的流体管理和控制流体124从组织存储隔间728移除的附加结构。图7E-M图示了组织过滤器组件110的一个实施例，该组件110用于接收多个组织样本并且具有在结构上被构造用于增强流体管理的基座730。

在所示实施例中，组织过滤器组件110包括具有基座730和盖710的壳体，盖710可移除地附接到基座730上。基座730和附接的盖710形成内部或腔室，标本托盘720被封在该内部或腔室中。如上面参考图A-D所讨论的，基座730具有带有心轴的毂，该心轴接收标本托盘720的毂，使得标本托盘720例如使用磁驱动系统可绕轴线740相对于壳体710旋转。组织标本托盘720的底部具有包括多孔过滤材料的组织过滤器724。

基座730具有底表面734和从底表面734向上延伸的圆周侧壁736。组织过滤器组件110还包括具有平台开口762的平台760。流体通道764位于平台760下方(参见图7E中指向平台760下方的流体通道764的虚线箭头)。如在本说明书中所使用的，术语“流体通道”可以是能够运输诸如气体(例如，空气)和/或液体之类的流体的任何通路。

平台760具有平坦的水平表面。在一些实施例中，当标本托盘720相对于基座730旋转时，标本托盘720的底部可以搁置在平台760的平坦水平表面上。在其它实施例中，标本托盘720的底部可以与平台760的平坦水平表面间隔开小的距离，诸如小于0.5mm、小于0.2mm、小于0.1mm、或小于0.05mm。流体通道764在平台760下方绕基座730的毂731周向延伸，并且与基座730处的增压室766流体连通。抽吸线132耦合到增压室766，用于在增压室766和流体通道764内部施加抽吸。组织过滤器组件110还包括位于平台开口762下方的流动梳768。在一些实施例中，流动梳768可以从平台开口762延伸到流体通道764中。在使用期间，由于抽吸线132在流体通道764中应用的抽吸，来自标本托盘720的流体被汲取到平台开口762中。流动梳768分解流体，该流体通过流体通道764绕基座730的毂731运输以到达增压室766。增压室766允许收集一定量的流体，同时抽吸线132经由出口或真空端口770将流体从增压室766中抽出。在一些实施例中，出口端口770具有0.26英寸的内径。在其它实施例中，出口端口770可以具有其它维度的内径，其可以大于0.26英寸或小于0.26英寸。

在一个实施例中，流体通道764绕基座730的轮毂731周向延伸大约270°(例如，270°±20°)，使得流体通道764中的流体绕轮毂731周向行进大约270°的角距离达到增压室766。在其它实施例中，流体通道764可以绕毂731周向地延伸通过其它角度范围。例如，流体通道764可以绕毂731延伸至少180°的角度。而且，在所示实施例中，平台760绕毂731和周向侧壁736之间的大部分空间周向延伸。在其它实施例中，平台760可以绕毂731延伸与所示范围不同的范围。

如图7E中所示，组织过滤器组件110的这个实施例还包括与用于对组织标本123成像的成像位置对应的成像平台772。成像器可以位于成像平台772下方。特别地，当标本托盘720中的组织标本123被放置在成像平台772上方时，可以由成像平台772下方的成像器执行成像以对组织标本123进行成像。在一些实施例中，成像平台772是具有实心壁的模制件，该实心壁升高到底表面734上方以防止流体聚集在成像区域内和周围。在使用期间，包含要被成像的组织标本123的组织存储隔间728之一被放置在成像平台772上方。在一些情况下，标本托盘720的过滤器或底表面724可以齐平地位于成像平台772上。应当注意的是，成像平台772是与平台766分开的件，并且不限定任何流体通道。

如图7F中所示，盖710还包括升高的部分711，其限定与组织标本123的成像位置对应的拱形隔间。特别地，当包含组织标本123的组织存储隔间728被放置在升高的部分711下方和成像平台表面772上方时，然后可以执行成像以对组织标本123进行成像。

在一些实施例中，平台开口762、流体通道764和流动梳768可以被认为是流体移除机构的部分。流体移除机构被配置用于从位于多个组织存储隔间728的底部下方的底表面过滤器734移除流体，以提高在组织存储隔间728中获取的组织标本123的图像质量。在其它实施例中，参与限定流体通道764的结构也可以被认为是流体移除机构的部分。例如，流体通道764上方的平台760和/或流体通道764下方的基座730的底部构件可以被认为是流体移除机构的一部分。在进一步的实施例中，增压室766和/或抽吸线132可以被认为是流体移除机构的部分。

图7G图示了组织过滤器组件110的部分透明视图。组织过滤器组件110的盖710被图示为部分透明的，因此可以看到盖710下方的标本托盘720。

图7H图示了移除了盖710的组织过滤器组件110。基座730的周向侧壁736限定用于容纳标本托盘720的空间。当标本托盘720可旋转地连接到基座730时，标本托盘720与周向侧壁736隔开间隙776。这允许标本托盘720相对于基座730旋转而不受干扰。

图7I图示了组织过滤器组件110的基座730，其中盖710和标本托盘720被移除。如图7I中所示，组织过滤器组件10的基座730的平台760以部分透明的形式呈现，以便图示平台760下方的流动梳768的一部分。

图7J图示了组织过滤器组件110的基座730，特别是从基座730移除的平台760。可以看到成像平台772和流动梳768的范围。如图所示，基座730包括由基座730的周向侧壁736围绕的底部构件780。底部构件780的高度低于流动梳768的高度。在一些实施例中，成像平台772和/或流动梳768可以与底部构件780一起模制。如图所示，流动梳768具有弧形形状，其允许流体124沿着曲线路径从平台开口762运输到流体通道764中。在所示实施例中，流动梳768具有六个平行的流动通道。在其它实施例中，流动梳768可以具有多于六个平行流动通道(例如，七个、八个、九个通道等)，或少于六个流动通道(例如，五个、四个、三个、两个通道)。在一些情况下，流动梳768可以包括至少四个流动通道。而且，在所示实施例中，流动梳768的长度比沿着流体通道764的纵轴测得的平台开口762的维度长。在其它实施例中，流动梳768的长度比平台开口762沿着流体通道764的纵轴测得的维度短或相等。此外，在所示实施例中，与平台开口762相邻的流动梳768的第一部分可以具有大致垂直的第一斜率(例如，90°±20°)，在第一部分之后的流动梳768的第二部分可以具有大约45°±20°的第二斜率，并且在第二部分之后并在流体通道764内部延伸的流动梳768的第三部分可以具有大约0°±20°的第三斜率。在其它实施例中，流动梳768可以具有其它倾斜剖面。在一些实施例中，表面处理可以应用于流动梳768以帮助流体124在流动梳768上流动。例如，在一些实施例中，可以在流动梳768的表面上施加抗凝剂涂层、疏水涂层或其它处理。

如图7K中所示，底部构件780和平台760一起限定流体通道764。当标本托盘720耦合到基座730时，平台760和流体通道764位于标本托盘720下方。流体通道764被配置为提供抽吸以将流体124运输通过流体通道764。

图7L图示了组织过滤器组件110的局部剖视图，特别示出了标本托盘720已装载在由基座730和盖710限定的内部之内。盖710包括突起782，突起782被构造为与标本托盘720的毂722处的开口784配合。标本托盘720的轮毂722的下部具有用于接收基座730的轮毂731的开口，并且轮毂722包括用于接收基座730的心轴732的槽。因此，心轴732的旋转将使得标本托盘720相对于基座730旋转。来自盖110的突起782和基座730的毂731从相反方向延伸到标本托盘720的毂722中，从而在旋转期间稳定标本托盘720。因而，标本托盘720在基座730处可移除地耦合到心轴732(驱动构件)，并且被配置为由此绕相对于底部构件780基本正交(例如，90°±10°)的轴线140选择性地旋转。

如图7L中所示，盖110处的入口端口122与相应的组织存储隔间728径向对准，并且还与至少部分地形成有平台760的平台开口762径向对准。因而，当具有流体124的组织标本123被递送到入口端口122中时，组织标本123和流体124被存放到相应的组织存储隔间728中。组织标本123由底表面过滤器734容纳，而流体124通过底表面过滤器734并通过平台760的平台开口762流出。在使用组织过滤器组件110期间，将在流体通道764内部提供抽吸以帮助将流体124从标本托盘720的底部汲取并到平台开口762中。

图7M图示了图7L的组织过滤器组件110的局部剖视图，特别示出了流体流方向。如图所示，来自活检设备120的组织标本123和流体124经由入口端口122进入组织过滤器组件110。组织标本123被存放到标本托盘720中的组织存储隔间728之一中。底表面过滤器734防止组织标本123通过标本托盘720的底部离开，同时允许流体124从中通过。由于在流体通道764中提供抽吸，流体124进入平台760处的平台开口762，并被流体通道764内部的流动梳768分解。然后，由于流体通道764内的吸力，流体124被运输通过流体通道764，并经由圆周侧壁746处的出口端口97离开而进入增压室766。增压室766允许收集一定量的流体124，同时流体124经由出口端口从增压室766被抽吸到抽吸线132中。

虽然已经参考图7A-D和图7E-M描述了各种组织过滤器组件100配置，但是将理解的是，实施例可以涉及或利用各种组织过滤器组件100配置，包括具有特别配置的机械流体管理设备760的那些配置，如参考图7E-M描述的，以减少被成像的流体124的量。因此，某些流体管理设备760在本文中作为非限制性示例被描述为如何可以减少经受图像处理的流体124并将其从组织存储隔间728中移除。还将理解的是，实施例可以不涉及机械流体管理设备760。

已经描述了可以与处理组织标本123的X射线图像150以生成经修改的X射线图像150m的实施例结合使用的示例性组织活检系统100及其组件的各个方面、结构和操作，参考图8-11和以上参考图4A-7M描述的示例性活检系统100更详细地描述参考图1-3描述的图像处理实施例。

参考图8，组织活检系统100的图像处理器160的一个实施例被配置或可操作用于通过基于在X射线图像150中成像和描绘的标本托盘720的至少一部分的结构或几何构造171执行包括多个图像掩模170的成像算法来选择性地修改X射线图像。

在802处，标本托盘720的结构或几何构造171或模板由图像处理器160接收或确定并存储以供后续访问。结构或几何构造171可以包括组织存储隔间728、侧壁726和内分隔壁727的几何数据。侧壁726、分隔壁727和组织标本123在组织存储隔间728内的边界，无论是放置在组织存储隔间728的中间还是与壁接触，都可以用结构或几何构造数据171确定，包括各种组件的组件维度、中心、旋转中心和曲率半径中的一个或多个或全部。结构或几何构造171或模板还可以考虑嵌入或固定到标本托盘720的其它物体，诸如预定印刷记号750和磁体或隔间“零”位置物体的几何数据。结构或几何构造171数据可以包括例如印刷记号750的质心、磁体相对于存储隔间728的位置、记号750和磁体的尺寸或维度、其中心及其半径(如适用)。虽然提供印刷记号和磁体作为此类物体的示例，但可以根据标本托盘720的构造和处理来处理其它物体及其图像数据。

对于上述示例性组织活检系统100，单个磁体可以足以磁驱动标本托盘720旋转，并且作为示例，这种磁体可以定位在具有印刷记号“A”的隔间728与带有印刷记号“L”的隔间728之间或与其相邻(其中标本托盘720的磁体被成像为图9中最亮的部分)。磁体不仅可以用于旋转标本托盘720，而且还可以用作隔间“零”或参考标记。因此，将理解的是，一个或多个存储隔间728可以与磁体相邻，而其它存储隔间728不相邻。

在804处，组织活检系统100被激活并用于切割组织标本123。例如，如上面参考图6所述，这可以涉及将活检针622插入患者体内并且将活检针622附接到活检切除工具120的驱动器以用于组织提取。

在806处，切下的组织标本123经由通过入口线122的管腔的抽吸被递送并且被存放到组织过滤器组件110的标本托盘720的存储隔间728中。例如，如上面参考图6所述，活检切除工具120的近端与盐水/吸入管组件610连通，该盐水/吸入管组件610包括用于递送盐水124和将流体输送到过滤器组件110的入口线122，以及由活检切除工具120的针622切除的组织标本123与流体124一起通过与过滤器组件110的入口连通的抽吸线612被吸入，以将切下的组织标本123和流体124存放到存储隔间128中。

继续参考图8，在808处，X射线成像设备141被激活以获取存储隔间728和标本托盘720的至少一部分中的组织标本123的X射线图像150。X射线图像150被存储和/或提供给图像处理器160。

图9图示了包括存储隔间728的标本托盘720的一部分的示例性X射线图像150。虽然图9是X射线图像150而不是实际的标本托盘720，但在图9中提供了标本托盘720和其它结构的附图标记以供参考以识别X射线图像150中描绘的标本托盘720的物理结构。

在所示例子中，X射线图像150包括一个完整的标本隔间728，该完整的标本隔间728由弧形、圆柱形或圆周外侧壁736o(“o”是指“外”，一般而言是外侧壁736o)、弧形、圆柱形或圆周内侧壁736i(“i”是指“内”，一般而言是内侧壁736i)和内分隔壁727a-b限定。组织标本(未显示)被放置到存储隔间728中并由X射线成像设备141成像。

图9进一步图示了由X射线成像设备141相对于预定结构或几何框架171生成的X射线图像150，包括旋转点或旋转中心(0)或轴740和相关联的x轴901和y轴902。图9进一步图示了X射线图像150中描绘的标本托盘720和隔间728结构如何相对于不同的参考和半径(诸如旋转中心(0)或轴740、x轴901和y轴902)表达。

特别地，线OA 911从旋转中心(0)或轴线740延伸通过印刷记号或地标750的中心以表示或接近存储隔间728的纵向中心线。示例性X射线图像150是限定12个组织存储隔间(A-L)的标本托盘720的图像，其中只有一个完整的存储隔间728包括在X射线图像150中并由印刷记号750“A”识别。但是，将理解的是，实施例不限于此并且提供X射线图像150作为示例来描述可以如何实现实施例。图9还图示了其中X射线图像150没有正确旋转对准的示例。线OA 911相对于Y轴902在顺时针方向上移位。换句话说，通过印刷记号750“A”的线OA-A911与Y轴902不重合。

线OB 912从旋转中心(0)或轴线740延伸并通过分隔壁727b的大致中心。线OC 913从旋转中心(0)或轴线740延伸并通过分隔壁727a的大致中心。因此，线OB 912和OC 913有效地将被成像的分隔壁727b、727c拆分成两个图像区段—限定存储隔间728的至少一部分的“内”壁区段或内壁，以及“外”壁区段或外壁。X射线图像150中的弧形侧壁736i、o也可以类似地划分为“内”和“外”部分，如下文进一步详细描述的，但是基于线OB和OC 912、913之外的其它结构准则。如下文进一步详细描述的，根据某些实施例，成像算法利用标本托盘壁727的这种虚拟拆分来生成经修改的X射线图像150m。

图9还图示了相对于旋转中心(0)或轴线740的不同半径和曲率，包括表示外侧壁736o离轴线740的虚拟半径的半径R1 921，表示内侧壁736i离轴线740的虚拟半径的半径R2922，表示壁736m(“m”指磁体)相对于轴740的虚拟半径的半径R3 923，以及表示成像掩模170的相应边界的相应虚拟半径的半径R4 924和半径R5 925，下文将进一步详细描述。

图9的X射线图像150还包括暗角落区域931和周围亮区域932，这些区域是由对X射线成像设备141的准直器142的一部分进行成像而产生的，该部分在获取X射线图像150时处于视场中。

再次参考图8，在810处，图像处理器160执行ROI掩模的成像掩模170以移除图像部分931和932，例如，使用适用于不透射线/金属物体的分割或其它图像处理或过滤器。

继续参考图8和9，在812处，图像处理器160识别配准和/或朝向参考，用于确定X射线图像150是否处于适当的横向和/或旋转对准以与被成像的标本托盘720的已知结构或几何结构171对应。配准和/或朝向参考可以包括例如x轴901、y轴902和旋转中心(0)740。在814处，图像处理器160识别与标本托盘720的存储隔间728相关联的印刷记号或地标750(例如，印刷的“A”)。印刷记号或地标750可以是预定的字母、形状或指示器(例如，从字母“A”到“L”)，使得预定字符的这个有限集合可通过字符识别来识别或由用户经由UI 182可选择作为隔间728的记号750。在816处，已经识别或接收到对记号或界标750的选择，图像处理器160确定印刷记号750的中心，例如质心，在所示实施例中，其也由线OA 911识别。线OA 911表示隔间728的估计纵向中心线。

在818处，实施例确定是否要求旋转未对准调整。这可以通过基于步骤816根据需要旋转X射线图像150以校正X射线图像150的旋转定位来完成。例如，在所示示例中，由于线O-A 911相对于Y轴902在顺时针方向上旋转，因此X射线图像150没有处于正确的旋转对准。换句话说，线O-A 911旋转位移，因为它与Y轴902不重合。在这种情况下，旋转X射线图像150直到线O-A 911与Y轴902对准或重合。X射线图像150可以已经处于适当的旋转对准，从而不需要旋转调整。另外，在其它实施例中，为了适应旋转未对准，X射线图像朝向可以保持为被成像，并且实施例可以替代地旋转或重新定位图像掩模170和结构或几何构造171，如下文进一步详细描述的。无论X射线图像150和/或图像掩模170以及结构或几何构造171的旋转调整可以是顺时针或逆时针的。

继续参考图8和9，在820处，图像处理器160确定X射线图像160内的X射线准直器偏移量941、942，例如，相对于外侧壁736o的外边缘的左准直器偏移量941和相对于内侧壁736i的外边缘的右准直器偏移量。在所示示例中，左准直器偏移量941大于右准直器偏移量942。X射线图像150可以在822处平移到中心，使得描绘标本托盘720或其部分的X射线图像150与标本托盘720或其部分的已知结构或几何构造171对应。可以存在X射线图像150已经正确居中并且不需要偏移量调整的情况。另外，在其它实施例中，为了适应准直器偏移量，X射线图像位置可以保持为被成像并且实施例可以替代地重新定位图像掩模170和结构或几何构造171。因此，实施例可以适应成像期间的制造缺陷和准直器偏移量，无论这种缺陷是否导致旋转和/或偏移调整。

因此，在任何旋转和/或偏移量调整之后，标本托盘720或其部分的X射线图像150与实际标本托盘720或其部分的已知结构或几何构造171对应。基于结构或几何构造170的图像掩模170准备好在X射线图像150上执行。

在824处，图像处理器160执行包括隔间掩模951的成像算法，该算法在描绘存储隔间728的内部区域的X射线图像150的一部分上执行。隔间掩模951基本上符合由标本托盘720的多个壁限定的存储隔间728内部的轮廓，在所示实施例中，标本托盘720包括分隔壁727和弧形侧壁736以及弧形壁部分956(由磁体953的成像产生)。不同的磁体形状将导致不同的图像953轮廓，使得壁部分956的形状将反映此类形状。而且，在没有磁体的情况下，外侧壁936o将在分隔壁727a、b之间延伸，而没有由磁体成像产生的壁部分956。因而，将理解的是，提供图9是为了说明而非限制的目的。

隔间掩模951增强描绘隔间掩模951边界内的组织标本123的X射线图像150的像素的亮度和对比度中的至少一个。在图示的实施例和描绘的标本托盘720配置中，隔间掩模951的边界包括一对线性边界区段和在线性边界区段之间延伸的一对弧形边界区段和遵循壁区段956的轮廓的弧形区段，该弧形区段邻近被成像的磁体的X射线图像的部分。将理解的是，隔间掩模951的边界可以是不同的形状，这取决于组织存储隔间728的形状，使得图中所示和本文描述的线性/弧形构造是为了说明和解释的目的而提供的，而不是为了限制。以这种方式，隔间掩模951边界被包含在存储隔间728的内部并且不包括分隔壁727a-b、不包括侧壁736i、736o以及壁部分56。由于X射线准直器142在视场内，从而将标本托盘720的磁体和其它物体定位在存储隔间728之外，隔间掩模951的边界也排除了结果或暗区931和区域932。

在X射线图像150包括被成像的磁体的图9中所示的实施例中，隔间掩模951的壁结构和形状与相邻存储隔间728不具有磁体并且没有磁体成像时相比发生改变。在任一情况下，隔间掩模951基本上遵循隔间728的内轮廓，并且具有如图所示的被成像的磁体，包括第一线性边界区段、第二线性边界区段、第一弧形边界区段、第二弧形边界区段和第三弧形边界区段。隔间掩模951的第一弧形边界区段在第一线性边界区段和第二线性边界区段之间延伸，隔间掩模的第二弧形边界区段在第一线性边界区段和第三弧形边界区段之间延伸并且隔间掩模的第三边界区段在第二弧形边界区段和第二线性边界区段之间延伸。在图9中所示的实施例中，由于磁体的成像区域周围的曲率，隔间掩模951的与弧形壁区段956相邻的第三弧形区段的曲率半径小于隔间掩模951和其它掩模各自的第一和第二弧形边界的曲率半径。

继续参考图8和9，在826处，图像处理器160在X射线图像150的描绘的标本托盘720和存储隔间728的相应壁(内壁727和外/内侧壁736i、736o)的一部分上执行包括部分结构掩模952的成像算法。部分结构掩模952的边界围绕隔间掩模951延伸或涵盖隔间掩模951。

部分结构掩模952的边界沿着标本托盘720的相应壁727、736的相应长度延伸，并部分通过标本托盘720的相应壁727、736，以捕获标本托盘720的相应壁的相应内壁区段和存储隔间728的超出标本图像掩模951的边界的剩余部分。因此，部分结构掩模952应用于X射线图像150的描绘标本壁结构的一部分，该部分例如基于线O-B 912和O-C 913内的图像部分或基于距隔间掩模951的边界的预定距离来确定。部分结构掩模952被执行以掩蔽图像部分或降低X射线图像150的像素的亮度和对比度中的至少一个，该图像的像素描绘相应的标本托盘壁727a、b和736i、o的外部分，从而仅留下标本托盘壁727a、b和736i、o的内部分。换句话说，部分结构掩模952切割壁的厚度，例如，保持壁厚度的25％、33％或50％，而通过降低其亮度和/或对比度来处理的另一个壁部分。

以这种方式，在不包括被成像的磁体的X射线图像150中，类似于隔间掩模951的边界，部分结构掩模952的边界包括一对线性边界区段和在线性边界区段之间延伸的一对弧形边界区段，使得部分结构掩模可以具有与隔间掩模951基本相同的形状，但涵盖隔间掩模951。在包括用于被成像的磁体的一部分的X射线图像150中，如图9中所示，隔间掩模951和部分结构掩模952可以具有不同的形状，因为隔间掩模951包括作为被成像的磁体和结果壁部分956的结果的附加曲率。另外，对于被成像的磁体，如图9中所示，部分结构掩模952的一部分可以延伸穿过通过磁体或其它无关物体的成像生成的X射线图像150的一部分，或者在其它实施例中，遵循隔间掩模951穿过壁部分956的曲率，使得隔间掩模951和部分结构掩模具有相似的形状。

在828处，图像处理器160识别或接收用户对X射线图像150部分的选择，针对位于存储隔间728区域之外的“无关”物体，诸如磁体和印刷记号。在830处，图像处理器160为相应识别出的物体识别相应的无关物体图像掩模953、954并执行无关物体图像掩模953、954。通过对金属磁体成像而生成的X射线图像150的一部分可以是如图9中所描绘的亮点960或高衰减物体，在这种情况下，用于其的金属掩模953将显著降低X射线图像150的亮度和对比度中的至少一个或删除这个区域并用相邻图像区域的像素值填充。其它物体的处理方式可以不同。例如，期望维持被成像的印刷记号750，使得用于这些记号物体的物体掩模954选择包括要包括在经修改的X射线图像150m中的印刷记号750的ROI。此类字符物体可以由用户经由UI182或经由字符识别来识别。因此，针对不同类型的无关物体的X射线图像150的部分可以用不同类型的无关物体掩模953、954处理，这些掩模953、954不强调或删除X射线图像150的一部分，或维持和/或增强一部分X射线图像150。

在832处，图像处理器160在X射线图像150的描绘标本托盘420的其它区域的其它部分上执行背景图像掩模955。这可以涉及例如用于流体管理并且位于部分结构掩模952之外或部分结构掩模952边界和ROI掩模边界之间的其它塑料标本托盘结构或塑料结构。可以包括用于增强的流体管理控制的各种附加结构的这些背景结构可以被掩蔽或不强调。

在834处，图像处理器160确定对比度和/或亮度调整以使像素值适应组织标本123的相应厚度。描绘组织标本123的X射线图像150的部分的统计分析可以用诸如平均值、标准偏差和阈值中的一个或多个之类的统计分析来分析，以识别描绘标本123的较薄部分的X射线图像150的部分，与标本123的较厚部分进行对比，使得可以基于不同的标本厚度进行像素调整，例如，较薄和较厚标本132部分的像素的亮度值关于相应的亮度和对比度进行增强，从而使较薄和较厚标本132部分的标本边缘可以被描绘，而较厚的标本132部分不太亮。因此，像素值可以选择性地适应标本123的厚度。

在836处，经修改的X射线图像150m是基于执行各种图像掩模170的相应结果或基于执行各种图像掩模170和标本厚度调整的相应结果生成的。

图10A是由X射线成像设备141生成的射线X射线图像150(在用实施例处理之前)并且描绘了磁体(成像为高衰减/亮点)。图10B是根据实施例生成的经修改的X射线图像150m。

如通过比较图10A(未加工的X射线图像150)与图10B(由实施例生成的经修改的X射线图像150m)可以看出的，根据实施例生成的经修改的X射线图像150m更干净、更小和更集中，并且包括更一致或更平坦的亮度剖面或更少的亮度变化。经修改的X射线图像150m不包括明亮的高衰减图像部分(例如，由对标本托盘720的金属磁体或塑料部分成像产生)。实施例还不强调或消除用于附加托盘结构的图像部分，例如，用于以上参考图7E-M描述的组织过滤器组件100中的流体管理的附加塑料结构。图10B的经修改的X射线图像150m在显著减少干扰元素的情况下明显更赏心悦目。根据实施例生成的经修改的X射线图像150m比图10A中所示的X射线图像150更不令人分散注意力并且不太可能导致眼睛疲劳，同时提供更有成效和高效的审查体验。

图11A-B针对不邻近磁体并且包括存放在其中的组织标本123的不同组织存储隔间728(由印刷记号“G”识别)提供了根据实施例生成的经修改的X射线图像150m的另一个示例。图11B中的经修改的X射线图像150m相对于如图11A中所示的未加工的X射线图像150的类似优点在视觉上是明显的，包括在增强组织存储隔间728内的组织标本123的同时不强调或消除其它塑料标本托盘区域的图像部分。

再次参考图8，在838处，经修改的X射线图像150m像素数据被结合到医学数字成像和通信(DICOM)对象中，该对象可以在840处导出以显示给用户或传送到另一个系统或经由网络传送。

因此，如上所述，实施例提供了改进的组织标本成像和增强的X射线图像，这些图像通过使用基于被成像的标本托盘的结构或几何构造的选择性图像掩蔽来选择性地强调某些图像部分同时消除或不强调其它图像部分。实施例在组织图像处理中实现了这些显著的成像改进，这可以在活检规程期间或活检规程之后实时进行，使得可以将改进的成像结果呈现给操作者，操作者可以进行更准确和高效的分析并确定例如是否应当获取附加的组织标本。实施例还适用于各种系统组件配置和组织标本和活检规程，其一个示例是乳房活检规程。

虽然已经示出和描述了所公开的发明的特定实施例，但是应该理解的是，提供以上描述仅用于解释和说明的目的。因此，可以在不脱离所公开的发明的范围的情况下进行各种改变和修改。

例如，并非在公开的实施例中描绘和描述的所有部件都是实现实施例所必需的，并且所公开的发明的各种附加实施例可以包括所描述的部件的适当组合，包括不同数量和组合的成像掩模。

另外，虽然实施例已经描述了具有某些形状(具有线性和/或弯曲/弧形壁)的组织过滤器组件、标本托盘和相关联的成像掩模，但是将理解的是，实施例不限于此，并且实施例可以涉及具有不同配置和隔间配置的标本托盘以及针对不同配置具有不同相应形状的图像掩模，这可以包括线性和弯曲/弧形壁和/或用于其它标本存储隔间形状和标本托盘构造的其它形状的壁的不同组合。

实施例可以被执行以生成经修改的X射线图像，这些图像根据所使用的特定结构构造来掩蔽或不强调组织过滤器组件和标本托盘的不同部分。例如，实施例可以被执行以掩蔽或不强调附加的塑料或其它材料结构，如参考图7E-M所描述的那样，这些附加的塑料或其它材料结构被添加用于流体管理，并且组织过滤器组件可以包括不同的流体管理结构。

虽然已经参考在活检规程期间获取的乳房组织样本的成像描述了系统和方法，但是实施例也可以被配置并与其它类型的组织标本一起使用。

另外，虽然已经关于各种成像掩模描述了成像算法，但是实施例可以涉及这些掩模中的一些或全部以及它们的不同组合，它们可以以不同的顺序执行。

因而，实施例旨在例示可能落入权利要求的范围内的替代方案、修改和等效方案。

Claims (20)

1.一种由活检组织处置装置执行的计算机实现的方法，该计算机实现的方法包括：

由活检组织处置装置的X射线成像系统获取在标本托盘的存储隔间中的组织标本的X射线图像；

由与X射线成像系统通信的图像处理器生成经修改的X射线图像，其中经修改的X射线图像是通过至少部分地基于标本托盘的至少一部分的几何构造执行多个图像掩模来生成的，标本托盘包括具有在X射线图像中描绘的组织标本的存储隔间，所述多个图像掩模包括：

隔间掩模，在描绘存储隔间并包括被切下的组织标本的X射线图像的一部分上执行，隔间掩模的边界基本上与由标本托盘的多个壁限定的存储隔间内部的轮廓对应，以及

部分结构掩模，在X射线图像的一部分上执行，该部分描绘标本托盘和存储隔间的相应壁，部分结构掩模的边界沿着相应长度延伸并且部分地穿过标本托盘的相应壁。

2.如权利要求1所述的方法，隔间掩模增强描绘组织标本的X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个。

3.如权利要求1所述的方法，其中隔间掩模不包括存储隔间的壁、X射线成像设备的准直器的被成像部分以及用于使标本托盘绕轴线旋转的磁体。

4.如权利要求1所述的方法，其中部分结构掩模的边界基于距隔间掩模的边界的预定距离。

5.如权利要求1所述的方法，其中部分结构掩模被执行以掩蔽或降低X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个，该X射线图像的像素描绘在部分结构掩模的边界之外的标本托盘的相应塑料壁的外部分。

6.如权利要求1所述的方法，其中部分结构掩模的边界和隔间掩模的边界具有基本相似的形状。

7.如权利要求6所述的方法，其中隔间掩模的边界包括一对线性边界区段和在线性边界区段之间延伸的一对弧形边界区段。

8.如权利要求1所述的方法，所述多个图像掩模还包括在X射线图像的一部分上执行的无关物体掩模，该部分描绘嵌入或固定到标本托盘的物体。

9.如权利要求8所述的方法，其中隔间掩模的边界和部分结构掩模的边界与无关物体掩模的边界相比具有不同的形状，并且作为执行无关物体掩模的结果，隔间掩模的边界的形状与部分结构掩模的边界的形状不同。

10.如权利要求9所述的方法，其中

隔间掩模的边界包括第一线性边界区段、第二线性边界区段、第一弧形边界区段、第二弧形边界区段和第三弧形边界区段，

隔间掩模的第一弧形边界区段在第一线性边界区段和第二线性边界区段之间延伸，

隔间掩模的第二弧形边界区段在第一线性边界区段和第三弧形边界区段之间延伸，

隔间掩模的第三边界区段在第二弧形边界区段和第二线性边界区段之间延伸，以及

隔间掩模的第三弧形区段的曲率半径小于标本和部分结构掩模的相应第一弧形边界和第二弧形边界的相应曲率半径。

11.如权利要求8所述的方法，其中部分结构掩模的边界的一部分延伸通过由无关物体掩模的边界限定的区域。

12.如权利要求8所述的方法，其中物体是用于使标本托盘绕轴线旋转的磁体，包括磁体掩模的无关物体掩模的边界基本上与X射线图像中描绘的磁体的外周边对应，并且磁体掩模显著降低了描绘磁体的X射线图像的像素的亮度和对比度中的至少一个。

13.如权利要求8所述的方法，其中物体是与存储隔间相关联的印刷记号，并且包括印刷记号掩模的无关物体掩模的边界限定了要包括在经修改的图像中的区域。

14.如权利要求1所述的方法，所述多个图像掩模还包括感兴趣掩模的预定义区域，其可操作以裁剪X射线图像以消除X射线图像中描绘X射线成像系统的准直器的部分。

15.如权利要求1所述的方法，其中X射线图像中描绘的标本托盘的至少一部分的几何构造至少部分地基于与存储隔间相关联的印刷记号的中心，还包括旋转X射线图像以将印刷记号的中心与预定轴线对准。

16.如权利要求1所述的方法，还包括确定X射线成像设备的准直器的偏移量值，其中X射线图像中描绘的标本托盘的至少一部分的几何构造至少部分地基于所确定的偏移量值。

17.如权利要求1所述的方法，其中在处理被切下的组织标本期间实时执行所述多个图像掩模。

18.如权利要求1所述的方法，还包括修改X射线图像的像素的亮度值以使相应的亮度水平适应被成像的组织标本的相应厚度。

19.一种活检组织处置装置，包括：

标本托盘，限定存储隔间；

管，限定与存储隔间连通的真空管腔，该管被构造为接收切下的组织标本并通过真空管腔将切下的组织标本与流体一起递送，从而使切下的组织标本和流体存放到存储隔间中；

X射线成像系统，相对于组织存储隔间布置，以获取存储隔间中被切下的组织标本的X射线图像；

图像处理器，与X射线成像系统通信，该图像处理器被配置为

通过至少部分地基于标本托盘的至少一部分的几何构造执行多个图像掩模来生成经修改的X射线图像，标本托盘包括具有在X射线图像中描绘的组织标本的存储隔间，所述多个图像掩模包括：

隔间掩模，在描绘存储隔间并包括被切下的组织标本的X射线图像的一部分上执行，隔间掩模的边界基本上与由标本托盘的多个壁限定的存储隔间内部的轮廓对应，以及

部分结构掩模，在X射线图像的一部分上执行，该部分描绘标本托盘和存储隔间的相应壁，部分结构掩模的边界沿着相应长度延伸并且部分地穿过标本托盘的相应壁；以及

显示器，与图像处理器通信，显示器可操作以将经修改的图像呈现给活检组织处理装置的用户。

20.一种有形地实施一个或多个指令序列的非暂态计算机可读介质，其中由包含在活检组织处置装置的一个或多个计算系统中的一个或多个处理器执行所述一个或多个指令序列使得所述一个或多个计算系统通过执行计算机实现的方法来获取和修改X射线图像，包括：

由活检组织处置装置的X射线成像系统获取标本托盘的存储隔间中组织标本的X射线图像；

由与X射线成像系统通信的图像处理器生成经修改的X射线图像，

其中经修改的X射线图像是通过至少部分地基于标本托盘的至少一部分的几何构造执行多个图像掩模来生成的，该标本托盘包括具有在X射线图像中描绘的组织标本的存储隔间，

所述多个图像掩模包括：

隔间掩模，在描绘存储隔间并包括被切下的组织标本的X射线图像的一部分上执行，隔间掩模的边界基本上与由标本托盘的多个壁限定的存储隔间内部的轮廓对应，以及

部分结构掩模，在X射线图像的一部分上执行，该部分描绘标本托盘和存储隔间的相应壁，部分结构掩模的边界沿着相应长度延伸并且部分地穿过标本托盘的相应壁。

Images