CN115312570A - 有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置，通过在阳极层上设置与像素定义层同层的预打印层，在利用喷墨打印装置对像素打印区进行喷墨打印前，可先在预打印区进行预打印，以检查打印的墨滴是否符合要求，根据在预打印区打印出的墨滴调整喷墨打印装置的喷嘴后，可提高喷墨打印装置在像素打印区的打印质量，从而提高有机发光二极管基板的整体像素的膜层品质。

Description

有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置

技术领域

本申请属于显示技术领域，尤其涉及一种有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置。

背景技术

有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，OLED)又称有机电激发光显示(organicelectroluminescencedisplay，OELD)，OLED技术最早于1950年代和1960年代由法国人和美国人开始研究。OLED利用载流子的注入和复合而致发光的现象，即OLED在电场的作用下，阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动，分别向空穴传输层和电子传输层注入，迁移到发光层。当二者在发光层相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光。OLED器件具有自发光、广视角、高对比、低耗电、高反应速率、全彩化及轻薄等优点。

现今的OLED器件主要采用精细金属掩膜板(finemetalmask)蒸镀成膜工艺与喷墨打印技术。相对于采用精细金属掩膜板蒸镀成膜工艺制作OLED器件，通过喷墨打印技术制作OLED器件，因其精准的对位、需使用精细金属掩膜板，且其材料利用率可以达到100％而备受关注，成为未来大尺寸OLED器件制作的主流趋势。

传统的有机发光二极管的像素排列结构由多个像素点阵构成，每个像素点单元包含红色像素(R)、绿色像素(G)、和蓝色像素(B)，R、G、B子像素依次循环排列，组成矩阵。这种传统的像素点排列结构由于每个像素点之间的膜厚差异较大，容易导致发生mura现象。线性像素定义层(linepixeldefinitionlayer，LPDL)的设计方案可以将不同喷嘴(nozzle)喷吐的体积大小不一的墨滴分配于像素定义层所定义的线性凹槽中，进而达到整体像素膜层之间的厚度差异较小的目的，有效地避免了mura现象的发生。然而，LPDL的设计方案因其将不同喷嘴(nozzle)喷吐的体积大小不一的墨滴分配于像素定义层所定义的线性凹槽中，导致在喷墨打印的生产过程中，难以即时判监控各个打印头喷嘴的喷墨量是否正常，从而若其中有些喷嘴打印的体积偏大或偏小，将导致干燥后的整体像素的膜层厚度偏厚或偏薄，进而降低产品良率或是影响器件的性能。

因此，现有喷墨打印技术中的LPDL设计方案，因无法监测各个喷嘴的喷墨量或喷墨位置是否正常，导致整体像素的膜层品质无法及时调整。

发明内容

本申请实施例提供一种有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置，以解决现有的有机发光二极管基板像素膜层品质不稳定的问题。

第一方面，本申请实施例提供一种有机发光二极管基板，包括：

基板，具有显示区和非显示区；

薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述基板上；

阳极层，所述阳极层设置在所述薄膜晶体管器件层上；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阳极层上，所述像素定义层包括位于所述显示区的像素打印区；

预打印层，所述预打印层与所述像素定义层同层设置，所述预打印层包括位于所述非显示区的预打印区；所述预打印区用于在所述像素打印区内进行喷墨打印前，对喷墨装置进行预打印校正；

发光功能层，设置在所述像素定义层上并位于所述像素打印区；以及阴极层，所述阴极层设置在所述发光功能层上。

可选的，所述预打印层包括至少两个虚设像素凹槽，相邻两所述虚设像素凹槽通过隔坝隔开，所述隔坝背离所述阳极层的一面设置为所述预打印区。

可选的，所述有机发光二极管基板还包括反射层，所述反射层设于所述非显示区，所述反射层设于所述阳极层与所述预打印区之间。

可选的，所述反射层包括多个反射图案区，各所述反射图案区被包覆于各所述隔坝内。

可选的，所述有机发光二极管基板还包括辅助加湿层，所述辅助加湿层设置在所述虚设像素凹槽内。

可选的，所述像素定义层与所述预打印层通过同一工序形成。

第二方面，本申请实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括控制器和如上述的有机发光二极管基板，所述控制器电连接所述有机发光二极管基板。

第三方面，本申请实施例还提供一种有机发光二极管基板的制备方法，包括：

提供一基板，在所述基板上设置薄膜晶体管器件层；

在所述薄膜晶体管器件层上设置阳极层；

在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层；所述像素定义层包括像素打印区，所述像素打印区位于所述基板的显示区；所述预打印层包括预打印区，所述预打印区位于所述基板的非显示区；

利用喷墨打印装置在所述预打印区设置预打印图案；

根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴；

利用调整后的喷墨打印装置在所述像素打印区设置像素图案。

可选的，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤包括：

在所述非显示区形成至少两个虚设像素槽，相邻两所述虚设像素槽通过隔坝隔开，所述隔坝背离所述阳极层的一面形成所述预打印区。

可选的，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤之前，还包括：

在所述阳极层上设置反射层，所述反射层位于所述非显示区并与所述预打印区相对。

可选的，所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

获取预打印图案的当前位置；

对比当前位置和预设位置；

确定当前位置偏离预设位置，调整喷嘴的喷墨角度。

可选的，所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

获取预打印图案的当前墨滴体积；

对比当前墨滴体积与预设墨滴体积；

确定当前墨滴体积大于或小于预设墨滴体积，调整喷嘴的喷墨量。

可选的，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤之后，还包括：

利用喷墨打印装置在所述虚设像素槽设置辅助加湿图案。

本申请实施例提供的有机发光二极管基板，通过在阳极层上设置与像素定义层同层的预打印层，在利用喷墨打印装置对像素打印区进行喷墨打印前，可先在预打印区进行预打印，以检查打印的墨滴是否符合要求，根据在预打印区打印出的墨滴调整喷墨打印装置的喷嘴后，可提高喷墨打印装置在像素打印区的打印质量，从而提高有机发光二极管基板的整体像素的膜层品质。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对本领域技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

为了更完整地理解本申请及其有益效果，下面将结合附图来进行说明。其中，在下面的描述中相同的附图标号表示相同部分。

图1为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的剖面示意图。

图2为本申请实施例中预打印层的俯视投影示意图。

图3为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的流程示意图。

图4为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的细化示意图。

图5为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的细化示意图。

10、基板；20、薄膜晶体管器件层；30、阳极；40、像素定义层；50、预打印层；51、预打印区；52、虚设像素凹槽；53、隔坝；60、反射层；70、阴极层；80、辅助加湿层；11、显示区；12、非显示区。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

传统的有机发光二极管的像素排列结构由多个像素点阵构成，每个像素点单元包含红色像素(R)、绿色像素(G)、和蓝色像素(B)，R、G、B子像素依次循环排列，组成矩阵。这种传统的像素点排列结构由于每个像素点之间的膜厚差异较大，容易导致发生mura现象。线性像素定义层(linepixeldefinitionlayer，LPDL)的设计方案可以将不同喷嘴(nozzle)喷吐的体积大小不一的墨滴分配于像素定义层所定义的线性凹槽中，进而达到整体像素膜层之间的厚度差异较小的目的，有效地避免了mura现象的发生。然而，LPDL的设计方案因其将不同喷嘴(nozzle)喷吐的体积大小不一的墨滴分配于像素定义层所定义的线性凹槽中，导致在喷墨打印的生产过程中，难以即时判监控各个打印头喷嘴的喷墨量是否正常，从而若其中有些喷嘴打印的体积偏大或偏小，将导致干燥后的整体像素的膜层厚度偏厚或偏薄，进而降低产品良率或是影响器件的性能。

因此，现有喷墨打印技术中的LPDL设计方案，因无法监测各个喷嘴的喷墨量或喷墨位置是否正常，导致整体像素的膜层品质无法及时调整。

本申请实施例提供一种有机发光二极管基板及其制备方法和显示装置，以解决现有的有机发光二极管基板像素膜层品质不稳定的问题。

本申请实施例提供的有机发光二极管基板可应用于显示装置。示例性的，请参阅图1和图2，图1为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的剖面示意图。图2为本申请实施例中预打印层50的俯视投影示意图。所述有机发光二极管基板包括：基板10，具有显示区11和非显示区12；薄膜晶体管器件层20，所述薄膜晶体管器件层20设置在所述基板10上；阳极30层，所述阳极30层设置在所述薄膜晶体管器件层20上；像素定义层40，所述像素定义层40设置在所述阳极30层上，所述像素定义层40包括位于所述显示区11的像素打印区；预打印层50，所述预打印层50与所述像素定义层40同层设置，所述预打印层50包括位于所述非显示区12的预打印区51；所述预打印区51用于在所述像素打印区内进行喷墨打印前，对喷墨装置进行预打印校正；发光功能层，设置在所述像素定义层40上并位于所述像素打印区；以及阴极层70，所述阴极层70设置在所述发光功能层上。

阳极30与阴极层70成对设置，同时，阳极30电连接薄膜晶体管器件层20的源极和漏极其中之一者。因此，薄膜晶体管器件层20控制源极和漏极两端电流的通断时，阳极30与阴极层70之间会产生电流或电场，发光功能层便会根据电流或电场工作。

有机发光二极管基板还可包括平坦化层以及钝化层，平坦化层设置于钝化层上。钝化层包括开设于源极或漏极上的第一通孔，平坦化层包括对应第一通孔的第二通孔。阳极30穿过第一通孔以及第二通孔以电性连接源极或漏极。

阳极30、发光功能层以及阴极层70共同组成有机发光二极管。发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、以及电子注入层等。当所述薄膜晶体管器件层20控制电流导通至所述阳极30时，所述阳极30与所述阴极层70之间产生所述电流。在所述电流的作用下，所述发光功能层中的电子与空穴将会在所述发光材料层结合并且激发出光线，从而达成所述有机发光二极管基板的像素的亮暗显示。需要说明的是，本发明的所述阴极层70包括整面设置的电极材料，因此所述阴极层70能够采用蒸镀的工艺制备于所述发光功能层上，进而简化所述有机发光二极管基板的结构以及制程。

发光功能层可通过喷墨打印装置打印在像素打印区内。喷墨打印装置通过多个喷嘴同时打印一列发光材料，在实际打印过程中，不同喷嘴的调用时序会产生不同的串扰影响效果，导致打印出的墨滴位置或墨滴体积不一致。因此，在对像素打印区进行喷墨打印之间，可先在预打印区51进行预打印，由于预打印区51位于非显示区12，因此即使打印效果不佳，也不会影响最终的显示效果。在预打印区51进行预打印后，制造者可检查预打印区51的墨滴位置和墨滴体积是否符合要求，并对不符合打印要求的喷嘴及时调整；再将喷水调整至符合要求的状态后，再在像素打印区正式打印发光材料，如此，既可提高整体像素的膜层品质，又简化了对喷嘴的校正过程，以同时提高对有机发光二极管基板的生产质量和生产效率。

像素定义层40在阳极30层上限定出多条线性的有效像素凹槽，有效打印区设于有效像素凹槽内。预打印层50可在阳极30层限定出与有效像素凹槽相似的虚设像素凹槽52，虚设像素凹槽52的数量至少为两个，相邻两虚设像素凹槽52通过隔坝53隔开。预打印区51可设于虚设像素凹槽52内，也可设于隔坝53上，在此不做限制。

示例性的，如图1和图2所示，所述隔坝53背离所述阳极30层的一面设置为所述预打印区51。虚设像素凹槽52和隔坝53都是线性延伸的，隔坝53背离阳极30层的一面为平面。若将喷墨打印在虚设像素凹槽52内，则喷墨在虚设像素凹槽52内容易流淌散开，无法保持墨滴状以供观察。因此，将喷墨打印在隔坝53上，可使喷墨有效保持墨滴状以供观察，以提高对喷嘴的校正效果。

对打印于预打印区51的墨滴可以通过肉眼观测，也可以通过相关处理模块观测。以校正墨滴的体积为例，喷墨打印装置可包括图像采集模块、体积获取模块和校正模块。图像采集模块用于获取预打印的当前墨滴图案，体积获取模块用于根据当前墨滴图案获取当前墨滴体积，校正模块用于根据当前墨滴体积调整喷嘴，以得到目标墨滴体积。通过图像采集模块来观察预打印区51的墨滴，可提高对墨滴的观测效果，从而提高校正效果。

由于预打印区51是设置在非显示区12，光线难以穿过，因此图像采集模块在获取预打印区51墨滴的图案时难度较大。示例性的，如图1所示，所述有机发光二极管基板还包括反射层60，所述反射层60设于所述非显示区12，所述反射层60设于所述阳极30层与所述预打印区51之间。反射层60可设置为金属层，如银；反射层60可使投射至预打印区51的光线反射，从而提高预打印区51墨滴相对于其它位置的对比度，以方便图像采集模块获取预打印区51的墨滴图案。

反射层60可铺设于整个预打印层50，也可仅设置在与隔坝53对应的位置。示例性的，如图1所示，所述反射层60包括多个反射图案区，各所述反射图案区被包覆于各所述隔坝53内。反射图案区可通过蚀刻的方式获得，在制备预打印层50时，只需将隔坝53图案制备在反射图案区上即可。可以理解，反射图案区的宽度不超出隔坝53的宽度，以使反射图案区能准确反射预打印区51上的墨滴图案。

像素定义层40与预打印层50可先后形成，也可通过同一工序形成。示例性的，所述像素定义层40与所述预打印层50通过同一工序形成，如蚀刻工序。具体的，有效像素凹槽和虚设像素凹槽52可通过同一光罩曝光显影形成，如此，可减少像素打印层和预打印层50的制备工序，以缩短制备周期，降低制备成本。

虚设像素凹槽52内可打印材料，也可空置，在此不做显示。示例性的，如图1所示，所述有机发光二极管基板还包括辅助加湿层80，所述辅助加湿层80设置在所述虚设像素凹槽52内。显示区11边缘处的打印像素所处的环境，相比显示区11中部的打印像素所处的环境更干燥，导致有机发光二极管基板容易出现显示区11边缘处亮度不均匀的问题。辅助加湿层80能靠近显示区11边缘处，因此能改善显示区11边缘处的打印像素的干燥环境，使得显示区11边缘处的打印像素与显示区11中部的打印像素所处的环境更加接近，从而可避免有机发光二极管基板容易显示区11边缘处亮度不均匀的问题，以改善显示效果。具体的，辅助加湿层80的材料可与发光功能层的材料相同，以简化辅助加湿层80的打印过程。

示例性的，本申请实施例还提供一种显示装置，包括控制器和如上述的有机发光二极管基板，所述控制器电连接所述有机发光二极管基板。其中，显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本申请实施例提供的有机发光二极管基板，通过在阳极30层上设置与像素定义层40同层的预打印层50，在利用喷墨打印装置对像素打印区进行喷墨打印前，可先在预打印区51进行预打印，以检查打印的墨滴是否符合要求，根据在预打印区51打印出的墨滴调整喷墨打印装置的喷嘴后，可提高喷墨打印装置在像素打印区的打印质量，从而提高有机发光二极管基板的整体像素的膜层品质。

示例性的，请参阅图3，图3为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的流程示意图。本申请实施例还提供一种有机发光二极管基板的制备方法，包括：

S100、提供一基板10，在所述基板10上设置薄膜晶体管器件层20；

S200、在所述薄膜晶体管器件层20上设置阳极30层；

S300、在所述阳极30层上设置预打印层50和像素定义层40；所述像素定义层40包括像素打印区，所述像素打印区位于所述基板10的显示区11；所述预打印层50包括预打印区51，所述预打印区51位于所述基板10的非显示区12；

S400、利用喷墨打印装置在所述预打印区51设置预打印图案；

S500、根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴；

S600、利用调整后的喷墨打印装置在所述像素打印区设置像素图案。

具体的，在步骤S100中，首先是在玻璃基板10上形成缓冲层；接着，在缓冲层上依序设置沟道、栅极绝缘层、栅极、源极以及漏极，如此形成薄膜晶体管器件层20。源极和漏极形成后，将会在其上形成钝化层，钝化层覆盖源极和漏极。钝化层既拥有绝缘的效果，同时还赋予有机发光二极管基板在挠曲时的韧性，以保护有机发光二极管基板。接着在钝化层上形成平坦化层。

在步骤S300中，像素定义层40和预打印层50同层设置，像素定义层40和预打印层50可以通过不同工序形成，也可以通过同一工序形成，在此不做限制。

喷墨打印装置包括至少一行喷嘴，每一行喷嘴可对应有效打印区的一线性子区域。在向有效打印区设置像素图案前，喷墨打印装置先在预打印区51域设置预打印图案，由于预打印区51域是在非显示区12，因此打印于预打印区51域的图案不会被显示。可以理解，预打印区51与有效打印区具有相同的物理性质，例如材料和粗糙度等，因此喷墨打印装置在预打印区51的打印效果和在有效打印区的打印效果是不受打印载体影响的。

在预打印区51设置预打印图案后，可对预打印图案进行检测，如检测图案位置是否准确，墨滴体积是否符合要求等。若预打印图案不符合预设要求，则可对喷墨打印装置的喷嘴进行调整，使调整后的图案位置和墨滴体积能符合目标要求。利用调整后的喷墨打印装置在所述像素打印区设置像素图案，可得到打印品质更高的像素图案，从而可减少因像素图案品质不均而导致的显示面板亮度不均的问题。

示例性的，请参考图4，图4为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的细化示意图。所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

S510、获取预打印图案的当前位置；

S520、对比当前位置和预设位置；

S530、确定当前位置偏离预设位置，调整喷嘴的喷墨角度。

具体的，预打印图案的当前位置指的是预打印图案在预打印区51的相对位置，例如预打印图案与预打印区51边缘的间距。若确定当前位置偏离预设位置，说明喷嘴的喷墨角度发生偏移，因此需要将喷嘴的喷墨角度调整至预设角度。

示例性的，请参考图5，图5为本申请实施例提供的有机发光二极管基板的制备方法的细化示意图。所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

S540、获取预打印图案的当前墨滴体积；

S550、对比当前墨滴体积与预设墨滴体积；

S560、确定当前墨滴体积大于或小于预设墨滴体积，调整喷嘴的喷墨量。

具体的，在获取预打印图案的当前墨滴体积之前，可先获取预打印图案的图像。例如可采用图像采集模块(如摄像头)来采集预打印图案，摄像头的数量和位置可以与喷嘴的数量和位置一一对应，也可以少设置几个，只有保证摄像头能够拍摄到与喷嘴对应的预打印区51内的喷墨打印状况即可。摄像头可将拍摄图像传输至控制器，并在显示器上显示输出图像，操作人员观察输出图像，以判断预打印区51内的喷墨打印状况。

利用预存的灰阶数据与墨滴体积的关系，可根据预打印图案的灰阶数据计算出当前墨滴体积。预存的灰阶数据与墨水体积的关系可为可以通过一个函数关系曲线来表示，例如，所述函数关系曲线的纵坐标表示墨水体积，所述函数关系曲线的横坐标表示灰阶数据，将所述灰阶数据代入到所述函数关系曲线中，可得到当前墨滴体积。

在另一种实施方式中，还可通过获得所述预打印图案的边缘轮廓和膜厚等参数，所述边缘轮廓包括所述预打印图案的周长、面积等参数，所述边缘轮廓和所述膜厚可通过测量装置来测量，根据所述预打印图案的边缘轮廓和膜厚可以计算出当前墨滴体积。

在得到当前墨滴体积后，可计算当前墨滴体积与预设墨滴体积的差值；判断该体积差值与预设墨滴体积的比值与预设比例的关系。当所述差值与预设墨滴体积的比值大于预设比例时，说明像素间墨滴体积的均一性未满足要求，还需要继续调整；而当所述差值与预设墨滴体积体积的比值小于或等于预设比例时，可认为像素间墨滴体积具有较好的均一性，可满足要求，无需再对喷嘴的喷墨量进行进一步微调。

示例性的，所述在所述阳极30层上设置预打印层50和像素定义层40的步骤包括：

S310、在所述非显示区12形成至少两个虚设像素槽，相邻两所述虚设像素槽通过隔坝53隔开，所述隔坝53背离所述阳极30层的一面形成所述预打印区51。

像素定义层40在阳极30层上限定出多条线性的有效像素凹槽，有效打印区设于有效像素凹槽内。预打印层50可在阳极30层限定出与有效像素凹槽相似的虚设像素凹槽52，虚设像素凹槽52的数量至少为两个，相邻两虚设像素凹槽52通过隔坝53隔开。

虚设像素凹槽52和隔坝53都是线性延伸的，隔坝53背离阳极30层的一面为平面。若将喷墨打印在虚设像素凹槽52内，则喷墨在虚设像素凹槽52内容易流淌散开，无法保持墨滴状以供观察。因此，将喷墨打印在隔坝53上，可使喷墨有效保持墨滴状以供观察，以提高对喷嘴的校正效果。

示例性的，所述在所述阳极30层上设置预打印层50和像素定义层40的步骤之前，还包括：

S210、在所述阳极30层上设置反射层60，所述反射层60位于所述非显示区12并与所述预打印区51相对。

由于预打印区51是设置在非显示区12，光线难以穿过，因此图像采集模块在获取预打印区51墨滴的图案时难度较大。反射层60可设置为金属层，如银；反射层60可使投射至预打印区51的光线反射，从而提高预打印区51墨滴相对于其它位置的对比度，以方便图像采集模块获取预打印区51的墨滴图案。

反射层60可铺设于整个预打印层50，也可仅设置在与隔坝53对应的位置。所述反射层60包括多个反射图案区，各所述反射图案区被包覆于各所述隔坝53内。反射图案区可通过蚀刻的方式获得，在制备预打印层50时，只需将隔坝53图案制备在反射图案区上即可。可以理解，反射图案区的宽度不超出隔坝53的宽度，以使反射图案区能准确反射预打印区51上的墨滴图案。

示例性的，如图1所示，所述在所述阳极30层上设置预打印层50和像素定义层40的步骤之后，还包括：

S700、利用喷墨打印装置在所述虚设像素槽设置辅助加湿图案。

显示区11边缘处的打印像素所处的环境，相比显示区11中部的打印像素所处的环境更干燥，导致有机发光二极管基板容易出现显示区11边缘处亮度不均匀的问题。辅助加湿层80能靠近显示区11边缘处，因此能改善显示区11边缘处的打印像素的干燥环境，使得显示区11边缘处的打印像素与显示区11中部的打印像素所处的环境更加接近，从而可避免有机发光二极管基板容易显示区11边缘处亮度不均匀的问题，以改善显示效果。具体的，辅助加湿层80的材料可与发光功能层的材料相同，以简化辅助加湿层80的打印过程。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个特征。以上对本申请实施例所提供的有机发光二极管基板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (13)

1.一种有机发光二极管基板，其特征在于，包括：

基板，具有显示区和非显示区；

薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述基板上；

阳极层，所述阳极层设置在所述薄膜晶体管器件层上；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阳极层上，所述像素定义层包括位于所述显示区的像素打印区；

预打印层，所述预打印层与所述像素定义层同层设置，所述预打印层包括位于所述非显示区的预打印区；所述预打印区用于在所述像素打印区内进行喷墨打印前，对喷墨装置进行预打印校正；

发光功能层，设置在所述像素定义层上并位于所述像素打印区；以及

阴极层，所述阴极层设置在所述发光功能层上。

2.根据权利要求1所述的有机发光二极管基板，其特征在于，所述预打印层包括至少两个虚设像素凹槽，相邻两所述虚设像素凹槽通过隔坝隔开，所述隔坝背离所述阳极层的一面设置为所述预打印区。

3.根据权利要求2所述的有机发光二极管基板，其特征在于，所述有机发光二极管基板还包括反射层，所述反射层设于所述非显示区，所述反射层设于所述阳极层与所述预打印区之间。

4.根据权利要求3所述的有机发光二极管基板，其特征在于，所述反射层包括多个反射图案区，各所述反射图案区被包覆于各所述隔坝内。

5.根据权利要求2所述的有机发光二极管基板，其特征在于，所述有机发光二极管基板还包括辅助加湿层，所述辅助加湿层设置在所述虚设像素凹槽内。

6.根据权利要求1至5任一项所述的有机发光二极管基板，其特征在于，所述像素定义层与所述预打印层通过同一工序形成。

7.一种显示装置，其特征在于，包括控制器和如权利要求1至6任一项所述的有机发光二极管基板，所述控制器电连接所述有机发光二极管基板。

8.一种有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板上设置薄膜晶体管器件层；

在所述薄膜晶体管器件层上设置阳极层；

在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层；所述像素定义层包括像素打印区，所述像素打印区位于所述基板的显示区；所述预打印层包括预打印区，所述预打印区位于所述基板的非显示区；

利用喷墨打印装置在所述预打印区设置预打印图案；

根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴；

利用调整后的喷墨打印装置在所述像素打印区设置像素图案。

9.根据权利要求8所述的有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤包括：

在所述非显示区形成至少两个虚设像素槽，相邻两所述虚设像素槽通过隔坝隔开，所述隔坝背离所述阳极层的一面形成所述预打印区。

10.根据权利要求8或9所述的有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤之前，还包括：

在所述阳极层上设置反射层，所述反射层位于所述非显示区并与所述预打印区相对。

11.根据权利要求8或9所述的有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

获取预打印图案的当前位置；

对比当前位置和预设位置；

确定当前位置偏离预设位置，调整喷嘴的喷墨角度。

12.根据权利要求8或9所述的有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，所述根据预打印图案调整喷墨打印装置的喷嘴的步骤包括：

获取预打印图案的当前墨滴体积；

对比当前墨滴体积与预设墨滴体积；

确定当前墨滴体积大于或小于预设墨滴体积，调整喷嘴的喷墨量。

13.根据权利要求9所述的有机发光二极管基板的制备方法，其特征在于，所述在所述阳极层上设置预打印层和像素定义层的步骤之后，还包括：

利用喷墨打印装置在所述虚设像素槽设置辅助加湿图案。

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