CN115268148A - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，显示面板还包括高透区和围绕所述高透区的第一显示区，位于高透区的第一透光柱具有第一底面和第二底面，其中第一底面抵接彩膜基板，在垂直显示面板的方向上，第二底面与阵列基板之间具有间隙；或者，第一底面抵接阵列基板，在垂直显示面板的方向上，第二底面与彩膜基板之间具有间隙，第一底面在显示面板的正投影面积大于等于高透区在显示面板的正投影面积；高透区还填充有液晶层。本发明能够有效降低高透区PV值，提升显示面板高透区对应基板表面的平整度，有效提升光感元件的成像质量。

Description

一种显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

目前盲孔全面屏应用度很高，采用盲孔屏的显示模组，对应盲孔区的显示面板不进行挖孔，而是设置高透的膜层，光感元件集成在显示面板盲孔区的下方。显示面板的盲孔区由于缺乏支撑，在大气压力的作用下，会发生凹陷现象，导致盲孔区对应显示面板两个基板之间的距离存在差异，即光经过盲孔区产生的光程差不一致，从而影响光感元件的成像质量；现有技术是对基板表面进行物理研磨抛光，提升玻璃表面平整度。

但是，研磨抛光容易造成显示面板盒内不良，如导致膜层破损，产生碎亮点，影响正常显示，且研磨抛光难以精细化控制，即无法保证盲孔区平整度的均一性，这依然对光感元件的成像造成影响。因此，如何在不影响显示面板显示效果的条件下，提升盲孔区对于光感元件的成像质量成为亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，能够有效提升显示面板高透区，即盲孔区对于光感元件的成像质量。

第一方面，本发明提供了一种显示面板，包括：

相对设置的阵列基板和彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；显示面板还包括高透区和围绕所述高透区的第一显示区；

位于所述高透区的第一透光柱，第一透光柱具有第一底面和第二底面，其中第一底面抵接彩膜基板，在垂直显示面板的方向上，第二底面与阵列基板之间具有间隙；或者，第一底面抵接阵列基板，在垂直显示面板的方向上，第二底面与彩膜基板之间具有间隙；

在垂直显示面板的方向上，第一底面的投影面积大于等于高透区的投影面积；高透区还填充有液晶层。

第二方面，本发明还提供了显示装置，该显示装置包括第一方面所述显示面板。

本发明提供的显示面板，包括位于高透区的第一透光柱，第一透光柱底面设置在阵列基板一侧，且顶面相对于彩膜基板具有间隙，或者，第一透光柱底面设置在彩膜基板一侧，且顶面相对于阵列基板具有一定间隙，其中间隙所形成的空间区域内填充有液晶，即高透区包括部分透光支持部件和液晶，一方面，能够使得高透区内外压力相对一致，即有效提升显示面板高透区对应基板表面的平整度，使高透区基板表面与围绕高透区的第一显示区的基板表面高度差较小，从而有效提升光感元件的成像质量；另一方面，本发明便于实际生产制备，工艺简单易行，成本较低，且能有效保证显示面板的正常显示和信赖性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。

图1为现有一种具有高透区的显示面板的结构示意图；

图2为图1所示显示面板中在高透区出现形变的原理示意图；

图3为图1所示显示面板中由于高透区形变具有光程差的原理示意图；

图4为本发明实施例提供的一种显示面板俯视示意图；

图5为图4沿剖线A-A’的一种截面示意图；

图6为图4沿剖线A-A’的另一种截面示意图；

图7为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图；

图8为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图；

图9为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图；

图10为实施例一提供的一种显示面板高透区三维表征图；

图11为验证例提供的一种显示面板高透区三维表征图；

图12为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图；

图13为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图；

图14为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图；

图15为本发明实施例提供的一种显示装置俯视示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明中的实施例进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

目前盲孔全面屏应用度很高，如图1所示，图1为现有一种具有高透区的液晶显示板的结构示意图，所述液晶显示面板包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12，以及位于二者之间的液晶层13。液晶显示面板具有高透区A1以及包围所述高透区A1的第一显示区B1。所述显示面板中，为了使得高透区A1能够具有较大的透光率，在对应高透区A1位置，设置阵列基板11和彩膜基板12仅保留了透明材料层，如阵列基板11包括位于阵列基板11一侧的玻璃基板、缓冲层和配向层等透明材料层，彩膜基板12包括位于彩膜基板12一侧的配向层、光学胶层以及玻璃基板。而且为了进一步提升高透区A1的透光均匀性，设置在阵列基板11和彩膜基板12之间的支撑柱PS1仅位于第一显示区B1，在高透区A1未设置支撑柱PS1。

这样，由于阵列基板11的高透区A1去除了TFT(薄膜晶体管)、栅极线、数据线等不透光结构，彩膜基板12的高透区A1去除了色阻块和黑色矩阵等滤光、遮光结构，并去除了对阵列基板11和彩膜基板12具有支撑作用的支撑柱PS1，从而可以保证高透区A1具有较高的透光率，以便于设置屏下摄像头。

如图2和图3所示，图2为图1所示显示面板中在高透区出现形变的原理示意图，图3为图1所示显示面板中由于高透区形变具有光程差的原理示意图。

发明人研究发现，如图2和图3所示，由于阵列基板11和彩膜基板12在高透区A1均去除了不透光的结构，相对于第一显示区B1，由于高透区A1缺乏支撑阵列基板11和彩膜基板12的支撑柱PS1，因此高透区A1对应的两个基板在液晶盒内外由于压力不同，会发生凹陷，即在高透区A1中心对应的液晶层13的厚度较薄，在高透区A1边缘对应的液晶层13厚度较大，从而使得显示面板在高透区A1不同位置的厚度不同。

由于显示面板在高透区A1的形变，导致液晶层13在高透区A1的厚度形变，通常以PV(Peak Valley)值来评定高透区A1的形变程度。如图3所示，设定在高透区A1，最小厚度为d2，具有最小厚度位置的液晶折射率为n2，最大厚度为d1，具有最大厚度位置的液晶折射率为n1，在厚度最大位置和厚度最小位置之外的其他区域厚度为d3，对应折射率为n3。d3介于d1和d2之间。

基于图3可知，在高透区A1，存在的最大光程差△S为：

△S＝n1 d1-n2 d2

影响高透区A1光感元件影像性能的PV(Peak Valley)值为：

PV＝△S/λ＝(n1 d1-n2 d2)/λ

由于存在上述光程差较大，导致PV值变大恶化，影响整机光感元件解析能力。随着客户规格标准的提高，需要使得最大PV值从常规的max1.0λ降低至max0.6λ(即max1.0λ→max0.6λ)，如果玻璃基板需要进一步减薄，高透区A1的支撑性能将进一步变弱，结果会导致PV值恶化。

发明人进一步研究发现，现有技术已有相关方案提出，在高透区A1也设置用于支撑阵列基板11和彩膜基板12的支撑柱PS1，如申请公开文件CN111025781A提出，在盲孔透光区对应的彩膜基板上设有第一透明支撑物，所述第一透明支撑物用以支撑位于盲孔透光区的彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板，得以改善显示面板光学均一性的问题，即申请文件中第一透明支撑物填充盲孔透光区，一端抵接彩膜基板，另一端抵接阵列基板，对盲孔透光区进行支撑；但发明人研究发现，一方面，在实际制程上，第一透明支撑物的高度需要匹配盲孔透光区的两个基板之间的距离进行制备，由于盲孔透光区对应的阵列基板和彩膜基板上的膜层较少，实际上第一透明支撑物的高度是很高的，也就是说需要经过多次光刻工艺，才能使第一透明支撑物达到一定的高度，制程成本较高，且多次光刻工艺可能无法保证第一透明支撑物的高度一致，也就是可能导致不同显示面板之间对于盲孔透光区的支撑均匀性不佳，另一方面，发明人分析，显示区内阵列基板和彩膜基板之间提供支撑力的包括多个支撑物和液晶，而盲孔透光区仅有支撑物，则最终导致的支撑效果与显示区是否一致也待考量，且盲孔透光区填充满支撑物，支撑物会导致光透过率下降，有可能导致透过率不满足光感元件的成像要求，影响光感元件的成像质量。又如申请公开文件CN 109946885 A提出，液晶显示面板的盲孔区设置有透明支撑部以使得液晶显示面板的显示区和盲孔区的盒厚均一性良好，从而避免出现牛顿环结构影响盲孔下方的摄像头成像，盲孔区具有多个支撑部，多个支撑部一端抵接阵列基板，另一端抵接彩膜基板，同时盲孔区填充有液晶，即盲孔区同时包括支撑部和液晶；但发明人发现，一方面，相比于上述申请公开文件，盲孔区包括多个支撑部，则多个支撑部的直径较小，高度却很高，且其同样需要多次光刻工艺进行制备，因此制备难度要更大，可能导致在同一盲孔区的多个支撑部之间的尺寸均一性较差，不同显示面板之间的支撑均匀性更差，另一方面，考虑到用以评价盲孔区的形变程度的参数PV值，是与区域内光程差成正相关，即区域内光程差越小，PV值越好，在沿显示面板厚度方向，光经过盲孔区，部分光会穿过液晶进入光感元件，部分光会穿过支撑部进入光感元件，即便盲孔区获得了良好的支撑性，即对应两个基板之间距离一致，但由于液晶材料与支撑部材料之间是存在一定的折射率差异，则PV值也并不能获得较好的数值，即盲孔区的透光性存在不均一性，同样影响光感元件如摄像头的成像质量。

基于上述考量，本发明提出了一种显示面板，以使光感元件获得较优异的成像质量。

如图4～图6所示，图4为本发明实施例提供的一种显示面板俯视示意图，图5为图4沿剖线A-A’的一种截面示意图，图6为图4沿剖线A-A’的另一种截面示意图；显示面板1包括相对设置的阵列基板110和彩膜基板120，以及位于阵列基板110和彩膜基板120之间的液晶层130，显示面板1包括高透区A10和围绕高透区A10的第一显示区B10，位于高透区A10的第一透光柱SZ1，第一透光柱SZ1具有第一底面S1和第二底面S2，第一底面S1为第一透光柱SZ1的沉积面，如图6，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接彩膜基板120，即第一透光柱SZ1沉积在彩膜基板120上，在垂直显示面板1的方向Z上，第一底面S1的投影面积大于等于高透区A10的投影面积，第二底面S2与阵列基板110之间具有间隙；或者，如图5，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接阵列基板110，即第一透光柱SZ1沉积在阵列基板110上，则在垂直显示面板1的方向Z上，第一底面S1的投影面积大于等于高透区A10的投影面积，第二底面S2与彩膜基板120之间具有间隙，此间隙填充有液晶层130。

为此发明人设置了如下实施例进行证明。

实施例一：

如图4～图6所示，显示面板1包括相对设置的阵列基板110和彩膜基板120，以及位于阵列基板110和彩膜基板120之间的液晶层130，显示面板1包括高透区A10和围绕高透区A10的第一显示区B10，位于高透区A10的第一透光柱SZ1具有第一底面S1和第二底面S2，第一底面S1为第一透光柱SZ1的沉积面，如图6，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接彩膜基板120，即第一透光柱SZ1沉积在彩膜基板120上，在垂直显示面板1的方向Z上，分别设置第一底面S1的投影面积小于、等于、大于高透区A10的投影面积作为实施例，第二底面S2与阵列基板110之间具有间隙；或者，如图5，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接阵列基板110，即第一透光柱SZ1沉积在阵列基板110上，则在垂直显示面板1的方向Z上，分别设置第一底面S1的投影面积小于、等于、大于高透区A10的投影面积作为实施例，第二底面S2与彩膜基板120之间具有间隙，且间隙填充有液晶层130。

可选地，在垂直显示面板1的方向Z上，设置于阵列基板110的第一透光柱SZ1的第二底面S2与第一显示区B10对应的阵列基板110朝向液晶层130一侧的表面齐平，即高透区A10的阵列基板110的厚度与第一透光柱SZ1的高度H1之和等于第一显示区B10的阵列基板110的厚度；或者，设置于彩膜基板120的第一透光柱SZ1的第二底面S2与第一显示区B10对应的彩膜基板120朝向液晶层130一侧的表面齐平，即高透区A10的彩膜基板120的厚度与第一透光柱SZ1的高度H1之和等于第一显示区B10的彩膜基板120的厚度。

实施例二：

如图4、图7～图8所示，图7为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图，图8为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图；图7中，在垂直显示面板1的方向Z上，位于阵列基板110上的第一透光柱SZ1的第二底面S2与第一显示区B10对应的彩膜基板120朝向液晶层130一侧的表面齐平，或者如图8中，在垂直显示面板1的方向Z上，位于彩膜基板120上的第一透光柱SZ1的第二底面S2与第一显示区B10对应的阵列基板110朝向液晶层130一侧的表面齐平；在实际制程上，由于第一透光柱SZ1的高度较高，第一透光柱SZ1需要采用二次光刻工艺进行制备。

实施例三：

如图4、图9所示，图9为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图；即显示面板1还包括第二透光柱SZ2，以第一透光柱SZ1沉积在阵列基板110为例，第二透光柱SZ2沉积在彩膜基板120一侧，第二透光柱SZ2具有第三底面S3和第四底面S4，当第二透光柱SZ2沉积在彩膜基板120一侧时，第三底面S3抵接彩膜基板120，第四底面S4与第二底面S2之间具有间隙，间隙填充有液晶层130；其中第一透光柱SZ1的第一底面S1，和第二透光柱SZ2的第三底面S3投影均等于高透区A10的投影面积。可选地，第一透光柱SZ2的第二底面S2与第一显示区B10对应的阵列基板110朝向液晶层130一侧的表面齐平，第二透光柱SZ2的第四底面S4与第一显示区B10对应的彩膜基板120朝向液晶层130一侧的表面齐平。在本发明另一种实施例，第一透光柱SZ1可以沉积在彩膜基板120一侧，第二透光柱SZ2沉积在阵列基板110一侧，第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2上的其他设置也相应调整，这里不再赘述。

为了验证本发明的实际有效效果，发明人还设置了验证例和参考例。

验证例：

显示面板包括第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2，其中第一透光柱SZ1的第二底面S2抵接第二透光柱SZ2的第四底面S4，即第一透光柱SZ1的第二底面S2和第二透光柱SZ2的第四底面S4之间不具有间隙。高透区A10以第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2形成支撑。

参考例：

显示面板的高透区A10不设置任何用于支撑的部件，即只有液晶层130。

表1：本发明提供的实施例一、实施例二、实施例三、验证例以及参考例的PV值对比表

表1为本发明提供的实施例一、实施例二、实施例三、现有例以及参考例的PV值对比表，从表1可以得出实施例三和验证例的PV值要明显好于参考例，而实施例一和实施例二相比参考例，PV值略有下降；在制备工艺上，实施例一对于透光柱应用了一次光刻工艺，实施例二和实施例三对于透光柱应用了二次光刻工艺，而验证例应用了二次以上光刻工艺，成本耗费较大，并且基于验证例制备的多个显示面板中，由于光刻工艺中透光柱的涂布次数较多，难以保证各个支撑柱高度的一致性，采用干涉仪对高透区A10基板表面形貌进行三维表征，如图10～图11，图10为实施例一提供的一种显示面板高透区三维表征图，图11为验证例提供的一种显示面板高透区三维表征图；实施例一至实施例三，大部分显示面板的高透区A10基板表面呈现出如图10的轻微凹陷状态，而验证例出现，部分显示面板的高透区A10基板表面呈现如图10的凹陷状态，部分显示面板的高透区A10基板表面由于透光柱的高度过高而呈现如图11的凸出状态，即实施例一至实施例三，显示面板高透区A10的支撑力较均匀，而验证例呈现出显示面板高透区A10支撑力的不均一性；因此证明实施例一、实施例二、实施例三具有较大的可推广性。

表1还表明了当第一透光柱SZ1的第一底面S1和第二透光柱SZ2的第三底面S3面积大于等于高透区A10面积时，PV值要好于第一透光柱SZ1的第一底面S1和第二透光柱SZ2的第三底面S3面积小于高透区A10面积，这在实施例二体现上尤为明显；因此证明只有在高透区A10进行完全均匀的支撑，才能有效改善PV值，PV值接近0.6或者小于0.6。

进一步，分别对实施例一、实施例二、参考例进行透过率测试，得到的透过率值分别为90.2％、89.8％、90.8％，实施例三与实施例二对于高透区A10的支撑部件光刻工艺次数一致，可认为整体的高度接近，约等于89.8％，则实施例一、实施例二、实施例三对于参考例的透过率只下降约1％，即三个实施例的高透区仍具有较高的透光度，对光感元件的成像质量影响微小。

因此，本发明提供了一种显示面板1，显示面板1包括相对设置的阵列基板110和彩膜基板120，以及位于阵列基板110和彩膜基板120之间的液晶层130，显示面板1包括高透区A10和围绕高透区A10的第一显示区B10，位于高透区A10的第一透光柱SZ1，第一透光柱SZ1具有第一底面S1和第二底面S2，第一底面S1为第一透光柱SZ1的沉积面，在垂直显示面板1的方向Z上，第一底面S1的投影面积大于等于高透区A10的投影面积，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接彩膜基板120，第二底面S2与阵列基板110之间具有间隙；或者，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接阵列基板110，第二底面S2与彩膜基板120之间具有间隙，此间隙填充有液晶层130。

一方面，能够使得高透区A10内外压力相对一致，即有效提升显示面板高透区A10的平整度，使高透区A10基板表面与围绕高透区A10的第一显示区B10的基板表面高度差较小，从而有效提升光感元件的成像质量；另一方面，本发明便于实际生产制备，工艺简单易行，成本较低，且能有效保证显示面板的正常显示和信赖性。

基于第一透光柱SZ1的材料特性，如图5，在垂直显示面板1的方向Z上，第一透光柱SZ1的第二底面S2的投影面积会小于第一底面S1的投影面积，当第一透光柱SZ1的第一底面S1的投影面积大于等于高透区A10的投影面积时，第二底面S2的投影面积可能会小于高透区A10的投影面积，即图5中，第一透光柱SZ1的截面呈现梯形，使第二底面S2的投影边缘距离高透区A10的边缘距离h≤5μm，高透区A10具有较好的支撑性，其PV值具有较低的数值，有效提升显示面板高透区A10的平整度，从而有效提升光感元件的成像质量。

同理，如图9，在垂直显示面板1的方向Z上，第二透光柱SZ2的第四底面S4会小于第三底面S3的投影面积，当第二透光柱SZ2的第三底面S3的投影面积大于等于高透区A10的投影面积时，第四底面S4的投影面积可能会小于高透区A10的投影面积，即图9中，第二透光柱SZ2的截面呈现梯形，使第四底面S4的投影边缘距离高透区A10的边缘距离h≤5μm，高透区A10具有较好的支撑性，其PV值具有较低的数值，有效提升显示面板高透区A10的平整度，从而有效提升光感元件的成像质量。

本发明提供的显示面板1包括阵列基板110、液晶层130和彩膜基板120，在垂直显示面板1的方向Z上，第一显示区B10阵列基板110的厚度大约为3μm，液晶层大约为3μm，彩膜基板120也大约为3μm，本发明并不限制显示面板的阵列基板、液晶层以及彩膜基板的厚度，基于现有显示面板的基本膜层，显示面板的阵列基板、液晶层、彩膜基板的厚度均大约为3μm，当高透区A10对应区域只有阵列基板110和彩膜基板120的玻璃衬底时，也就是高透区A10对应的阵列基板110和彩膜基板120上不设置任何膜层时，两个基板之间的厚度大约为9μm，当显示面板1只包括第一透光柱SZ1时，第一透光柱SZ1的高度H1小于9μm，即第一透光柱SZ1设置在一侧基板上，与另一侧基板表面存在间隙，间隙处填充有液晶层130；当显示面板1包括第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2时，第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2的高度之和小于9μm，即第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2之间具有间隙，间隙处填充有液晶层130，使高透区A10的PV值具有较低的数值，有效提升显示面板高透区A10的平整度，从而有效提升光感元件的成像质量。

可选地，如图12所示，图12为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图，第一透光柱SZ1可分为两部分光刻工艺制成，第一次光刻工艺形成第一透光柱SZ1的第一子部SZ11，其中第一子部SZ11的第一底面S1在显示面板1的正投影面积大于等于高透区A10在显示面板1的正投影面积，接着在第二次光刻工艺形成第一透光柱SZ1的第二子部SZ12，可选地，采用调整第二次光刻工艺的手段，使第二子部SZ12的第二底面S2在显示面板1的正投影面积大于高透区A10在显示面板1的正投影面积，也就是使第二子部SZ12超出高透区A10所在范围，在垂直显示面板1的方向Z上，第一透光部SZ1至少超出阵列基板110或者彩膜基板120的高度，上述阵列基板110或者彩膜基板120的高度大约为3μm，因此第一透光部SZ1的高度至少大于3μm，又由于第一透光柱SZ1的第二底面S2会部分抵接位于第一显示区B10的对置基板，液晶层120厚度大约为3μm，因此设置第一透光柱SZ1的高度小于7μm。这样设置，第二子部SZ12可以填补第一子部SZ11的投影边缘与高透区A10的投影边缘所形成的空隙，从而保证高透区A10内，在垂直显示面板1的方向Z上，光通过的介质是比较均匀的，从而保证高透区A10内形成较均匀的光程差，降低PV值，有效提升显示面板高透区A10的平整度，从而有效提升光感元件的成像质量。

可选地，为保证高透区A10具有较高的透光性，则可以尽量减少高透区A10所包含的膜层，可设置高透区A10所对应的阵列基板110和彩膜基板120只具有衬底材料，如图13所示，图13为图4沿剖线A-A’的又一种截面示意图；高透区A10对应的阵列基板110只具有第一衬底111，高透区A10对应的彩膜基板120只具有第二衬底121，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接第一衬底111和第二衬底121中的一者。需要说明的是，在高透区A10对应的阵列基板110和彩膜基板120只具有衬底材料的方式，可应用于上述的所有实施例，即当显示面板1具有第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2时，第一透光柱SZ1的第一底面S1抵接第一衬底111和第二衬底121中的一者，第二透光柱SZ2的第三底面S3抵接第一衬底111和第二衬底121中的另一者。从而保证光感元件具有较高的进光量，保证光感元件的成像质量。需要说明的是，可选的，由于阵列基板110和彩膜基板120在进行成盒制备时，会整面涂布配向液，再滴入液晶材料，因此高透区A10对应的两个基板上还可能包括配向液；可选的，可选择区域化涂布配向液，即高透区A10对应的两个基板上不包括配向液，本发明对此不作限定。

可选地，在保证高透区A10具有较高的透光性的基础上，还应考虑第一透光柱SZ1具有较好的粘附力，如图14所示，图14为图4沿剖线A-A’的还一种截面示意图；显示面板1阵列基板110包括第一衬底111和位于第一衬底111靠近液晶层130一侧的缓冲层112，彩膜基板120包括第二衬底121和位于第二衬底121靠近液晶层130一侧的光学平坦层122，为保证第一透光柱SZ1与阵列基板110或彩膜基板120之间具有较好的粘附力，可以保留阵列基板110或彩膜基板120穿透性较高的膜层，如可设置高透区A10对应的阵列基板110上只具有第一衬底111和缓冲层112，和/或，高透区A10对应的彩膜基板120上只具有第二衬底121和光学平坦层122，第一透光柱SZ1的第一底面S1设置在缓冲层112或者光学平坦层122上，则高透区A10具有较高的透光性，且第一透光柱SZ1具有较好的粘附力。需要说明的是，可选的，由于阵列基板110和彩膜基板120在进行成盒制备时，会整面涂布配向液，再滴入液晶材料，因此高透区A10对应的两个基板上还可能包括配向液；可选的，可选择区域化涂布配向液，即高透区A10对应的两个基板上不包括配向液，本发明对此不作限定。

还需要说明的是，在高透区A10对应的阵列基板110和彩膜基板120可以保留部分穿透性较高的膜层，如可设置高透区A10对应的阵列基板110上只具有第一衬底111和缓冲层112，和/或，高透区A10对应的彩膜基板120上只具有第二衬底121和光学平坦层122的方式，可应用于上述的所有实施例，即当显示面板1具有第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2时，第一透光柱SZ1的第一底面S1设置在缓冲层112和光学平坦层122中的一者之上，第二透光柱SZ2的第三底面S3设置在缓冲层112和光学平坦层122中的另一者之上。从而保证高透区A10具有较高的透光性，且第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2具有较好的粘附力。

其中，针对显示面板1只具有第一透光柱SZ1的情况下，第一透光柱SZ1可选择为光阻材料，可选择为有机材料，为保证光感元件的成像质量，优选第一透光柱SZ1的透过率大于等于95％。可选地，第一透光柱SZ1可与第一显示区B10对应的阵列基板110或彩膜基板120的部分膜层一起制备，如第一显示区B10对应的阵列基板110包括平坦层，此平坦层为有机材料，则第一透光柱SZ1可与此平坦层一起制备；又如第一显示区B10对应的彩膜基板120包括光学平坦层122，此光学平坦层122为光阻材料，则第一透光柱SZ1可与此光学平坦层122一起制备；可选地，第一透光柱SZ1也可在第一显示区B10对应的阵列基板110和彩膜基板120制备完成后再进行单独制备，此时，第一透光柱SZ1的材料可为光阻材料，也可为有机材料，不做限定。

针对显示面板1具有第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2的情况下，可选择位于阵列基板110上的第一透光柱SZ1为有机材料，位于彩膜基板120上的第二透光柱SZ2为光阻材料，两者可分别在第一显示区B10对应的相关膜层制备时一起制备；也可选择，第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2均为光阻材料，或者均为有机材料，第一透光柱SZ1和第二透光柱SZ2为同种材料，可保证高透区A10内在垂直显示面板1的方向Z上，通过的介质较为均匀，从而保证高透区A10透过率和PV值的一致性，从而有效提高光感元件的成像质量。

本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括智能手机、平板显示装置，笔记本显示装置、车载显示装置等显示终端产品，如图15所示，图15为本发明提供的一种显示装置俯视示意图；所述显示装置2包括上述显示面板1，所述显示装置产生的有益效果也如上述实施例所描述的有益效果，这里不再进行赘述。

上述说明示出并描述了本申请的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本申请并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述发明构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本申请的精神和范围，则都应在本申请所附权利要求的保护范围内。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

相对设置的阵列基板和彩膜基板，位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；

高透区和围绕所述高透区的第一显示区；

第一透光柱，所述第一透光柱位于所述高透区，所述第一透光柱具有第一底面和第二底面，所述第一底面抵接所述彩膜基板，在垂直所述显示面板的方向上，所述第二底面与所述阵列基板之间具有间隙；或者，所述第一底面抵接所述阵列基板，在垂直所述显示面板的方向上，所述第二底面与所述彩膜基板之间具有间隙；

在垂直所述显示面板的方向上，所述第一底面的投影面积大于等于所述高透区的投影面积；

所述高透区还填充有所述液晶层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

在垂直所述显示面板的方向上，所述第二底面的投影面积小于所述第一底面的投影面积，且所述第二底面的投影边缘距离所述高透区的边缘距离≤5μm。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，

在垂直所述显示面板的方向上，所述第一透光柱的高度小于9μm。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

在垂直所述显示面板的方向上，所述第二底面的投影面积大于所述高透区的投影面积，所述第一透光柱的高度大于3μm，小于7μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述阵列基板包括第一衬底，所述彩膜基板包括第二衬底；

所述高透区只具有所述第一衬底和所述第二衬底；

所述第一底面抵接所述第一衬底或者所述第二衬底。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述阵列基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述液晶层一侧的缓冲层，所述彩膜基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述液晶层一侧的光学平坦层；

所述高透区只具有所述第一衬底、所述缓冲层、所述第二衬底和所述光学平坦层；

所述第一底面抵接所述缓冲层或者所述光学平坦层。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第一透光柱为光阻材料或有机材料。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述显示面板还包括第二透光柱，所述第二透光柱具有第三底面和第四底面，所述第一底面抵接所述阵列基板和所述彩膜基板中的一者，所述第三底面抵接所述阵列基板和所述彩膜基板中的另一者，在垂直所述显示面板的方向上，所述第四底面与所述第二底面之间具有间隙。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

在垂直所述显示面板的方向上，所述第一透光柱和所述第二透光柱的高度之和小于9μm。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述阵列基板包括第一衬底，所述彩膜基板包括第二衬底；

所述高透区只具有所述第一衬底和所述第二衬底；

所述第一底面抵接所述第一衬底和所述第二衬底中的一者，所述第三底面抵接所述第一衬底和所述第二衬底中的另一者。

11.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述阵列基板包括第一衬底和所述第一衬底靠近所述液晶层一侧的缓冲层，所述彩膜基板包括第二衬底和所述第二衬底靠近所述液晶层一侧的光学平坦层；

所述高透区只具有所述第一衬底、所述缓冲层、所述第二衬底和所述光学平坦层；

所述第一底面抵接所述缓冲层和所述光学平坦层中的一者，所述第三底面抵接所述缓冲层和所述光学平坦层中的另一者。

12.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述第一透光柱和所述第二透光柱均为光阻材料；或者，所述第一透光柱和所述第二透光柱均为有机材料。

13.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述第一透光柱为光阻材料和有机材料中的一者，所述第二透光柱为光阻材料和有机材料中的另一者。

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～13任一项所述的显示面板。

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